JPS58108537A - 遮光性マスキングフイルム - Google Patents
遮光性マスキングフイルムInfo
- Publication number
- JPS58108537A JPS58108537A JP56208711A JP20871181A JPS58108537A JP S58108537 A JPS58108537 A JP S58108537A JP 56208711 A JP56208711 A JP 56208711A JP 20871181 A JP20871181 A JP 20871181A JP S58108537 A JPS58108537 A JP S58108537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitrile rubber
- agent
- antistatic
- light
- antistatic agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プラスチック支持体上に帯電防止された遮光
性の剥離層を設けてなる帯電防止された遮光性マスキン
グフィルムに関する。
性の剥離層を設けてなる帯電防止された遮光性マスキン
グフィルムに関する。
本発明で得られる遮光性マスキングフィルムの使用目的
の一つは写真製版用に用いることにあり、必要部分を剥
離することにより直ちに種々の原図を作製することがで
きる。
の一つは写真製版用に用いることにあり、必要部分を剥
離することにより直ちに種々の原図を作製することがで
きる。
従来、この目的に用いられているマスキングフィルムの
剥離層の材質としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル系
共重合体、ニトロセルロース、アセチルセルロース等の
樹脂の他に可塑剤等が使用されているが、剥離層の表面
のべとつきが大きく、且つ剥離強度が小さく、作業性に
難点があ↓、本発明者等は前記の欠点を改良するために
、剥離層としてプラスチック支持体に良好な接着性を有
するニトリルゴムと、これと相溶性があり、且つ室温で
べとつきのない物質及び遮光性の染顔料との混合物を用
いることを特開昭５４−１０４９０２に提案した。しか
し、プラスチック支持体やニトリルゴムを含む組成物は
いずれも電気絶縁性を有する為に、遮光性マスキングフ
ィルムの製造時、あるいは使用時にマスキングフィルム
同志あるいはマスキングフィルムと他の物質との間での
摩擦や剥離によって帯電し、塵埃などが付着して種々の
障害を生じ、特に写真感光材料の場合、放電する際に写
真感光層が感光してスタチックマークを生ずる欠点があ
った。
剥離層の材質としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル系
共重合体、ニトロセルロース、アセチルセルロース等の
樹脂の他に可塑剤等が使用されているが、剥離層の表面
のべとつきが大きく、且つ剥離強度が小さく、作業性に
難点があ↓、本発明者等は前記の欠点を改良するために
、剥離層としてプラスチック支持体に良好な接着性を有
するニトリルゴムと、これと相溶性があり、且つ室温で
べとつきのない物質及び遮光性の染顔料との混合物を用
いることを特開昭５４−１０４９０２に提案した。しか
し、プラスチック支持体やニトリルゴムを含む組成物は
いずれも電気絶縁性を有する為に、遮光性マスキングフ
ィルムの製造時、あるいは使用時にマスキングフィルム
同志あるいはマスキングフィルムと他の物質との間での
摩擦や剥離によって帯電し、塵埃などが付着して種々の
障害を生じ、特に写真感光材料の場合、放電する際に写
真感光層が感光してスタチックマークを生ずる欠点があ
った。
この解決策として、通常ニトリルゴムを含有する組成物
溶液に帯電防止剤を添加したものを塗布する方法が採ら
れているが、帯電防止剤の中には帯電防止性能は十分な
るも、帯電防止剤を添加した塗工液の粘度が経時的に上
昇し、塗工困難になるものがあった。
溶液に帯電防止剤を添加したものを塗布する方法が採ら
れているが、帯電防止剤の中には帯電防止性能は十分な
るも、帯電防止剤を添加した塗工液の粘度が経時的に上
昇し、塗工困難になるものがあった。
本発明者等は、剥離層の剥離性、柔軟性、成膜性、遮光
性及び帯電防止性を損うことなく、且つ塗工液粘度の経
時安定性に優れた帯電防止剤につき鋭意検討した結果、
イオン性帯電防止剤が好ましいことを発見した。
性及び帯電防止性を損うことなく、且つ塗工液粘度の経
時安定性に優れた帯電防止剤につき鋭意検討した結果、
イオン性帯電防止剤が好ましいことを発見した。
即ち、本発明はプラスチック支持体上にイオン性帯電防
止剤を含有するニトリルゴム系組成物を塗布した帯電防
止処理された遮光性マスキングフィルムに関するもので
ある。
止剤を含有するニトリルゴム系組成物を塗布した帯電防
止処理された遮光性マスキングフィルムに関するもので
ある。
以下に本発明を更に詳しく説明する。
本発明で使用されるプラスチック支持体としては、例え
ばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリオキシベンゾエートなどのポリエステルフ
ィルムあるいはポリカーボネートフィルム等であって、
延伸又は無延伸フィルムが挙げられる。
ばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリオキシベンゾエートなどのポリエステルフ
ィルムあるいはポリカーボネートフィルム等であって、
延伸又は無延伸フィルムが挙げられる。
ニトルゴム系組成物としては、ニトリルゴムあるいはニ
トリルゴムと相溶性があり、且つ室温でべとつきのない
物質との混合物が用いられる。
トリルゴムと相溶性があり、且つ室温でべとつきのない
物質との混合物が用いられる。
ニトリルゴムとしては、アクリロニトリル含有量が１９
〜５１重量％のア夛すロニトリルーブタジエン共重合体
又はアクリロニトリル−ブタジェン−カルボキシル基含
有単量体の三元共重合体等が挙げちれる。又、ニトリル
ゴムと混合して使用する物質としてはポリ塩化ビニル、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース、
ポリスチレン系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂などが挙げら
れる。特に好ましいものの１例は塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体であり、塩化ビニル単量体と酢酸ビニル単量
体の共童合比は重量比で９１〜９３：９〜１７の範囲が
好ましく、他にカルボキーシル基又はヒドロキシル基を
含有する単量体を含む三元共重合体樹脂であってもよい
。
〜５１重量％のア夛すロニトリルーブタジエン共重合体
又はアクリロニトリル−ブタジェン−カルボキシル基含
有単量体の三元共重合体等が挙げちれる。又、ニトリル
ゴムと混合して使用する物質としてはポリ塩化ビニル、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース、
ポリスチレン系樹脂、ポリアクリレート系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂などが挙げら
れる。特に好ましいものの１例は塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体であり、塩化ビニル単量体と酢酸ビニル単量
体の共童合比は重量比で９１〜９３：９〜１７の範囲が
好ましく、他にカルボキーシル基又はヒドロキシル基を
含有する単量体を含む三元共重合体樹脂であってもよい
。
次に本発明のニトリルゴム系組成物に使用するイオン性
帯電防止剤は、ニトリルゴム系組成物に用いる溶剤に溶
解するものであれば何等さしつかえない。例えばアルキ
ルスルホン酸塩、アリルスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸エステル塩、硫酸エステルのア叱ン塩、リン酸
エステル塩、アルキルカルボン酸塩などのアニオン系帯
電防止剤、アルキルアミン塩、アミドアミン又はその塩
、エステルア建ン第４アンモニウム塩などのカチオン系
帯電防止剤及びグアニジン塩、ベタイン誘導体、インダ
シリン誘導体などの両性帯電防止剤などがある。これら
の帯電防止剤の添加量は、ニトリルゴム系組成物中の固
形分に対し０．５ 、５．０重量俤、好ましくは１．０
〜４６０重量％である。添加量が０．５重ｔ＊より少な
いと帯電防止効果がなく、５゜０重量％より多く添加し
ても帯電防止効果は変らず、逆に表面にブリードしてべ
とつき、ブロッキングしやすくなり好ましくない。
帯電防止剤は、ニトリルゴム系組成物に用いる溶剤に溶
解するものであれば何等さしつかえない。例えばアルキ
ルスルホン酸塩、アリルスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸エステル塩、硫酸エステルのア叱ン塩、リン酸
エステル塩、アルキルカルボン酸塩などのアニオン系帯
電防止剤、アルキルアミン塩、アミドアミン又はその塩
、エステルア建ン第４アンモニウム塩などのカチオン系
帯電防止剤及びグアニジン塩、ベタイン誘導体、インダ
シリン誘導体などの両性帯電防止剤などがある。これら
の帯電防止剤の添加量は、ニトリルゴム系組成物中の固
形分に対し０．５ 、５．０重量俤、好ましくは１．０
〜４６０重量％である。添加量が０．５重ｔ＊より少な
いと帯電防止効果がなく、５゜０重量％より多く添加し
ても帯電防止効果は変らず、逆に表面にブリードしてべ
とつき、ブロッキングしやすくなり好ましくない。
帯電防止剤にノニオン系帯電防止剤あるいはこれと會番
イオン性帯電割千防止剤との混合物を使用した場合、調
製した塗工液の粘度は経時的に上昇し、約２週間から１
力月で塗工困難になりてしまう。
イオン性帯電割千防止剤との混合物を使用した場合、調
製した塗工液の粘度は経時的に上昇し、約２週間から１
力月で塗工困難になりてしまう。
遮光性を付与するためにニトリルゴム系組成物に加える
着色剤としては、染料又は顔料及び染料と顔料との混合
物を使用することができ、染料としてはオイル可溶型染
料でＪ＝すて、ニトリルゴム系組成物と相溶性が良好で
熱及び紫外線に対し色調の変化の少ないものであればよ
い。
着色剤としては、染料又は顔料及び染料と顔料との混合
物を使用することができ、染料としてはオイル可溶型染
料でＪ＝すて、ニトリルゴム系組成物と相溶性が良好で
熱及び紫外線に対し色調の変化の少ないものであればよ
い。
溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢
酸ブチル等及びこれらとベンゼン、トルエン、キシレン
等との混合物が使用できる。
イソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢
酸ブチル等及びこれらとベンゼン、トルエン、キシレン
等との混合物が使用できる。
次に本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例−１〜３、比較例−１〜３゜
下記組成からなる帯電防止剤を含まない遮光性塗工液を
調製した。
調製した。
塩化ビニル−酢酸ビニル（９０：１０）共重合体
１４０重量部ニトリルゴム（ＡＮ含量＝３
３チ） ６０重量部 ネオザポンレッドＧＥとネオザポンオレンジＧＲの３：
１混合物（染料） １６重量部メチルエチルケトン／ト
ルエン（７：３）の混合物 １２２０重
量部上の塗工液に表−１記載の各種帯電防止剤を４．３
重量部添加し、帯電防止性のある遮光性塗工液を調製し
た。該塗工液を２０℃で放置し、粘度変化を経時的に測
定したところ、実施例−１〜３のイオン性帯電防止剤を
含有した系の粘度は１力月経過しても殆んど変化しなか
ったが、比較例−１〜３のノニオン系帯電防止剤を含有
した系は経時的な粘度上昇が認められた。
１４０重量部ニトリルゴム（ＡＮ含量＝３
３チ） ６０重量部 ネオザポンレッドＧＥとネオザポンオレンジＧＲの３：
１混合物（染料） １６重量部メチルエチルケトン／ト
ルエン（７：３）の混合物 １２２０重
量部上の塗工液に表−１記載の各種帯電防止剤を４．３
重量部添加し、帯電防止性のある遮光性塗工液を調製し
た。該塗工液を２０℃で放置し、粘度変化を経時的に測
定したところ、実施例−１〜３のイオン性帯電防止剤を
含有した系の粘度は１力月経過しても殆んど変化しなか
ったが、比較例−１〜３のノニオン系帯電防止剤を含有
した系は経時的な粘度上昇が認められた。
実施例−１〜３の塗工液（調製後１力月経過したもの）
を１００μの厚みを有する二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に乾燥後の厚味が２５μになるよう
に塗布、乾燥してルビー色の透明フィルムを得た。得ら
れたフィルムはいずれも優れた帯電防止性、ベースフィ
ルムとの適当な剥離強度、良好な遮光性を有し表面のべ
とつきは認められなかった。
を１００μの厚みを有する二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に乾燥後の厚味が２５μになるよう
に塗布、乾燥してルビー色の透明フィルムを得た。得ら
れたフィルムはいずれも優れた帯電防止性、ベースフィ
ルムとの適当な剥離強度、良好な遮光性を有し表面のべ
とつきは認められなかった。
比較例−１〜３の塗工液は粘度が高く塗工できなかった
。
。
Claims (1)
- プラスチック支持体上にイオン性帯電防止剤を含有する
ニトリルゴム系組成物を塗布した帯電防止処理された遮
光性マスキングフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56208711A JPS58108537A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 遮光性マスキングフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56208711A JPS58108537A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 遮光性マスキングフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58108537A true JPS58108537A (ja) | 1983-06-28 |
| JPH0123778B2 JPH0123778B2 (ja) | 1989-05-08 |
Family
ID=16560810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56208711A Granted JPS58108537A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 遮光性マスキングフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58108537A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60103351A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 遮光性マスキングフイルム |
| JPS62163054A (ja) * | 1986-01-11 | 1987-07-18 | Shinko Kagaku Kogyo Kk | 帯電防止型遮光性マスキングフイルム |
| JPS62262851A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Fujitsu Ltd | パタ−ン形成方法 |
| JPS6374052A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
| JPS63188651U (ja) * | 1987-05-25 | 1988-12-02 | ||
| JPS6446738A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Fuaintetsuku Kenkyusho Kk | Antistatic photosensitive laminated film |
| US4923727A (en) * | 1988-02-16 | 1990-05-08 | Somar Corporation | Lightsafe masking film |
| JPH02188755A (ja) * | 1989-01-18 | 1990-07-24 | Kimoto & Co Ltd | 遮光性マスキングフイルム |
| US5085908A (en) * | 1987-07-31 | 1992-02-04 | Somar Corporation | Lightsafe masking film |
| GB2301050A (en) * | 1995-05-12 | 1996-11-27 | Kimoto Company Limited | Antistatic masking film |
-
1981
- 1981-12-22 JP JP56208711A patent/JPS58108537A/ja active Granted
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60103351A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 遮光性マスキングフイルム |
| JPH0348497B2 (ja) * | 1986-01-11 | 1991-07-24 | Shinko Chem | |
| JPS62163054A (ja) * | 1986-01-11 | 1987-07-18 | Shinko Kagaku Kogyo Kk | 帯電防止型遮光性マスキングフイルム |
| JPS62262851A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Fujitsu Ltd | パタ−ン形成方法 |
| JPS6374052A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
| JPS63188651U (ja) * | 1987-05-25 | 1988-12-02 | ||
| US5085908A (en) * | 1987-07-31 | 1992-02-04 | Somar Corporation | Lightsafe masking film |
| JPS6446738A (en) * | 1987-08-17 | 1989-02-21 | Fuaintetsuku Kenkyusho Kk | Antistatic photosensitive laminated film |
| US4923727A (en) * | 1988-02-16 | 1990-05-08 | Somar Corporation | Lightsafe masking film |
| AU610990B2 (en) * | 1988-02-16 | 1991-05-30 | Somar Corporation | Lightsafe masking film containing vinyl chloride copolymer and mix of acrylonitrile rubbers |
| JPH02188755A (ja) * | 1989-01-18 | 1990-07-24 | Kimoto & Co Ltd | 遮光性マスキングフイルム |
| GB2301050A (en) * | 1995-05-12 | 1996-11-27 | Kimoto Company Limited | Antistatic masking film |
| GB2301050B (en) * | 1995-05-12 | 1999-06-23 | Kimoto Company Limited | Masking films |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0123778B2 (ja) | 1989-05-08 |
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