JPS60262884A - フオトクロミツク感光性材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフォトクロミック感光性材料に関し、特に発色
状態での保存安定性が改善されたフォトクロミック感光
性材料に関するものである。

背景技術とその問題点 フォトクロミックを示す有機化合物として多くの物質が
知られているが、その中で最４）よく検ム１されている
のはスピロピラン化合物である。スピロピラン化合物を
実際の感光性組成物、即ち感光性材料として用いる場合
、スピ「Ｊピラン化合物を一般にバインダー、即ち高分
子物質中に分散させて、支持体のないフィルム状にする
が、支持体上に塗布して用いられている。このような感
光性材料は紫外線を照射すると発色し、記録が行われ、
加熱するか可視光線を照射すると消色し、記録が消去さ
れて元の状態に戻る。この現象は繰り返し行われる。

スピロピラン化合物を利用したフォトクロミ・ツタ感光
性材料は特に最近では光学式ビデオディスク等のレーザ
記録媒体としての応用が期待されている。

しかし、スピロピラン化合物として従来のヘンゾインド
リノピラン系スピロピランを用いた感光性材料はその発
色状態における吸収波長域が４００ｎｍ〜７００ｎｍの
範囲にあるため、記録再生にＡｒレーザやｌｌｅ　−Ｎ
ｃレーザのような気体レーザを使用する必要があった。

最近、気体レーザに比べて小型、軽量の半導体レーザ（
勃に発振波長７８０〜８５０ｎｍ程度のもの）の進展が
著しく、このために、レーザ記録再生用のフォトクロミ
ック感光性材料に用いられるスピロピラン化合物として
、その発色状態で７００ｎｍ以上の長波長域に高い吸収
を有する、次の一般式（１）で表されるヘンゾイントリ
ノチオピラン系スピロピラン化合物（以下、ＢＩＴＳＰ
と記す）が捷案されている。

（式中、Ｒ１は炭素数１〜２０個のアルキル基、Ｒ２、
Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は水素原子、炭素数１〜５個のアル
キル基、炭素数１〜５個のアルコキシ基、ハロゲン原子
、ニトロ基又はジメチルアミノ基を表し、Ｒ，＝　Ｒ，
及びＲ３は水素原子、炭素数１〜５個のアルキル基、炭
素数１〜５個のアルコキシ基、ハロゲン原子を表す） しかし、ＢＩＴＳＰをフォトクロミック物質として含む
感光性材料を実用化する場合の大きな問題点は、発色し
た、即ち発色種のＢＩＴＳＰの保存安定性が悪く、十分
な記録保存期間が得られないことであった。この問題点
を解消する方法として、プラスチック用酸化防止剤であ
るフェノール類を添加することが試みられている。しか
し、フェノール類の添加は感光性材料の発色濃度（光学
的濃度）を下げたり、発色種の吸収極大波長を短波長側
へ移動させたり、あるいは発色状態の保存安定性をかえ
って悪くするという欠点を有する。

特に発色種の吸収極大波長が短波長側へ移動することは
、ＢＩＴＳＰ含有感光性材料を半導体レーザ記録再生用
記録体とうして使用する場合、極めて不利である。

発明の目的 本発明は、前記の点に鑑み、ＢＩＴＳＰの発色種の光学
的濃度を減することなく且つ発色種の吸収極大波長を短
波長側へ移動するごとなく、発色種の保存安定性を向上
させたフォトクロミック感光性材料を提供するものであ
る。

発明の概要 本発明者らは、種々検討の結果、ＢＩＴＳＰを含むフォ
］・クロミック感光性材料において、酸化防止剤として
、次の構造式 を有する１、３．５　−）リス（４−Ｌ−ブチル−３−
ヒドロキソ−２，６−シメチルヘンジル）イソソアヌル
酸を用いることにより、本発明の前記目的が達成される
ことを見出した。即ち、本発明に係るフォトクロミック
感光性材料は、前記一般式（１）で表されるヘンゾイン
ドリノチオピラン系スピロピラン化合物（ＢＩＴＳＰ）
と、高分子物質と、酸化防止剤としての１．３．５−ト
リス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シメ
チルヘンジル）インシアヌル酸とから成る。

本発明のフォトクロミンク感光性材料において、高分子
物質１００重量部に対して、ＢＩＴＳＰｌＯ〜６０重量
部及び酸化防止剤１０〜６０重量部の割合で使用するの
が本発明の目的を達成するために好ましい。

本発明に使用される高分子物質としては、前記スピロピ
ラン化合物との相溶性のよいもので、光学的に透明であ
りかつ皮膜形成能の優れたものであればよく、その例を
挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、酢酸セルロース
、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン−塩化ビニル共重合体、塩化ヒニルー酢酸ビニル共重
合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリロニ
トリル、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂
、ポリエステルなどである。

本発明において必要に応して使用することができる支持
体としては、ポリエチレンテレフタレート、セルロース
アセテート、ポリカーボ不−１〜、通常の紙、バライタ
紙、ガラス、金属等がある。

本発明の感光性材ｔ４は、−例として、ＢＩＴＳＰと高
分子物質と酸化防止剤とを適当な溶剤に溶解させ、この
溶液を適当な支持体、例えば光学研磨した石英ガラス板
上にスピンナーなどを用いて塗布することによって得る
ことができろ。

実施例 本発明を以下の実施例によっ′Ｃ詳述寥る。なお、以下
において、発色保存安定性は、感光性材料に紫外光を照
射して飽和吸光度まで発色させたのち、３０℃の暗所に
保存し、吸収極大波長における吸光度が初めの１／２ま
で減少する時間で表した。

次式 の６−ニトロ−８−メトキシ−１′−ｎ−へキシル−３
′、３’−ジメチル−５′−メトキシスピロ（２Ｈ−１
−ヘンジチオピラン−２，２′−インド９２３５重量部
、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１０重量部及び
１．３．５−トリス（４−１−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−シメチルペンシル）イソシアヌル酸（アメリ
カン・サイアナミツド社製のサイアノックス１７９０　
（商品名）を使用）５重蓋部をシクロベキ９フ１５０重
量部ニ溶解した。得られた溶液を光学研磨したガラス板
上にスピンナで塗布した。塗布条件は２７００回転／分
で２秒間であった。この塗布膜を真空乾燥器で減圧下８
０℃の温度で２時間乾燥させて、不実施例の感光性試料
（Ｎｏ、Ｉ）を作製した。

比較例として、サイアノックス１７９ｏの代わりに、次
のフェノール類を使用しで、本実施例と同し条件でＮｏ
、２〜Ｎｏ、７の６種類の感光性試料を作製した。

２．４−ジニトロフェノール（Ｎｏ、２）　ニレゾルシ
ノール（Ｎｏ、３）　； ヒドロキノン（Ｎｏ、４）　； ペンタエリスリチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−Ｈ
（Ｎｏ、５）　； オクタデシル−３−（３，５−シー（フチルー４−ヒ１
口キンフェニル）プロピオネート）（Ｎｏ、６）　： ｎ−ヘキサデシル−３，５−シーｔ−ブチル−４−ヒ１
０キシヘンヅエート　（Ｎｏ、７）。

また、サイアノックス１７９０を使用しない外は実施例
と同し条件で感光性材１’４　（Ｎｏ、８）を作製した
。

前記の感光性材料Ｎｏ、１−Ｎｏ、８について発色保存
安定性を測定した。結果を次表に示す。

表 この表から明らかなように、本実施例の試料Ｎｏ。

■は酸化防止剤無添加の比較例試料Ｎｏ、８と比べて保
存安定性は１．７倍に向上した。また、本実施例の試ネ
、ｌＮｏ、Ｉは発色濃度と吸収極大波長が比較例試料Ｎ
ｏ、８　（酸化剤無添加）と同しであり、記録・消去繰
り返し特性（回数）が比較例試料Ｎｏ、８の１．５倍で
あった９−＝方、酸化防止剤としてフェノール類を含有
した比較例の各感光性材料（Ｎｏ、２〜Ｎｏ、　７）は
いずれも本実施例の試料（Ｎｏ、ｌ）に比べて、発色濃
度が低く且つ吸収極大波長も短波長側へ移動していた。

本発明で使用されるＢＩＴＳＰとしては、前記実施例に
用いられたものの外、例えば６−ニトロ−１’、３′、
３’　−トリメチルスピｒｌ〔２）！−］−、−′ヘン
ゾチオビランー２，２　−インドリン〕　；６−ニトロ
−８−メトキシ−１’、３’、３’−）ツメチル−５’
、フ’−ジメトキシスピロ［２ＩＩ　−１−ヘンジチオ
ピラン−２，２’−インドリン〕　；６−ニトロ−８−
クロロ−１′、３′、３’−１−ツメチル−５′−メト
キシスピロ（２Ｈ−１−ヘンジチオピラン−２，２′−
インドリン〕　；６　ニトロ−１′。

３’、３’−トリメチル−５−ジメチルアミノスピロ［
２Ｈ−１−ヘンジチオピラン　２，２′　−インドリン
〕などが挙げられる。

発明の効果 本発明の感光性材料は、前記一般式（１）で表されるヘ
ンヅイントリノチオピラン系スピ［Ｊピラン化合物の発
色種のための酸化防止剤として、ｌ、３゜５−トリス（
４−Ｌ−ブチル−３−ヒトＩ］キン−２，６−シメチル
ヘンジル）イソシアヌル酸を含有してなるため、紫外光
照射後の発色種の保存安定性が向上し、その上、この発
色種の光吸収極大波長の短波長側への移動も、発色濃度
の低下もないずくれた特性を有することができる。

代理人　上屋　勝 常包芳男

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式 （式中、Ｒ１は炭素数１〜２０個のアルキル基、Ｒ２、
   Ｒ３、Ｒ４及びＲ３は水素原子、炭素数１〜５４［＆ｌ
   　Ｏ＞　−Ｊ’　ル＋ル基、炭素数１〜５個のアルコキ
   シ基、ハロゲン原子、ニトロ基又はジメチルアミノ基を
   表し、Ｒ６、Ｒ？及びＲ６は水素原子、炭素数１〜５個
   のアルキル基、炭素数１〜５個のアルコキン基、ハロゲ
   ン原子を表す） で表されるヘンヅイントリノチオピラン系スビ１１ビラ
   ン化合物と、高分子物質と、酸化防止剤としての１．３
   ．５−　）リス（４−【−ブチル−３−ヒトｌコキシー
   ２，６−シメチルヘンジル）イソノアヌル酸とから成る
   フォトクロミック感光性材Ｆ）。 ２、高分子物質１００重量部に対してＭｉ記ススピロピ
   ラン化合物１０〜６０重量部及び前記酸化防止剤を１０
   〜６０重量部の割合で含む特許請求の範囲第１項記載の
   感光性＋４料。