JPS6042482A - フオトクロミツク感光性材料 - Google Patents
フオトクロミツク感光性材料Info
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- JPS6042482A JPS6042482A JP15007083A JP15007083A JPS6042482A JP S6042482 A JPS6042482 A JP S6042482A JP 15007083 A JP15007083 A JP 15007083A JP 15007083 A JP15007083 A JP 15007083A JP S6042482 A JPS6042482 A JP S6042482A
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- photosensitive material
- photochromic photosensitive
- photosensitive
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フォトクロミック感光性材料に関し、％Ｋ、
記録・消去繰返し特性のすぐれたフォトク、ロミツク感
光性材料に関する。
記録・消去繰返し特性のすぐれたフォトク、ロミツク感
光性材料に関する。
フォトクロミズムを示す有機化合物として多くの物質が
知られているが、その中で最もよく検討されているのは
スピロピラン化合物である。スピロピラン化合物を実際
の感光性組成物、即ら感光性材料として用いる場合、ス
ピロピラン化合物を一般にバインダー、即ち高分子物質
中に分散させて、支持体のないフィルム状にするか、支
持体上に塗布して用いられている。このような感光性栃
料は紫外線を照射すると発色し、記録が行なわれ、加熱
するか可視光線を照射すると消色し、記録が消去されて
元の状態に戻る。この現象は繰返し行なわれる。
知られているが、その中で最もよく検討されているのは
スピロピラン化合物である。スピロピラン化合物を実際
の感光性組成物、即ら感光性材料として用いる場合、ス
ピロピラン化合物を一般にバインダー、即ち高分子物質
中に分散させて、支持体のないフィルム状にするか、支
持体上に塗布して用いられている。このような感光性栃
料は紫外線を照射すると発色し、記録が行なわれ、加熱
するか可視光線を照射すると消色し、記録が消去されて
元の状態に戻る。この現象は繰返し行なわれる。
しかし、従来の感光材料を実用化する際の大きな問題点
は、前記の如き記録、消去を繰返すと、その間に照射さ
れた光によって起きる副反応によってスピロピラン化合
物が分解し、十分な記録・消去繰返し特性（回数）が得
られないということであった。感光材料を、その使用雰
囲気を不活性ガスにして記録・消去の繰返し特性を向上
させる方法があるが、記録層の層構造上に大きな制約を
与える。
は、前記の如き記録、消去を繰返すと、その間に照射さ
れた光によって起きる副反応によってスピロピラン化合
物が分解し、十分な記録・消去繰返し特性（回数）が得
られないということであった。感光材料を、その使用雰
囲気を不活性ガスにして記録・消去の繰返し特性を向上
させる方法があるが、記録層の層構造上に大きな制約を
与える。
従来、高分子物質の光分解防止、染・顔料の耐光性向上
のために、−重項酸素失活剤、酸化防止剤等を添加する
ことは公知の技術である。今回、本発明者らは、スピロ
ピラン化合物の如きフォトクロミズムを示す物質の記録
・消去繰返し特性の向上のために一重項酸素失活ｉ１１
の使用が特に効果があることを見出した。
のために、−重項酸素失活剤、酸化防止剤等を添加する
ことは公知の技術である。今回、本発明者らは、スピロ
ピラン化合物の如きフォトクロミズムを示す物質の記録
・消去繰返し特性の向上のために一重項酸素失活ｉ１１
の使用が特に効果があることを見出した。
即ち、本発明は、スピロピラン化合物と高分子物質とか
ら形成されるフォトクロミック感光層の少なくとも表面
部分に一重項酸素失活剤が含まれるようにしたことを特
徴とするフォトクロミック感光性桐料を提供するもので
ある。
ら形成されるフォトクロミック感光層の少なくとも表面
部分に一重項酸素失活剤が含まれるようにしたことを特
徴とするフォトクロミック感光性桐料を提供するもので
ある。
本発明に使用される一重項酸素失活剤としては、カロチ
ノイド、アミン類、スルフィド類、金属錯体などが挙げ
られる。例えば、アミン類としては、２、２．６．６−
テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セパケ
ート、ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−
ピペリジニル）セバケート、コハク酸とＮ−βヒドロキ
シエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロ
キシピペリジンとのポリエステル、２，２，６．６−テ
トラメチル−４−ヒドロキシ−４−シアノピペリジン、
７−アミノ−１，３，５−トリアザアダンタンなど、ス
ルフィド類としては、テトラメチルチウラムジスルフィ
ド、テトラメチルチウラムスルフィドなど、金属錯体と
しては、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケ
ルジイソーグロビルジチオカルバメート、ニッケルビス
（（エチル−（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシ
ーベンジル）ホスフオネー） ））、 ２．２’ −チ
オビス（４−第三オクチルフェノラート）−ブチルアミ
ノ−ニッケルＣ１１） 、ニッケルビス（メチル、２−
ヒドロキシ、４−メチルフェニル−ケトオキシム）など
を使用することができる。
ノイド、アミン類、スルフィド類、金属錯体などが挙げ
られる。例えば、アミン類としては、２、２．６．６−
テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セパケ
ート、ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルー４−
ピペリジニル）セバケート、コハク酸とＮ−βヒドロキ
シエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロ
キシピペリジンとのポリエステル、２，２，６．６−テ
トラメチル−４−ヒドロキシ−４−シアノピペリジン、
７−アミノ−１，３，５−トリアザアダンタンなど、ス
ルフィド類としては、テトラメチルチウラムジスルフィ
ド、テトラメチルチウラムスルフィドなど、金属錯体と
しては、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケ
ルジイソーグロビルジチオカルバメート、ニッケルビス
（（エチル−（３，５−ジ第三ブチルー４−ヒドロキシ
ーベンジル）ホスフオネー） ））、 ２．２’ −チ
オビス（４−第三オクチルフェノラート）−ブチルアミ
ノ−ニッケルＣ１１） 、ニッケルビス（メチル、２−
ヒドロキシ、４−メチルフェニル−ケトオキシム）など
を使用することができる。
本発明に使用されるスピロピラン化合物は例えば下記一
般式（１） （式中、ＸはＯ（０Ｈｘ）２又はＳを表わし、ＹはＯ又
はＳを表わし、Ｒ１、Ｉ（，２及び几４はＨ１炭素数１
〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を表
わし、几３はＮＯ２又は）−ログン原子を表わし、Ｒ５
はＨ１炭素数２９以下のアルキル基又は炭素数２９以下
のアルコキシ基を表わす）で表わすことができる。前記
一般式（１）のスピロピラン化合物は、この式中のＲ２
部分を介して別の重合体に結合していてもよい。
般式（１） （式中、ＸはＯ（０Ｈｘ）２又はＳを表わし、ＹはＯ又
はＳを表わし、Ｒ１、Ｉ（，２及び几４はＨ１炭素数１
〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を表
わし、几３はＮＯ２又は）−ログン原子を表わし、Ｒ５
はＨ１炭素数２９以下のアルキル基又は炭素数２９以下
のアルコキシ基を表わす）で表わすことができる。前記
一般式（１）のスピロピラン化合物は、この式中のＲ２
部分を介して別の重合体に結合していてもよい。
本発明に使用される高分子物質と゛しては、前記スピロ
ピラン化合物との相溶性のよいもので、光学的に透明で
あシかつ皮膜形成能の優れたものであればよく、その例
を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、゛酢酸セルロ
ース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポＩＪ ｘ
ｆ Ｌ／ ７、ポリアクリロニトリル、ウレタン樹脂
、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステルなどで
ある。
ピラン化合物との相溶性のよいもので、光学的に透明で
あシかつ皮膜形成能の優れたものであればよく、その例
を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、゛酢酸セルロ
ース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ポリプロピレン、ポＩＪ ｘ
ｆ Ｌ／ ７、ポリアクリロニトリル、ウレタン樹脂
、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステルなどで
ある。
スピロピラン化合物は高分子物質に対して１０〜６０重
歳％の量で使用するのが好ましい。
歳％の量で使用するのが好ましい。
本発明において必要に応じて使用することができる支持
体としては、ポリエチレンテレフタレート、セルロース
アセテート、ポリカーボネート、通常の紙、バライタ紙
、ガラス、金属等がある。
体としては、ポリエチレンテレフタレート、セルロース
アセテート、ポリカーボネート、通常の紙、バライタ紙
、ガラス、金属等がある。
フォトクロミック感光層の少なくとも表面部分に一重項
酸素失活剤が含まれるようにした本発明の感光性材料は
、−例として、スピロピラン化合物と高分子物質と一重
酸素失活剤とを適当な溶剤に溶解させ、この溶液を適当
な支持体、例えば光学研磨した石英ガラス板上にスピン
ナーなどを用いて塗布することによって得ることができ
る。この場合、−重項酸素失活剤は高分子物質に対して
１〜１００重量％の量で使用するのが好ましい。
酸素失活剤が含まれるようにした本発明の感光性材料は
、−例として、スピロピラン化合物と高分子物質と一重
酸素失活剤とを適当な溶剤に溶解させ、この溶液を適当
な支持体、例えば光学研磨した石英ガラス板上にスピン
ナーなどを用いて塗布することによって得ることができ
る。この場合、−重項酸素失活剤は高分子物質に対して
１〜１００重量％の量で使用するのが好ましい。
また、別の例として、本発明の感光性材料は、スピロピ
ラン化合物と高分子物質とから形成された感光肩上に、
−重項酸素失活剤分散ポリマー溶液をスピンナーなどを
用いて塗布することによっても得ることができる。この
場合、ポリマーとしては一重項酸素失活剤と相溶性がよ
く、光学的に透明なものであればよく、例えば尿素ブチ
ラール化樹脂、メラミン、ＰＶＡなどが例として挙げら
れる。またポリマー溶液中の一重、ＩＪｉ酸素失活剤の
量はポリマーに対して１〜１００重′Ｉｇ’５％の範囲
が好ましい。
ラン化合物と高分子物質とから形成された感光肩上に、
−重項酸素失活剤分散ポリマー溶液をスピンナーなどを
用いて塗布することによっても得ることができる。この
場合、ポリマーとしては一重項酸素失活剤と相溶性がよ
く、光学的に透明なものであればよく、例えば尿素ブチ
ラール化樹脂、メラミン、ＰＶＡなどが例として挙げら
れる。またポリマー溶液中の一重、ＩＪｉ酸素失活剤の
量はポリマーに対して１〜１００重′Ｉｇ’５％の範囲
が好ましい。
本発明の７オトクロミツク感光性材料は著しく改善され
た記録・消去特性を有する。この効果は、スピロピラン
化合物の無色および／または着色種の励起状態から基底
状態の酸素分子へのエネルギー移動によって生成する一
重項酸素を、少なくとも感光層の表面部分に含まれる一
重項酸素失活剤が消滅させるために、−重項酸素がスピ
ロピラン化合物を分解させるのを防ぐことによるものと
思われる。
た記録・消去特性を有する。この効果は、スピロピラン
化合物の無色および／または着色種の励起状態から基底
状態の酸素分子へのエネルギー移動によって生成する一
重項酸素を、少なくとも感光層の表面部分に含まれる一
重項酸素失活剤が消滅させるために、−重項酸素がスピ
ロピラン化合物を分解させるのを防ぐことによるものと
思われる。
本発明を以下の実施例によって詳述する。なお、各実施
例において、記録・消去繰返し特性は、感光性材料に紫
外光を３分間照射して発色させた後、可視光を６分間照
射して消色させる操作を繰返し、発色状態での最大吸収
波長の透過率変化が２０％以下になる壕での回数によっ
て表わした。
例において、記録・消去繰返し特性は、感光性材料に紫
外光を３分間照射して発色させた後、可視光を６分間照
射して消色させる操作を繰返し、発色状態での最大吸収
波長の透過率変化が２０％以下になる壕での回数によっ
て表わした。
実施例１
１′−メチル−６−エトキシー６−二トロー８−メトキ
シスピロ［２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２／−ベンゾ
チアゾリン］６重量部、フェノキシ樹脂１０重量部及び
ビス（２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジニ
ル）セバケート８重量部を、溶剤（メチルエチルケトン
とシクロヘキサノンとの１：１混合物）１００重量部に
溶解した。得られた溶液を、光学研磨した石英ガラス板
上にスピンナーによって塗布した。塗布条件は２６００
回転／分で５秒間であった。この塗布膜を真空乾燥器で
減圧下８０°Ｃの温度で２時間乾燥させて、感光性試料
（ｒ）を作製した。
シスピロ［２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２／−ベンゾ
チアゾリン］６重量部、フェノキシ樹脂１０重量部及び
ビス（２，２，６，６−チトラメテルー４−ピペリジニ
ル）セバケート８重量部を、溶剤（メチルエチルケトン
とシクロヘキサノンとの１：１混合物）１００重量部に
溶解した。得られた溶液を、光学研磨した石英ガラス板
上にスピンナーによって塗布した。塗布条件は２６００
回転／分で５秒間であった。この塗布膜を真空乾燥器で
減圧下８０°Ｃの温度で２時間乾燥させて、感光性試料
（ｒ）を作製した。
比較例として、前記ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）セバケートを使用しない以外は
１１本実施例と同じ条件で感光性試料（ＩＩ）を作製し
念。
ル−４−ピペリジニル）セバケートを使用しない以外は
１１本実施例と同じ条件で感光性試料（ＩＩ）を作製し
念。
これらの試料の記録・消去繰返し特性を調べるため、次
の条件で光照射を行なった。
の条件で光照射を行なった。
即ち、５００Ｗの超高圧水銀灯（ウシオ電機社製）を用
い、光学フィルター（東芝社ｆｆＵＶ−Ｄ３６０）を通
して３６０ ｎｍ付近の紫外光で３分間ヌ：に光、次に
可視光で６分間露光する操作を緑シ返しブヒ。
い、光学フィルター（東芝社ｆｆＵＶ−Ｄ３６０）を通
して３６０ ｎｍ付近の紫外光で３分間ヌ：に光、次に
可視光で６分間露光する操作を緑シ返しブヒ。
この結果、本実施例の感光性試料（１）は６２回の繰９
返し特性を示したが、比較例の感光性試料（１）はわず
か４回の繰り返し特性を示したに過ぎなかった。
返し特性を示したが、比較例の感光性試料（１）はわず
か４回の繰り返し特性を示したに過ぎなかった。
実施例２
１′−メチル−３−エトキシ−６−二トロー８−メトキ
シスピロ（２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２’−ベンゾ
チアゾリン）３２＆量部及びフェノキシ樹脂１０重量部
を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの１
＝１混合物）１００重風部に溶解した。得られた溶液を
前記実施例１と同様の操作条件で石英ガラス板上に塗布
し、乾燥して感光性皮膜を作製した。この皮膜の表面に
、ビス（２゜２．６．６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）セバケート６爪量部と尿素ブチル化樹脂１０重量
部とをエタノール５０電縫部に溶解して得た溶液をスピ
ンナーで塗布した。とのときの塗布条件は１５００回転
／分で５秒間であった。次にこの塗布液を真空乾燥器で
減圧下８０°Ｃの温度で２時間乾燥させて、感光性試料
（１）とした。この試料（１）について、実施例１と同
じ条件で記録・消去繰返し特性を測定した結果、前記比
較例試料（ｎ）の６倍、即ち２４回であった。
シスピロ（２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２’−ベンゾ
チアゾリン）３２＆量部及びフェノキシ樹脂１０重量部
を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの１
＝１混合物）１００重風部に溶解した。得られた溶液を
前記実施例１と同様の操作条件で石英ガラス板上に塗布
し、乾燥して感光性皮膜を作製した。この皮膜の表面に
、ビス（２゜２．６．６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）セバケート６爪量部と尿素ブチル化樹脂１０重量
部とをエタノール５０電縫部に溶解して得た溶液をスピ
ンナーで塗布した。とのときの塗布条件は１５００回転
／分で５秒間であった。次にこの塗布液を真空乾燥器で
減圧下８０°Ｃの温度で２時間乾燥させて、感光性試料
（１）とした。この試料（１）について、実施例１と同
じ条件で記録・消去繰返し特性を測定した結果、前記比
較例試料（ｎ）の６倍、即ち２４回であった。
さらに比較例として、本來施例２の場合と同じ組成及び
同一操作条件で感光性皮膜を作製し、この皮膜の表面に
、尿素ブチル化樹脂１０重量部をエタノール５０ｆｆｉ
量部に溶ｒ、イシて得た溶液を本実施例２と同一条件で
塗布、乾燥させて比較例の試料（１ｖ）を得た。この試
料（１■）について実施例１と同様にして記録・消去繰
返し特性を測定したところ、前記比較例の試料（Ｕ）と
同じ結果を示した。
同一操作条件で感光性皮膜を作製し、この皮膜の表面に
、尿素ブチル化樹脂１０重量部をエタノール５０ｆｆｉ
量部に溶ｒ、イシて得た溶液を本実施例２と同一条件で
塗布、乾燥させて比較例の試料（１ｖ）を得た。この試
料（１■）について実施例１と同様にして記録・消去繰
返し特性を測定したところ、前記比較例の試料（Ｕ）と
同じ結果を示した。
実施例６
１１−メチル−３−エトキシ−６−二トロー８−メトキ
シスビロ（２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２′−ベンゾ
チアゾリン〕６重量部、フェノキシ樹脂１０重量部及び
サイアソーブＵＶ３３４６ （アメリカン・サイアナミ
ツド社製ヒンダードアミン系化合物の商品名）４重殺部
を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの１
＝１混合物） ｉｏｏ重量部に溶解した溶液を用いて、
実施例１と同一の条件で感光性試料（Ｖ）を作製した。
シスビロ（２Ｈ−１−ベンゾビラン−２，２′−ベンゾ
チアゾリン〕６重量部、フェノキシ樹脂１０重量部及び
サイアソーブＵＶ３３４６ （アメリカン・サイアナミ
ツド社製ヒンダードアミン系化合物の商品名）４重殺部
を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの１
＝１混合物） ｉｏｏ重量部に溶解した溶液を用いて、
実施例１と同一の条件で感光性試料（Ｖ）を作製した。
この試料（Ｖ）について実施例１と同様にして記録・消
去繰返し特性を測定した結果、前記比１咬例の試料（ｎ
）の４倍の特性を示した。
去繰返し特性を測定した結果、前記比１咬例の試料（ｎ
）の４倍の特性を示した。
また、別の比較例として、本実施例におけるサイアソー
プＵＶ５５４６の代わシに酸化防止剤イルガノックス１
０１０（チバ・ガイギー社製の商品名）を用いた以外は
本実施例と同じ条件で感光性試料（Ｖｌ）を作製した。
プＵＶ５５４６の代わシに酸化防止剤イルガノックス１
０１０（チバ・ガイギー社製の商品名）を用いた以外は
本実施例と同じ条件で感光性試料（Ｖｌ）を作製した。
この試料（Ｖｌ）の記録・消去繰返し特性は実施例１に
おける比較試料（Ｉｌ）の２倍であったが、イルガノッ
クス１０１０の使用量をさらに増しても、記録・消去繰
返し特性はこれ以上向上しなかった。
おける比較試料（Ｉｌ）の２倍であったが、イルガノッ
クス１０１０の使用量をさらに増しても、記録・消去繰
返し特性はこれ以上向上しなかった。
実施例４
１／、 ５’、 ３’ −）リフチル−６−二トロスピ
ロ（２Ｈ−１−ベンゾピラン−２，２′−インド９７３
６重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体１０重量部及びビス（１，２，２，６，６−ベ
ンタメーｙ−ｙ−４−ピペリジニル）セバケート５重量
部を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの
１：１混合物）１００重量部に溶解した溶液を用いて、
実施例１と同様にして感光性試料（■）を作製した。
ロ（２Ｈ−１−ベンゾピラン−２，２′−インド９７３
６重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体１０重量部及びビス（１，２，２，６，６−ベ
ンタメーｙ−ｙ−４−ピペリジニル）セバケート５重量
部を溶剤（メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの
１：１混合物）１００重量部に溶解した溶液を用いて、
実施例１と同様にして感光性試料（■）を作製した。
比較例として、前記セバケートを使用しない外は本実施
例と同様にして比較試料（Ｖｌ）を作製した。
例と同様にして比較試料（Ｖｌ）を作製した。
これらの試料について、紫外光で９０秒間、次に可視光
で９０秒間露光するという照射条件で記録・消去繰返し
導性を測定した結果、本実施例の感光性試料（■）は比
較試料（Ｗｉｌｌ）に比べて特性が５倍に改善された。
で９０秒間露光するという照射条件で記録・消去繰返し
導性を測定した結果、本実施例の感光性試料（■）は比
較試料（Ｗｉｌｌ）に比べて特性が５倍に改善された。
実施例５
１′−ｎ−へキシル−３７，３’−ジメチル−５′−メ
トキシ−６−ニトロ−８−メトキシスピロ（２Ｈ−１−
ベンゾチオピラン−２，２′−インドリン）３重量部と
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１０重量部とを溶
剤（テトロヒドロフランとメチルエチルケトンとの１＝
１混合物）１００重景部に溶解した溶液を用いて、実施
例１と同様の操作条件で石英ガラス板上に感光性皮膜を
形成させた。次いで、この感光性皮膜の表面忙、ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セ
バケート６重量部と酢酸ビニル重合体１０重量部とをエ
タノール１００重量部に溶解して得た溶液（Ａ）をスピ
ンナーを用い、１５（）０回転／分、５秒間の条件で塗
布し、次いで真空乾燥器で温度８０゛Ｃで２時間乾燥し
て感光性試料（ＩＸ）を得た。
トキシ−６−ニトロ−８−メトキシスピロ（２Ｈ−１−
ベンゾチオピラン−２，２′−インドリン）３重量部と
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１０重量部とを溶
剤（テトロヒドロフランとメチルエチルケトンとの１＝
１混合物）１００重景部に溶解した溶液を用いて、実施
例１と同様の操作条件で石英ガラス板上に感光性皮膜を
形成させた。次いで、この感光性皮膜の表面忙、ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セ
バケート６重量部と酢酸ビニル重合体１０重量部とをエ
タノール１００重量部に溶解して得た溶液（Ａ）をスピ
ンナーを用い、１５（）０回転／分、５秒間の条件で塗
布し、次いで真空乾燥器で温度８０゛Ｃで２時間乾燥し
て感光性試料（ＩＸ）を得た。
紫外光用光源として５００Ｗ超高圧水銀灯を用い、可視
光用光源として６００Ｗハロゲンランプを用い、それぞ
れ光学フィルターによって紫外光と赤色光を分光した。
光用光源として６００Ｗハロゲンランプを用い、それぞ
れ光学フィルターによって紫外光と赤色光を分光した。
この紫外光と赤外光をそれぞれ４分間と５分間の照射時
間で本実施列の感光性試料（ＩＸ）に交互に照射して、
記録・消去繰返し特性を測定したところ、−重＠＠素失
活剤分酸ポリマーの前記溶液（Ａ）を塗布していない試
料と比較して、記録・消去繰返し特性は５倍に向上した
。
間で本実施列の感光性試料（ＩＸ）に交互に照射して、
記録・消去繰返し特性を測定したところ、−重＠＠素失
活剤分酸ポリマーの前記溶液（Ａ）を塗布していない試
料と比較して、記録・消去繰返し特性は５倍に向上した
。
このように、本発明のフォトクロミック感光性材料は従
来のものに比べて空気雰囲気下における記録・消去繰返
し、特性がすぐれ、したがってまた、レーザー記録材料
として用いる場合も記録層の層宿造選択の自由度が大き
くなる。
来のものに比べて空気雰囲気下における記録・消去繰返
し、特性がすぐれ、したがってまた、レーザー記録材料
として用いる場合も記録層の層宿造選択の自由度が大き
くなる。
代理人 土用 勝
〃 常包芳男
〃 杉浦俊貴
Claims (1)
- スピロピラン化合物と高分子物質とから形成されるフォ
トクロミック感光層の少なくとも表面部分に一重項酸素
失活剤が含まれるようにしたことを特徴とするフォトク
ロミック感光性材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15007083A JPS6042482A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | フオトクロミツク感光性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15007083A JPS6042482A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | フオトクロミツク感光性材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042482A true JPS6042482A (ja) | 1985-03-06 |
| JPH0452312B2 JPH0452312B2 (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=15488859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15007083A Granted JPS6042482A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | フオトクロミツク感光性材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042482A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4720356A (en) * | 1982-03-22 | 1988-01-19 | American Optical Corporation | Photochromic composition resistant to fatigue |
| JP2020156453A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 株式会社ナリス化粧品 | 一重項酸素消去剤のスクリーニング方法及び評価キット |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP15007083A patent/JPS6042482A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4720356A (en) * | 1982-03-22 | 1988-01-19 | American Optical Corporation | Photochromic composition resistant to fatigue |
| JP2020156453A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 株式会社ナリス化粧品 | 一重項酸素消去剤のスクリーニング方法及び評価キット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0452312B2 (ja) | 1992-08-21 |
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