JPH0729488B2 - 光学記録媒体 - Google Patents

光学記録媒体

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JPH0729488B2
JPH0729488B2 JP60265017A JP26501785A JPH0729488B2 JP H0729488 B2 JPH0729488 B2 JP H0729488B2 JP 60265017 A JP60265017 A JP 60265017A JP 26501785 A JP26501785 A JP 26501785A JP H0729488 B2 JPH0729488 B2 JP H0729488B2
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修一 前田
裕 黒瀬
鉄男 尾澤
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (a) 発明の目的 本発明は光学記録媒体に関する。
(産業上の利用分野) 本発明は光学記録媒体は、レーザー光等を用いる高密度
の情報記録保存、及び同記録再生用の記録媒体として有
利に使用できる。
(従来の技術) レーザー光等を用いる光学記録は、情報を高密度に記録
保存でき、かつその記録を容易に再生利用できるもので
あり、その一例として光デイスクがあげられる。
一般に、光デイスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録層に、1μm程度に集束したレーザー光を照射し、高
密度の情報記録を行なうものである。その記録は、照射
されたレーザー光エネルギーの吸収によって、その個所
の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形が生成する
ことにより行なわれる。また、記録された情報の再生
は、レーザー光により変形が起きている部分と起きてい
ない部分の反射率の差を読み取ることにより行なわれ
る。
したがって、光学記録媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大きいこ
と、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用する特
定波長のレーザー光に対する反射率が高いことが必要と
なる。
この種の光学記録媒体としては種々の構成のものが知ら
れている。たとえば、特開昭55−97033号公報には、基
板上にフタロシアニン系色素の単層を設けたものが開示
されている。フタロシアニン系色素は感度が低い、分解
点が高く蒸着しにくいし、さらに有機溶媒に対する溶解
性が著しく低いので記録層を形成せしめるための塗布に
よるコーテイングが困難である等の欠点がある。
また、特開昭58−83344号公報にはフエナレン系色素
を、特開昭58−224793号公報にはナフトキノン系色素を
記録層に設けたものが開示されている。このような色素
は蒸着しやすい利点を有する反面において、反射率が低
いという欠点を有している。反射率が低いとレーザー光
により記録された部分と未記録部分との反射率のコント
ラストが低くなり、記録された情報の再生が困難にな
る。
また、特開昭59−24692号公報、特開昭59−67092号公
報、特開昭59−71895号公報には、シアニン系色素を記
録層に設けたものが開示されている。このような色素は
塗布によるコーテイングが容易である利点があるが、耐
光性に劣り、再生光により劣化を起す欠点がある。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、塗布による記録層自体の形成が容易であり、
記録層が反射率が高くて記録のコントラストが良好であ
り、しかも耐光性及び再生光に対する耐性に優れている
光学記録媒体を提供しようとするものである。
(b) 発明の構成 (問題点を解決するための手段) 本発明者等は前記の問題点を解決するために種種研究を
重ねた結果、特定の化学構造を有するナフトラクタム系
光吸収色素を含有する記録層を設けることにより、その
目的を容易に達成することができたものである。
すなわち、本発明の光学記録媒体は、基板に一般式 (式中、X及びYはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わ
し、R1は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基又はアリル基を表わし、R2及びR3
それぞれ水素原子、炭素数1〜20の置換若しくは非置換
のアルキル基、アリール基、アリル基又はシクロアルキ
ル基を表わし、R4及びR5はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアル
コキシ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ
基又はヒドロキシ基を表わし、Z-は陰イオンを表わ
す。) で表わされるナフトラクタム系光吸収色素を含有する記
録層を設けたことを特徴とするものである。
前記一般式(I)におけるR1で表わされるアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアリル基の置換基若
しくは置換原子としては、たとえばアルコキシ基、アル
コキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシアルコキシ
基、アリルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、
シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、ハロ
ゲン原子等があげられる。
また、R2及びR3で表わされるアルキル基、アリール基、
アリル基又はシクロヘキシル基の置換基としては、たと
えばアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキ
シアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール
基、アリールオキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、テト
ラヒドロフリル基等があげられる。
また、Z-で表わされる陰イオンとしては、たとえば、
I-、Br-、Cl-、ClO4 -、BF4 -、SCN- 等があげられる。
前記一般式(I)で表わされるナフトラクタム系色素
は、600〜800nmの波長帯域で吸収を有し、しかも分子吸
収係数が104〜105cm-1である。
前記一般式(I)で表わされるナフトラクタム系色素
は、公知文献(たとえば英国特許第1,055,831号明細書
及び特公昭41−2905号公報等)に記載された反応を用い
て得られる一般式 〔式中、R1、R4、R5、及びZ-は前記一般式(I)におけ
るそれらと同一である。〕 で表わされる化合物と、一般式 〔式中、X、Y、R2、及びR3は前記一般式(I)におけ
るそれらと同一である。〕 で表わされる芳香族アルデヒド類とを縮合反応させるこ
とによって容易に製造することができる。
本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と記録層とか
ら構成されているが、さらに必要に応じて基板上に下引
き層を、また記録層上に保護層を設けることができる。
本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明又は不透明のいずれであってもよい。基板の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状若しくは
箔状の金属等の、一般にこの種の記録体用の支持体が使
用できるが、種々の点からしてプラスチックが好まし
い。そのプラスチックとしては、たとえばアクリル樹
脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹
脂、ニトロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リサルホン樹脂等があげられる。
本発明の光学記録媒体における情報記録層としてのナフ
トラクタム系光吸収色素を含有する記録層の厚さは100
Å〜5μm、好ましくは500Å〜3μmである。
その記録層の形成には、スパッタリング法、ドクターブ
レード法、キヤスト法、スピナー法、浸漬法などの一般
的に行なわれる薄膜形成法が用いられる。記録層はナフ
トラクタム系光吸収色素にバインダーを併用して形成せ
しめることができる。そのバインダーとしては、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロ
ース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカ
ーボネートなどの樹脂類が使用される。記録層における
ナフトラクタム系光吸収色素の含有量は樹脂類に対して
1重量%以上であるのが望ましい。
前記のドクターブレード法、キヤスト法、スピナー法、
浸漬法等の塗布方法、特にスピナー法で記録層を形成す
る場合には、塗布溶媒が使用されるが、その溶媒として
は、たとえばブロモホルム、ジブロモエタン、テトラク
ロロエタン、エチルセロソルブ、キシレン、クロロベン
ゼン、シクロヘキサノン等の沸点が120〜160℃の溶媒が
好適に使用される。スピナー法による成膜の場合は、回
転数が500〜5000rpmが好ましく、スピンコート後に、場
合によって加熱或いは溶媒蒸気にあてるなどの処理を行
なってもよい。
本発明の光学記録媒体の記録層には、記録層の安定性や
耐光性を向上させる目的で、一重項酸素クエンチヤーと
して遷移金属キレート化合物(たとえばアセチルアセト
ナートキレート、ビスフエニルジチオール、サリチルア
ルデヒドオキシム、ビスジチオール−α−ジケトン等)
を含有せしめてもよい。
さらに、本発明の記録層には他の色素を併用することが
できる。その他の色素としては、インドフエノール系色
素、トリアリールメタン系色素、アゾ系色素、シアニン
系色素、スクワリリウム系色素などがあげられる。
本発明の光学記録媒体における記録層は、基板の両面に
設けてもよいし、片面だけに設けてもよい。
本発明の光学記録媒体への記録は、基板の両面又は片面
に設けられた記録層に1μm程度に集束したレーザー
光、好ましくは半導体レーザー光をあてることにより行
なう。レーザー光の照射された部分には、レーザー光エ
ネルギーの吸収による分解、蒸発、溶融等の記録層の熱
的変形が起こり、情報が記録される。
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きていない部分と起きていない部分の反射率の差を
読み取ることにより行なう。
本発明の光学記録媒体の記録及び再生に使用されるレー
ザーとしては、N2、He−Cd、Ar、He−Ne、ルビー、半導
体、色素レーザーなどがあげられるが、特に半導体レー
ザーが軽量性、取扱いの容易さ、コンパクト性などの点
からして好ましい。
(実施例) 以下に、実施例をあげてさらに詳述する。
実施例1 ナフトラクタム系色素の合成: 構造式 で表わされる化合物39.0g、及び構造式 で表わされる化合物19.1gを、氷酢酸250g及び無水酢酸5
0g中に加え、100〜105℃で4時間撹拌して反応させ、反
応終了後に室温まで冷却した。
この反応生成液を、過塩素酸ナトリウム16.0gを含む水
1.5中に注ぎ、室温で8時間撹拌した。沈でんした結
晶を取し、乾燥して、下記の構造式を有する黒緑色結
晶のナフトラクタム系色素45gを得た。この色素の溶液
(クロロホルム)中でのλmaxは740nmであった。
光学記録媒体: 上記のようにして得られたナフトラクタム系色素1gをエ
チルセロソルブに溶解し、0.22μのフイルターで過し
て得た溶液2mlを、深さ700Å、巾0.7μの溝(グルー
ブ)付きのポリカーボネート樹脂基板(130mmφ)上に
滴下し、800rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で20
分間乾燥した。別に、膜厚測定のためにガラス板に同一
条件で塗布してクリステップによる膜厚測定をしたとこ
ろ、650Åであった。塗布膜の最大吸収波長は790nmであ
り、ピークの巾が広かった。
この塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー光を、
出力6mWでピーム径1mμで照射したところ、巾約1μ
m、ピット長約2μmの輪郭を極めて明瞭な孔(ピッ
ト)が形成された。そのキヤリヤーレベル/ノイズレベ
ル比(C/N比)は52dBであった。また、塗布膜の耐光性
及び再生光に対する耐性が良好であった。
実施例2 実施例1の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素を合成した。この色素のλmax(クロ
ロホルム溶液)は740nmであった。
このナフトラクタム系色素1g及びニトロセルロース(ダ
イセル化学社商品名 RS−20)1.5gをエチルセロソルブ
50gに溶解し、0.22μのフイルターで過して溶液を得
た。この溶液3mlを、深さ650Å、巾0.7μの溝(グルー
ブ)つきのポリカーボネート樹脂基板(120mmφ)上に
滴下し、1500rpmの回転数で塗布した。塗布後、60℃で1
0分間乾燥した。膜厚測定のために、同一条件でガラス
板に塗布し、タリステップにより測定したところ、膜厚
が700Åであった。塗布膜の最大吸収波長は790nmであ
り、ピークの巾が広かった。
この塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー光を、
出力6mWでピーム径1μmで照射したところ、巾約1μ
m、ピット長約2μmの輪郭の極めて明瞭な孔(ピッ
ト)が形成された。また、そのキヤリヤーレベル/ノイ
ズレベル比は51dBであり、耐光性及び再生光に対する耐
性は良好であった。
実施例3 実施例1の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素を合成した。この色素のλmax(クロ
ロホルム溶液)は740nmであった。
このナフトラクタム系色素1gをジブロモエタン50gに溶
解し、0.22μのフイルターで過して溶液とした。この
溶液2mlを、深さ700Å、巾0.7μの紫外線硬化樹脂によ
る溝(グルーブ)つきのメチルメタクリレート樹脂基板
(120mmφ)上に滴下し、スピナー法により1200rpmの回
転数で塗布し、60℃で10分間乾燥した。同一条件でガラ
ス板に塗布し、タリステップにより塗布膜厚を測定した
ところ、700Åであった。塗布膜の最大吸収波長は790nm
であり、スペクトルの形状は巾広であった。
この塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー光を出
力6mWで、ビーム径約1μmで照射したところ、巾約1
μm、ピット長約2μmの輪郭の極めて明瞭な孔(ピッ
ト)が形成された。そのC/N比は48dBであり、耐光性及
び再生光に対する耐性が良好であった。
実施例4〜66 実施例1の合成法に準じて第1表に示す種々のナフトラ
クタム系色素を合成した。この色素のλmax(クロロホ
ルム溶液)、及び実施例1の方法に準じてポリカーボネ
ート樹脂基板上に塗布した塗布膜の最大吸収波長は第1
表に示すとおりであった。
また、その塗布膜に、中心波長830nmの半導体レーザー
光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な孔(ピット)
が形成され、反射率が高く、高感度でC/N比も優れてお
り、耐光性及び再生光に対する耐性が良好であった。
(c) 発明の効果 本発明の光学記録媒体は、記録層形成用のナフトラクタ
ム系光吸収色素が有機溶媒に対する溶解性に優れている
ので記録層自体の塗布による形成が容易であり、記録層
が反射率が高く、コントラストが良好で、しかも耐光性
及び再生光に対する耐性にも優れている。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板に一般式 (式中、X及びYはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
    アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わ
    し、R1は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロアル
    キル基、アリール基又はアリル基を表わし、R2及びR3
    それぞれ水素原子、炭素数1〜20の置換若しくは非置換
    のアルキル基、アリール基、アリル基又はシクロアルキ
    ル基を表わし、R4及びR5はそれぞれ水素原子、ハロゲン
    原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアル
    コキシ基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アミノ
    基又はヒドロキシ基を表わし、Z-は陰イオンを表わ
    す。) で表わされるナフトラクタム系光吸収色素を含有する記
    録層を設けたことを特徴とする光学記録媒体。
JP60265017A 1985-11-27 1985-11-27 光学記録媒体 Expired - Lifetime JPH0729488B2 (ja)

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US06/934,694 US4756987A (en) 1985-11-27 1986-11-25 Optical recording medium
DE8686116476T DE3684102D1 (de) 1985-11-27 1986-11-27 Optisches aufzeichnungsmedium.
EP86116476A EP0224261B1 (en) 1985-11-27 1986-11-27 Optical recording medium

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