JPS6232132A - 赤外線吸収剤の耐光堅牢度向上法 - Google Patents

赤外線吸収剤の耐光堅牢度向上法

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JPS6232132A
JPS6232132A JP60171792A JP17179285A JPS6232132A JP S6232132 A JPS6232132 A JP S6232132A JP 60171792 A JP60171792 A JP 60171792A JP 17179285 A JP17179285 A JP 17179285A JP S6232132 A JPS6232132 A JP S6232132A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は赤外線吸収剤の耐光堅牢度向上法に関する。更
に詳しくは特定な化合物を共存せしめることによる特定
の赤外線吸収剤の耐光堅牢度向上法に関する。
「従来の技術」 近年赤外線吸収剤は広範な分野に利用されるようになっ
た。例えば光学的記録媒体の分野においては、赤外線吸
収剤を含む層をアクリル樹脂板。
ポリカーボネートm脂板等の基板上に形成せしめこれに
適当な光1例えばレーザー光を照射することにより情報
を記録することが行われている。又赤外線吸収剤をバイ
ンダーと有機溶媒との混合物に混合し例えば透明なアク
リル材脂板に塗布することにより赤外領域の光線に対す
る光遮断材(フィルター)が製造されている。更に赤外
線吸収剤をメチルメタアクリレート樹脂のような樹脂に
練り込み成形することにより赤外領域の光が遮断された
メガネ等として用いることも、行われている。
式 (式(1)においてRはアルキル基を、R′は炭素総数
2〜6のアルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェニル基を、又は陰イオンを表す) で表される赤外線吸収剤も前記したような用途に使用さ
れている。
「発明が解決しようとする問題点」 前記式〇)で表される赤外線吸収剤はすぐれた赤外線吸
収能を有するが七の耐光堅牢度が十分でないという欠点
があり、そのため高い耐光堅牢度を有するような用途、
目的の為にはその使用が制限されている。
「問題点を解決する為の手段」 本発明者らは前記したような時題点を解決すべく鋭意研
究を重ねた結果本発明に至ったものである。即ち本発明
は式 (弐〇)においてRはアルキル基を、R′は炭素総数2
〜6のアルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニル基を、又は 。
陰イオンを表す) で表される赤外線吸収剤に下記(2) + (3) z
 (+)の化合物 (式(2) 、 (3)及び(4)においてRは前記と
同じ意味を、x′は陰イオンを表す。文武(3)におい
てAは置換していてもよいフェニル基又はナフタレン基
を表す)又はアセチルアセトンのN1(n) +Cu(
■)2Mn(III)若しくはCo(1) キv −)
化物から選ばれる化合物の1種又は2種以上を併用する
ことを特徴とする式(1)で表される赤外線吸収剤の耐
光堅牢度向上法を提供する。
本発明において式(1)で表される赤外線吸収剤及び式
(2) l (3) + (4)及び前記アセチルアセ
トン金属棒レート化物(以後これらを添加剤という)の
具体的な例としては次のような化合物が挙げられる。
式(1)の赤外線吸収剤の例(R,R’、X−は各各式
(1)におけるものである) ム   RR”      X’ (1)−1−CH3<\N(CH,)2C1−t −2
t           C104t  5   z 
          BF4−’−4’2H5K)−N
(C2H5)2  ClO4−#−5#       
    ニー # −6#           B74−#−7’#
           5bF6−#   8    
 #                     C1
−# −9#           CH3SO4−N
10   t           Br−# 11 
 C3H,沓N(C3H7)2C104−y  12 
    z                    
 C1−#−131ニー ’−14−C4H9’  #      BF4−# 
15   #           Br−’−16’
           C2N5 S Q 4−4RR
’X− (■)−17−CH3()alo4− 1 19 −C2H5(ヲCI   CH35o3−’
 −2218F4一 式(2)の添加剤の例(R及びX−は式(2)における
ものである)。
A      Rz ’− (]Il)−a 1−CH5CI O4−−a2   
        NO3−# −C3−C2H5C10
4− #−a4SbF6− ’ −’5           BF4−1−C6−
C5H7ClO4− # −C75by6− ”−C813r− #−a9−C4H9Sb?6− 悪        RX′− (If)−alo     −C4H9Cl041−a
ll     l       BF4−#−4112
#        NO3一式(3)の添加剤の例(L
 A+およびX′は式(3)におけるものである) Jli    RA       X′−CIり−b1
−CHs  <     S”b−’ −b2    
          ClO4−’−bs  −C2H
5()Sl)F6−1−b4   #        
   ClO4−’ −t)5           
   No3−1−b6  1  K)Br− #−b7−C4H9#       Br−′−′b8
SbF6− l−b9−C2H5+C1c1o4− # −1)10   #          BF4−
I−b、11(洲N(C2B5)2sbF6−# −b
12             alo4−扁    
   RA            X””””bt5
  −C4H9S’bF6−’ −b16      
            ClO4一式(4)の添加剤
の例(R,及びX′−は式(4)におけるものである) ILi     RX’− (Il)−C1−CEs   N0s−# −0201
047 1−C3B「− # −C4−C2H5ElbF6− 1−05        alo4− 1−06        BIF4− 1−07        ao3− 1−CB   −〇4Hq   F3bX’b−1−0
9CIO4− ′−010BII′4− ” 11       NO3− アセチルアセトンの金属キレート化合物の例扁 (Ill)−1N1(It)アセチルアセトナート# 
−2Cu(1)アセチルアセトナート ′t −s  
  Mn([)アセチルアセトナートz −a    
Co(II)アセチルアセトナート本発明で式(1)の
赤外線吸収剤は前記した添加剤の1種又は2種以上を併
用して後記するような塗布法又は練り込み法によって適
用されるものであるが塗布法で適用する場合、式(1)
の赤外線吸収剤、及び添加剤を溶解する為の溶剤として
はジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトン、メチル
エチルケトン等を挙げることが出来る。更にバインダー
を併用して塗布する場合の溶剤の例としてはメチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムア
ミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、キシレン、
メタノール、エタノール、インプロピルアルコール、ジ
メチルホルムアミド、ジクロロエタン等を挙げることが
出来る。
そしてバインダーを併用する場合用いられるパインダー
の例としてはフェノール系、アルキッド系。
尿素メラミン系、エポキシ系、不飽和ポリエステル系、
シリコン系、ポリウレタン系、ポリアクリレート系、ポ
リ酢酸eニール系、ポリスチレン系樹脂等が挙げられる
文武(1)の赤外線吸収剤を前記添加剤を併用して樹脂
に練り込み法で適用する場合の樹脂の例としてはポリア
ミド系、ボリスチレ/系、ポリアクリレート系、ポリメ
タクリレート系、ポリカーボネート系、セルローストリ
アセテート系、ボリエ 。
テレン系、ポリプロピレン系、ポリ塩化ビニル系。
ポリ塩化ビニリデン系、ポリアルキレンテレフタレート
系、不飽和ポリエステル系、アクリル−スチレン系樹脂
など挙げられる。
式(1)の赤外線吸収剤に対する前記添加剤の添加比率
は赤外線吸収剤1.0に対し添加剤0.05〜5.0.
好ましくは0.3〜1.5である。
式(1)の赤外線吸収剤と前記添加剤を塗布し、て用い
る場合の基質の例としてはポリアクリレート系、ポリメ
タクリレート系、ポリカーボネート系セルローストリア
セテート系、ポリエチレン系。
ポリプロピレン系、ポリ塩化ビニル系、ポリ塩化ビニリ
デン系、PVA系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポ
リイミド系、ポリスルホン系、ポリエーテル系、ポリス
チレン系、ポリアクリルニトリル系櫨脂や必要によりこ
れ等の樹脂の表面をシリコン系合成樹脂などで保a層を
設けたもの及び各種ガラス、セラミックス、金属などが
挙げられる。
塗布の方法としては式(1)の赤外線吸収剤と前記添加
剤の1橿又は2種以上の混合物を前記した溶剤に溶解し
て塗布するか赤外線吸収剤と前記添加物を前記した溶剤
に別々に溶解してから混合して添布する。塗布法として
はスプレー、或いはスピンナーを用いて前記したよりな
樹脂の基板又はフィルムに塗布する。又バインダーを併
用する場合はバインダーと溶媒の混合物に該赤外線吸収
剤 E及び添加剤を溶解せしめた液を基板又はフィルム
にスプレー、スピンナー、パーコーター、アプリケータ
ー、グラビヤコーター等を用いて塗布する。
この場合基板又はフィルム上にまず添加剤の層を設けそ
の上に赤外線吸収剤の層を設けるか又はその逆の順序に
よって赤外線吸収剤と添加剤とからなる層を設けること
も出来る。
練り込み法による場合は式(1)の赤外線吸収剤。
前記添加剤及び樹脂と混合し加熱溶融し、射出成形機等
で基板又はフィルム状に成型する。この場合樹脂100
に対して式(1)の赤外線吸収剤は通常0.001〜1
.0の範囲で又添加剤は前記したような範囲で用いられ
る。
本発明の方法によって式い)の赤外線吸収剤が適用され
た場合その耐光堅牢度が飛躍的に向上するので従来その
耐光性が不十分なため使用の制限されていた分野にも式
(1)の赤外線吸収剤が使われるようになり又従来から
用いられている分野にあってもその耐光堅牢度が飛躍的
に向上したので性能の一層の改善がはかられた。
「実施例」 実施例によって本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 からなる溶液をアクリル板上にスピンナーを使用して、
 2.00 Or、pmでコートした。この試験片を(
A)とする。比較例として、上記組成から(II)−a
9の化合物を除いた組成の溶液を上記同様にコートし、
この試験片をCB)とし射光試験を行った。
射光試験機はスガ試験機■製、 Xenon Fade
 Meter(fi式FA−25X型、容16KVA)
を用いた。
露光前及び一定時間露光後のλmaxにおける吸光度を
測定し、残存率五を下記の式により算出した。結果は表
の通りであった。
Hの値(チ)の大きいもの程耐光堅牢度が良好なことを
示す。
露光時間 試験片   10時間  82時間  154時間(A
)     100.0   99.6.    99
.4CB)     88.60      −試験片
(A)の残存率かたかく耐光堅牢度がすぐれていること
がわかる。
実施例2〜4 実施例1において添加剤を下記の表のように変える以外
は実施例1と同様な操作を行って次の結果をえた。(H
の値(襲)) 露光時間 実施例  添加剤   82時間 154時間2   
 (1)−al(197−696−13(II)−09
93−989−1 4(1)−b3   98−2   96−5実施例5 からなる溶液を実施例1と同様にコートしこの試験片を
(A)とする。比較例として、上記組成から(l[l)
 −1を除いて作製した試験片をCB)とする。
実施例1と同様にして行った射光試験によるHの値(%
)は以下の通りであった。
露光時間 試験片   82時間  154時間 (A)     97−5    51.a(B)  
   88.6−    0実施例6〜26 からなる溶液を実施例1と同様にコートシ、試験片を作
製し、射光試験を行いHの値(%)を算出した。結果は
以下の通りであった。
露光時間 実施例 赤外線吸収剤  添加剤  82時間 154
時間6     (1)−1(n)−b6  92.1
    s 5.07     (1) 2    (
1)−a、291−5   83−78     (1
) 3    (n) C291−884−99(1)
−s    (1)−0390−682−010(1)
 6    cm)−a、197−1   、94−4
11     (1)−8(n)−b、6 94−0 
  88.512     (1)−q    (1)
−c、1  95.387.2露光時間 実施例 赤外線吸収剤  添加剤  82時間 154
時間15    (1)−10(ll )−b4  9
5.7   91−814    (1)−11(1)
−a7’   ? 8.8   97.91s    
(1)−1z   (II)−C69s、a    9
1.716    (1)−13(II)−C696,
1q 2.917      (夏)−14(ll)−
C497−796−018(I)−15(■)−b7 
 93.3   87−12o    (1)−17(
II)−al   98.1    tp 6.821
    (1)−1a   (II)−C79t、s 
   a s、y22    (1)−19(II)−
b7   a 8.8   7 y、b2s    (
1)−2o   (II)−blo ’  9 o、o
    8 G、724    (1)−21(II)
−bl、   94.0   8B、125    (
I)−22(I[)−C295゜9   92.026
    (1)−4(II)−Q、0  98.7  
  q 7.4実施例27 からなる組成液を磁製ボールミル中で16時間混合し、
1翻厚のポリエステルフィルム上へ412バーコーター
を用いて塗布し自然乾燥した。この試験片を(A)とす
る。比i例として、上記組成から、  (u)−C5の
添加剤を除いた組成液で前記同様にして試験片(B)を
作製した。(A) CB)について実施例1と同様に射
光試験を行いHの値(チ)を算出した。結果は以下の通
りであった。
実施例28 の組成液を用いて実施例27と同様にして添加剤の入っ
たものと入っていない試験片(A) p (B)を作製
し、射光試験を行った結果は以下の通りであった。
実施例29 上記組成物を加熱ニーグーで10分間混練した後、混合
物を取り出し冷却固化後ハンマーミルで粗粉砕し1次に
射出成形機で厚さ11111のプレートに成形した。
この試験片を(A)とする。比較例として上記組成物か
ら([)−1の添加剤を除いた組成物について前記と同
様にして試験片(B)を作製した。スガ試験機1!i!
3製スタンダード紫外線ロングライフ・フェードメータ
ー(型式FAL−5H型、電源容量20 Q V  7
 K V A  50 H2)を用イ射光試験を行い、
以下の結果を得た。(Hの値1%)「発明の効果」 式(1)に示される赤外線吸収剤を適用するにあたり特
定の添加剤を使用することによって該赤外線吸収剤の耐
光堅牢度を飛躍的に向上させることが出来た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式(1)においてRはアルキル基を、R′は炭素総数
    2〜6のアルキルアミノ基又はハロゲン原子で置換され
    ていてもよいフェニル基を、Xは陰イオンを表す) で表される赤外線吸収剤に下記(2)、(3)、(4)
    の化合物 (a)▲数式、化学式、表等があります▼(2) (b)▲数式、化学式、表等があります▼(3) (c)▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式(2)、(3)及び(4)においてRは、前記と同
    じ意味を、X′は陰イオンを表す。又式(3)において
    Aは置換していてもよいフェニル基又はナフタレン基を
    表す) 又はアセチルアセトンのNi(II)、Cu(II)、Mn
    (III)若しくはCo(II)キレート化物 から選ばれる化合物の1種又は2種以上を併用すること
    を特徴とする式(1)で表される赤外線吸収剤の耐光堅
    牢度向上法。
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