JPS6245553A - フエニル酢酸誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はフェニル酢酸誘導体の製造法に関し、さらに詳
しくは、ベンズアルデヒド化合物およびラクタム化合物
から簡単な操作で収率よくフェニル酢酸誘導体を製造す
る方法に関する。

（従来の技術） フェニル酢酸誘導体は、比較的簡単な基本骨格構造を有
する化合物であるにも拘らず優れた消炎、鎮痛、解熱活
性を有しており、例えばその一種である次式Ｉα： で表わされる４−ビフェニリル酢酸は、人間に対して有
効な消炎・鎮痛ならびに解熱活性を示し、そのナトリウ
ム塩あるいはアルキルエステル体は現在、実際の薬剤と
しての１５Ｍ発が行なわれている。

さらにまた別のフェニル酢酸誘導体の一種である次式Ｉ
ｂ： で表ワされるｐ−ヒドロキシフェニル酢酸は種々の医薬
品の原料化合物として重要な化合物である。

このように、フェニル酢酸誘導体はその化合物自体の有
する活性、あるいはその合成用途の特異性よシ非常に興
味のある化合物群である。ところで従来のこのフェニル
酢酸誘導体の製造法として、例えば前記式Ｉαで表わさ
れる４−ビフェニリル酢酸を例に挙げて説明すると、以
下に述べる如き方法が代表的なものとして知られている
。

方法Ａ： ビフェニルを原料とし、これを無水酢酸−塩化アルミニ
ウムによるフリーデル・クラフッ反応にて４−ビフェニ
リルアセチルとしたのち、ウイルグロット（ＩＶｉ　ｌ
　ｌ　ｇｅｒｏｄｔ　）反応により４−ビフェニリル酢
酸を製造する方法； 方法Ｂ： ４−ビフェニリルアルデヒドを原料とし、これを還元−
クロル化−二トリル化−加水分解の各工程に付し４−ビ
フェニリル酢酸を製造する方法；々らびに 方法Ｃ： ４−ビフェニリルアルデヒドをクロル酢酸エチルと反応
させることにより炭素原子を１個分だけ鎖側を伸ばした
４−ビフェニリルプロピオアルデヒドとしたのち酸化し
て４−ビフェニリル酢酸を製造する方法。

マタ前記式Ｉｂのｐ−ヒドロキシフェニル酢酸、あるい
はその他のフェニル酢酸誘導体の製造にあっても上記Ａ
−Ｃの方法に準じた製造法が採用されている。

（発明７５砕゛本決しようとする問題点）しかしながら
、上述のＡ−Ｃの各従来方法にあっては、例えば、方法
Ａでは原料とかるビフェニル自体が廉価である一方、製
造に必要な各ステップの処理役作に長時間を要し、−１
，たイオウ化合物を中間体と１７て経由するため異臭の
発生とともに副生成物が多量に生成し、目的とする４−
ビフェニリル酢酸を純度良く製造するには繁雑な精製操
作が必要であり、しかも収率もそれ程良好なものではな
い等の問題点がある。加えて、方法Ａ全工程を単一反応
器内（ｏｎｅ−ｐｏｔ　）で行なうことは不可能である
といった工業的な不利益も存在するのである。

棟た、方法Ｂけ、工程数が長くそのため収率の低下を招
き、更に方法Ａと同様にワンポット（ｏ？１．ｅ−ｐｏ
ｔ　）製造が採用できず、しかもそのうえ猛毒であるシ
アン化ナトリウムを使用するため工業的製造方法として
の適用はほとんど不可能である。

更に、方法Ｃは反応条件がそれ程過酷でないだめ処理操
作が容易であるが、工程が長く、４−ビフェニリルアル
デヒドとクロル酢酸エチルとの縮合における収率はそれ
程長くなく、加えて副生成物の生成が多くみもれ繁雑な
精製工程が必要である等の問題力がある。

これらの問題点はなにも例示した４−ビフェニリル酢酸
の製造の場合に限られるものではなく、他のフェニル酢
酸誘導体の製造にあっても同様の問題点がある。

そこで本発明者らは、フェニル酢酸誘導体の簡易で収率
の良好な工業的製造法の確立を鋭意検討した結果、ベン
ズアルデヒド化合物と特定のユニークなラクタム化合物
を原料とし、両者にＡ−キン反応を適用し、次いで水で
処理すると、目的とするフェニル酢酸誘導体が穏和な反
応条件下に極めて収率良く製造することができ、しかも
全工程を単一反応器内で（すなわちワンポットで）行な
うことができ、フェニル酢酸誘導体の工業的製造法とし
て適していることを見出し、本発明を完成するに至った
。

（問題点を解決するための手段） すなわち本発明は、次式■： Ｉ （式中、Ｒ′、Ｒ１およびＲｓけ同一または相異な沙、
それぞれ水素原子、ハロダン原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、水酸基、未置換もしくは置換フェニル
基を表わす） で表わされるベンズアルデヒド化合物を塩基の存在下に
次式■： （式中、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基またはカルボ
キシ−低級アルキル基を表わし、Ｘは酸素原子または硫
黄原子を表わし、そしてＹは硫黄原子または−ＮＨ−を
表わす）で表わされるラクタム化合物と反応させ、次式
■：Ｉ （式中、ＲＩＸＲ２、Ｒ５１Ｒ４、ＸおよびＹは前記定
義と同一の意味を有する） で表わされる縮合物となし、得られる式■の縮合物をア
ルカリ塩基の存在下加熱し且つ所望により中和して次式
Ｖ： （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは前記定義と同一の
意味を有し、Ａｆはアルカリ金属または水素原子を表わ
す） で表わされる誘導体を得、次いでこれを水性溶媒中で処
理することを特徴とする次式Ｉ；（式中、ＲＩＸＲ２、
ＲＢおよびＭは前記定義と同一の意味を有する） で表わされるフェニル酢酸誘導体の製造方法に関する。

本発明の上記製造方法はワンポットプロセス（ｏｎｅ−
ｐｏｔ　ｐｒｏｃｅｓｓ　）として、式ＩＩで表わされ
るベンズアルデヒド化合物と式■で表わされるラクタム
化合物を反応させたと同一の反応器内において、式ＩＶ
で表わされる縮合物および式Ｖで表わされる誘導体を単
離することなく行なうことができる。特に好適な態様に
よれば、本発明の方法は、同一反応器内にて、式ＩＩで
表わされるベンズアルデヒド化合物および式■で表わさ
れるラクタム化合物を、塩基の存在下に加熱処理し、次
いで水性溶媒下に処理することにより行なうことができ
、工業的簡易製造法として特に好°ましいものである。

本発明は上述の如く式ＩＩで表わされるベンズアルデヒ
ド化合物および式ＩＩＩで表わされるラクタム化合物を
出発原料とするものであるが、その製造法を化合式で示
せば以下のようにまとめることができる： ＠　　　　　　α堕 Ｉ ＲＢ （上記化学式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８１Ｒ４、ＸＸＹおよ
びＭは前記定義と同一の意味を有する） すなわち本発明の製造方法は、上記化学式中の工程１，
２および３をそれぞれ個別的に行なうことができ、ある
いはワンポットプロセスとして同一反応器内にて一挙に
行なうこともできる。

なお、本明細書を通じて「低級」なる語は、この語が付
された基または化合物の炭素原子数が６個以下、好まし
くは４個以下であることを意味する。

しかして、本明細書において用いる「低級アルキル基」
は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素原子数１〜６個のアル
キル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
１ａｏ−プロピル、ｎ−ブチル、１ｓｏ−ブチル、５ｅ
ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−＜メチル、１８０
−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル基等が挙げら
れる。また、「低級アルコキシ基」は低級アルキル部分
が上記の意味を有する低級アルキルオキシ基であり、例
えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓ。

−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、５ｅＣ−ブトキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−へキシルオキシ
基等が包含される。さらに「ハロゲン原子」には、フッ
素、塩素、臭素およびヨウ素原子が包含される。

本明細書において用いる「未置換もしくは置換フェニル
基」におけるフェニル基上の置換基としては、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられ
、フェニル基はこれら置換基から選ばれる１〜３個、好
ましくは１もしくは２個の基を有することができる。し
かして、かかる未置換もしくは置換フェニル基の例とし
ては、フェニル１１　；　ｐ　−）　１，１ル、４−メ
トキシフェニル、４−クロロフェニル、３，４−ヅメト
キシフェニル基等が挙げられる。

さらに「カルボキシ−低級アルキル基」はカルボキシ基
で置換された低級アルキル基であり、例えばカルボキシ
メチル、α−カルボキシエチル、α−カルボキシプロぎ
ル、β−カルボキシエチル基等が挙げられ、中でもα−
位にカルボキシ基を有するものが好ましい。

しかして、本発明の方法において出発原料として使用さ
れる式ＩＩで表わされるベンズアルデヒド化合物の代表
例を挙げれば次のとおりである：ベンズアルデヒド、２
−メチルベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒ
ド、４−エチルベンズアルデヒド、４−（ｎ−プロピル
）ベンズアルデヒド、４−インプロピルベンズアルデヒ
ド、４−クロロベンズアルデヒド、アニスアルデヒド、
ヘラトルチアルデヒド、２，５−ソメトキシペンズアル
デヒド、３＋４，５−）リメトキシベンズアルデヒド、
４−ビフェニリルベンズアルデヒド等。

また、他方の出発原料である式ＩＩＩで表わされるラク
タム化合物の代表例には次のものが挙げられる：２−チ
オキソー４−チアゾリソノン（ローダニン）、Ｎ−メチ
ル−２−チオキソ−４−チアゾリソノン、２，４−イミ
ダゾリジノン（ヒダントイン）、Ｎ−カルボキシメチル
−２−チオキン−４−チアゾリジノン等。

したがって本発明の方法により製造される弐■のフェニ
ル酢酸誘導体の具体例を示せば次のとおりである： フェニル酢Ｌ　　ｐ−トリル酢酸、４−エチルフエ＝　
ル酢酸、４−　（ｎ　−：ｆロビル）フェニル酢酸、４
−イソプロピルフェニル酢酸、３−メトキシフェニル酢
酸、４−メトキシフェニル酢Ｌ　　２　、５−ソメトキ
シフエニル酢酸、３，４．５−）リメトキシフェニル酢
酸、４−クロロフェニル酢酸、４−ビフェニリル酢酸等
。

次に本発明の製造法を、前記化学式中の各工程に沿って
さらに詳しく説明する。なお、本発明の製造方法におけ
る好ましい態様であるワンポット（ｏｎｅ　ｐｏｔ　）
法は工程１〜５の条件を筒室組合せて単一反応器内で実
施することができ、この点についても後述する。

工程１： 本工程は式ＩＩで表わされるベンズアルデヒド化合物と
式１ＩＩで表わされるラクタム化合物を塩基の存在下に
反応させて式ＩＶで表わされる縮合物に変換する工程で
ある。

反応は適当な塩基の存在下に、無溶媒あるいは溶媒の存
在下に行なわれる。用いうる塩基としては例えば、アン
モニア；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジ
ルツメチルアミン、ベンジルツメチルアミン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ、Ｎ−ソイソ
プロビルエチルアミン等の有機第三アミン類；ピリジン
、２−ぎコリン等の芳香族アミン類；ギ酸ナトリウム、
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の有機酸金属塩；炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸バ
リウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属炭酸
化物または炭酸水素化物等の無機塩基が挙げられる。こ
れら塩基のなかで好ましいものは酢酸ナトリウム、炭酸
カリウム、トリエチルアミン等であり、特に好ましいも
のは酢酸ナトリウムである。

また、反応は、式ＩＩで表わされるベンズアルデヒド化
合物は一般に液体でありまたは低沸点であるため、それ
自体が反応物になるとともに溶媒としても作用するので
、無溶媒下に行なうことができ、また、それ自体反応に
直接関与しない溶媒の存在下に行なうこともできる。

かかる溶媒としては具体的には、アセトニトリル、ツメ
チルホルムアミド、ヅメチルアセトアミド、ツメチルス
ルホキシド等の極性非プロトン溶媒；テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；ジクロルメタン、
クロロホルム等の不活性ハロケ゛ン化アルキル系ｉ媒；
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ソク
ロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶媒；酢酸
、無水酢酸等の有機酸および有機酸無水物溶媒等が挙げ
られるが、なかでもトルエン、クロロベン−ｈ’ン、ジ
オキサン等が好ましい。

本工程においては、式ＩＩで表わされるベンズアルデヒ
ド化合物１モルに対し式Ｉｒ［で表わされるラクタム化
合物を一般に１〜６モル、好ましくは１〜１．５モルの
割合で使用し、これに加えて前記の如き塩基を一般に１
〜５モル、好ましくは１〜２モルの範囲内で存在させ、
更に無水酢酸を１〜１０モル程度、好ましくは２〜５モ
ルの範囲内で存在させて反応を行なうのが好都合である
。

反応温度ならびに反応時間は、用いる塩基、あるいは溶
媒等の使用の有無あるいはその種類等により一概に限定
されないが、一般的に言って、無溶媒の場合には、温度
は約０〜約２００℃、好ましくは約５０〜約１５０℃範
囲内、そして時間は約０．１〜約２０時間、好ましくは
約０．５〜約１０時間程度であり、他方溶媒を用いる場
合には、使用する溶媒の沸点付近で約０．１〜約２０時
間、好ましくは約０．５〜約１０時間程度反応させるの
が適当である。

本工程においては目的とする式ＩＶで表わされる縮合物
が主として結晶状態で収率約９０％力いし定量的量で得
られ、この化合物はそのままなんら精製することなく次
の工程２に使用することができる。

工程２： 本工程は上記工程１で得られる式ＩＶで表わされる縮合
物を塩基の存在下に加熱し、弐Ｖで表わされる銹導体へ
変換する工程である。

この場合に使用する塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水
酸化マグネシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属水酸化物、あるいは工程１で述べたと同様のこれ
ら金属の炭酸化物もしくは炭酸水素化物等が挙げられる
。これら塩基の使用量は一般に上記縮合物１モル当り１
〜５モル、好ましく￥″ｉ１〜２ｉ１〜２モルすること
ができる。

この反応においては、式ＩＶで表わされる縮合物ならび
に上記塩基とが通常溶媒の存在下に加熱されるが、その
際に使用されうる溶媒としては例えば、水単独あるいは
水および工程１で例示したと同様の各種有機溶媒との混
合溶媒が挙げられる。

加熱温度は一般に約５０〜約１５０℃、好ましくは約１
００〜約１２０℃の範囲内であるが、上記水と有機溶媒
との混合溶媒を使用する場合にはその有機溶媒の沸点付
近の温度で行なうのが好都合であり、該温度で反応は通
常的０．５〜約１５時間、好まし２くは約１〜約１０時
間程度で完結し、それによって、目的とする前記式Ｖで
表わされる誘導体をほぼ定量的収率で得ることができる
。

なお、この場合式Ｖで表わされる誘導体は、用いる塩基
に対応する塩の形で得られる。例えば塩基として水酸化
ナトリウムを使用した場合、該誘導体はナトリウム塩（
Ｍ＝Ｎα）として得られる。

かかるα−ケト酸の塩は常法に従い酸で中和することに
より遊離のα−ケト酸（Ｍ＝Ｈ）に変えることができる
。

工程３： 本工程は、上記の工程２で得られる式Ｖで表わされる誘
導体を次いで脱炭酸して目的とする式Ｉで表わされるフ
ェニリル酢酸誘導体を得る工程である。上記脱炭酸はそ
れ自体既知の方法を用いて行なうことができ、例えば、
適宜ｉ・の水の存在下に、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物および過酸化水素の如
き過酸化物で処理することにより行なわれる。

この場合、上記脱炭酸反応は、式Ｖで表わされる誘導体
１モルに対しアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナト
リウムを通常１〜１０モル、好ましくは１〜３モルの範
囲内で、そして過酸化物、例えば過酸化水素を一般に１
〜２０モル、好ましくは２〜１０モルの範囲内用い、温
度範囲約Ｏ〜約１００℃、好ましくは約１０〜約４０℃
にて約１〜約２０時間、好ましくは約５〜約１０時間処
理することにより行なうことができ、これによって目的
とする前記式Ｉで表わされるフェニリル酢酸誘導体が収
率よく得られる。

なお、本工程において、式Ｉで表わされるフェニリル酢
酸誘導体バ、例えばナトリウム塩等のような塩の形で得
られる場合には適宜中和して遊離の酸に転換した後、抽
出、クロマトグラフィー、再結晶の自体公知の単離、精
製手段を適用し、目的どする式Ｉで表わされるフェニリ
ル酢酸誘導体を純品の形で得ることができる。

以上のように本発明に従う工程１．２および３はいずれ
も簡易な加熱等の手段により、収率良く各工程での目的
物を得ることができるものであるが、本発明は！特にこ
れらの工程１，２および５を同一反応器内（ｏｎｅ−ｐ
ｏｔ法）で行ないうる点に大きな特徴がある。このワン
４ツト（ｏｎｅ−ｐｏｔ　）法について以下にさらに詳
細に説明する。

ワンポット（Ｏ）ｚ、ｅ−ｐｏｔ）法：本ワンポット法
は前述した工程Ｉ°、２および３の各条件のなかから、
同一反応容器内で性力い得るものを適宜選択すれば良く
、具体的には次のようにして行なうのが好ましい。

すなわち、第１段階として例えば式ＩＩで表わされるベ
ンズアルデヒド化合物１モルに対し、式ＩＩＩで表わさ
れるＮ−アシルグリシン１〜６モル、好ましくは１〜１
．５モルを使用し、塩基として酢酸ナトリウムを選択し
、例えば無溶媒あるいはトルエン等の溶媒中で反応を行
なう。この場合の上記塩基および溶媒は、第２段階にお
ける式Ｖで表わされる誘導体への変換反応にそのまま使
用し得るという理由により選択したものである。

次いで第２段階として、第１段階の処理が終了した時点
でそのまま約８０〜約１５０°Ｃの範囲内の温度に加熱
するか、あるいけ必要に応じて溶媒を留去したのち、所
望により更に塩基、例えば水酸化ナトリウム溶液を追加
して加え、この混合物を約８０〜約５０°Ｃの範囲内の
温度に加熱してもよい。

この第２段階の処理においては、第１段階の処理で反応
系内に生成した式ＩＶで表わされる縮合物が定量的に式
Ｖで表わされる誘導体に変換される。

次いで第３段階として、第２段階で得られたままの反応
混合物中に所望景の甥酸化物、例えば過酸化水素を第１
段階で使用したベンズアルデヒド化合物１モルあたυに
換算にて２〜１０モル程度加えたのち、約１０〜約４０
℃の範囲内の温度にて約５〜約１０時間程度攪拌する。

この第３段階においては、第２段階で生成した式Ｖで表
わされる誘導体が本発明の目的物である式Ｉで表わされ
るフェニリル酢酸誘導体に変換される。

かかる各段階での処理を同一容器内で完了させた後、内
容物を適宜中和処理し、抽出、留去、再結晶等の操作を
適宜組合せ適用することにより、純品のフェニリル酢酸
誘導体を得ることができる。

この場合のワンポット法での収率は、例えば、第１段階
で使用したベンズアルデヒド化合物をベースとして４０
〜５０％という良好な収率である。

したがって、本発明の方法は、前記した従来法Ａ−Ｃに
比較し、操作の簡便さに加え収率が著るしく向上したも
のであ怜、工業的製造法として特に優れたものである。

また、本発明の方法は工程数が比較的少なく、且つ各工
程における処理も加熱、攪拌という簡単なもので、反応
条件も過酷なものではなく、工業的製造法としての生産
性が極めて良好なものである。

（実施例） 以下に本発明を、各工程を段階的に行なう場合およびワ
ン−ポット（ｏｎｅ　　ｐｏｔ　）で行なう場合の実施
例にて更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれに何
等限定されるものではないことを了解すべきである。

実施例１ ４−ビフェニリルアルデヒド５１０．０１６モル）を無
水酢酸４．８ｍ１Ｋ溶解し、これに２−チオキソ−４−
チアゾリソノン２．４５’（０，０１８モル）及び酢酸
ナトリウム１．４Ｆ、）ルエン２０−を加え２時間還流
したのち、酢酸エチルで抽出し水で洗浄したのち、乾燥
する。溶媒を減圧下留去し黄色結晶の５−（４’−ビフ
ェニリルメチリデン）−２−チオキソ−４−チアゾリソ
ノン４．６９（収率：９４％）を得る。この結晶を酢酸
エチルを用いて再結晶する。

融点：２４３〜２４４℃ 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）：１７００〜１７１０ｃ
ｍ−” 紫外吸収スペクトル：λｍａｘ　３８３　ｎｍ実施例２ ４−ビフェニリルアルデヒド５Ｆ（０，０２７モル）を
無水酢酸８ｍｌに溶解し、これにＮ−メチル−２−チオ
キソ−４−チアゾリジノン４．４８Ｆ（０，０３０モル
）、酢酸ナトリウム２．３２を加え、８０〜９０°で２
．５時間加熱する。今後、ベンゼン及び水を加えて溶解
し、ベンゼン層を水洗後、無水硫酸ナトリウムを用いて
乾燥する。溶媒を減圧下留去し析出する結晶Ｎ−メチル
−５−（４’−ビフェニリルメチリデン）−２−チオキ
ソ−４−チアゾリソノン＆１ｆ（収率：定量的）を得る
。

この結晶を酢酸エチルを用いて再結晶する。

融点：１８１〜１８２℃ 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）：１７１０ロー１紫外吸
収スペクトル：λｍａ１３８７ｎｍ実施例６ ４−ビフェニリルアルデヒド３５’（０，０１６モル）
を無水酢酸４．８コに溶解し、これにＮ−カルボキシメ
チル−２−チオキソ−４−チアゾリソノン３．２ｆ’（
［０１７モル）及び酢酸ナトリウム１．３８Ｆを加え９
０℃で、１時間還流する。これに水を加えたのち、酢酸
エチルを用いて抽出し水で洗浄する。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去しＮ−カルボキシメチ
ル−５−（４′−ビフェニリル−メチリデン）−２−チ
オキソ−４−チアゾリソノン５．５６ｆ（収率９５り６
）を得る。この結晶を酢酸エチルを用いて再結晶する。

融点：２５６〜２５７°Ｃ（分Ｎ） 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ）：１７４０α−１１７１
５１−’ 紫外吸収スペクトル：λｍａ工３８８ｎ７７１集施例４ ４−ビフェニリルアルデヒド３Ｆ（０，０１６モル）を
無水酢酸０．５　ｍｌ及び氷酢酸２．９　ｍｌを加えて
溶解し、これに２．４−イミダゾリソンソオン２．４８
Ｆ（０，０２５モル）、トルエン２−を加え９時間還流
する。今後水を加え攪拌したのち、ベンゼンを用いて抽
出し、水で洗浄したのち無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥
する。溶媒を留去し析出する５−（４’−ビフェニリル
メチリデン）−２，４−イミダゾリソンソオンａ、ｏｒ
（収率９２％）の結晶を得る。この結晶を酢酸エチルを
用いて再結晶する。

融点：２４０°Ｃ（分解） 赤外吸収スヘクト／ｌ／　（ＫＢｒ　）　：　１６５　
Ｂｃｍ−’　。

１７１８ｃＩｎ−’。

１７７８ｃｒｎ−’ 紫外吸収スペクトル：λ□ａ工３３３７！ｍ。

実施例５ 実施例４で得た５−（４’−ビフェニリルメチリテン）
−２，４−イミダゾリヅンヅオン３２（０，０１１モル
）に２０９Ｃ水酸化ナトリウム溶液１０ｍｅを加え４時
間還流する。冷接ベンゼンを用いて洗浄し、塩酸で酸性
としたのち酢酸エチルで抽出する。抽出液は水及び飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を留去し４−ビフェニリルピルビン酸の結晶１．３Ｆ（
収率４８％）を得る。この結晶を酢酸エチルを用いて再
結晶する。

融点：約２０５℃（昇華） 赤外吸収スヘクトｙｖ　（ＫＢｒ　）　：　１６６０ｃ
ｍ−’実施例６ 実施例５で得た４−ビフェニリルぎルピン酸２ｆ（ａ３
ミリモル）を０．５％水酸化ナトリウム溶液１５ｍ１及
び３０％過酸化水素水４　ｍｌを加え２５〜６０℃で４
時間攪拌する。この液をトルエンを用いて洗浄したのち
塩酸で酸性とし酢酸エチルで抽出する。抽出液を水及び
飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸す）　ＩＪウムで乾
燥する。溶媒を留去し４−ビフェニリル酢酸の結晶１．
ｓｒ（収率８５％）を得る。この結晶はメチルエチルケ
トンを用いて再結晶する。

融点＝１６３〜１６４°Ｃ 赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ　）　：　１６８８ｃｍ−
’実施例７ 実施例１で得た５−（４’−ビフェニリルメチリデン）
−２−チオキソ−４−チアゾリソノン３２（α０１０モ
ル）に２０％水酸化ナトリウム溶液２５ｍｅを加え２時
間還流する。これに５〜１０℃で３０％過酸化水素水１
０ｍ１を加え、室温で５時間攪拌する。この液をトルエ
ンで洗浄し、塩酸で酸性としたのち、酢酸エチルで抽出
し、水及び飽和食塩水で洗浄する。この抽出液を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し４−ピフエ
ニＩＪル酢酸の結晶１．１　ｆ　（Ｌｉ７兆：　５１％
）を得る。得られた結晶は実施例６に示した物性値に一
致した。

実施例８ 実施例２で得たＮ−メチル−５−（４’−ビフェニリル
メチリデン）−２−チオキソ−４−チアゾリソノン２５
’（０，００６８モル）に２０％水酸化ナトＩＪウム溶
液１５ｒｎＩ！を加え２時間還流する。

今後、３０に過酸化水素水５ｒｎｔを加え５時間室温で
攪拌したのち、トルエンで洗浄し、塩酸酸性とする。こ
の液をベンゼンを用いて抽出し水及び飽和食塩水で洗浄
する。ベンゼン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧下留去し４−ピフエ二ＩＪル酢酸の結晶１．１ｒ
（収率７６％）を得る。

得られた結晶は実施例乙に示しだ物性値に一致した。

実施例９ ４−ビフェニリルアルデヒド３Ｆ（０，０１６モル）を
無水酢酸４．８　ｍｅＫ溶解し、これに２−チオキソ−
４−チアゾリソノン２．４Ｆ（０，０１８モル）、酢酸
ナトリウム１．４２及びトルエン２０ｆｎ／を加え２時
間還流する。この液に４０９６水酸化ナトリウム溶液２
０づを加え２時間還流する。今後３Ｄ％過酸化水素水１
２ｍ／を加え、室温で５時間攪拌する。これをトルエン
で洗浄したのち、塩酸酸性とする。この液を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄する。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し
４−ビフェニリル酢酸１．４５’（収率４０％）を得る
。得られた結晶は実施例乙に示した物性値に一致した。

実施例１０ ４−ビフェニリルアルデヒド３′？（ｏ、ｏ１６モル）
を無水酢酸０．５　ｒｒｌ、及び氷酢酸２．９　ｍｌを
加えて俗解し、これに酢酸ナトリウムｔ４ｉｚ、１４−
イミダゾリジ／ソオン２．４８ｒ（０，０２５モル）及
びトルエン２　ｍｆを加え１９時間還流する。これに２
０９ｇ水酸化ナトリウム溶液１６−を加え２時間速流す
る。この液に３０％過酸化水素水１２ｍ１を加え室温で
５時間攪拌する。これをトルエンで洗浄したのち塩酸で
酸性としたのち、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水及び
飽和食塩水で洗浄する。

この液を無水硫酸ナトリウムで和漢後、溶媒を；減圧下
留去し得られた結晶をメチルエチルケＩ・ンで再結晶し
４−ビフェニリル酢酸１．５９（収率４３％）を得る。

得られた結晶は実施例６に示した物性値に一致した。

実施例１１ ヘラ）ルムアルデヒド５ｙ（０，０３モル）に無水酢Ｒ
８ｍ１，２−チオキン−４−チアゾリノン４．４５’（
０，０３３モル）、酢酸ナトリウム１，４２トルエン３
５　ｍｌ’を加え２．５時間’ＩＮ　１ｊｆｆする。４
後、４０％水酸化ナトリウム溶ｆｉ、　４０　ｍｆを加
え６時口１１還流する。４後３０ｊに過酸化水素水２Ｇ
ｒｒ＝１を加え、室温で７時間攪拌する。との液を、冷
ｌ・ルエンで洗浄後、塩酸で酸性とし、ベンゼンで抽出
する。

ベンゼン層を無水硫酸ナトリウムで乾青し、溶媒を留去
し、ホモベラトルムｉ３．２４９（収率５５％）を得る
。

融点：９７〜９８℃ 特許出願人　　日本レダリー株式会社 手続補正書（自発） 昭和６０年１０月２１日 特許庁長官　宇　賀　道　部　殿 １、事件の表示 昭和６０年特許願第１８４０８５号 ２、発明の名称 フェニル酢酸誘導体の製造法 ３、？１１１正をする者 ｊｌｓ件との関係　　　特許出ＭＫ 名　称　［１本レグリー株式会社 ４、　代　１！Ｉ！　　　人　　　〒１０７１ｔ　　所
　束Ｉ；℃都港区赤坂１丁目９番１５号５、補正命令の
日付　　　　な　　し ６、補正の対象 （１）明Ｍ書第１０頁第９行に「艮くなく、Ｊとあるを
「良くなく、」と訂正する。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は同一または相異な
   り、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
   、低級アルコキシ基、水酸基、または未置換もしくは置
   換フェニル基を表わす） で表わされるベンズアルデヒド化合物を塩基の存在下に
   次式III： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル基またはカル
   ボキシ−低級アルキル基を表わし、Ｘは酸素原子または
   硫黄原子を表わし、そしてＹは硫黄原子または−ＮＨ−
   を表わす）で表わされるラクタム化合物と反応させて次
   式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、ＸおよびＹ
   は前記定義と同一の意味を有する） で表わされる縮合物となし、得られる式IVの縮合物をア
   ルカリ塩基の存在下加熱し且つ所望により中和して次式
   Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＹは前記定義と
   同一の意味を有し、Ｍはアルカリ金属または水素原子を
   表わす） で表わされる誘導体を得、次いでこれを水性溶媒中で処
   理することを特徴とする次式 I： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＭは前記定義と
   同一の意味を有する） で表わされるフェニル酢酸誘導体の製造法。 ２、同一反応器内にて式IVで表わされる縮合物および式
   Ｖで表わされる誘導体を単離することなく行なう特許請
   求の範囲第１項記載の製造法。 ３、同一反応器内にて式IIで表わされるベンズアルデヒ
   ド化合物および式IIIで表わされるラクタム化合物を、
   塩基の存在下加熱処理し、次いで水性溶媒中で処理する
   特許請求の範囲第２項記載の製造法。 ４、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３のうちの１つが未置換
   フェニル基を表わし且つ残りが水素原子である特許請求
   の範囲第１項記載の製造法。 ５、式 I で表わされるフェニル酢酸誘導体が４−ビフ
   ェニリル酢酸である特許請求の範囲第４項記載の製造法
   。 ６、次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は同一または相異
   なり、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
   基、低級アルコキシ基、水酸基、または未置換もしくは
   置換フェニル基を表わし、Ｒ＾４は水素原子、低級アル
   キル基またはカルボキシ−低級アルキル基を表わし、Ｘ
   は酸素原子または硫黄原子を表わし、そしてＹは硫黄原
   子または−ＮＨ−を表わす）で表わされる化合物。