JPS63223068A - ナフトキノンメチド系化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なナフトキノンメチド系化合物に関する
。

〔従来の技術〕

レーザーを用いた光学記録は、高密度の情報記録保存お
よび再生を可能とするため、近年、特にその開発がとり
す＼められている。

光学記録の一例としては、光ディスクをあげることがで
きる。

一般に、元ディスクは、円形の１体に設けられた薄す記
録層に、／μｍ程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行なうものである。その記録は、照射
されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その個所
の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が缶底する
ことにより行なわれる。また、記録された情報の再生は
、レーザー九九より変形が起きている部分と起きていな
り部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれる。

したがって、光学記＃媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録罠使用
する特定の波長のレーザー九九対する吸収が大きいこと
、情報の８庄を正確に行なうため、再生に使用する特定
波量のレーザー光に対する反射率が高いことが必要とな
る。

この櫨の光学記録媒体としては、種々の構成のものが知
られて込る。

例えば、特開昭ｊｊ−９７０３３号公報には、４＆上に
フタロシアニン系色素の単層を設けたものが開示されて
いる。しかしながらフタロシアニン系色素は感贋が低く
、また分解点が高く蒸着しにくい等の問題点を有し、さ
らに有機溶媒に対する溶解性が著しく低く、塗布による
コーティングに使用することができないという問題点も
有している。

また、特開昭！？−／３お１号公報にはフェナレン系色
素を、特開昭！？−λ２ダ７り３号公報にはナフトキノ
ン系色素を記録層に設けたものが開示されている。しか
し、このような色素は蒸着しやすいという利点の反面、
反射率が低いという問題点を有している。反射率が低い
とレーザー光により記録された部分と未記録部分との反
射率に関係するコントラストは低くなり、記録された情
報の再庄が困難となる。更に、一般に有機系色素は保存
安定性が劣るという問題点を有している。

〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は、有機溶媒に対する溶解性が高く、塗布による
コーティングが可能で、しかも、反射率が高く、コント
ラストが良好で保存性にすぐれているナフトキノンメチ
ド系化合物を提供することを目的とするものである。

ｃ問題点を解決するための手段〕 本発明は、レーザー光線によって状態変化を生せしめる
ことによって記録再生を行なうための光学記録媒体の色
素として適した下記一般式〔■〕で表わされるナフトキ
ノンメチド系化合物をその賛旨とするものである。

一般式（１） （式中、ＲはＯＮまたはＣ０ＮＨ，を表わし、Ｘは水素
原子または、アルキル憂を表わし、Ｒ１及びＲ２は低級
アルキル基を表わす。） 前記一般式［”ｌ］で示されるナフトキノンメチド系化
合物は、６００−ｒｏｏｎｒｎの波長帯域で吸収を有し
、しかも分子吸収係数が１０４〜１０５倒−１である。

本発明の一般式［１）で示されるナフトキノンメチド系
化合物の一般的合成は、たとえば、一般式［１）］ （式中、Ｒ及び２は前記定義に同じ。）で表わされる化
合物と一般式〔１■〕 （式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ１及びＲ情家前記定義に同じ。）で
表わされる化合物の塩酸塩とを酸化的縮合することによ
って製造することができる。

本発明のナフトキノンメチド化合物を用いた光学的記録
媒体は、基本的には基板とナフトキノンメチド系化合物
を含む記録層とから構成されるものであるが、さらに必
要に応じて基板上に下引き層を、また記録層上に保ｍｌ
−を設けることができる。

本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明または不透明のいずれでもよい。基板材料の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状または箔
状の金ｌ１４寺の一般の記冑材料の支持体が挙げられる
が、プラスチックが種々の点から好適である。プラスチ
ックとしては、アクリル樹脂こメタアクリル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリ
エチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹
脂等が挙げられる。

光学記録媒体における情報記録Ｉ−としてすフトキノン
メチド系化合物を使用する際・膜厚は１００Ａ　〜ｊｐ
ｍ、好ましくは／θＯ０Ａ〜３μｍでめる。成膜歇とし
ては真使蒸看法、スパッタリング法、ドクターブレード
法、キャスト法、スピナー法、ｌ！２漬法など一般に行
なわれてｂる博展形取法で底膜するととズパできる。ま
た、心安に応じてバインダーン使用することもできる。

バインダーとしてはＰＶＡ、ＰＶＰ、ニトロセルロース
、酢敞セルロース、ポリビニルプチラール、ポリカーボ
ネートなど既知のものか用いられ、便脂に対するナフト
キノンメチド系化合物の量は′ｔＬｆ比で０．０／以上
あることが埴る まし騒。スピナー法によＩ成層の場合、回転数は！００
〜よ０００　ｒｐｍが好ましく、スピンコードの後、場
合によっては、刀口熱あるいは浴媒蒸気にあてる等の処
理を行なってもＬい。また、記録体の安定性や耐光性向
上のためＫ、−重積酸素クエンチャーとして遷ｓ衾楓キ
レート化合物（たとえば、アセチルアセトナートキレー
ト、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキ
シム、ビスジチオ−α−ジケトン等）を含有していても
よい。更に、必安に応じて他の色素を併用することがで
きる。他の色素としては別の種類のナフトキノンメチド
系色素でもよりし、トリアリールメタン系色素、アゾ染
料、シアニン系色素、スクワリリウム系色素など他系統
の色素でもよい。

ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
、特に１スピナー法等の塗布方法により記録層を形成す
る場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエタン、フロ
モホルム、シフロモエタン、エチルセロンルプ、キシレ
ン、クロロベンゼン、シクロヘキサノン等０）ｍＡ／、
２０〜／６θ℃のものが好適に使用される。

光学記録踪体の記録層は、！ｖｉ仮の両面に設けてもよ
ｈし、片面だけに設けてもより０ 上記の様にして得られた記録媒体への記録は、基体の両
面または、片面に設けた記録層に／μｍ程度に東来した
レーザー光、好ましくは、半導体レーザーの光をあてる
事により行なう。レーザー光の照射された部分には、レ
ーザーエネルギーの吸収による、分解、蒸発、溶融等の
記録層の熱的変形が起こる。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きてｂる部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取る事により行なう。

本発明の光学的記録媒体について使用されるレーザー光
はＮ２、Ｈｅ−Ｃｄ、　Ａｒ、　Ｈｅ−Ｎｅ　、　）Ｌ
、ビー、半導体、色素レーザーなどがあげられるが、特
に、軽輩性、取扱いの谷易さ、コンパクト性などの点か
ら半導体レーザーが好適である。

実施例 以下実施例によりこの発明を具体的に説明するが、かか
る実施例は本発明を限定するものではない。

実施例／ （ａ）　　裂造例 水酸化ナトリウム≦グ０岬を溶解したアルカリ水＃液に
下記構造式 で表わされる化合物の塩酸塩？！？ｑとトリエチルアミ
ン０．３−と下記構造式 で表わされる／−ナフチルマロノニトリル３／４ｔβ■
を加え、これらに次亜塩素酸ナトリウム水溶液／４ｔＪ
り―を室温にて滴下した。

滴下後１０分間撹拌した後、沈殿をｐ別、乾燥させた。

シリカゲルカラム分離（展囲浴謀クロロホルム）後、エ
タノールＰ＋結晶し、下記構造式で表わされる化合物を
得た。（収率ｊ／％） 本化合物の融点は、／３ｊ〜／３≦℃であす、可視部の
吸収スペクトル（クロロホルムであり、分析値は計３１
）値とよく合致した。

（０，１−入） （１））　　記録媒体例−／ 前記製造例（ＩＬ）で得られたナフトキノンメチド系化
合物０．／　ｊ　Ｉをテトラクロロエタン１０９に溶解
し、Ｏ，コλμのフィルターで濾過し、溶解液を得た。

この溶液／ｄをポリメチルメタクリレ−）（ＰＭＭＡ）
樹脂基板（！λ９）の上に滴下し、スピナー法により１
）００ｒｐの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で７０
分間乾燥した。塗布膜の最大吸収波長は７７０　ｎｍで
あり、反射率はコｒｆｙ（Ｊ”ＪＯｎｍ　）であった。

スペクトルの形状は巾広かった。図−２に塗布膜の吸収
および反射のスペクトルを示す。

（０）　　光記録法−／ この塗７ｆｈ展に、中心波長ｔ　ｊ　Ｏｎｍの半導体レ
ーザー光を出力ｕ　ｍＷで照射した所、巾へ１２μｍ、
ビット探さ　／ａａ２Ａ（エリオニクス測定値）の輪郭
の極めて明瞭なピ′シトが形成された。

この塗布膜は高温高湿下（、ｇθ℃、？ＱチＲＨ）での
促進テストで２０日以上安定であった。

（ｄ）　　記録媒体例−一 前記製造例（ａ）で得られたナフトキノンメチド系化合
物０．／　Ｉをテトラクロロエタン１０Ｉに杉解し、Ｏ
ｏ−一μのフィルターでＰ遇し、溶解液を得た。この溶
液！ｄを深さ７００ム、幅θ、２μの紫外Ｍ硬化樹脂に
よる擲（グループ）つきＰＭＭム樹脂基板（１インチ）
上に胸下し、スピナー法により／　００　ｒｐｍの回転
数で塗布した。塗布後、ぶ０℃で７０分間乾燥した。

（ｅ）　　元記録法−一 上１ｄ記録媒体を成膜した１インチのＰＭＭム樹脂基板
を４１　ｍ／′ａで回転させながら、中心波長♂Ｊ　Ｏ
ｎｍの半導体レーザー元でパルス幅ｊ００ｎｓｅｃで照
射したところ、出力６　ｍＷでＯ／Ｎ比、ｔＯｄβな得
た。保存安定性（４０℃、？Ｏ％ＲＨ）も良好でありた
。

実施例コ （ａ）　　製造例 実施例／において下記構造式 で表わされる化合物の塩酸塩ｒｊｒｌｑの代わりに、下
記構造式 で表わされる化合物の塩酸塩６りｏｗｇを用いた以外は
実施例／と同５１に行ない、下記構造式で表わされるナ
フトキノンメチド系化合物を得た。（収率−ｒｓ＞ 本化合物の融点は／／／〜／１３℃であり、可視部の吸
収スペクトル（クロ京ホルム中）は、λｍａｘ　７コ−
ｎｍ（ｇＪｒｊθθ）（図−３）であり、元素分析結果
は、下記の通りであり、計算値とよく合致した。

（０２０”＋６’４　） 申ン　記録媒体例 前記製造例（ａ）で侍られたナフトキノンメチド系化合
物を実施例／に記載の方法に従って、ＰＭＭＡ樹脂基＆
（！＝Δ）の上にスピナー法により塗布を行なりた。

塗布膜の最大吸収波長は７　ｊ　ＯｎＩｎであり、反射
率は２２％（ｄ’　ｊ　Ｏｎｍ　）であった。スペクト
ルの形状は中広かった。図−弘に塗布膜の吸収および反
射のスペクトルを示す。

（Ｃ）光記録法 上記の塗布膜に、中心波長ｒＪ　Ｏｎｍの半導体レーザ
ー光を出力４ｔｍＷで照射し九ところ、輪郭の明瞭なピ
ットが形成された。

こり塗布膜の保存安定性（６０℃、１０チＲＥ　）は良
好であった。

実施例３ 実施例／の方法に準じて、一般式〔１）で代表されるナ
フトキノンメチド系化合物を合成した。

これらの化合物のクロロホルムｆ＃孫中でのλｗａｘを
第１表に示す。

第１表 〔発明の効果〕 本発明のナフトキノンメチド系化合物は、有機＃媒に対
する＃層性が高く、塗布によるコーティングが可能であ
り、しかも、反射率が読く、コントラストが良好であり
且つ保存安定性にすぐれてｂるので、光学記録媒体用色
素として極めて有用なものである。

【図面の簡単な説明】

図−／、及び図−Ｊは、本発明のナフトキノンメチド系
化合物−例の可視部吸収スペクトルを表わすものであり
、縦軸は吸光度、横軸は波長（ｎｍ　）を表わす。 図−一及び、図−ダは、本発明のナフトキノンメチド系
化合物−例の塗布薄膜の吸収スペクトルと反射スペクト
ルを表わすものであり、縦軸は左が吸光度、右が反射率
を表わし、横軸は波長（ｎｍ　）を表わす。 出　　願　　人　　　　　　盲　　　出　　　勝　　平
（ほか−名） 代　理　人　　弁理士　長谷用　　− 〇ミか１名） 巴−１ 成長（ｎｐｒｔ）’ 図−２ 展長（ｎｍ） 固−３ ９良長（ｎｍ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ＲはＣＮ、またはＣＯＮＨ＿２を表わし、Ｘは
   水素原子またはアルキル基を表わし、Ｒ＾１及びＲ＾２
   は低級アルキル基を表わす。） で示されるナフトキノンメチド系化合物。