JPS6172765A - 2‐アミノ‐3,5‐ジ‐(ハロゲンメチル)‐ピラジン及びその製法 - Google Patents

2‐アミノ‐3,5‐ジ‐(ハロゲンメチル)‐ピラジン及びその製法

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JPS6172765A
JPS6172765A JP60199636A JP19963685A JPS6172765A JP S6172765 A JPS6172765 A JP S6172765A JP 60199636 A JP60199636 A JP 60199636A JP 19963685 A JP19963685 A JP 19963685A JP S6172765 A JPS6172765 A JP S6172765A
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phthalimido
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ハルトムート・ライニンガー
ウオルフガング・リツトマン
ヨアヒム・パウスト
ワルター・トラウトマン
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D241/00Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
    • C07D241/02Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D241/10Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D241/14Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D241/20Nitrogen atoms
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 (式中Xは塩素原子又は臭素原子、m及びnはそれぞれ
0.1.2又は6の数であり R1及びR2は水素原子
又は保護基で、その場合R1とR2は相互に結合してい
てもよい)で表わされる2−アミノ−6,5−ジー(ハ
ロゲンメチル)−ビラ1    ジン及びその製法に関
する。
式Iにおいてmが1そしてnが2であることが好ましく
、特にmが1でnが2であり、そし−CR1トR2が一
緒になってフタロイル基を意味するものが好ましい。
本発明の一般的課題は、生理的に重要な葉酸H (CH2)3 OOH 及びその誘導体を入手しやす(することにある。
この課題は特に、入手容易で比較的簡単に反応性のプテ
リジンそしてさらに葉酸又はその誘導体に誘導できる2
−アミノ−ピラジン構造を有する中間体に関する。
ティラーらの報文(J、 Org、Chem、 46巻
1978年766〜737頁)によれば、葉酸及びその
種々の誘導体のための重要な化合物がそれから製造され
る次式 の6−ホルミル−プテリンを2−アミノ−6−ジアツー
5−ジアルコキシメチル−ピラジンから、簡単な手段に
よりかつ良好な収率で製造できることが知られている。
しかしこの報文によれば2−アミノ−6−ジアツー5−
ジアルコキシメチル−ピラジンを製造するための出発物
質とされる2−アミノ−6−ジアツー5−クロルメチル
−ピラジンが入手困難である。例えばそれはアミンマロ
ンニトリル及びβ−クロルービルバルドオキシムから低
収率で得られ、このもの自体はケテンから製造できるが
、生理的にきわめて不決な物質であって、室温で分解し
て青酸を生ずるので、工業的反応には不適当である( 
J、Org、 Chem、 58巻1976年806頁
参照)。
ティラーらが著しい実験努力を重ねたにもかかわらず(
同書45巻1980年2485〜2489頁及び46巻
1981年1394〜1402頁参照)、純粋な異性体
不含の2−アミノ−6−ジアツー5−ジアルコキシメチ
ル−ピラジンを製造するための工業的に利用可能な方法
を開発することは成功しなかったので、2−アミノ−3
−シアノ−5−ジアルコキシメチル−ピラジンは、これ
まで低収率でかつ多数の工程により及び/又は高価で合
成しにくい出発物質から製造される入手困難な物質とし
て知られて(・た。
したがって本発明の課題は、入手容易であると共に、比
較的簡単な手段で2−アミノ−3−シアノ−5−ジアル
コキシメチル−ピラジンに変えることが可能で、これに
よって葉酸及びそれから導かれる化合物の6−ホルミル
−プテリンを経由する全合成法が有利になる、2−アミ
ノ−ピラジン構造を有する新規な中間体を見出すことで
あった。
本発明者らは、一般式 (式中R1及びR2は後記の意味を有する)で表わされ
る2−アミノ−6,5−ジメチル−ピラジンを塩素化剤
又は臭素化剤で処理し、R1及び/又はR2が保護基を
意味する場合は、これを塩素化′又は臭素化の終了後に
所望により脱離するとき、一般式 (式中Xは塩素原子又は臭素原子、m及びnはそれぞれ
0.1.2又は6の数であり R1及び(R2は水素原
子又は保護基で、その場合R1とR2は相互に結合して
いてもよい)で表わされる2−アミノ−3,5−ジー(
)・ロゲンメチル)−ヒラジンが予想外に良好な収率で
得られることを見出した。
出発化合物…の基本体(R’=R2=H)は既知で、西
ドイツ特許出願公開5242195号の方法に従い、次
式 のα−イミノ−ジプロピオン酸ニトリルをハロゲン化水
素を用いて環化することにより得られる。この化合物は
、例えば西ドイツ特許出願公開1493752号明細書
に記載のアンモニアとアセトアルデヒド及び青酸との反
応により得られる。
本発明の2−アミノ−6,5−ジー(ハロゲンメチル)
−ピラジン(1)は、例えば同日特許出願P64669
60.4の方法により、比較的簡単でかつ有利な手段で
葉酸又は葉酸誘導体のための価値の高い前生成物に変え
ることができる。
本発明における2−アミノ−6,5−ジメチル−ピラジ
ン(n)の式Iの化合物(特にmが1でnが2であるも
の)へのノ・ロゲン化が、支障なしに良好な収率をもた
らすことは予想外であった。
それは技術水準による窒素含有複素環化合物のハロゲン
化において予想される問題を克服するものであった。例
えばホウペン−フィル著メトーテン拳チル・オルガニツ
シエン・ヘミ−5/6巻1962年728頁には、核塩
素化と題して「ピリジン類及びピリジン誘導体の塩素化
においては、温度上昇に伴ってタール様成分のワックス
状物を含む高度塩素化物が生成して、収率が低し・結果
を与える。」と記載されている。このことは核塩素化の
ような副反応のほかに制御できない後続反応も考慮に入
れねばならないことを意味している。さらに761頁に
は「ピラジンは室温で塩素化できないか、高温ではそれ
が可能である。」と記載され、本発明の方法についても
、ハロゲン化に際して種々の置換基に対しどのような影
響があるかわからないという疑問を与えた。
さらに同書748頁には芳香族化合物の側鎖ハロゲン化
に関して、「β−ピコリン、3−メチルキノリン、レピ
ジノ、1−13−及び4−メチル−イソキノリンの側鎖
における直接塩素化は不可能である」と記載され、ピコ
リンの塩素化に関しては「塩素化はすぐに三基素化段階
まで進行する」そして「α−ピコリン及びr−ピコリン
は側鎖で塩素化できるが、臭素化は不可能である」とも
記載されている。これらの記載から平均水準の専門家は
、ハロゲン化に関しては塩素化も臭素化も一般に成功し
ないか、あるいは過塩素化生成物が得られるにすぎない
ことを予想したはずである。さらに出発物質として式■
の化合物を使用するときは、両メチル基が均等でないこ
とに関する面倒を考えねばならない。なぜならば同書の
748頁によれば次のことが知られているからである。
[3,4,5−トリメチル−ピラゾールから氷酢酸中で
の塩素化に際して、4−メチル−3,5−ビスートリク
ロルメチルービラゾールが74%の収率で生成する。こ
れに対し1.3.5− )リメチルーピラゾールの場合
は、1個のメチル基のみが置換される。」総合して言え
ることは、2−アミノ−6,5−ジメチル−ピラジン■
を塩素化又は臭素化によって良好な収率で式lの2−ア
ミノ−3,5−ジー(ハロゲンメチル)−ピラジンに変
えることができ、したがって従来は製造困難で工業的規
模では合成できなかったプテリジン合成用の中間体が、
純粋で異性体不含の形で工業的に入手できることは、技
術水準から全(予測されなかったということである。
塩素化又は臭素化(以下〕・ロゲン化と呼ぶ)のために
は、普通は2−アミノ−6,5−ジメチル−ピラジンの
アミン基を常法により保護することが推奨される。保護
基としては、一般に普1    通のペプ゛チド化学上
既知の基、例えばカルボベンジルオキシ基、カルボ三級
ブトキシ基、トリフェニルメチル基、p−4ルオールス
ルホニル基、ホルミル基、トリフルオルアセチル基、カ
ルM −p−ニトロベンジルオキシ基及びフタロイル基
が用いられる。
2−アミノ基の保護のためにはO−フタル酸が好適で、
これは酸化に対し化学的にきわめて安定なフタルイミド
基を形成する。
この保護基を導入するためには、遊離の2−アミン化合
物(It)を好ましくは80〜120℃で不活性溶剤の
存在下に無水フタル酸と反応させ、その際脱離した水を
溶剤を用いる共沸蒸留により反応混合物から継続して除
去する。このための溶剤としては、例えばペンゾール、
ドルオール、キジロール類及びクロルベンゾールが用い
られる。
同様にしてアミン基を他の好ましくは強いカルボン酸又
はスルホン酸を用いて1回又は2回アシル化することが
でき、例えばクロル炭酸、蟻酸、トリフルオル酢酸又は
p−)ルオールスルホン酸の三級メチルエステル、ベン
ジルエステルスはp−ニトロベンジルエステルが用いら
れる。
他の保護基、例えばトリフェニルメチルクロリドと遊離
アミン化合物■との反応によって得られるトリフェニル
メチル基も用いられる。遊離アミン化合物■も利用でき
るが、この場合は副反応によってIの収率損失を考慮せ
ねばならない。
ハロゲン化は芳香族化合物の側鎖ノ・ロゲン化における
既知の法則に従い、好ましくは不活性溶剤例えば四塩化
炭素又はクロルベンゾールの存在下に20〜162℃で
、好ましくは溶剤の還流下に混合物を沸騰温度に加熱し
て行われる。
ハロゲン化剤としては、特に塩素及び臭素が適している
が、そのほか例えばN−クロル−又はN−ブロム−こは
(酸イミド、−酸化二塩素、スルフリルクロリド及びチ
オニルクロリドも適している。
側鎖ハロゲン化は既知のように主としてラジカル性メカ
ニズムにより進行するので、反応を促進しかつ完結する
ために、触媒量のラジカル化 生成体例えば過酸、ベンゾイル又はアゾシイノブチロニ
トリルを併用することが推奨される。ラジカル生成体の
代わりに又はこれに追加して、紫外線を反応混合物に作
用させることもできる。
ハロゲン化生成物としては、極端な場合には16種の塩
素化合物又は臭素化合物([)かもの混合物が得られる
。R1及びR2がHであるか又はR1とR2が一緒にな
ってフタロイル基を形成する式Iの化合物の例としては
、次のものがあげラレル。5−クロルメチル−6−メチ
ル−2−7タルイミドーピラジン、3−クロルメチル−
5−メチル−2−フタルイミド−ピラジン、3,5−ビ
ス−(クロルメチル)−2−フタルイミド−ピラジン、
5−ジクロルメチル−6−メチル−2−フタルイミド−
ピラジン、6−シクロルメチルー5−メチル−2−7タ
ルイミドービラジン、5−クロルメチル−6−シクロル
メチルー2−7タルイミドーピラジン、6−クロルメチ
ル−5−ジクロルメチル−2−フタルイミド−ピラジン
、6,5−ビス=(ジクロルメチル)−2−7タルイミ
ドービラジン、6−メチルー2−7タルイミドー5−ト
リクロルメチル−ピラジン、6−クロルメチル−2−フ
タルイミド−5−トリクロルメチル−ピラジン、3−ジ
クロルメチル−2−7タルイミドー5−トリクロルメチ
ル−ピラジン、3−7”ロムメチル−5−メチル−2−
フタルイミド−ピラジン、5−ブロムメチル−6−メチ
ル−2−フタルイミド−ピラジン、3.5−ビス−(ブ
ロムメチル)−2=フタルイミド−ピラジン、5−ジブ
ロムメチル−3−メチル−2−フタルイミド−ピラジン
、6−プロムメチルー5−シフロムメチル−2−7タル
イミドーピラジン及び3,5−ビス−(ジブロムメチル
)−2−フタルイミド−ピラジン、ならびに対応する保
護されない2−アミン化合物。
ハロゲン化に際しては希望によって単一の反1:  応
生成物を合成することもできる。これは例えば本発明の
方法を実施するに際して、希望生成物に最適の化学量論
を使用すること、ある(・は過剰のハロゲン化剤を使用
して反応を最適の時点で中断することにより行われる。
式Iの化合物のうちでは、n = m + 1であるも
のが特に重要である。すなわち主生成物は反応条件であ
る)・ロゲン化剤の量、又は反応時間によって、6−メ
チル−5−モノクロルメチル化合物、3−モノクロルメ
チル−5−ジクロルメチル化合物又は6−シクロルメチ
ルー5−トリクロルメチル化合物f[)あるいは対応す
るブロム化合物である。
Iの後続反応に関しては、6−モノクロルメチル−5−
ジクロル/メチル化合物又は対応するブロム化合物+a
(m=2、n=1)が重要であるので、前記の法則によ
って、ノ・ロゲン化をこの段階で、両メチル基の平均ハ
ロゲン化度がそれ以上進まないように、例えば冷却によ
り中止する。
反応をIaの割合がなるべ(大きい段階で中止すること
だけが重要である。この割合は例えば核磁気共鳴分析又
は高速液体クロマトグラフィによる予備試験で簡単に定
めることができる。
最適の反応時間はこの手段によって定められ、操作を工
業的規模に移すときには、このような分析による調整は
必要でない。このようにして特に興味ある式Iの化合物
について、■に対する69%の収率が得られる。
Ia又はその類似の好ましい生成物(n==m+1で特
性づゆられる)の高含量によって、反応混合物の仕上げ
処理は困難でない。この化合物は実際上すべての溶剤か
らよく結晶するからである。その他の化合物も希望なら
ば、少し簡単ではないが常法により、母液から結晶法に
より取得できる。
結晶化のだめの溶剤としては、特にC,−04−アルカ
ノール例えはイソプロパツール、ケトン例えばアセトン
、ハロゲン化炭化水素例えば塩化メチレン、芳香族炭化
水素例えばドルオールならびにアセトニトリルが適する
。1回の結晶化だけで主生成物(通常はIa)は、多(
の他の反応の場合に普通に得られるような8゛0%以上
の純度で得られる。より高い純度は、普通のようにさら
に再結晶を行うことによって得られる。
1aの後続生成物は通常は、Iaと他の化合物Iとの場
合よりも容易K、反応混合物の他の成分と分離できるの
で、60〜80%の純度で足りることが多い。
特殊目的又は分析の目的には、全部の)・ロゲン化生成
物■をカラムクロマトグラフィにより高純度で取得する
こともできる。このためには固相として0.02〜0,
2gの粒径を有するシリカゲルが、そして液状担体相と
して1,2−ジクロルエタン5容量部及び酢酸エチル1
容量部の混合物を使用することが好ましい。
化合物Iの保護基は、結晶化又はクロマトグラフィによ
る精製の前又は後に、常法例えばヒドラジンとの反応に
よって脱離される。しかし化合物Iは普通は次の合成に
用いられ、その場合2−アミノ基の保護基は同様に望ま
しいので、普通はこの保護基は脱離されない。
化合物+aを介してハロゲン基の普通の置換により、基
(−CH2−OH)、(−CHO)及び(−COOH)
を含有する対応する化合物、ならびにそれから誘導され
るエーテル、アセタール、ニトリル及びエステルが得ら
れる。こうして(aから葉酸のプテリジン構造への下記
の経路が可能になる。
実施例1 a)3.5−ジメチル−2−フタルイミド−ピラジンの
製造 2−アミノ−6,5−ジメチル−ピラジン307I及び
クロルベンゾール1100,9からの溶液に、25°C
で無水フタル酸481gを添加したのち、反応水を継続
除去しながら6時間沸騰加熱する。反応の終了後、得ら
れた褐色溶液に水11を添加したのち、水の容量を一定
に保持しながら、クロルベンゾールを水と一緒に留去す
る。次いで残留する水溶液に、さらに水0.5ノを添加
し、沸騰加熱したのち25〜30℃に冷却すると、生成
物が沈殿する。得られた混合物をこの温度でさらに2時
間攪拌したのち、生成物を分離して沸騰メタノール1.
51中に採り、0℃に冷却したのち濾過する。収率は実
際止定、11   量的であり、融点は142〜146
℃である。
b) 3.5−ジメチル−2−7タルイミドービラジン
の塩素化 a)により得られたピラジン63.2g(0,25モル
)のクロルベンゾール250 ml中の溶液に、95℃
でクロルベンゾール中のアゾインブチロニトリル0.4
2 、pの溶液Z5mlを添加し、反応混合物に100
°Cで4時間かけて塩素107.!i!(6バ/ル)を
導入し、その際2.5〜6.5時間後にさらにアゾイソ
ブチロニトリル0.42 、!9を添加する。次いでク
ロルベンゾールを80°Cで留去し、残留物をイングロ
パノール250mA!から再結晶する。塩素化生成物の
収量は69gである。
核磁気共鳴スペクトル分析及びHPLC分析により測定
すると、混合物は次の組成を有する。
42%:3−クロルメチル−5−ジクロルメチル−2−
フタルイミド−ピラジン(m =1、n=2)、 29%:6,5−ビス−(ジクロルメチル)−2−7タ
ルイミドービラジン(m=2、 n=2)、 21%’、5−−)クロルメチル−5−クロルメチル−
2−7タルイミ゛ドーピラジンならびに 8%:6−ジクロルメチル−5−トリクロルメチル−2
−7タルイミドービラジン、6−メチル−5−ジクロル
メチル−2−7タルイミドービラジン、6,5−ビス−
(クロルメチル)−2−フタルイミド−ピラジン及び5
−メチル−5−クロルメチル−2−フタルイミド−ピラ
ジンの合計。
結晶性粗生成物をアセトン160rll中に熱時移し、
冷却後に6−クロルメチル−5−ジクロルメチル−2−
フタルイミド−ピラジンを62%含有する生成物混合物
が55.0 g得られる。
ジクロルメタンから再結晶すると、収量14.6Iにお
いて、6−クロルメチル−5−ジクロルメチル−2−7
タルイミドービラジンの含量は80%に上昇する。
アセトン処理の母液にドルオールを添加し、アセトンを
除去したのち室温に冷却する。6,5−ビス−(ジクロ
ルメチル)−2−フタルイミド−ピラジンを60%含有
する生成物混合物が18.5g得られる。
実施例2 3.5−ジメチル−2−フタルイミド−ピラジンとN−
クロルこはく酸イミドの反応 過酸化ベンゾイル1. OOI!(含水量25%)をク
ロロホルム100m/に溶解し、有機相を分離し、硫酸
ナトリウムを用いて乾燥する。この溶液に6,5−ジメ
チル−2−7タルイミドービラジン5.06,9(0,
02モル)及びN−クロルこは(酸イミド21.4 g
 (0,16モル)を添加し、混合物を72時間還流加
熱する。次いで室温に冷却し、沈殿した結晶を吸引濾過
する。母液を蒸発濃縮し、得られた結晶スラリーをシリ
カゲル上のクロマトグラフィにより精製する。
第一留分(1,229)は、3−メチル−5−ミド−ピ
ラジン25%及び6.5−ビス−(クロルメチル)−2
−7タルイミドーピラジン4%から成る生成物混合物を
含有する。第二留分(2,00g)中の生成物の割合は
、6−メチル−5−クロルメチル−2−7タルイミドー
ピラジン61.2%、6−クロルメチル−5−メチル−
2−フタルイミド−ピラジン67%及び3,5−ビス−
(クロルメチル)−2−フタルイミド−ピラジン2%で
ある。
実施例6 6.5−ジメチル−2−フタルイミド−ピラジンと一酸
化二塩素の反応 四塩化炭素100mA!中の3,5−ジメチル−2−7
タルイミドーピラジン58.9 g(0,23モル)の
溶液に、四塩化炭素1350+++l中の一酸化二塩素
41.4 、!i’ (0,48モル)の溶液を滴加す
る。反応混合物を40°Cに加温し、室温で14時間攪
拌したのち、蒸発濃縮する。残留する]1   粘稠油
状物を1,2−ジクロルエタン/酢酸エステル(5:1
)中に移し、シリカゲル上でクロマトグラフィ処理する
第一留分(9,46,9)は、6−メチル−5−クロル
メチル−2−フタルイミド−ピラジンと3−クロルメチ
ル−5−メチル−2−フタルイミド−ピラジンの6=1
−混合物を含有し、第二留分(ta9g)は、6−メチ
ル−5−クロルメチル−2−フタルイミド−ピラジンと
6−クロルメチル−5−メチル−2−フタルイミド−ピ
ラジンの1.6 : 1−混合物を含有する。使用した
3、5−ジメチル−2−フタルイミド−ピラジンの27
.14.9 (0,11モル)が回収される。
実施例4 6.5−ジメチル−2−フタルイミド−ピラジンの臭素
化 クロルベンゾール2000mJ中の6.5−ジメチル−
2−7タルイミドーピラジン50.6.9 (0,2モ
ル)の溶液に、炭酸カリウム83.9及びアゾイソブチ
ロニトリル1.15 gを添加する。
この混合物に紫外線を照射しかつ還流加熱しなから、ク
ロルベンゾール200 ml中の臭素64、y(o、a
パル)の溶液を8.5時間かけて滴加する。次いでさら
に12時間還流加熱したのち濾過し、減圧(1mバール
)下に蒸発濃縮する。
生成物をアセトニトリルから再結晶すると、結晶性生成
物が57I得られ、これは’H−NMRスペクトル(2
70MHz、 CDCl、)によれば、次の組成を有す
る。
4%=6−プロムメチルー5−メチル−2−フタルイミ
ド−ピラジン、 18%:5−ブロムメチル−6−メチル−2−フタルイ
ミド−ピラジン、 7%:3,5−ビス−(ブロムメチル)−2−7タルイ
ミドーピラジン、 53%:5−ジブロムメチル−6−メチル−2−フタル
イミド−ピラジン、 16%:3−7’ロムメチル−5−ジブロムメチル−2
−フタルイミド−ピラジン及び 2%:6,5−ビス−(ジブロムメチル)−2−フタル
イミド−ピラジン。
出願人 バスフ・アクチェンゲゼルシャフト代理人 弁
理士 小 林 正 雄 11頁の続き ■Int、C1,’       識別記号  庁内整
理番号溌 明 者  ヨアヒム・パラスト  ドイツ連
邦共和国6708セ3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Xは塩素原子又は臭素原子、m及びnはそれぞれ
    0、1、2又は3の数であり、R^1及びR^2は水素
    原子又は保護基で、その場合R^1とR^2は相互に結
    合していてもよい)で表わされる2−アミノ−3,5−
    ジ−(ハロゲンメチル)−ピラジン。 2、式 I においてmが1、nが2である特許請求の範
    囲第1項に記載の化合物。 3、式 I においてmが1、nが2であり、そしてR^
    1とR^2が一緒になってフタロイル基を意味する特許
    請求の範囲第1項に記載の化合物。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中のR^1及びR^2は後記の意味を有する)で表
    わされる2−アミノ−3,5−ジメチル−ピラジンを、
    塩素化剤又は臭素化剤で処理し、R^1及びR^2が保
    護基である場合は、塩素化又は臭素化の後で所望により
    この保護基を脱離することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼3( I ) (式中Xは塩素原子又は臭素原子、m及びnはそれぞれ
    0、1、2又は3の数であり、R^1及びR^2は水素
    原子又は保護基で、その場合R^1とR^2は相互に結
    合していてもよい)で表わされる2−アミノ−3,5−
    ジ−(ハロゲンメチル)−ピラジンの製法。
JP60199636A 1984-09-15 1985-09-11 2‐アミノ‐3,5‐ジ‐(ハロゲンメチル)‐ピラジン及びその製法 Pending JPS6172765A (ja)

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DE3433959.0 1984-09-15
DE19843433959 DE3433959A1 (de) 1984-09-15 1984-09-15 2-amino-3,5-di-(halogenmethyl)-pyrazine und verfahren zu deren herstellung

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JPS6172765A true JPS6172765A (ja) 1986-04-14

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ID=6245511

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JP60199636A Pending JPS6172765A (ja) 1984-09-15 1985-09-11 2‐アミノ‐3,5‐ジ‐(ハロゲンメチル)‐ピラジン及びその製法

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EP (1) EP0175263B1 (ja)
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KR100911249B1 (ko) 2009-04-29 2009-08-07 다이아텍코리아 주식회사 신규한 클로린 e6-엽산 결합 화합물

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DE3242195A1 (de) * 1982-11-15 1984-05-17 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Neue 2-aminopyrazine und verfahren zur herstellung von 2-aminopyrazinen und pyrazinen

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DE3433959A1 (de) 1986-03-27
US4692527A (en) 1987-09-08
DE3583094D1 (de) 1991-07-11
EP0175263A3 (en) 1987-01-07
EP0175263A2 (de) 1986-03-26
EP0175263B1 (de) 1991-06-05

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