JPS61138687A - フオトクロミツク感光性組成物 - Google Patents
フオトクロミツク感光性組成物Info
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- JPS61138687A JPS61138687A JP59260411A JP26041184A JPS61138687A JP S61138687 A JPS61138687 A JP S61138687A JP 59260411 A JP59260411 A JP 59260411A JP 26041184 A JP26041184 A JP 26041184A JP S61138687 A JPS61138687 A JP S61138687A
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトクロミック感光性組成物に関し、特に、
発色状態での保存安定性が改善されたフォトクロミック
感光性組成物に関するものである。
発色状態での保存安定性が改善されたフォトクロミック
感光性組成物に関するものである。
スピロピラン化合物を感光性物質とする組成物は紫外線
を照射すると発色し、記録が行われ、加熱するか可視光
線を照射すると消色する。この化学過程を利用した記録
材料において、十分な記録の保存期間が得られるように
、発色したスピロピラン化合物の熱安定性を向上させる
対策が講じられている。例えば、発色波長が短波長域（
６００ｎｍ以下）にあるベンゾインドリノピラン系スピ
ロピラン化合物を感光性物質とする組成物に単純なフェ
ノール類を添加して発色状態での感光性物質の熱安定性
を向上させようとする方法がある。また、発色状態での
熱安定性が前記ベンゾインドリノピラン系スピロピラン
化合物より優れ、かつ発色波長が半導体レーザの発振波
長域である７００ｎｍ以上、特に７８０ｎｍ付近に高い
吸収特性を有するベンゾインドリノチオピラン系スピロ
ピラン化合物が提案されている。
を照射すると発色し、記録が行われ、加熱するか可視光
線を照射すると消色する。この化学過程を利用した記録
材料において、十分な記録の保存期間が得られるように
、発色したスピロピラン化合物の熱安定性を向上させる
対策が講じられている。例えば、発色波長が短波長域（
６００ｎｍ以下）にあるベンゾインドリノピラン系スピ
ロピラン化合物を感光性物質とする組成物に単純なフェ
ノール類を添加して発色状態での感光性物質の熱安定性
を向上させようとする方法がある。また、発色状態での
熱安定性が前記ベンゾインドリノピラン系スピロピラン
化合物より優れ、かつ発色波長が半導体レーザの発振波
長域である７００ｎｍ以上、特に７８０ｎｍ付近に高い
吸収特性を有するベンゾインドリノチオピラン系スピロ
ピラン化合物が提案されている。
前記ベンゾインドリノピラン系スピロピラン化合物は、
その発色状態での熱安定性を単純なフェノール類によっ
て向上させた場合、発色濃度が低下し、発色波長帯が短
波長側へ大きく移動し、また単純なフェノール類は高分
子バインダーとの相溶性が悪いため組成物表面にブリー
ドするなどといった不都合な問題があった。
その発色状態での熱安定性を単純なフェノール類によっ
て向上させた場合、発色濃度が低下し、発色波長帯が短
波長側へ大きく移動し、また単純なフェノール類は高分
子バインダーとの相溶性が悪いため組成物表面にブリー
ドするなどといった不都合な問題があった。
一方、ベンゾインドリノチオピラン系スピロピラン化合
物の発色状態での安定性をさらに向上させて、十分な記
録の保存期間を得ようとする場合、単純なフェノール類
が有効ではないという問題があった。
物の発色状態での安定性をさらに向上させて、十分な記
録の保存期間を得ようとする場合、単純なフェノール類
が有効ではないという問題があった。
前記の問題点を解決するために、本発明は、ベンゾイン
ドリノチオピラン系スピロピラン化合物と、高分子物質
と、一般式（１） 〔式中、Ｒ１１Ｒ３，Ｒ４及びＲ６は水素原子、ハロゲ
ン原子又はヒドロキシル基を表し、Ｒ２及びＲ３は水素
原子又はヒドロキシル基を表し、Ｘは−ＮＨ−１水素原
子、 ＣＨａ、 ＣｚＨｓ、 ＣＨｚＣＨｚＣＯＯ
Ｈ又は−Ｇ−ｃＨｌ−ｏｌ ＞を表す〕 で示される化合物とから成るフォトクロミック感光性組
成物を提供するものである。
ドリノチオピラン系スピロピラン化合物と、高分子物質
と、一般式（１） 〔式中、Ｒ１１Ｒ３，Ｒ４及びＲ６は水素原子、ハロゲ
ン原子又はヒドロキシル基を表し、Ｒ２及びＲ３は水素
原子又はヒドロキシル基を表し、Ｘは−ＮＨ−１水素原
子、 ＣＨａ、 ＣｚＨｓ、 ＣＨｚＣＨｚＣＯＯ
Ｈ又は−Ｇ−ｃＨｌ−ｏｌ ＞を表す〕 で示される化合物とから成るフォトクロミック感光性組
成物を提供するものである。
本発明の組成物に好ましく使用されるベンゾインドリノ
チオピラン系スピロピラン化合物としては一般式 又は （式中、Ｒ７は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ
１゜、 Ｒｚ 、Ｒ＋□及びＲ１３は水素原子、炭素数
１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基又はジメチルアミノ基を表し、Ｒ
ｌａ 、Ｒ＋ｓ及びＲｌａは水素原子、炭素原子、炭素
数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、
炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、ハロゲン原子
、ニトロ基又はシアノ基を表す） で示される化合物が挙げられる。
チオピラン系スピロピラン化合物としては一般式 又は （式中、Ｒ７は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ
１゜、 Ｒｚ 、Ｒ＋□及びＲ１３は水素原子、炭素数
１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基又はジメチルアミノ基を表し、Ｒ
ｌａ 、Ｒ＋ｓ及びＲｌａは水素原子、炭素原子、炭素
数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、
炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、ハロゲン原子
、ニトロ基又はシアノ基を表す） で示される化合物が挙げられる。
本発明の組成物において、高分子物質１００重量部に対
し前記ベンゾインドリノチオピラン系スピロピラン化合
物を１０〜６０重量部及び前記一般式（，１）の化合物
を１０〜６０重量部の割合で使用するのが本発明の目的
を達成するために好ましい。
し前記ベンゾインドリノチオピラン系スピロピラン化合
物を１０〜６０重量部及び前記一般式（，１）の化合物
を１０〜６０重量部の割合で使用するのが本発明の目的
を達成するために好ましい。
本発明の組成物に使用される高分子物質としては、前記
スピロピラン化合物との相溶性のよいもので、光学的に
透明でありかつ皮膜形成能の優れたものであればよく、
その例を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、酢酸セ
ルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化
ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリア
クリロニトリル、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリエステルなどである。
スピロピラン化合物との相溶性のよいもので、光学的に
透明でありかつ皮膜形成能の優れたものであればよく、
その例を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチ
レン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、酢酸セ
ルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩化
ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリア
クリロニトリル、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリエステルなどである。
本発明の組成物は、適当な溶媒に溶解させ、製膜或いは
適当な支持体に塗布乾燥するか、組成物を混練溶解し、
支持体のないフィルム状にして用いることができる。
適当な支持体に塗布乾燥するか、組成物を混練溶解し、
支持体のないフィルム状にして用いることができる。
また、前記支持体用物質としては、ポリエチレンテレツ
クレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート、
通常の紙、バライタ紙、ガラス、金属等がある。
クレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート、
通常の紙、バライタ紙、ガラス、金属等がある。
本発明を以下の実施例によって詳述する。なお、発色状
態での保存安定性は、感光性材料に紫外光を照射して飽
和吸光度まで発色させた後、３０℃の暗所に保存し、吸
収極大波長における吸光度が初めの１／２まで減少する
時間で表した。
態での保存安定性は、感光性材料に紫外光を照射して飽
和吸光度まで発色させた後、３０℃の暗所に保存し、吸
収極大波長における吸光度が初めの１／２まで減少する
時間で表した。
〔実施例１〕
構造式
で示される６−ニトロ−８−メトキシ−１′−ｎ−へキ
シル−３′□ ３′−ジメチル−５′−メトキシスピロ
（２Ｈ−１−ベンゾチオピラン−２゜２′−インドリン
〕 ５重量部、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１
０重量部及び一般式（１）の化合物としてビスフェノー
ルＡ、 ５重量部をシクロヘキサン１５０重量部に溶解した。得
られた溶液を、光学研磨したガラス板上にスピンナで塗
布した。塗布条件は２７００回転／分で２秒間とした。
シル−３′□ ３′−ジメチル−５′−メトキシスピロ
（２Ｈ−１−ベンゾチオピラン−２゜２′−インドリン
〕 ５重量部、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１
０重量部及び一般式（１）の化合物としてビスフェノー
ルＡ、 ５重量部をシクロヘキサン１５０重量部に溶解した。得
られた溶液を、光学研磨したガラス板上にスピンナで塗
布した。塗布条件は２７００回転／分で２秒間とした。
この塗布膜を減圧下８０°Ｃの温度で２時間乾燥して感
光性試料を得た。
光性試料を得た。
〔実施例２〜９〕
一般式（Ｉ）の化合物として、ビスフェノールＡの代わ
りに第１Ａ表に示す化合物を用いた他は実施例１と同様
にして感光性試料を得た。
りに第１Ａ表に示す化合物を用いた他は実施例１と同様
にして感光性試料を得た。
（以下余白、次頁につづく。）
〔比較例１〜７〕
この比較例においては、実施例１で用いたビスフェノー
ルＡの代わりに、第１Ｂ表に示す単純なフェノール類を
用いた他は、実施例１と同様にして感光性試料を得た。
ルＡの代わりに、第１Ｂ表に示す単純なフェノール類を
用いた他は、実施例１と同様にして感光性試料を得た。
これら実施例１〜９及び比較例１〜７において得られた
各感光性試料について、前記の通り保存安定性を測定し
た。その結果をそれぞれ第１Ａ表及び第１Ｂ表に示した
。
各感光性試料について、前記の通り保存安定性を測定し
た。その結果をそれぞれ第１Ａ表及び第１Ｂ表に示した
。
〔実施例１０〜１２〕
実施例７で用いたテトラブロモビスフェノールＡ５重量
部、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１０重量部及
びそれぞれ次式（Ｖ）−（■）の各ベンゾインドリノチ
オピラン系スピロピラン化合物５重量部を用い、実施例
１と同様の手順で感光性試料を得た。
部、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体１０重量部及
びそれぞれ次式（Ｖ）−（■）の各ベンゾインドリノチ
オピラン系スピロピラン化合物５重量部を用い、実施例
１と同様の手順で感光性試料を得た。
８−メトキシ−６−ニトロ−１’、３’、３’ −トリ
メチルスピロ（２Ｈ−１−ベンゾチオピラン−２゜２′
−ベンズ（ｆ）インドリン〕、 ８−メトキシ−６−ニトロ−５’、７′−ジメトキシ−
３’、３”−ジメチルードーｎ−へキシルスピロ（２Ｈ
−１−ベンゾチオピラン−２゜２′−インドリン〕 及び ８−クロロ−６−二トロー５′−メトキシー１’ 、３
’ 、３’ −１−リメチルスビロ（２Ｈ−１−ベンゾ
チオビラン−２，２′−インドリン〕 これら実施例１０〜１２で得られた各感光性試料につい
て、前記の通り保存安定性を測定した。
メチルスピロ（２Ｈ−１−ベンゾチオピラン−２゜２′
−ベンズ（ｆ）インドリン〕、 ８−メトキシ−６−ニトロ−５’、７′−ジメトキシ−
３’、３”−ジメチルードーｎ−へキシルスピロ（２Ｈ
−１−ベンゾチオピラン−２゜２′−インドリン〕 及び ８−クロロ−６−二トロー５′−メトキシー１’ 、３
’ 、３’ −１−リメチルスビロ（２Ｈ−１−ベンゾ
チオビラン−２，２′−インドリン〕 これら実施例１０〜１２で得られた各感光性試料につい
て、前記の通り保存安定性を測定した。
その結果を第２表に示した。なお、比較のため、テトラ
ブロモビスフェノールＡを含まない他は実施例１０〜１
２と同様にして感光性試料を調製し、保存安定性を測定
した（比較例８〜１０）。その結果を同じく第２表に示
した。
ブロモビスフェノールＡを含まない他は実施例１０〜１
２と同様にして感光性試料を調製し、保存安定性を測定
した（比較例８〜１０）。その結果を同じく第２表に示
した。
第２表
以上の実施例及び比較例の結果から明らかなように、一
般式（Ｉ）で示される化合物を含有する本発明のフォト
クロミック感光性組成物は、前記の如き単純なフェノー
ル類を含有する場合に比べて発色状態での保存安定性が
すぐれている。
般式（Ｉ）で示される化合物を含有する本発明のフォト
クロミック感光性組成物は、前記の如き単純なフェノー
ル類を含有する場合に比べて発色状態での保存安定性が
すぐれている。
一般式（Ｉ）の化合物が前記の如き作用を有する理由に
ついては不明な点が多い。しかし、比較例に用いた単純
なフェノール類はｐＫａが４．１１〜１０．３５という
広い範囲にあり、かつ顕著な効果がなかったことは、一
般式（ＩＩ） −（ＩＶ）のスピロピラン化合物の発色
状態での保存安定性が単にフェノール類の酸強度には支
配されないことを示唆している。スピロピラン化合物と
一般式（１）の化合物との立体的効果、即ち、一般式（
１）の化合物中のヒドロキシル基の位置と、スピロピラ
ン化合物が発色してできる一ＮＯ，−ＳＯ基の位置との
相互関係も重要な要因であると考えられる。
ついては不明な点が多い。しかし、比較例に用いた単純
なフェノール類はｐＫａが４．１１〜１０．３５という
広い範囲にあり、かつ顕著な効果がなかったことは、一
般式（ＩＩ） −（ＩＶ）のスピロピラン化合物の発色
状態での保存安定性が単にフェノール類の酸強度には支
配されないことを示唆している。スピロピラン化合物と
一般式（１）の化合物との立体的効果、即ち、一般式（
１）の化合物中のヒドロキシル基の位置と、スピロピラ
ン化合物が発色してできる一ＮＯ，−ＳＯ基の位置との
相互関係も重要な要因であると考えられる。
一般式（ｎ）〜（Ｉｔ／）で示されるベンゾインドリノ
チオビラン系スピロピラン化合物と高分子物質との混合
物に、一般式（１）で示される化合物を含有させること
により、得られるフォトクロミック感光性組成物の発色
状態での保存安定性を、従来の単純なフェノール類を前
記混合物に含有させてなる組成物又は前記混合物のみの
場合に比べて、最大約１０倍以上向上させることができ
る。
チオビラン系スピロピラン化合物と高分子物質との混合
物に、一般式（１）で示される化合物を含有させること
により、得られるフォトクロミック感光性組成物の発色
状態での保存安定性を、従来の単純なフェノール類を前
記混合物に含有させてなる組成物又は前記混合物のみの
場合に比べて、最大約１０倍以上向上させることができ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ベンゾインドリノチオピラン系スピロピラン化合物
と、高分子物質と、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿３、Ｒ＿４及びＲ＿６は水素原子
、ハロゲン原子又はヒドロキシル基を表し、Ｒ＿２及び
Ｒ＿５は水素原子又はヒドロキシル基を表し、Ｘは−Ｎ
Ｈ−、−Ｓ−、▲数式、化学式、表等があります▼又は
▲数式、化学式、表等があります▼（ここでＲ＿７及び
Ｒ＿８は水素原子、−ＣＨ＿３、−Ｃ＿２Ｈ＿５、−Ｃ
Ｈ＿２ＣＨ＿２ＣＯＯＨ又は▲数式、化学式、表等があ
ります▼）を表す〕 で示される化合物とから成るフォトクロミック感光性組
成物。 ２、前記ベンゾインドリノチオピラン系スピロピラン化
合物が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 又は ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＿９は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、
Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ＿１＿２及びＲ＿１＿３は
水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の
アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基又はジメチルア
ミノ基を表し、Ｒ＿１＿４、Ｒ＿１＿５及びＲ＿１＿６
は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５
のアルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ＿１＿７
及びＲ＿１＿８は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基
、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアル
コキシアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ
基を表す） で示される化合物である特許請求の範囲第１項記載の感
光性組成物。 ３、高分子物質１００重量部に対して前記ベンゾインド
リノチオピラン系スピロピラン化合物を１０〜６０重量
部及び前記一般式（ I ）の化合物を１０〜６０重量部
の割合で含む特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59260411A JPH0723468B2 (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | フオトクロミツク感光性組成物 |
| EP85115651A EP0184808B1 (en) | 1984-12-10 | 1985-12-09 | Photochromic photosensitive compositions |
| DE8585115651T DE3583385D1 (de) | 1984-12-10 | 1985-12-09 | Photochrome photoempfindliche zusammensetzungen. |
| US06/807,017 US4693962A (en) | 1984-12-10 | 1985-12-09 | Photochromic photosensitive compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59260411A JPH0723468B2 (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | フオトクロミツク感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61138687A true JPS61138687A (ja) | 1986-06-26 |
| JPH0723468B2 JPH0723468B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=17347552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59260411A Expired - Fee Related JPH0723468B2 (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | フオトクロミツク感光性組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4693962A (ja) |
| EP (1) | EP0184808B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0723468B2 (ja) |
| DE (1) | DE3583385D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990010007A1 (fr) * | 1989-02-28 | 1990-09-07 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Composes de spiropyrane |
| WO2018101376A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4960679A (en) * | 1985-01-31 | 1990-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
| AU564689B2 (en) * | 1985-07-09 | 1987-08-20 | Kureha Kagaku Kogyo K.K. | Photochromic lens |
| DE3602215A1 (de) * | 1986-01-25 | 1987-07-30 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| JP2545606B2 (ja) * | 1988-07-05 | 1996-10-23 | 呉羽化学工業株式会社 | フォトクロミック化合物およびフォトクロミック組成物 |
| US5241027A (en) * | 1990-02-08 | 1993-08-31 | Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha | Macromolecular spiropyran compounds |
| US5699182A (en) * | 1995-05-25 | 1997-12-16 | Xytronyx, Inc. | Light fatigue resistant photochromic formulations |
| US5789015A (en) * | 1996-06-26 | 1998-08-04 | Innotech, Inc. | Impregnation of plastic substrates with photochromic additives |
| US5914174A (en) * | 1996-12-05 | 1999-06-22 | Innotech, Inc. | Lens or semi-finished blank comprising photochromic resin compositions |
| KR102227974B1 (ko) * | 2014-08-12 | 2021-03-15 | 삼성전자주식회사 | 고분자, 이를 포함하는 바인더 및 음극, 및 상기 음극을 포함하는 리튬전지 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1303996A (ja) * | 1969-07-08 | 1973-01-24 | ||
| US4372582A (en) * | 1981-03-30 | 1983-02-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilizer for electron doner-acceptor carbonless copying systems |
| JPS5837078A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-04 | Sony Corp | フオトクロミツク感光性組成物 |
| CA1207330A (en) * | 1982-12-28 | 1986-07-08 | Seiichi Arakawa | Photochromic compounds and photosensitive composition containing the compounds |
| JPS59122577A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-16 | Sony Corp | フオトクロミツク感光性組成物 |
-
1984
- 1984-12-10 JP JP59260411A patent/JPH0723468B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1985
- 1985-12-09 EP EP85115651A patent/EP0184808B1/en not_active Expired
- 1985-12-09 DE DE8585115651T patent/DE3583385D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-09 US US06/807,017 patent/US4693962A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
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| WO2018101376A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
| JPWO2018101376A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2019-10-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法 |
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