JPH0372118B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0372118B2 JPH0372118B2 JP57233036A JP23303682A JPH0372118B2 JP H0372118 B2 JPH0372118 B2 JP H0372118B2 JP 57233036 A JP57233036 A JP 57233036A JP 23303682 A JP23303682 A JP 23303682A JP H0372118 B2 JPH0372118 B2 JP H0372118B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- compound
- absorption
- absorbance
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- -1 5-substituted-2-methyleneindoline Chemical class 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WQWWRYIWYJNCAL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2-sulfanylbenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(S)C(C=O)=C1 WQWWRYIWYJNCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane Chemical compound CCC(C)CC PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- PSXPTGAEJZYNFI-UHFFFAOYSA-N 1',3',3'-trimethyl-6-nitrospiro[chromene-2,2'-indole] Chemical compound O1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C=C2C=CC21C(C)(C)C1=CC=CC=C1N2C PSXPTGAEJZYNFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethyl-2-methylideneindole Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(=C)C(C)(C)C2=C1 ZTUKGBOUHWYFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSXAXBYPBBTDCS-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-trimethyl-6'-nitrospiro[indole-2,2'-thiochromene] Chemical compound S1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C=C2C=CC21C(C)(C)C1=CC=CC=C1N2C GSXAXBYPBBTDCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFVHWCKUHAEDMY-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(Cl)C(C=O)=C1 VFVHWCKUHAEDMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXBVKKAOSUWHGG-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3,3-trimethyl-6'-nitrospiro[indole-2,2'-thiochromene] Chemical compound S1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C=C2C=CC21N(C)C1=CC=C(OC)C=C1C2(C)C UXBVKKAOSUWHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004217 benzyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D495/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D495/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D495/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/163—Radiation-chromic compound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Description
本発明は、例えば700nm以上の長波長に対して
高い吸収特性を有するフオトクロミツク感光組成
物に関するものである。 フオトクロミズムを示す有機物質のうちで最も
よく検討されているものはスピロピラン化合物で
ある。スピロピラン化合物を実際の感光性組成
物、即ち感光材料として用いる場合、スピロピラ
ン化合物を一般に任意のバインダー樹脂中に分散
させて、支持体のないフイルム状にするか、任意
の支持体に塗布して用いられてきた。このような
感光材料は紫外線を照射すると発色し、加熱する
か又は可視光線を照射すると元の無色の状態に戻
る。又、この現象は繰り返し行なわれる。 しかし、従来のスピロピラン系フオトクロミツ
ク感光材料はその発色状態における吸収波長域が
せいぜい400nmから700nmの範囲であつた。 従来、レーザー記録再生用としてはArレーザ
ー、He−Neレーザーのような気体レーザーが使
用されてきたが、最近、小型、軽量の半導体レー
ザーの進展が著しく、このために、記録再生用レ
ーザーとして半導体レーザーが気体レーザーに取
つて代わろうとしている。 しかし、実用に供されようとしているレーザー
記録又は再生用の半導体レーザーは、発振波長が
せいぜい740〜850nmであり、特に780〜830nmの
発振波長を有するものが使用されている(例え
ば、斉藤富士郎「半導体レーザ記録の現状と将
来」、日本写真学会誌、44(2)123(1981)を参照)。 従つて、このスピロピラン系フオトクロミツク
感光材料を半導体レーザー記録再生用記録媒体と
して使用するためには、この材料がその発色状態
において740nm以上の長波長、好ましくは780〜
830nmの波長域の光に対して高い吸収性を有する
必要がある。 このような波長域の光に対して発色状態で高い
吸収性を有する物質として次のようなスピロチオ
ピラン化合物が知られている(H.S.Becker and
J.Kolc,J.Phys.Chem.,72997(1968)を参照)。 しかし、3−メチルペンタン溶液中、77〓でこ
の化合物は波長域600〜850nmの光に対して発色
状態で高い吸収性を有しているが、溶液中又は高
分子フイルム中でも常温では発色せず、3℃以下
の低温でのみ発色し、常温に戻すと直ちに消色す
るので実用的ではない。 前記に鑑み、本発明者らは鋭意研究の結果、こ
のスピロチオピラン化合物に、その6−位におい
てNO2基を導入することによつて常温で発色さ
せることができ、、700nm以上の長波長の光に対
して発色状態で高い吸収性を有し、常温暗所で数
日間高濃度の発色状態を保つことができるフオト
クロミツク感光性組成物を得ることができた。又
スピロチオピラン化合物の種類を適当に選ぶこと
によつて、消色半減期が1週間程度である保存性
の良いフオトクロミツク感光性組成物も得ること
ができた。 更に、本発明のフオトクロミツク感光性組成物
は、通常のスピロピラン系フオトクロミツク材料
と同様に、紫外線照射により発色し、加熱するか
可視光線を照射すると消色し、この発色消色のサ
イクルを繰り返すことができる。 即ち、本発明は、下記一般式()で示される
化合物と高分子物質とからなるフオトクロミツク
感光性組成物に係るものである。 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜5個のアルキル基、炭素数1〜5個のアル
コキシ基又はニトロ基を表わし、R2は炭素数1
〜10個のアルキル基を表わす) 本発明の組成物における前記一般式()で示
される化合物の高分子物質中での濃度は3〜50重
量%、好ましくは5〜30重量%とすることができ
る。なお3重量%未満では光発色能力が十分では
なく、又、50重量%を越えると高分子物質中から
析出してしまう。 本発明に使用される前記一般式()で示され
る化合物は、1−アルキル−3,3−ジメチル−
5置換−2−メチレンインドリン()と5−ニ
トロチオサルチルアルデヒド()との反応によ
つて、次に示す通り合成できる。 (式中、R1とR2は前記と同じ意味を有する)
この反応は、通常のスピロピラン化合物の合成法
と同様である。 このスピロピラン化合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類、エチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
酢酸エチル、酢酸n−ブチルなどのエステル類、
更にベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、アセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホ
ルムなどの各種溶媒及びこれらの混合溶媒に溶解
する。この化合物をフオトクロミツク感光性組成
物として用いるには、上記溶媒に高分子物質と共
に上記化合物を溶解し、製膜或いは支持体に塗布
乾燥するか、溶媒を用いずに高分子物質に上記化
合物を混練溶解し、製膜して用いることができ
る。 本発明に使用される前記高分子物質としては、
前記一般式()の化合物との相溶性がよくかつ
フイルム形成能の優れたものであればよく、その
例を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリス
チレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラー
ル、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリロニ
トリル、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエス
テル、フエノール樹脂、フエノキシ樹脂などであ
る。このうち、塩素系の高分子物質の方が、発色
後の安定性が良好となるために、望ましい。 本発明に使用される支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、セルロースアセテート、ポ
リカーボネート、通常の紙、バライタ紙、ガラ
ス、金属等がある。 本発明の感光性組成物は発色後、60〜80℃に加
熱するか、500nmより長波長の可視光線を照射す
ることによつて元の無色状態に戻すことができ
る。更に紫外線を照射すことによつて発色が可能
で、繰り返し使用できる。こうした特性を有する
本発明の組成物は、広範囲の分野に利用でき、例
えば、銀塩感光材料に代る各種の記録記憶材料、
複写材料、印刷用感光体、陰極線管用記録材料、
レーザー用感光材料、ホログラフイー用感光材
料、写真植字用感光材料などの種々の記録材料と
して利用できる。又、光学フイルター、デイスプ
レー材料、マスキング用材料、光量計、装飾など
の材料としても利用できる。 なお、前記一般式()で示される化合物及び
高分子物質の種類に応じて、発色の色相又は色調
を種々変化させることができる。 次に、本発明を実施例について更に詳述する。 実施例 1 1′,3′,3′−トリメチル−6−ニトロスピロ
〔2H−1−ベンゾチオピラン−2,2′−インドリ
ン〕(前記一般式()においてR1=H、R2=
CH3)を次の通り合成した。 まず、出発原料の1ツである5−ニトロチオサ
リチルアルデヒド(前記化学式()の化合物)
を次のようにして合成した。 2−クロロ−5−ニトロベンズアルデヒド5g
を10c.c.のエタノール中に加え、加熱還流した。次
に、Na2S・9H2O4.66gとS0.62gとの混合物を
加熱してNa2S2を合成した。この合成したNa2S2
を、煮沸した2−クロロ−5−ニトロベンズアル
デヒドエタノール溶液に15分間かけて加えた。加
え終つてから、NaOH1.08gを含む95%エタノー
ル溶液10c.c.を30分間かけて添加した。添加を終え
たら冷却し、氷水(30g、水400c.c.)中に入れ、
ついで不溶物をろ過した。ろ液をHClで中和する
と黄色の沈殿が析出した。この沈殿をろ過して集
めた。この黄色沈殿は不純物を含むので、まずエ
タノール20c.c.に加熱しながら溶解させ、
NaOH1.08gを含む95%エタノール溶液を加え、
不溶物をろ過によつて除いた。ろ液を再びHClで
中和し、冷却して目的の5−ニトロチオサリチル
アルデヒドの黄色結晶を得た。これをろ別し、乾
燥して次の反応に使用した。収量は3.15g(64
%)で、融点は85〜88℃であつた。 次に、市販の1,3,3−トリメチル−2−メ
チレンインドリン1.6gと、前記の通り合成した
5−ニトロチオサリチルアルデヒド2gとを100
c.c.のエタノール中に入れて2時間加熱還流した。
この溶液を濃縮し、メタノールを加えると黄色結
晶が析出した。これをベンゼン−メタノールから
再結晶して、目的の1′,3′,3′−トリメチル−6
−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−
2,2′−インドリン〕を得た。収量は1.1g(収
率35%)で、融点は178〜179℃であつた。 こうして得られた1′,3′,3′−トリメチル−6
−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−
2,2′−インドリン〕3重量部と、高分子物質と
しての塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(電
気化学工業社製デンカビニール#1000W)10重量
部と溶剤(テトラヒドロフラン:シクロヘキサノ
ン=1:1(体積比)100重量部とから溶液を調製
し、石英ガラス基板上にスピンナー塗布し、80℃
で2時間乾燥させて感光層の厚さ1.5μmの試料を
作製した。 このようにして作製した試料に、500W超高圧
水銀灯(ウシオ電機社製)を用い、ガラスフイル
ター(東芝社製UV−D36C)を通して360nm付
近の紫外線を20秒間照射した。淡黄色であつた試
料は濃緑色に変化した。その吸収スペクトルを日
立社製の自記分光光度計320型で測定した。結果
を第1表及び図面のグラフの曲線2で示す。又、
紫外線照射前の試料の吸収スペクトルを曲線1で
示す。曲線2から明らかなように、紫外線照射後
の試料は680nmに吸光度の極大値をもち、吸収は
900nm付近まで拡がつていることがわかつた。な
お、前記極大値、即ち吸収極大波長(680nm)で
の吸光度は約0.6であつた。又、波長780nmにも
かなりの吸収性を有しており、その吸光度は吸収
極大波長(λnax)での吸光度に対して47%の割合
であることが明らかになつた。 比較例として、通常のスピロピラン化合物であ
る1′,3′,3′−トリメチル−6−ニトロスピロ
〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−インドリン〕
を用いて実施例1と同様の組成、方法で感光膜を
作製し、発色特性を調べたところ、図面のグラフ
における曲線4が得られた。曲線4が示すように
λnaxは580nmで、長波長側の吸収端は700nmであ
つた。又、この感光膜の紫外線照射前の吸収スペ
クトルは曲線3に示す通りであつた。 実施例 2〜6 実施例1と同様の操作で、前記一般式()に
おいてR1及びR2が第1表に示される種々の置換
基を有する化合物を合成した。これらの化合物を
用いて実施例1と同様の操作で感光膜を作製し、
紫外線を照射して発色させ、吸収スペクトルを測
定した。この結果を第1表に示した。いずれの場
合も660nm以上の長波長域に吸収極大波長をも
ち、780nmでもλnaxの吸光度に対して32%以上の
高い吸光度を有する。特に実施例5の5′−NO2置
換化合物(前記一般式()においてR1−NO2、
R2−CH3)は、λnaxが750nmと最も長波長とな
り、又、780nmでの吸光度はλnaxでの値の95%と
格段に高い値となつた。
高い吸収特性を有するフオトクロミツク感光組成
物に関するものである。 フオトクロミズムを示す有機物質のうちで最も
よく検討されているものはスピロピラン化合物で
ある。スピロピラン化合物を実際の感光性組成
物、即ち感光材料として用いる場合、スピロピラ
ン化合物を一般に任意のバインダー樹脂中に分散
させて、支持体のないフイルム状にするか、任意
の支持体に塗布して用いられてきた。このような
感光材料は紫外線を照射すると発色し、加熱する
か又は可視光線を照射すると元の無色の状態に戻
る。又、この現象は繰り返し行なわれる。 しかし、従来のスピロピラン系フオトクロミツ
ク感光材料はその発色状態における吸収波長域が
せいぜい400nmから700nmの範囲であつた。 従来、レーザー記録再生用としてはArレーザ
ー、He−Neレーザーのような気体レーザーが使
用されてきたが、最近、小型、軽量の半導体レー
ザーの進展が著しく、このために、記録再生用レ
ーザーとして半導体レーザーが気体レーザーに取
つて代わろうとしている。 しかし、実用に供されようとしているレーザー
記録又は再生用の半導体レーザーは、発振波長が
せいぜい740〜850nmであり、特に780〜830nmの
発振波長を有するものが使用されている(例え
ば、斉藤富士郎「半導体レーザ記録の現状と将
来」、日本写真学会誌、44(2)123(1981)を参照)。 従つて、このスピロピラン系フオトクロミツク
感光材料を半導体レーザー記録再生用記録媒体と
して使用するためには、この材料がその発色状態
において740nm以上の長波長、好ましくは780〜
830nmの波長域の光に対して高い吸収性を有する
必要がある。 このような波長域の光に対して発色状態で高い
吸収性を有する物質として次のようなスピロチオ
ピラン化合物が知られている(H.S.Becker and
J.Kolc,J.Phys.Chem.,72997(1968)を参照)。 しかし、3−メチルペンタン溶液中、77〓でこ
の化合物は波長域600〜850nmの光に対して発色
状態で高い吸収性を有しているが、溶液中又は高
分子フイルム中でも常温では発色せず、3℃以下
の低温でのみ発色し、常温に戻すと直ちに消色す
るので実用的ではない。 前記に鑑み、本発明者らは鋭意研究の結果、こ
のスピロチオピラン化合物に、その6−位におい
てNO2基を導入することによつて常温で発色さ
せることができ、、700nm以上の長波長の光に対
して発色状態で高い吸収性を有し、常温暗所で数
日間高濃度の発色状態を保つことができるフオト
クロミツク感光性組成物を得ることができた。又
スピロチオピラン化合物の種類を適当に選ぶこと
によつて、消色半減期が1週間程度である保存性
の良いフオトクロミツク感光性組成物も得ること
ができた。 更に、本発明のフオトクロミツク感光性組成物
は、通常のスピロピラン系フオトクロミツク材料
と同様に、紫外線照射により発色し、加熱するか
可視光線を照射すると消色し、この発色消色のサ
イクルを繰り返すことができる。 即ち、本発明は、下記一般式()で示される
化合物と高分子物質とからなるフオトクロミツク
感光性組成物に係るものである。 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜5個のアルキル基、炭素数1〜5個のアル
コキシ基又はニトロ基を表わし、R2は炭素数1
〜10個のアルキル基を表わす) 本発明の組成物における前記一般式()で示
される化合物の高分子物質中での濃度は3〜50重
量%、好ましくは5〜30重量%とすることができ
る。なお3重量%未満では光発色能力が十分では
なく、又、50重量%を越えると高分子物質中から
析出してしまう。 本発明に使用される前記一般式()で示され
る化合物は、1−アルキル−3,3−ジメチル−
5置換−2−メチレンインドリン()と5−ニ
トロチオサルチルアルデヒド()との反応によ
つて、次に示す通り合成できる。 (式中、R1とR2は前記と同じ意味を有する)
この反応は、通常のスピロピラン化合物の合成法
と同様である。 このスピロピラン化合物は、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコールなどのアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類、エチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、
酢酸エチル、酢酸n−ブチルなどのエステル類、
更にベンゼン、トルエン、キシレン、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、アセトニトリル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホ
ルムなどの各種溶媒及びこれらの混合溶媒に溶解
する。この化合物をフオトクロミツク感光性組成
物として用いるには、上記溶媒に高分子物質と共
に上記化合物を溶解し、製膜或いは支持体に塗布
乾燥するか、溶媒を用いずに高分子物質に上記化
合物を混練溶解し、製膜して用いることができ
る。 本発明に使用される前記高分子物質としては、
前記一般式()の化合物との相溶性がよくかつ
フイルム形成能の優れたものであればよく、その
例を挙げれば、ポリメタクリル酸メチル、ポリス
チレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラー
ル、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリロニ
トリル、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエス
テル、フエノール樹脂、フエノキシ樹脂などであ
る。このうち、塩素系の高分子物質の方が、発色
後の安定性が良好となるために、望ましい。 本発明に使用される支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、セルロースアセテート、ポ
リカーボネート、通常の紙、バライタ紙、ガラ
ス、金属等がある。 本発明の感光性組成物は発色後、60〜80℃に加
熱するか、500nmより長波長の可視光線を照射す
ることによつて元の無色状態に戻すことができ
る。更に紫外線を照射すことによつて発色が可能
で、繰り返し使用できる。こうした特性を有する
本発明の組成物は、広範囲の分野に利用でき、例
えば、銀塩感光材料に代る各種の記録記憶材料、
複写材料、印刷用感光体、陰極線管用記録材料、
レーザー用感光材料、ホログラフイー用感光材
料、写真植字用感光材料などの種々の記録材料と
して利用できる。又、光学フイルター、デイスプ
レー材料、マスキング用材料、光量計、装飾など
の材料としても利用できる。 なお、前記一般式()で示される化合物及び
高分子物質の種類に応じて、発色の色相又は色調
を種々変化させることができる。 次に、本発明を実施例について更に詳述する。 実施例 1 1′,3′,3′−トリメチル−6−ニトロスピロ
〔2H−1−ベンゾチオピラン−2,2′−インドリ
ン〕(前記一般式()においてR1=H、R2=
CH3)を次の通り合成した。 まず、出発原料の1ツである5−ニトロチオサ
リチルアルデヒド(前記化学式()の化合物)
を次のようにして合成した。 2−クロロ−5−ニトロベンズアルデヒド5g
を10c.c.のエタノール中に加え、加熱還流した。次
に、Na2S・9H2O4.66gとS0.62gとの混合物を
加熱してNa2S2を合成した。この合成したNa2S2
を、煮沸した2−クロロ−5−ニトロベンズアル
デヒドエタノール溶液に15分間かけて加えた。加
え終つてから、NaOH1.08gを含む95%エタノー
ル溶液10c.c.を30分間かけて添加した。添加を終え
たら冷却し、氷水(30g、水400c.c.)中に入れ、
ついで不溶物をろ過した。ろ液をHClで中和する
と黄色の沈殿が析出した。この沈殿をろ過して集
めた。この黄色沈殿は不純物を含むので、まずエ
タノール20c.c.に加熱しながら溶解させ、
NaOH1.08gを含む95%エタノール溶液を加え、
不溶物をろ過によつて除いた。ろ液を再びHClで
中和し、冷却して目的の5−ニトロチオサリチル
アルデヒドの黄色結晶を得た。これをろ別し、乾
燥して次の反応に使用した。収量は3.15g(64
%)で、融点は85〜88℃であつた。 次に、市販の1,3,3−トリメチル−2−メ
チレンインドリン1.6gと、前記の通り合成した
5−ニトロチオサリチルアルデヒド2gとを100
c.c.のエタノール中に入れて2時間加熱還流した。
この溶液を濃縮し、メタノールを加えると黄色結
晶が析出した。これをベンゼン−メタノールから
再結晶して、目的の1′,3′,3′−トリメチル−6
−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−
2,2′−インドリン〕を得た。収量は1.1g(収
率35%)で、融点は178〜179℃であつた。 こうして得られた1′,3′,3′−トリメチル−6
−ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−
2,2′−インドリン〕3重量部と、高分子物質と
しての塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体(電
気化学工業社製デンカビニール#1000W)10重量
部と溶剤(テトラヒドロフラン:シクロヘキサノ
ン=1:1(体積比)100重量部とから溶液を調製
し、石英ガラス基板上にスピンナー塗布し、80℃
で2時間乾燥させて感光層の厚さ1.5μmの試料を
作製した。 このようにして作製した試料に、500W超高圧
水銀灯(ウシオ電機社製)を用い、ガラスフイル
ター(東芝社製UV−D36C)を通して360nm付
近の紫外線を20秒間照射した。淡黄色であつた試
料は濃緑色に変化した。その吸収スペクトルを日
立社製の自記分光光度計320型で測定した。結果
を第1表及び図面のグラフの曲線2で示す。又、
紫外線照射前の試料の吸収スペクトルを曲線1で
示す。曲線2から明らかなように、紫外線照射後
の試料は680nmに吸光度の極大値をもち、吸収は
900nm付近まで拡がつていることがわかつた。な
お、前記極大値、即ち吸収極大波長(680nm)で
の吸光度は約0.6であつた。又、波長780nmにも
かなりの吸収性を有しており、その吸光度は吸収
極大波長(λnax)での吸光度に対して47%の割合
であることが明らかになつた。 比較例として、通常のスピロピラン化合物であ
る1′,3′,3′−トリメチル−6−ニトロスピロ
〔2H−1−ベンゾピラン−2,2′−インドリン〕
を用いて実施例1と同様の組成、方法で感光膜を
作製し、発色特性を調べたところ、図面のグラフ
における曲線4が得られた。曲線4が示すように
λnaxは580nmで、長波長側の吸収端は700nmであ
つた。又、この感光膜の紫外線照射前の吸収スペ
クトルは曲線3に示す通りであつた。 実施例 2〜6 実施例1と同様の操作で、前記一般式()に
おいてR1及びR2が第1表に示される種々の置換
基を有する化合物を合成した。これらの化合物を
用いて実施例1と同様の操作で感光膜を作製し、
紫外線を照射して発色させ、吸収スペクトルを測
定した。この結果を第1表に示した。いずれの場
合も660nm以上の長波長域に吸収極大波長をも
ち、780nmでもλnaxの吸光度に対して32%以上の
高い吸光度を有する。特に実施例5の5′−NO2置
換化合物(前記一般式()においてR1−NO2、
R2−CH3)は、λnaxが750nmと最も長波長とな
り、又、780nmでの吸光度はλnaxでの値の95%と
格段に高い値となつた。
【表】
実施例 7
5′−メトキシ−1′,3′,3′−トリメチル−6−
ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−2,
2′−インドリン〕(前記一般式()においてR1
−OCH3,R2−CH3)2重量部と、ポリスチレン
10重量部と、トルエン100重量部とから溶液を調
製した。この溶液をポリエステルフイルム上に塗
布、乾燥して感光層の厚さ8μmの感光膜を作製し
た。この感光膜に実施例1と同様の方法で紫外線
を80秒間照射したところ、緑色に発色し、700nm
にλnaxを有し、この波長での吸光度は0.61で、
80nmでの吸光度は0.41であつた。 この発色した状態を加熱すると元の無色状態に
戻り、再び紫外線を照射すると発色した。 このように、本発明のフオトクロミツク感光性
組成物は常温で発色し、従来のスピロピラン系フ
オトクロミツク感光性材料に比べて吸収極大波長
が約100nmも長くなつており、半導体レーザーの
発振波長域内の780nm付近にも、吸収極大波長で
の吸光度の3割以上の吸光度を有する。
ニトロスピロ〔2H−1−ベンゾチオピラン−2,
2′−インドリン〕(前記一般式()においてR1
−OCH3,R2−CH3)2重量部と、ポリスチレン
10重量部と、トルエン100重量部とから溶液を調
製した。この溶液をポリエステルフイルム上に塗
布、乾燥して感光層の厚さ8μmの感光膜を作製し
た。この感光膜に実施例1と同様の方法で紫外線
を80秒間照射したところ、緑色に発色し、700nm
にλnaxを有し、この波長での吸光度は0.61で、
80nmでの吸光度は0.41であつた。 この発色した状態を加熱すると元の無色状態に
戻り、再び紫外線を照射すると発色した。 このように、本発明のフオトクロミツク感光性
組成物は常温で発色し、従来のスピロピラン系フ
オトクロミツク感光性材料に比べて吸収極大波長
が約100nmも長くなつており、半導体レーザーの
発振波長域内の780nm付近にも、吸収極大波長で
の吸光度の3割以上の吸光度を有する。
図面は常温における吸収スペクトルのグラフで
あつて、曲線1及び2はそれぞれ本発明の実施例
による感光性組成物から形成した膜に紫外線を照
射する前と照射した後の吸収スペクトルを示し、
曲線3及び4はその比較例の膜に紫外線を照射す
る前と照射した後の吸収スペクトルを示す。
あつて、曲線1及び2はそれぞれ本発明の実施例
による感光性組成物から形成した膜に紫外線を照
射する前と照射した後の吸収スペクトルを示し、
曲線3及び4はその比較例の膜に紫外線を照射す
る前と照射した後の吸収スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式で示される化合物と高分子物質と
を含むフオトクロミツク感光性組成物。 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜5個のアルキル基、炭素数1〜5個のアル
コキシ基又はニトロ基を表わし、R2は炭素数1
〜10個のアルキル基を表わす)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57233036A JPS59122577A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | フオトクロミツク感光性組成物 |
CA000443845A CA1207330A (en) | 1982-12-28 | 1983-12-20 | Photochromic compounds and photosensitive composition containing the compounds |
US06/565,201 US4565779A (en) | 1982-12-28 | 1983-12-23 | Photochromic compounds and photosensitive compositions containing the compounds |
EP19830307960 EP0115201B1 (en) | 1982-12-28 | 1983-12-23 | Photosensitive compositions containing photochromic compounds |
DE8383307960T DE3375838D1 (en) | 1982-12-28 | 1983-12-23 | Photosensitive compositions containing photochromic compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57233036A JPS59122577A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | フオトクロミツク感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59122577A JPS59122577A (ja) | 1984-07-16 |
JPH0372118B2 true JPH0372118B2 (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=16948797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57233036A Granted JPS59122577A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | フオトクロミツク感光性組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4565779A (ja) |
JP (1) | JPS59122577A (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6128182A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-02-07 | Sony Corp | 光学的情報記録媒体 |
JPH0723468B2 (ja) * | 1984-12-10 | 1995-03-15 | ソニー株式会社 | フオトクロミツク感光性組成物 |
JPS61170737A (ja) * | 1985-01-24 | 1986-08-01 | Sony Corp | 光記録媒体 |
US4960679A (en) * | 1985-01-31 | 1990-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
JPS62164590A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-21 | Sony Corp | 光記録媒体 |
JPS62164592A (ja) * | 1986-01-17 | 1987-07-21 | Sony Corp | 記録方法 |
JPH02302754A (ja) * | 1989-05-18 | 1990-12-14 | Canon Inc | 光情報記録媒体 |
JP2775879B2 (ja) * | 1989-08-21 | 1998-07-16 | 松下電器産業株式会社 | フォトクロミック材料の製造方法 |
CA2051394C (en) * | 1990-02-08 | 1999-04-27 | Akira Miyashita | Macromolecular spiropyran compounds |
US5164287A (en) * | 1990-02-17 | 1992-11-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photochromic material and rewritable optical recording medium |
US5234799A (en) * | 1990-02-17 | 1993-08-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Photochromic material and rewritable optical recording medium |
US5011756A (en) * | 1990-02-27 | 1991-04-30 | Hoechst Celanese Corp. | Storage of optical information using photochiroptical effect |
JPH0497242A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-03-30 | Sharp Corp | 情報記録再生方法 |
JP3030471B2 (ja) * | 1991-03-13 | 2000-04-10 | 大塚化学株式会社 | インドリノスピロベンゾチオピラン誘導体とその開環型異性体を含むことからなる結晶、その製造方法及び該結晶からなるピエゾクロミック材料 |
US7300727B2 (en) * | 2004-04-29 | 2007-11-27 | Xerox Corporation | Method for forming temporary image |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7604219A (nl) * | 1975-04-24 | 1976-10-26 | Cellophane Sa | Werkwijze voor het bereiden van gestabiliseerde fotochrome preparaten en registratiematerialen vervaardigd met behulp van deze preparaten. |
JPS5837078A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-04 | Sony Corp | フオトクロミツク感光性組成物 |
-
1982
- 1982-12-28 JP JP57233036A patent/JPS59122577A/ja active Granted
-
1983
- 1983-12-23 US US06/565,201 patent/US4565779A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59122577A (ja) | 1984-07-16 |
US4565779A (en) | 1986-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0372118B2 (ja) | ||
US3884697A (en) | Photographic process utilizing spiropyran compound dispersed in nitrocellulose films with high nitrogen content | |
JPS6324245A (ja) | 光学記録材料 | |
US4871844A (en) | Diazepihium dyes | |
JPH0588454B2 (ja) | ||
JPS5837078A (ja) | フオトクロミツク感光性組成物 | |
JPS61138687A (ja) | フオトクロミツク感光性組成物 | |
US4882428A (en) | Azaporphyrin compounds | |
EP0483542B1 (en) | A photochromic material and an optical storage medium using the same | |
JPS63207887A (ja) | フオトクロミツク材料とその発色方法 | |
US4130426A (en) | Heat developable light-sensitive diazotype materials and process of use | |
EP0325742B1 (en) | Phthalocyanine compound and optical recording material using it | |
JPH0477753B2 (ja) | ||
EP0115201B1 (en) | Photosensitive compositions containing photochromic compounds | |
JPH0576947B2 (ja) | ||
JPH0745509B2 (ja) | ニッケル錯体 | |
JPS648812B2 (ja) | ||
JPH0695291A (ja) | フォトクロミック感光材料 | |
JPS60177089A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
JPS62164684A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
JPH0413354B2 (ja) | ||
JPS6113496B2 (ja) | ||
JPS60208390A (ja) | フオトクロミツク化合物 | |
EP0068879B1 (en) | A method of making indolizinone-dyes, novel indolizinone-dyes obtained according to the process, method of producing images with oxoindolizinone-dyes and radiation sensitive element to produce the images | |
JP3068891B2 (ja) | ビフルベニル系化合物を使用した記録媒体 |