JPS62216793A - 光学記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （、）　　発明の目的 本発明は光学記録媒体に関する。

（産業上の利用分野） 本発明の光学記録媒体は、レーザー光等音用いる高密度
の情報記録保存、及び同記録再生用の記録媒体として有
利に使用できる。

（従来の技術） レーザー光等を用いる光学記録は、情報を高密度に記録
保゛存でき、かつその記録を容易に再生利用できるもの
であシ、その−例として光ディスクがあげられる。

一般に、光ディスクは、円形の基体に設けられた薄い記
録１１に、１μｔｎｆｉ！度に集束し九レーザー光を照
射し、高密度の情報記録を行なうものである。

その記録は、照射されたレーデ−光エネルギーの吸収に
よって、その個所の記録層に、分解、蒸発、溶解等の熱
的変形が生成することによシ行なわれる。また、記録さ
れた情報の再生は、レーザー光によシ変形が起きている
部分と起きて込ない部分の反射率の差を読み取ることに
よシ行なわれる。

したがって、光学記録媒体としては、レーザー光のエネ
ルギーを効率よく吸収する必要があるため、記録に使用
する特定の波長のレーデ−光に対する吸収が大きいこと
、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用する特定
波長のレーザー光に対する反射率が高いことが必要とな
る。

この種の光学記録媒体としては種々の構成のものが知ら
れている。たとえば、特開１ｆ５５５−９７０３３号公
報には、基板上に７タロシアニン系色素の単層を設けた
ものが開示されている。ツタロシアニン系色素は感度が
低い、分解点が高く蒸着しにくいし、さらに有機溶媒に
対する溶解性が著しく低いので記録層全形成せしめるた
めの塗布によるコーティングが困難である等の欠点がち
る。

また、特開昭５８−８３３４４号公報にはフェナレン系
色素を、特開昭５８−２２４７９３号公報にはナフトキ
ノン系色素を記録層に設けたものが開示されている。こ
のような色素は蒸着しやすい利点を有する反面において
、反射率が低いという欠点を有している。反射率が低い
とし７デー光によシ記録された部分と未記録部分との反
射率のコントラストが低くなシ、記録された情報の再生
が困難になる。

また、特開昭５９−２４６９２号公報、特開昭５９−６
７０９２号公報、特開昭５９−７１８９５号公報には、
シアニン系色素を記録層に設けたものが開示されている
。このような色素は塗布によるコーティングが容易であ
る利点があるが、耐光性に劣シ、再生光によシ劣化を起
す欠点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は、塗布による記録層自体の形成が容易であり、
記録層が反射率が高くて記録のコントラストが良好であ
り、しかも耐光性及び再生光に対する耐性に優れている
光学記録媒体を提供しよりとするものである。

（ｂ）　　発明の構成 （問題点を解決するための手段） 本発明者等は前記の問題点を解決するために種７トラク
タム系光吸収色素を含有する記録層金膜けることによシ
、その目的を容易に達成することができたものである。

すなわち、本発明の光学記録媒体は、基板に一般式 （式中、Ｋは置換若しくは非置換の芳香族アミンの残基
全表わし、Ｒは置換若しくは非置換のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基又はアリル基全表わし、Ｑ−
はクエンチャ−アニオンを表わし、環Ａは置換基を有し
ていてもよいナフタレン環を表わし、ｍは０，１又は２
全表わす。）で表わされるす７トラフタム系光吸収色素
を含有する記録層を設けたことを特徴とするものである
。

前記一般式（１）におけるＲで表わされるアルキルノ（
、シクロアルキル基、アリール基又はアリル基の置換基
若しくは置換原子としては、たとえばアルコキシ基、ア
ルコキシアルコキシ基、アルコキジアルコキシアルコキ
シ基、アリルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基
、シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、ハ
ロゲン原子等があげられる。

また、猿人で表わされるナフタレン環の置換基又は置換
原子としては、・〜ログン原子、炭素数１〜ｌＯのアル
キル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキルアミ
ノ基、アシルアミノ基、アミノ基、ヒドロキシ基等の非
イオン性の基があげられる。

また、Ｋで表わされる置換若しくは非置換の芳香族アミ
ンの残基としては、たとえばテトラヒドロキノリン類、
又は一般式 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わす
。Ｒ２及びＲ３はそれぞれ、水素原子、炭素数１〜２０
の置換若しくは非置換のアルキル基、アリール基又はシ
クロヘキシル基を表わし、そのアルキル基、アリール基
又はシクロヘキシル基の置換基としては、九とえばアル
コキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシアルコ
キシアルコキシ基、アリルオキシ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、シアノ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロ
フリル基等があげられる。） で表わされる基があげられる。

Ｑ″″で表わされるクエンチャ−アニオンとしては下記
のものが挙げられる。

セ今÷ 前記一般式（Ｉ）で表わされるナフトラクタム系色素は
、６００〜９００　ｎｍの波長奎域で吸収を有し、しか
も分子吸収係数が１０〜１０　　ｃｌｎ　である。

前記一般式（１）で表わされるナフトラクタム系色素の
中で好ましいものとしては、一般式（式中、Ｘ及びＹは
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル
アミノ基又はアルコキシ基を表わし、Ｒは置換若しくは
非置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又
はアリル基を表わし　Ｒ２及びＲはそれぞれ水素原子、
炭素数１〜２０の置換若しくは非置換のアルキル基、ア
リール基、アリル基又はシクロアルキル基金表わし、Ｒ
及びＲはそれぞれ水素原子、ハロダン原子、炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、ア
ルキルアミノ基、アシルアミン基、アミノ基又はヒドロ
キシ基を表わし、Ｑ−はクエンチャ−アニオンを表わす
。前記のアルキル基、アリール基又はシクロアルキル基
の置換基としては、たとえばアルコキシ基、アリルオキ
シ基〜アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、ヒド
ロキシ基又はテトラヒドロフルフリル基等があげられる
。） で表わされるものがあげられる。

前記一般式（ＩＩ）で表わされるナフトラクタム系色素
は、たとえば一般式 （式中、Ｒ”　、Ｒ２＋Ｒ３，Ｒ’　ｒＲ５，Ｘ、Ｙ、
ｍは前記定義に同じ。２−は工″″ｒＢｒ’、ＣＬ−ｐ
ｃｔ０４”、ＢＦ４−ｒｓｃＮ−。

を表わす。） で表わされる化合物と、一般式 （式中、Ｑ−は前記定義に同じ。Ｘ＋はテトラアルキル
アンモニウムカチオン等を表わす。）で表わされる化合
物とを極性溶媒中で加熱攪拌することによシ容易に得ら
れる。

本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と記録層とか
ら構成されているが、さらに必要に応じて基板上に下引
き層を、また記録層上に保護層を設けることができる。

本発明における基板としては、使用するレーザー光に対
して透明又は不透明のいずれでちってもよい。基板の材
質としては、ガラス、プラスチック、紙、板状若しくは
箔状の金属等の、一般にこの種の記録体用の支持体が使
用できるが、種々の点からしてプラスチックが好ましい
。そのプラスチックとしては、たとえばアクリル樹脂、
メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニ
トロセルロース、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサル
ホン樹脂等があげられる。

本発明の光学記録媒体における情報記録Ｊ脅とじてのナ
フトラクタム系光吸収色素を含有する記録層の厚さは１
００Ｘ〜５μｍ１好ましくは５００Ｘ〜３μｍ”Ｔ：あ
る。

その記録層の形成には、スノ臂りタリング法、ドクター
ブレード法、キャスト法、スピナー法、浸バインダーを
併用して形成せしめることもできる。

そのバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース
、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの樹脂
類が使用される。記録層におけるナフトラクタム系光吸
収色素の含有量は樹脂類に対して１重量％以上であるの
が望ましい。

前記のドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、
浸漬法等の塗布方法、特にスピナー法で記録層を形成す
る場合には、塗布溶媒が使用され７″ るが、その溶媒としては、たとえば！ロモホルム、ジブ
ロモエタン、テトラクロロエタン、エチルセロソルフ、
キシレン、クロロベンゼン、シクロヘキサノン等の沸点
が１２０〜１６０℃の溶媒が好適に使用される。スピナ
ー法による成膜の場合は、回転数が５００〜５０００　
ｒｐｍが好ましく、スピンコード後に、場合によって加
熱或いは溶媒蒸気にあてるなどの処理を行なってもよい
。

さらに、本発明の記録層には他のナフトラクタム系色素
あるいは他系統の色素全併用することができる。他系統
の色素としては、インドフェノール系色素、トリアリー
ルメタン系色素、アゾ系色素、シアニン系色素、スクワ
リリウム系色素などがあげられる。

本発明の光学記録媒体における記録層は、基板の両面に
設けてもよいし、片面だけに設けてもよい。

本発明の光学記録媒体への記録は、基板の両面又は片面
に設けられた記録層に１μｍ程度に集束したレーザー光
、好ましくは半導体レーザー光をあてることにより行な
う。レーデ−光の照射された部分には、レーザー光エネ
ルギーの吸収による分解、蒸発、溶融等の記録層の熱的
変形が起こり、情報が記録される。

記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読
み取ることにより行なう。

本発明の光学記録媒体の記録及び再生に使用されるレー
ザーとしては、Ｎ２、Ｈｅ−Ｃｄ　、　Ａｒ　、Ｈｅ−
Ｎ＠、ルビー、半導体、色素レーザーなどがあげられる
が、特に半導体レーザーが軽量性、取扱いの容易さ、コ
ンノ々クト性などの点からして好ましい。

（実施例） 以下に、実施例をあげてさらに詳述する。

実施例１ ナフトラクタム系色素の合成： 構造式 で示される色素６．４８ｉと、構造式 で示される化合物６．２０９−とｔ−Ｎ、Ｎ−ツメチル
ホルムアミド５０−に加え、９０−１０００で３時間反
応させた。冷却後、反応液を水３００−中に排出し、室
温で１時間攪拌し、得られた析出した結晶ｔ［’過、乾
燥し、下記構造式で表わされる黒縁色の結晶１０．２０
Ｐ’！！−得た。このものの溶液（クロロホルム）中で
のλｍ＆Ｘは７４５　ｎｍであった。

光学記録媒体： 上記のようにして得られたナフトラクタム系色素Ｉ’ｌ
ｌ”テトラクロロエタン５０？に溶解し、０．２２μの
フィルターで濾過して得た溶液２−を、深さ７００１．
中０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（グループ）付き
のメチルメタクリレート樹脂基板（１３０ｍｗφ）上に
滴下し、８００　ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、
６０℃で２０分間乾燥した。別に、膜厚測定のためにガ
ラス板に同一条件で塗布してタリステップによる膜厚測
定をしたところ、７００Ｘであった。塗布膜の最大吸収
波長は７９０　ｎｍであシ、ピークの巾が広かった。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーデ−
光を、出力６　ｍＷでビーム径１μｍで照射したところ
、巾約１μｍ１　ビット要約２μｍの輪郭の極めて明瞭
な孔（ピット）が形成された。そのキャリヤーレベル／
ノイズレベル比（Ｃ／Ｎ　比）　ハ５２ｄＢであった。

また、塗布膜の耐光性及び再生光に対する耐性が良好で
あった。

実施例２ 実施例１の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素全合成した。この色素のλｍａｘ　（
クロロホルム溶液）は７４０　ｎｍでちったＯ 工 このナフトラクタム系色素ＩＰｋテトラクロロエタン５
０％に溶解し、０．２２μのフィルターで濾過して溶液
を得た。この溶液３ゴ金、深さ６５０＾、巾０．７μの
紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つきのメチルメタ
クリレート樹脂基板（１２０囚φ）上に滴下し、７５０
ｒｐｍの回転数で塗布した。塗布後、６０℃で１０分間
乾燥した。膜厚測定のために、同一条件でガラス板に塗
布し、タリステッグにより測定したところ、膜厚が７５
０Ｘであった。塗布膜の最大吸収波長は８０５　ｎｍで
あり、−一りの巾が広かつ友。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーザー
光を、出力６　ｍＷでビーム径１μｍで照射し念ところ
、巾約１μｍ１ピツト長約２μｍの輪郭の極めて明瞭な
孔（ピット）が形成された。また、そのキャリヤーレベ
ル／ノイズレベル比は５１　ｄＢであり、耐光性及び再
生光に対する耐性は良好であった。

実施例３ 実施例１の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素全台成し穴、この色素のλｍ＆３ｍ　
（クロロホルム溶液）は７４０　ｎｍであった。

閃 ω １）　閤 このナフトラクタム系色素１？をノプロモエタン５０？
に溶解し、０．２２μのフィルターで濾過して溶液とし
た。この溶液２　ｍｌ−１深さ７００１゜巾０．７μの
紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つきのメチルメタ
クリレート樹脂基板（１２０叫φ）上に滴下し、スピナ
ー法によＦ）　６００　ｒｐｍの回転数で塗布し、６０
℃で１０分間乾燥した。

同一条件でガラス板に塗布し、タリステップによシ塗布
膜厚金測定したところ、８００Ｘであった。

塗布膜の最大吸収波長は７９０　ｎｍであシ、スペクト
ルの形状は巾広であった。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーデ−
光を出力６　ｍＷで、ビーム径約１μｍで照射したとこ
ろ、巾約１μｍ１ピツト長約２μｍの輪郭の極めて明瞭
な孔（ピット）が形成された。そのい比は５０ｄＢであ
Ｑ１耐光性及び再生光に対する耐性が良好であった。

実施例４〜８７ 実施例１の合成法に準じて、下記の一般式で表ナフトラ
クタム系色素全合成し念。この色素を実施例１の方法に
準じて紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つきメチル
メタクリレート樹脂基板上に塗布した塗布膜の最大吸収
波長は第１表に示すとおりであった。

また、その塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レ
ーデ−光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な孔（ビ
ット）が形成され、反射率が高く、高感度でい比も優れ
ておシ、耐光性及び再生光に対する耐性が良好でありた
。

実施例８８ 実施例１の合成法に準じて、下記の構造式を有するナフ
トラクタム系色素を合成した。この色素のλＩＴｌ＆！
　（クロロホルム溶液）は８００　ｎｍであった。

このナフトクタム系色素１ｇをジブロモエタン５（ｌに
溶解し、０．２２μのフィルターで１過し、溶解液を得
た。この溶液２ｄを、深さ７００ｉ。

巾０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つき
メチルメタクリレート樹脂基板（１２０ｍφ）上に滴下
し、スぎチー法により６５０　ｒｐｍの回転数で塗布し
た。塗布後、６０℃で１０分間乾燥した。同一条件でガ
ラス板に塗布して、タリステンゾによる膜厚測定をした
ところ、８００Ｘであった。塗布膜の最大吸収波長は８
２０　ｎｍであり、スＲクトルの形状は巾広かった。

この塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レーザー
光を出力６　ｍＷでビーム径１μｍで照射したところ、
巾約１μｍ１　ビット要約２μｍの輪郭の極めて明瞭な
孔（ビット）が形成された。キャリヤーレベル／ソイズ
レ４ル（Ｃ／Ｎ）比は５１　ｄＢであった。耐光性およ
び再生光に対する耐性も良好であった。

実施例８９〜１７２ 実施例１に準じて合成した下記一般式で示され、かつ第
２表に示す種々の構造式を有するナフトラクタム系光吸
収物質を、実施例８８とほぼ同様の条件で紫外線硬化樹
脂による溝（グループ）つきメチルメタクリレート樹脂
基板上に塗布した。

得られた塗布膜に、中心波長８３０　ｎｍの半導体レー
ザー光を照射したところ、輪郭の極めて明瞭な孔（ビッ
ト）が形成され、反射率も高く、高感度でＣ／Ｎ比も優
れていた。また、耐光性および再生光に対する耐性も良
好でおった。

実施例１７３ 実施例１の合成法に準じて、下記の構造を有するナフト
ラクタム系色素を合成した。この色素のλ　（クロロホ
ルム溶液）は６６５　ｎｍであった。

■１ｘ このナフトラクタム系色素１ｇをジブロモエタン５０ｇ
に溶解し、０．２２μのフィルターで１通して溶液とし
た。この溶液２ｍｌを、深さ７００　Ｘ。

巾０．７μの紫外線硬化樹脂による溝（グループ）つき
のメチルメタクリレート樹脂基板（１２０ｍφ）上に滴
下し、スピナー法によυ１０００　ｒｐｍの回転数で塗
布し、６０℃で１０分間乾燥した。同一条件でガラス板
に塗布し、タリステップにより塗布膜厚を測定したとこ
ろ、７００λであった。塗布膜の最大吸収波長は６６０
　ｎｍであり、スペクトルの形状は巾広であった。

この塗布膜に、中心波長６３２．８ｎｍのＨｅ−Ｎｅレ
ーザー光を用い、ビーム径２．４μｍで照射したところ
、輪郭の極めて明瞭な孔（ピット）が形成された。その
い比は５０　ｄＢであシ、耐光性及び再生光に対する耐
性が良好でありた。

実施例１７４〜２４７ 実施例１の合成法に準じて下記の一般式で表わされ、か
つ第１表に示す種々の構造式を有するナフトラクタム系
色素を合成した。この色素を実施例１７３の方法に準じ
て紫外線硬化樹脂による溝（グループ）′）きのメチル
メタクリレート樹脂基板上に塗布した。塗布膜の最大吸
収波長は第３表に示すとおりであった。

＋ また、その塗布膜に、半導体レーデ−光を照射したとこ
ろ、輪郭の極めて明瞭な孔（ピット）が形成され、反射
率が高く、高感度でＣ／Ｎ比も優れておシ、耐光性及び
再生光に対する耐性が良好であった。

（ｃ）発明の効果 本発明の光学記録媒体は、記録層形成用のナフトラクタ
ム系光吸収色素が有機溶媒に対する溶解性に優れている
ので記録層自体の塗布による形成が容易であシ、記録層
が反射率が高く、コントラストが良好で、しかも耐光性
及び再生光に対する耐性にも優れている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｋは置換若しくは非置換の芳香族アミンの残基
   を表わし、Ｒは置換若しくは非置換のアルキル基、シク
   ロアルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｑ＾
   −はクエンチャーアニオンを表わし、環Ａは置換基を有
   していてもよいナフタレン環を表わし、ｍは０、１又は
   ２を表わす。）で表わされるナフトラクタム系光吸収色
   素を含有する記録層を設けたことを特徴とする光学記録
   媒体。 ２）ナフトラクタム系光吸収色素が、一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、
   アルキル基、アシルアミノ基又はアルコキシ基を表わし
   、Ｒ＾１は置換若しくは非置換のアルキル基、シクロア
   ルキル基、アリール基又はアリル基を表わし、Ｒ＾２及
   びＲ＾３はそれぞれ水素原子、炭素数１〜２０の置換若
   しくは非置換のアルキル基、アリール基、アリル基又は
   シクロアルキル基を表わし、Ｒ＾４及びＲ＾５はそれぞ
   れ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル
   基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、アルキルアミノ基
   、アシルアミノ基、アミノ基又はヒドロキシ基を表わし
   、Ｑ＾−はクエンチャーアニオンを表わし、ｍは０、１
   又は２を表わす。） で表わされるナフトラクタム系色素である特許請求の範
   囲第１項記載の光学記録媒体。