JP2002338516A - ２−ハロゲン化安息香酸類の製造方法 - Google Patents

２−ハロゲン化安息香酸類の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２−ハロゲン化安息香酸類の製造方法の提
供。 【解決手段】 式(II)の安息香酸類とハロゲン化剤とを
Ｐｄ触媒の存在下の反応させることを特徴とする式(I)
の２−ハロゲン化安息香酸類の製造方法。 【化１】 （式中、Ａは−ＯＨ、−ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ金
属）、−Ｎ（Ｒ6 ）Ｒ7（式中、Ｒ6 、Ｒ7 はＨ、 C1-C
6アルキル、（置換）フェニル等）、ＲはＨ、 C 1-C6ア
ルキル、 C1-C6アルキルカルボニル、カルボキシル、C1
-C12アルコキシカルボニル、（置換）フェニルカルボニ
ル等、ｎは０〜４、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ。又、（Ｒ）ｎ
はベンゼン環上の隣接するＣ上に置換して C3-C4アルキ
レン、 C3-C4アルケニレンからなる縮合環を形成するこ
ともできる。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬及び農薬の製造
原料として有用な２−ハロゲン化安息香酸類の製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】２−ハロゲン化安息香酸類は、医薬及び
農薬の重要な製造原料であり、従来、２−アミノ安息香
酸類からのザンドマイヤー反応による製造方法（．
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９２３，５１，１９
７１）、アルキルリチウム類を用いた安息香酸類のリチ
オ化反応を利用する製造方法（．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９８９，５４，４３７２）、ヨウ素−発煙硫酸
を用いる製造方法（．Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，III ，
７９６，（１９５５））又はタリウム(III) トリフルオ
ロ酢酸を用いる製造方法（．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．，２１７６（１９７０））等が知られている。
又、パラジウム触媒を用いてベンゼン環にハロゲンを導
入する方法も知られているが、基質が窒素原子等のヘテ
ロ原子が直接ベンゼン環に置換した官能基が必要であっ
たり（．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１
９７０，４１７）、ベンジル位にヘテロ原子の置換した
官能基が必要であり（．Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａ
ｌ．Ｃｈｅｍ．，２６２，Ｃ１１（１９８４））、その
大部分はパラジウムを化学量論量必要としている。パラ
ジウムを触媒量使用している例においても触媒量として
は、基質に対して５〜２０％程度のレベルにとどまって
いる。安息香酸類を基質としてパラジウム触媒を用いて
ベンゼン環に炭素置換基を導入する方法も知られている
が（．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９８，６３，５
２１１）、ハロゲン化の報告例は無く、触媒サイクルを
成立させるには銅塩及び酸素を組み合わせる必要があ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、の方法は爆
発の危険性を伴ったり、多量の酸性廃液を生じ、の方
法では０℃以下の低温を必要とし、の方法は多量の硫
酸廃液を生じ、位置選択性も不充分であり、の方法は
毒性の強い金属を原料に対して当量以上必要とし、及
びの方法は安息香酸類には適用できないか、又は高価
なパラジウム触媒を多量に必要とし、の方法は触媒的
ハロゲン化には適用できない。従来法ではコスト、危険
性、廃液等の問題から工業化に課題があったり、安息香
酸の特定の位置にハロゲン化を実現できないものであっ
た。本発明は触媒量の金属を使用し、温和な条件下で進
行する位置選択的なハロゲン化反応の確立を課題とする
ものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、一般式(II)で表さ
れる安息香酸類とハロゲン化剤とを触媒量のパラジウム
触媒の存在下、適当な不活性溶媒の存在下又は不存在下
に反応させることにより、位置選択的なハロゲン化を達
成し、本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は一般式(II):
【化８】 （式中、Ａは−ＯＨ、−ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ金属
原子を示す。）又は−Ｎ（Ｒ6 ）Ｒ7 （式中、Ｒ6 及び
Ｒ7 は同一又は異なっても良く、水素原子、 C 1-C6アル
キル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-
C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6ア
ルコキシ基、 C1-C6アルキルスルフィニル基又は C1-C6
アルキルスルホニル基から選択される一以上の置換基を
有するフェニル基、
【０００６】
【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって
も良く、水素原子又はC1-C6アルキル基を示し、Ｒ5 は
C1-C6アルキル基を示し、ｍは０乃至１の整数を示し、
ｋは１乃至２の整数を示す。）、
【０００７】
【化１０】 （式中、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10は同一又は異なっても良
く、水素原子又は C1-C6アルキル基を示す。）又は
【０００８】
【化１１】 （式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は同一
又は異なっても良く、水素原子又は C1-C6アルキル基を
示す。）を示す。) を示す。Ｒは同一又は異なっても良
く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C
1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボ
キシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニルカ
ルボニル基, 同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコ
キシ基、ハロC1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキ
シ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニ
ルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、
【０００９】同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコ
キシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキ
シ基から選択される一以上の置換基を環上に有する置換
ベンジルカルボニル基、−ＣＯＮ（Ｒ17）Ｒ18（式中、
Ｒ17及びＲ18は同一又は異なっても良く、水素原子、 C
1-C6アルキル基、フェニル基、同一又は異なっても良
く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキ
ル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又は
ハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基
を有する置換フェニル基、ピリジル基、同一又は異なっ
ても良く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-
C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択され
る一以上の置換基を有する置換ピリジル基、ベンジル基
又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ
基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基
から選択される一以上の置換基を環上に有する置換ベン
ジル基を示し、ｌは１乃至２の整数を示す。）、フェニ
ル基、
【００１０】同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6ア
ルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキ
シ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニ
ル基、フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハロ
C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-C6
アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する置
換フェノキシ基、ヘテロアリールオキシ基又は同一若し
くは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6
アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択され
る一以上の置換基を有する置換ヘテロアリールオキシ基
を示し、ｎは０〜４の整数を示す。（Ｒ）ｎはベンゼン
環上の隣接する炭素原子上に置換して C3-C4アルキレン
基又は C3-C4アルケニレン基からなる縮合環を形成する
こともできる。又、該アルキレン又はアルケニレン鎖上
に同一又は異なっても良く、１以上の置換基Ｒ（Ｒは前
記に同じ。）を有することもできる。）で表される安息
香酸類とハロゲン化剤とをパラジウム触媒の存在下に反
応することを特徴とする一般式(I):
【００１１】
【化１２】 （式中、Ｘは塩素原子、 臭素原子又はヨウ素原子を示
し、Ａ、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される２−ハロ
ゲン化安息香酸類の製造方法に関するものである。
【００１２】
【発明の実施形態】本発明の一般式(I) で表される２−
ハロゲン化安息香酸類の定義において、「ハロゲン原
子」とは塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子
を示し、「 C 1-C6アルキル」とは、例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシル等の直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアル
キル基を示し、「ハロ C1-C6アルキル」とは、同一又は
異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された
直鎖又は分枝状の炭素原子数１〜６個のアルキル基を示
し、「 C3-C4アルキレン」はプロピレン、トリメチレ
ン、メチルプロピレン、テトラメチレン等の直鎖又は分
枝状の炭素原子数３〜４個のアルキレン基を示し、「 C
3-C4アルケニレン」とは、直鎖又は分枝状の分子中に二
重結合を有する炭素原子数３〜４個のアルケニレン基を
示す。
【００１３】「アルカリ金属原子」とは、例えばナトリ
ウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属原子を示
す。「ヘテロアリールオキシ基」とは、窒素原子を１〜
３個環上に有する６員複素環リールオキシ基を示し、例
えば２−ピリジルオキシ基、３−ピリジルオキシ基、４
−ピリジルオキシ基、３−ピリダジニルオキシ基、４−
ピリダジニルオキシ基、２−ピリミジニルオキシ基、４
−ピリミジニルオキシ基、５−ピリミジニルオキシ基、
２−ピラジニルオキシ基、２−トリアジニルオキシ基等
を例示することができる。
【００１４】本発明の２−ハロゲン化安息香酸類の製造
方法を図式的に示すと、以下の通り示される。
【化１３】 （式中、Ａ、Ｒ、ｎ及びＸは前記に同じ。） 即ち一般式(I) で表される２−ハロゲン化安息香酸類は
パラジウム触媒の存在下、一般式(II)で表される安息香
酸類を適当な不活性溶媒の存在下又は不存在下に、種々
のハロゲン化剤と反応させることにより製造することが
できる。パラジウム触媒としては、例えば酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウム、硝酸パラジウム等の２価のパラジ
ウム及びそれらとの配位子として、例えばアセトニトリ
ル、トリフェニルフォスフィン、ベンゾニトリル等の配
位したパラジウム錯体を用いることができ、これらのパ
ラジウム触媒は単独で使用しても二種以上を混合して使
用しても良い。
【００１５】パラジウム触媒の使用量は、一般式(II)で
表される安息香酸類に対して触媒量で良く、通常１／１
０００００当量〜１／２当量程度を用いることができ、
好ましくは１／１０００００当量〜１／１０当量程度を
用いることができ、より好ましくは１／１００００当量
〜１／１００当量程度を用いることができる。本反応で
用いるハロゲン化剤としては、Ｉ2 、Ｃｌ2 、Ｂｒ2 、
ＩＣｌ等の分子状ハロゲン、Ｎ−クロロコハク酸イミ
ド、Ｎ−ヨードコハク酸イミド、１，３−ジヨードヒダ
ントイン、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダン
トイン等の周期律表１５族の元素と結合したハロゲン原
子を有する化合物を使用することができる。ハロゲン化
剤の使用量は一般式(II)で表される安息香酸類に対して
１／２当量から過剰量を使用することができるが、好ま
しくは１当量程度〜３当量程度、 より好ましくは１当量
程度〜１．５当量程度である。
【００１６】本反応で使用する不活性溶媒としては、本
反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、特に
制限はないが、酢酸等の有機酸系溶媒、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル等のエ
ーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメ
チルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチルピロリドン等
のアミド系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、酢酸エチ
ル等のエステル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン
系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化
炭化水素系溶媒、水等が使用できる。これらの溶媒は単
独で又は二種以上を混合して使用することもできる。
【００１７】本反応の反応温度は室温から溶媒の沸点の
範囲で実施することができるが、好ましくは約４０℃〜
約２００℃、より好ましくは約５０℃〜約１２０℃の間
である。本反応においては、必要に応じて乾燥剤、溶解
助剤、補助触媒、配位化合物、金属塩類等を用いること
もでき、例えば酢酸ナトリウム、酢酸銅、ベンゾニトリ
ル、トリフェニルフォスフィン、過ヨウ素酸、モレキュ
ラーシーブス等の添加剤を使用することができる。
【００１８】
【実施例】次に代表的な実施例及び比較例を例示して本
発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。 実施例１．５０ｍｌガラス製反応器に酢酸パラジウム５
０ｍｇを加え、次にｏ−トルイル酸０．３ｇとＮ−ヨー
ドコハク酸イミド０．５ｇ及びＤＭＦ１１ｍｌを加え
た。その後、１００℃で６時間加熱攪拌した。反応終了
後、反応液を室温まで冷却し、次いで水中に注ぎ込み、
目的物を酢酸エチルで抽出した。抽出液を分液後、有機
層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で留
去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物の
一部を重ＤＭＳＯに溶解し、４００ＭＨｚ−ＮＭＲで測
定した結果、原料は全て消費されており、その反応率は
１００％であった。又、目的の２−ヨード−６−メチル
安息香酸の純度は９２％であった。２位へのヨウ素化の
位置選択性は１００％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：2.27(3H.s), 7.03(1H.
t), 7.26(1H.d),7.65(1H.d), 11.8(1H.s).
【００１９】実施例２．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム５０ｍｇを加え、次にｏ−トルイル酸０．３
ｇ、ＩＣｌ ０．３６ｇ、酢酸ナトリウム０．３６ｇ、
酢酸１ｍｌ及びＤＭＦ１１ｍｌを加えた。その後６０℃
で４時間加熱攪拌した。反応終了後、室温まで冷却し、
実施例１と同様の操作をすることにより粗生成物を得
た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析した
結果、目的の２−ヨード−６−メチル安息香酸の生成率
は５０％であった。２位へのヨウ素化の位置選択性は１
００％であった。
【００２０】実施例３．実施例１と同様の反応器にＫ2
ＰｄＣｌ4 ０．０７ｇ、ｏ−トルイル酸ナトリウム０．
３５ｇ、ＩＣｌ ０．３６ｇ、水６ｍｌ及びジオキサン
６ｍｌを加え、１００℃で６時間、加熱攪拌した。反応
終了後、反応液を室温まで冷却し、次いで水中に注ぎ込
んだ後、希塩酸で反応液を酸性にし、酢酸エチルで目的
物を抽出し、分液後有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶
液、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を得
た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析した
結果、目的の２−ヨード−６−メチル安息香酸の生成率
は４０％であった。２位へのヨウ素化の位置選択性は１
００％であった。
【００２１】実施例４．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム５ｍｇ、フタル酸モノｎ−ブチル０．５ｇ、
Ｎ−ヨードコハク酸イミド０．５１ｇ及びＤＭＦ１１ｍ
ｌを加え、１００℃で６時間、加熱攪拌した。反応終了
後、反応液を室温まで冷却し、 実施例１と同様の操作を
することにより粗生成物を得た。実施例１と同様に４０
０ＭＨｚ−ＮＭＲで分析した結果、目的の６−ヨードフ
タル酸モノブチルの生成率は４５％であった。ヨウ素化
の６位への位置選択性は１００％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：0.88(3H.t), 1.35(2H.
q), 1.62(2H.q),4.18(2H.q), 7.24(1H.t), 7.90(1H.d),
8.05(1H.d), 10.70(1H.s),12.51(1H.s).
【００２２】実施例５．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム５０ｍｇ、ｏ−トルイル酸０．３ｇ、ヨウ素
０．２８ｇ、過ヨウ素酸０．１３ｇ、酢酸１０ｍｌ及び
水１ｍｌを加え、７０℃で４時間、加熱攪拌した。反応
終了後、反応液を冷却し、水中に注ぎ込み、目的物を酢
酸エチルで抽出した。分液後有機層をチオ硫酸ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去することによ
り目的物の粗生成物を得た。実施例１と同様に４００Ｍ
Ｈｚ−ＮＭＲで分析した結果、目的の２−ヨード−６−
メチル安息香酸の生成率は５０％であった。２位へのヨ
ウ素化の位置選択性は１００％であった。
【００２３】実施例６．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム５０ｍｇとｏ−トルイル酸０．３ｇ、酢酸ナ
トリウム３ｇ、ＩＣｌ０．３６ｇ及び酢酸１１ｍｌを加
え、１００℃で１０時間、加熱攪拌した。反応終了後、
酢酸を減圧下で留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。
有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧下で留去することにより目的物の粗生成物を得た。
実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析した結
果、目的の２−ヨード−６−メチル安息香酸の生成率は
６０％であった。２位へのヨウ素化の位置選択性は１０
０％であった。
【００２４】実施例７．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム８２ｍｇ、ｏ−トルイル酸０．５ｇ、Ｎ−ク
ロロコハク酸イミド０．４９ｇｇ及びＤＭＦ１８ｍｌを
加え、１００℃で５時間、加熱攪拌した。反応終了後、
反応液を冷却し、水中に注ぎ込み、目的物を酢酸エチル
で抽出した。分液後、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去することにより目的
物の粗生成物を得た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−
ＮＭＲで分析した結果、目的の２−クロロ−６−メチル
安息香酸の生成率は８３％であった。２位への塩素化の
位置選択性は１００％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）: 2.43(3H.s), 7.13(1H.
m), 7.24(2H.m),9.15(1H.s).
【００２５】実施例８．実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム１７ｍｇ、１−３−ジヨード−５，５−ジメ
チルヒダントイン１５４ｍｇ、２−（１，１−ジメチル
−２−メチルチオエチルアミノカルボニル) −４’−ヘ
プタフルオロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリ
ド０．４ｇ及びＴＨＦ１５ｍｌを加え７０℃で２．５時
間、加熱攪拌した。反応終了後、反応液を冷却し、次い
で水中に注ぎ込み、目的物を酢酸エチルで抽出した。分
液後、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水
で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧下で留去することにより目的物の粗生成物を
得た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析し
た結果、目的の２−（１，１−ジメチル−２−メチルチ
オエチルアミノカルボニル) −３−ヨード−４’−ヘプ
タフルオロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリド
の生成率は８８％であった。ヨウ素化の３位への位置選
択性は１００％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：1.42(6H.s), 1.90(3H.
s), 2.39(3H.s),2.82(2H.s), 6.10(1H.s), 7.21(1H.t),
7.40(1H.s), 7.45(1H.d),7.77(1H.d), 7.98(1H.d), 8.
43(1H.d), 8.56(1H.s).
【００２６】実施例９.実施例１と同様の反応器に酢酸
パラジウム１０ｍｇとＮ−クロロコハク酸イミド０．２
７ｇ、２−( ４−フルオロフェニルカルボニル) 安息香
酸０．５ｇ及びびＤＭＦ２０ｍｌを加え７０℃で３時
間、加熱撹拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却
し、次いで水中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。有
機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧下で留去することにより目的物の粗生成物を得た。実
施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析した結果、
目的の２−クロロ−６−( ４−フルオロフェニルカルボ
ニル) 安息香酸の生成率は８０％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：7.09(1H.t), 7.38(1H.
d), 7.50(1H.t),7.59(1H.m), 7.75(1H.m), 8.09(1H.d),
10.72(1H.s). 塩素化の２位への位置選択性は１００％であった。
【００２７】実施例１０．実施例１と同様の反応器に酢
酸パラジウム２３ｍｇ、Ｎ−ヨードコハク酸イミド０．
２３ｇ、２−（３−（１，１−ジメチル−２−メチルチ
オエチルアミノカルボニル）−４’−ヘプタフルオロイ
ソプロピル−２’−メチル）ナフトアニリド０．５７ｇ
及びＤＭＦ２０ｍｌを加え７０℃で２時間、加熱撹拌し
た。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、次いで水中
に注ぎ込み、酢酸エチルで目的物を抽出した。有機層を
チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で
留去し粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン
＝１／８）で精製し、１−ヨード−２−（１，１−ジメ
チル−２−メチルチオエチルアミノカルボニル) −４’
−ヘプタフルオロイソプロピル−２’−メチル−３−ナ
フトアニリド０．５７ｇ（収率７０％、融点２２８〜２
３０℃）を得た。１位へのヨウ素化の位置選択性は１０
０％であった。
【００２８】実施例１１．実施例１と同様の反応器に酢
酸パラジウム１４ｍｇ、Ｎ−ヨードコハク酸イミド０．
２３ｇ、２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチ
ルアミノカルボニル) −４−クロロ−４' −ヘプタフル
オロイソプロピル−２' −メチルベンズアニリド０．３
４ｇ及びＤＭＦ１０ｍｌを加え７０℃で２時間、加熱撹
拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、次いで
水中に注ぎ込み、目的物を酢酸エチルで抽出した。有機
層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
下で留去することにより粗生成物を得た。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチ
ル／ｎ−ヘキサン＝１／８）で精製し、２−（１，１−
ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカルボニル) −
３−ヨード−４−クロロ−４' −ヘプタフルオロイソプ
ロピル−２' −メチルベンズアニリド０．３２ｇ（収率
７８％、融点２２５℃）を得た。３位へのヨウ素化の位
置選択性は１００％であった。
【００２９】実施例１２．実施例１と同様の反応器に酢
酸パラジウム２ｍｇ、１，３−ジヨード−５，５−ジメ
チルヒダントイン１．７２ｇ、２−（１，１−ジメチル
−２−メチルスルフィニルエチルアミノカルボニル) −
４’−ヘプタフルオロイソプロピル−２’−メチルベン
ズアニリド４．８ｇ及びＴＨＦ９０ｍｌを加えて７０℃
で５時間、加熱撹拌した。反応終了後、反応液を室温ま
で冷却し、次いで水中に注ぎ込み、目的物を酢酸エチル
で抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を得
た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／３）で精製
し、３−ヨード−２−（１，１−ジメチル‐２−メチル
スルフィニルエチルアミノカルボニル) −４’−ヘプタ
フルオロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリド
５．５ｇ（収率９２％）を得た。３位へのヨウ素化の位
置選択性は１００％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：1.60(6H.d), 2.21(3H.
s), 2.38(3H.s),2.85(1H.d), 3.10(1H.d), 6.68(1H.s),
7.22(1H.t), 7.42(1H.s),7.48(1H.d), 7.78(1H.d), 8.
00(1H.d), 8.43(1H.d), 8.45(1H.s).
【００３０】実施例１３．実施例１と同様の反応器に酢
酸パラジウム１．５ｍｇ、１，３−ジヨード−５，５−
ジメチルヒダントイン０．８３ｇ、２−（１，１−ジメ
チル−２−メチルスルフィニルエチルアミノカルボニ
ル) 安息香酸メチル１．０ｇ及びＮ−メチルピロリドン
５ｍｌを加え９０℃で２時間、加熱撹拌した。反応終了
後、反応液を室温まで冷却し、次いで水中に注ぎ込み、
目的物を酢酸エチルで抽出した。有機層をチオ硫酸ナト
リウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去するによ
り粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（酢酸エチル／Ｎ−ヘキサン＝１
／３）で精製し、３−ヨード−２−（１，１−ジメチル
‐２−メチルスルフィニルエチルアミノカルボニル) 安
息香酸メチル１．２７ｇ（収率８９．１％、融点１５
０．７〜１５１．８℃）を得た。３位へのヨウ素化の位
置選択性は１００％であった。
【００３１】実施例１４．実施例１と同様の反応器に酢
酸パラジウム５ｍｇを加え、次にｏ−トルイル酸０．３
ｇとＮ−ヨードコハク酸イミド０．５ｇ及びＤＭＦ１１
ｍｌを加えた。その後、１００℃で６時間、加熱攪拌し
た。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、次いで水中
に注ぎ込み、目的物を酢酸エチルで抽出した。分液後、
有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下で
留去することにより粗生成物を得た。この粗生成物の一
部を重ＤＭＳＯに溶解し４００ＭＨｚ−ＮＭＲで測定し
た結果、目的の２−ヨード−６−メチル安息香酸の生成
率は７９％であった。２位へのヨウ素化の位置選択性は
１００％であった。
【００３２】実施例１５．実施例１と同様の反応容器に
酢酸パラジウム０．１０ｇ、２−メチル−２’−メチル
スルフィニルベンズアニリド０．４０ｇ、１，３−ジヨ
ード−５，５−ジメチルヒダントイン０．３３ｇ及び
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５ｍｌを加え、９０℃で
２時間攪拌した。放冷後、反応液をセライト濾過し、濾
液を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を０．１Ｎ−塩酸水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。得
られた濃縮物をシリカゲルドライカラムクロマトグラフ
ィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製すること
により、２−ヨード−６−メチル−２’−メチルスルフ
ィニルベンズアニリド０．４３ｇ（収率７２％）を得
た。２位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であっ
た。1 H-NMR(CDCl3,ppm、δ値) ：2.45(3H.s), 3.00(3H.s),
6.99(1H.dd),7.18-7.25(2H.m), 7.33(1H.dd),7.57(1H.d
d), 7.66(1H.d), 8.72(1H.d),10.62(1H.bs).
【００３３】実施例１６．実施例１５と同様の方法で、
２−メチル−２’−ニトロベンズアニリドから２−ヨー
ド−６−メチル−２’−ニトロベンズアニリド（収率３
９％、融点１１４．８℃）を得た。２位へのヨウ素化の
位置選択性は１００％であった。 実施例１７．実施例１５と同様の方法で、２，４−ジメ
チルベンズアニリドから２−ヨード−４，６−ジメチル
ベンズアニリド（収率１７％）を得た。２位へのヨウ素
化の位置選択性は１００％であった。1 H-NMR(CDCl3,ppm、δ値) ：2.29(3H.s), 2.40(3H.s),
7.03(1H.s),7.18(1H.ddd), 7.28(1H.bs),7.39(2H.dd),
7.52(1H.s), 7.63(2H.dd). 実施例１８．実施例１５と同様の方法で、２，４−ジメ
チル−２’−メチルスルホニルベンズアニリドから２−
ヨード−４，６−ジメチル−２’−メチルスルホニルベ
ンズアニリド（収率１４％）を得た。２位へのヨウ素化
の位置選択性は１００％であった。1 H-NMR(CDCl3,ppm、δ値) ：2.29(3H.s), 2.39(3H.s),
3.16(s),7.02(1H.ss), 7.26(1H.dd), 7.51(1H.s),7.71
(1H.ddd), 7.95(1H.dd),8.70(1H.dd), 9.56(1H.bs).
【００３４】実施例１９．酢酸パラジウムを３．３ｍｇ
に減らした以外は実施例１５と同様の方法で、２，４−
ジメチル−２’−メチルスルフィニルベンズアニリドか
ら２−ヨード−４，６−ジメチル−２’−メチルスルフ
ィニルベンズアニリド（収率３６％、融点１１３．６
℃）を得た。２位へのヨウ素化の位置選択性は１００％
であった。 実施例２０．ヨウ素化剤にＮ−ヨードコハク酸イミドを
用いた以外は実施例１９と同様の方法で、Ｎ−（１，１
−ジメチル−２−メチルチオエチル）−２−ニトロベン
ズアミドからＮ−（１，１−ジメチル−２−メチルチオ
エチル）−２−ヨード−６−ニトロベンズアミド（収率
４３％、融点１１４〜１１５℃）を得た。２位へのヨウ
素化の位置選択性は１００％であった。
【００３５】実施例２１．実施例１９と同様の方法で、
２−（１，１−ジメチル−２−メチルスルフィニルエチ
ルアミノカルボニル）−Ｎ−（６−（１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロプロパン−２−イルオキシ）−
２−メチルピリジン−３−イル）ベンズアミドから２−
（１，１−ジメチル−２−メチルスルフィニルエチルア
ミノカルボニル）−Ｎ−（６−（１，１，１，３，３，
３−ヘキサフルオロプロパン−２−イルオキシ）−２−
メチルピリジン−３−イル）−３−ヨードベンズアミド
（収率９８％）を得た。３位へのヨウ素化の位置選択性
は１００％であった。1 H-NMR(CDCl3,ppm、δ値) ：1.61(3H.s), 1.64(3H.s),
2.36(3H.s),2.44(3H.s), 2.98(1H.d), 3.13(1H.d),6.53
(1H.m), 6.82(2H.m),7.16(1H.t), 7.73(1H.d), 7.95(1
H.d), 8.27(1H.d), 8.44(1H.s).
【００３６】実施例２２．酢酸パラジウムを３３ｍｇに
し、反応温度を７０℃にした以外は実施例２０と同様の
方法で、２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチ
ルアミノカルボニル）−４−フルオロ−４’−ヘプタフ
ルオロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリドから
２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノ
カルボニル）−４−フルオロ−４’−ヘプタフルオロイ
ソプロピル−３−ヨード−２’−メチルベンズアニリド
（収率７９％、融点２１８〜２２０℃）を得た。３位へ
のヨウ素化の位置選択性は１００％であった。 実施例２３．実施例２２と同様の方法で、５−クロロ−
２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノ
カルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−
２’−メチルベンズアニリドから５−クロロ−２−
（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカル
ボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−３−ヨ
ード−２’−メチルベンズアニリド（収率８０％、融点
２２７℃）を得た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１
００％であった。
【００３７】実施例２４．実施例２２と同様の方法で、
５−ブロモ−２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオ
エチルアミノカルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソ
プロピル−２’−メチルベンズアニリドから５−ブロモ
−２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミ
ノカルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−
３−ヨード−２’−メチルベンズアニリド（収率７５
％、融点２０５〜２０７℃）を得た。３位へのヨウ素化
の位置選択性は１００％であった。 実施例２５．実施例２２と同様の方法で、２−（１，１
−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカルボニル）
−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−２’，５−ジメ
チルベンズアニリドから２−（１，１−ジメチル−２−
メチルチオエチルアミノカルボニル）−４’−ヘプタフ
ルオロイソプロピル−３−ヨード−２’５−ジメチルベ
ンズアニリド（収率４８％、融点２３４〜２３５℃）を
得た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であっ
た。
【００３８】実施例２６．実施例２２と同様の方法で、
２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノ
カルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−４
−メトキシ−２’−メチルベンズアニリドから２−
（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカル
ボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−３−ヨ
ード−４−メトキシ−２’−メチルベンズアニリド（収
率８４％、融点１５３〜１５５℃）を得た。３位へのヨ
ウ素化の位置選択性は１００％であった。 実施例２７．実施例２２と同様の方法で、２−（１，１
−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカルボニル）
−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−２’−メチル−
４−トリフルオロメトキシベンズアニリドから２−
（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノカル
ボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−３−ヨ
ード−２’−メチル−４−トリフルオロメトキシベンズ
アニリド（収率８６％、融点２１３〜２１４℃）を得
た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であっ
た。
【００３９】実施例２８．実施例２２と同様の方法で、
３−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノ
カルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−
２’−メチル−２−ナフタレンカルボン酸アニリドから
２−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチルアミノ
カルボニル）−４’−ヘプタフルオロイソプロピル−１
−ヨード−２’−メチル−３−ナフタレンカルボン酸ア
ニリド（収率７０％、融点２２８〜２３０℃）を得た。
１位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であった。 実施例２９．実施例２２と同様の方法で、２’−メチル
−８−（１−メチル−２−メチルチオエチルアミノカル
ボニル）−４’−トリフルオロメトキシ−１−ナフタレ
ンカルボン酸アニリドから７−ヨード−２’−メチル−
８−（１−メチル−２−メチルチオエチルアミノカルボ
ニル）−４’−トリフルオロメトキシ−１−ナフタレン
カルボン酸アニリド（収率７５％、融点１７６〜１７８
℃）を得た。１位へのヨウ素化の位置選択性は１００％
であった。
【００４０】実施例３０．実施例２２と同様の方法で、
２−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）−Ｎ−
（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチル）ベンズア
ミドから２−（４−クロロ−２−メチルフェノキシ）−
Ｎ−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチル）−６
−ヨードベンズアミド（収率８５％、融点１２８〜１３
０℃）を得た。６位へのヨウ素化の位置選択性は１００
％であった。 実施例３１．実施例２２と同様の方法で、２−（３−ク
ロロ−５−トリフルオロメチルピリジン−２−イルオキ
シ）−Ｎ−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチ
ル）ベンズアミドから２−（３−クロロ−５−トリフル
オロメチルピリジン−２−イルオキシ）−Ｎ−（１，１
−ジメチル−２−メチルチオエチル）−６−ヨードベン
ズアミド（収率８１％、融点８３〜８５℃）を得た。６
位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であった。
【００４１】実施例３２．実施例２２と同様の方法で、
２−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イルオキ
シ）−Ｎ−（１，１−ジメチル−２−メチルチオエチ
ル）ベンズアミドから２−（４，６−ジメトキシピリミ
ジン−２−イルオキシ）−Ｎ−（１，１−ジメチル−２
−メチルチオエチル）−６−ヨードベンズアミド（収率
８９％、屈折率１．５７６５（２１．０℃））を得た。
６位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であった。 実施例３３．実施例２２と同様の方法で、Ｎ−（１，１
−ジメチル−２−メチルチオエチル）−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）ベンズアミドからＮ−（１，
１−ジメチル−２−メチルチオエチル）−６−ヨード−
２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベンズアミド
（収率６１％、融点１９４−１９６℃）を得た。６位へ
のヨウ素化の位置選択性は１００％であった。 実施例３４．酢酸パラジウムを３．３ｍｇに減らした以
外は実施例２２と同様の方法で、Ｎ−（１，１−ジメチ
ル−２−メチルスルフィニルエチル）−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）ベンズアミドからＮ−（１，
１−ジメチル−２−メチルスルフィニルエチル）−６−
ヨード−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ベン
ズアミド（収率６４％、融点１５５−１５８℃）を得
た。６位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であっ
た。
【００４２】実施例３５．酢酸パラジウムを６７ｍｇに
し、反応温度を９０℃にした以外は実施例２２と同様の
方法で、２−（１，１−ジメチル−２−（Ｎ−メトキシ
イミノ）エチルアミノカルボニル）−４’−（１，１，
２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン−１−イルオ
キシ）−２’−メチルベンズアニリドから２−（１，１
−ジメチル−２−（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノ
カルボニル）−４’−（１，１，２，３，３，３−ヘキ
サフルオロプロパン−１−イルオキシ）−３−ヨード−
２’−メチルベンズアニリド（収率７８％、融点１８８
℃）を得た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１００％
であった。 実施例３６．実施例１と同様の反応容器に酢酸パラジウ
ム０．１７ｇ、２−（１，１−ジメチル−２−（Ｎ−メ
トキシイミノ）エチルアミノカルボニル）−４’−ヘプ
タフルオロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリド
０．４０ｇ、Ｎ−ブロモコハク酸イミド０．１５ｇ及び
テトラヒドロフラン５ｍｌを加え、還流下２時間攪拌し
た。放冷後、減圧下に溶媒を留去し、得られた濃縮物を
シリカゲルドライカラムクロマトグラフィー（ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）で精製することにより、３−ブ
ロモ−２−（１，１−ジメチル−２−（Ｎ−メトキシイ
ミノ）エチルアミノカルボニル）−４’−ヘプタフルオ
ロイソプロピル−２’−メチルベンズアニリド０．３１
ｇ（収率６７％、融点２４２．５℃）を得た。３位への
ヨウ素化の位置選択性は１００％であった。
【００４３】実施例３７．Ｎ−ブロモコハク酸イミドに
代えてＮ−クロロコハク酸イミドを用いた以外は実施例
３６と同様の方法で、２−（１，１−ジメチル−２−
（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノカルボニル）−
２’−メチル−４’−トリフルオロメトキシベンズアニ
リドから３−クロロ−２−（１，１−ジメチル−２−
（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノカルボニル）−
２’−メチル−４’−トリフルオロメトキシベンズアニ
リド（収率６３％、融点１９７℃）を得た。３位への塩
素化の位置選択性は１００％であった。 実施例３８．Ｎ−ブロモコハク酸イミドに代えてＮ−ヨ
ードコハク酸イミドを用い、室温で終夜反応させた以外
は実施例３６と同様の方法で、２−（２−（Ｎ−メトキ
シイミノ）エチルアミノカルボニル）−２’−メチル−
４’−ペンタフルオロエチルベンズアニリドから３−ヨ
ード−２−（２−（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノ
カルボニル）−２’−メチル−４’−ペンタフルオロエ
チルベンズアニリド（収率５３％、融点１１０℃）を得
た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１００％であっ
た。
【００４４】実施例３９．Ｎ−ブロモコハク酸イミドに
代えてＮ−ヨードコハク酸イミドを用いた以外は実施例
３６と同様の方法で、２−（１，１−ジメチル−２−
（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノカルボニル）−Ｎ
−（６−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロ
パン−２−イルオキシ）−２−メチルピリジン−３−イ
ル）ベンズアミドから２−（１，１−ジメチル−２−
（Ｎ−メトキシイミノ）エチルアミノカルボニル）−Ｎ
−（６−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロ
パン−２−イルオキシ）−２−メチルピリジン−３−イ
ル）−３−ヨードベンズアミド（収率８３％、融点２２
０℃）を得た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１００
％であった。 実施例４０．実施例３９と同様の方法で、２−（２−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル）−１−メチルエ
チルアミノカルボニル）−２’−メチル−４’−トリフ
ルオロメトキシベンズアニリドから２−（２−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノカルボニル）−１−メチルエチルアミ
ノカルボニル）−３−ヨード−２’−メチル−４’−ト
リフルオロメトキシベンズアニリド（収率４０％、融点
１０４℃）を得た。３位へのヨウ素化の位置選択性は１
００％であった。
【００４５】実施例４１．実施例１と同様の反応容器に
酢酸パラジウム１．３２ｇ、１，３−ジヨード−５，５
−ジメチルヒダントイン０．７８ｇ、２−（１，１−ジ
メチル−２−メチルスルフィニルエチルアミノカルボニ
ル）安息香酸ｎ−ブチル及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド５ｍｌを加え、９０℃で３０分攪拌し、更に１，３
−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン０．５６ｇ
を加え、９０℃で３．５時間攪拌した。反応終了後、７
０℃で溶媒を減圧下に留去し、チオ硫酸ナトリウム水溶
液を加えトルエンで２回抽出した。有機層を０．５Ｎ塩
酸水、重炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗結晶をヘキサ
ン−エーテルで洗浄することにより２−（１，１−ジメ
チル−２−メチルスルフィニルエチルアミノカルボニ
ル）−３−ヨード安息香酸ｎ−ブチル２．２６ｇ（収率
８２％、融点５７．５〜６６．３℃）を得た。３位への
ヨウ素化の位置選択性は１００％であった。
【００４６】比較例１．文献に記載の方法に従い、酢
酸パラジウム２２ｍｇと安息香酸０．１２ｇ、酢酸銅２
０ｍｇ、モレキュラーシブス４Ａ０．４ｇ及びＤＭＦ５
ｍｌそしてスチレンに代えてヨウ素０．７５ｇを加え１
００℃で８時間、加熱攪拌した。反応終了後、反応液を
冷却し、次いで水中に注ぎ込み、目的物を酢酸エチルで
抽出した。分液後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を減圧下で留去することにより目的物の
粗生成物を得た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭ
Ｒで分析した結果、目的の２−ヨード安息香酸の生成率
は１０％であった。1 H-NMRケミカルシフト（δ値）：7.35(1H.t), 7.49(1H.
t), 7.72(1H.d),7.99(1H.d), 10.32(1H.s).
【００４７】比較例２．実施例１３と同様のモル比で文
献に記載の反応条件に従い、反応を実施した。酢酸パ
ラジウム５ｍｇとｏ−トルイル酸０．３ｇ、酢酸銅４．
４ｍｇ、Ｎ−ヨードコハク酸イミド０．５ｇ及びモレキ
ュラーシブス４Ａ０．４ｇ、ＤＭＦ１１ｍｌを加え１０
０℃で６時間、加熱攪拌した。反応終了後、反応液を冷
却し、次いで水中に注ぎ込み、酢酸エチルで目的物を抽
出した。分液後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を減圧下で留去することにより粗生成物を
得た。実施例１と同様に４００ＭＨｚ−ＮＭＲで分析し
た結果、目的の２−ヨード安息香酸の生成は認められ
ず、１０％の構造不明物と９０％の原料回収であった。
比較例１及び２に示した通り、文献記載の方法ではヨ
ウ素化（ハロゲン化）は全く進行しないか又は極めて低
収率であり、本発明がハロゲン化の方法として明らかに
優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 233/66 Ｃ０７Ｃ 233/66 237/22 237/22 249/12 249/12 251/38 251/38 303/30 303/30 309/66 309/66 313/04 313/04 319/20 319/20 323/42 323/42 323/44 323/44 Ｃ０７Ｄ 213/64 Ｃ０７Ｄ 213/64 213/75 213/75 239/60 239/60 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 勝平 健 大阪府河内長野市向野町765−４−301 (72)発明者 西田 立樹 大阪府富田林市甲田３丁目７−22−202 (72)発明者 日野 智和 大阪府富田林市廿山２丁目11−37−507 (72)発明者 津幡 健治 大阪府河内長野市大矢船北町８−９ Ｆターム(参考） 4C055 AA01 BA02 BA03 BA05 BA06 BA42 BA53 BB01 BB02 BB11 BB14 CA02 CA39 CA53 CB04 CB11 CB14 DA01 4H006 AA02 AC30 BA25 BE53 BJ20 BM72 BM73 BM74 BS30 BV22 BV70 BV72 BW12 BW31 KA31 KC30 TA02 TA04 4H039 CA52 CA53 CA54 CD10

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式(II): 【化１】 （式中、Ａは−ＯＨ、−ＯＭ（式中、Ｍはアルカリ金属
    原子を示す。）又は−Ｎ（Ｒ6 ）Ｒ7 （式中、Ｒ6 及び
    Ｒ7 は同一又は異なっても良く、水素原子、 C 1-C6アル
    キル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲ
    ン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-
    C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6ア
    ルコキシ基、 C1-C6アルキルスルフィニル基又は C1-C6
    アルキルスルホニル基から選択される一以上の置換基を
    有するフェニル基、 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって
    も良く、水素原子又はC1-C6アルキル基を示し、Ｒ5 は
    C1-C6アルキル基を示し、ｍは０乃至１の整数を示し、
    ｋは１乃至２の整数を示す。）、 【化３】 （式中、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10は同一又は異なっても良
    く、水素原子又は C1-C6アルキル基を示す。）又は 【化４】 （式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は同一
    又は異なっても良く、水素原子又は C1-C6アルキル基を
    示す。）を示す。) を示す。Ｒは同一又は異なっても良
    く、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C
    1-C6アルキル基、 C1-C6アルキルカルボニル基、カルボ
    キシル基、C1-C12アルコキシカルボニル基、フェニルカ
    ルボニル基, 同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコ
    キシ基、ハロC1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキ
    シ基から選択される一以上の置換基を有する置換フェニ
    ルカルボニル基、ベンジルカルボニル基、同一又は異な
    っても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-
    C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキ
    ル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上
    の置換基を環上に有する置換ベンジルカルボニル基、−
    ＣＯＮ（Ｒ17）Ｒ18（式中、Ｒ17及びＲ18は同一又は異
    なっても良く、水素原子、 C1-C6アルキル基、フェニル
    基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ
    基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ
    基、ハロ C1-C6アルキル基又はハロ C1-C6アルコキシ基
    から選択される一以上の置換基を有する置換フェニル
    基、ピリジル基、同一又は異なっても良く、水素原子、
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル
    基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基又はハ
    ロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を
    有する置換ピリジル基、ベンジル基又は同一若しくは異
    なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C
    1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アル
    キル基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以
    上の置換基を環上に有する置換ベンジル基を示し、ｌは
    １乃至２の整数を示す。）、フェニル基、同一又は異な
    っても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-
    C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキ
    シ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択される一以上
    の置換基を有する置換フェニル基、フェノキシ基、同一
    又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
    基、 C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6
    アルコキシ基又はハロ C1-C6アルコキシ基から選択され
    る一以上の置換基を有する置換フェノキシ基、ヘテロア
    リールオキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロ
    ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、ハ
    ロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ基又はハロ C1-
    C6アルコキシ基から選択される一以上の置換基を有する
    置換ヘテロアリールオキシ基を示し、ｎは０〜４の整数
    を示す。（Ｒ）ｎはベンゼン環上の隣接する炭素原子上
    に置換して C3-C4アルキレン基又は C3-C4アルケニレン
    基からなる縮合環を形成することもできる。又、該アル
    キレン又はアルケニレン鎖上に同一又は異なっても良
    く、１以上の置換基Ｒ（Ｒは前記に同じ。）を有するこ
    ともできる。）で表される安息香酸類とハロゲン化剤と
    をパラジウム触媒の存在下に反応することを特徴とする
    一般式(I): 【化５】 （式中、Ｘは塩素原子、 臭素原子又はヨウ素原子を示
    し、Ａ、Ｒ及びｎは前記に同じ。）で表される２−ハロ
    ゲン化安息香酸類の製造方法。
  2. 【請求項２】 Ａが−ＯＨ又は−ＯＭ（式中、Ｍはアル
    カリ金属原子を示す。）を示す請求項１記載の製造方
    法。
  3. 【請求項３】 Ａが−Ｎ（Ｒ6 ）Ｒ7 （式中、Ｒ6 及び
    Ｒ7 は同一又は異なっても良く、水素原子、 C1-C6アル
    キル基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲ
    ン原子、シアノ基、ニトロ基、 C1-C6アルキル基、 C1-
    C6アルコキシ基、ハロ C1-C6アルキル基、ハロ C1-C6ア
    ルコキシ基、 C1-C6アルキルスルフィニル基又は C1-C6
    アルキルスルホニル基から選択される一以上の置換基を
    有するフェニル基又は 【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって
    も良く、水素原子、 C 1-C6アルキル基を示し、Ｒ5 は C
    1-C6アルキル基を示し、ｍは０乃至１の整数を示し、ｋ
    は１乃至２の整数を示す。）を示す。）を示す請求項１
    記載の製造方法。
  4. 【請求項４】 Ｒ6 及びＲ7 が同一又は異なっても良
    く、水素原子又は 【化７】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は同一又は異なって
    も良く、水素原子又はC1-C6アルキル基を示し、Ｒ5 は
    C1-C6アルキル基を示し、ｍは０乃至１の整数を示し、
    ｋは１乃至２の整数を示す。）を示す請求項３記載の製
    造方法。
  5. 【請求項５】 Ｒ6 及びＲ7 が同一又は異なっても良
    く、水素原子、フェニル基、又は同一若しくは異なって
    も良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、C1-C6ア
    ルキル基、ハロ C1-C6アルキル基、 C1-C6アルコキシ
    基、ハロ C1-C6アルコキシ基、 C1-C6アルキルスルフィ
    ニル基又は C1-C6アルキルスルホニル基から選択される
    一以上の置換基を有するフェニル基である請求項３記載
    の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005063703A1 (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Nihon Nohyaku Co., Ltd. ２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法
JP2005206593A (ja) * 2003-12-26 2005-08-04 Nippon Nohyaku Co Ltd ２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法
JP5248489B2 (ja) * 2007-05-18 2013-07-31 日宝化学株式会社 ハロゲン化芳香族化合物の製造方法
JP2019199457A (ja) * 2018-05-18 2019-11-21 国立大学法人千葉大学 フェナントリジン化合物の製造方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004515547A (ja) * 2000-12-11 2004-05-27 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 置換複素環式フタル酸ジアミド殺節足動物剤
TWI417095B (zh) 2006-03-15 2013-12-01 Janssen Pharmaceuticals Inc １，４-二取代之３-氰基-吡啶酮衍生物及其作為ｍＧｌｕＲ２-受體之正向異位性調節劑之用途
TW200900065A (en) 2007-03-07 2009-01-01 Janssen Pharmaceutica Nv 3-cyano-4-(4-pyridinyloxy-phenyl)-pyridin-2-one derivatives
TW200845978A (en) 2007-03-07 2008-12-01 Janssen Pharmaceutica Nv 3-cyano-4-(4-tetrahydropyran-phenyl)-pyridin-2-one derivatives
TW200922566A (en) 2007-09-14 2009-06-01 Ortho Mcneil Janssen Pharm 1,3 disubstituted 4-(aryl-X-phenyl)-1H-pyridin-2-ones
JP5433579B2 (ja) 2007-09-14 2014-03-05 ジャンセン ファーマシューティカルズ， インコーポレイテッド． １，３−二置換−４−フェニル−１ｈ−ピリジン−２−オン
TWI445532B (zh) 2007-09-14 2014-07-21 Janssen Pharmaceuticals Inc １’，３’－二取代－４－苯基－３，４，５，６－四氫－２ｈ，１’ｈ－〔１，４’〕聯吡啶基－２’－酮化物
ES2637794T3 (es) 2007-11-14 2017-10-17 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Derivados de imidazo[1,2-A]piridina y su uso como moduladores alostéricos positivos de receptores MGLUR2
CA2735764C (en) 2008-09-02 2016-06-14 Ortho-Mcneil-Janssen Pharmaceuticals, Inc. 3-azabicyclo[3.1.0]hexyl derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
ES2466341T3 (es) 2008-10-16 2014-06-10 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Derivados de indol y benzomorfolina como moduladores de receptores de glutamato metabotrópicos
WO2010060589A1 (en) 2008-11-28 2010-06-03 Ortho-Mcneil-Janssen Pharmaceuticals, Inc. Indole and benzoxazine derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
KR101008495B1 (ko) * 2008-12-30 2011-01-14 황재용 의자용 자세교정장치
SG176018A1 (en) 2009-05-12 2011-12-29 Janssen Pharmaceuticals Inc 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mglur2 receptors
MX2011011964A (es) 2009-05-12 2012-02-23 Janssen Pharmaceuticals Inc Derivados de 1,2,3-triazolo[4,3-a]piridina y su uso para el tratamiento o prevencion de trastornos neurologicos y psiquiatricos.
MY153913A (en) 2009-05-12 2015-04-15 Janssen Pharmaceuticals Inc 7-aryl-1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mglur2 receptors
JP2011042643A (ja) 2009-07-24 2011-03-03 Bayer Cropscience Ag 殺虫性カルボキサミド類
JP5852666B2 (ja) 2010-11-08 2016-02-03 ジヤンセン・フアーマシユーチカルズ・インコーポレーテツド １，２，４−トリアゾロ［４，３−ａ］ピリジン誘導体およびｍＧｌｕＲ２受容体のポジティブアロステリックモジュレーターとしてのそれらの使用
PL2649069T3 (pl) 2010-11-08 2016-01-29 Janssen Pharmaceuticals Inc Pochodne 1,2,4-triazolo[4,3-a]pirydyny i ich zastosowanie jako dodatnich allosterycznych modulatorów receptorów mGluR2
ES2536433T3 (es) 2010-11-08 2015-05-25 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Derivados de 1,2,4-triazolo[4,3-a]piridina y su uso como moduladores alostéricos positivos de receptores mGluR2
JO3368B1 (ar) 2013-06-04 2019-03-13 Janssen Pharmaceutica Nv مركبات 6، 7- ثاني هيدرو بيرازولو [5،1-a] بيرازين- 4 (5 يد)- اون واستخدامها بصفة منظمات تفارغية سلبية لمستقبلات ميجلور 2
JO3367B1 (ar) 2013-09-06 2019-03-13 Janssen Pharmaceutica Nv مركبات 2،1، 4- ثلاثي زولو [3،4-a] بيريدين واستخدامها بصفة منظمات تفارغية موجبة لمستقبلات ميجلور 2
DK3096790T3 (da) 2014-01-21 2019-10-07 Janssen Pharmaceutica Nv Kombinationer omfattende positive allosteriske modulatorer eller orthosteriske agonister af metabotrop glutamaterg subtype 2-receptor og anvendelse af disse
UA127921C2 (uk) 2014-01-21 2024-02-14 Янссен Фармацевтика Нв Комбінації, які містять позитивні алостеричні модулятори або ортостеричні агоністи метаботропного глутаматергічного рецептора 2 підтипу, та їх застосування
WO2017161116A1 (en) 2016-03-17 2017-09-21 Infinity Pharmaceuticals, Inc. Isotopologues of isoquinolinone and quinazolinone compounds and uses thereof as pi3k kinase inhibitors
CN106748721B (zh) * 2016-11-17 2019-06-21 山东铂源药业有限公司 一种2-氯-5-碘苯甲酸的制备方法
CN111212824B (zh) * 2017-08-16 2022-08-16 斯克利普斯研究院 酮的定向β-C(sp3)-H碘化和芳基化
TWI717656B (zh) * 2017-11-10 2021-02-01 大陸商江蘇恒瑞醫藥股份有限公司 苯並呋喃衍生物的製備方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0551348A (ja) * 1991-08-22 1993-03-02 Ihara Chem Ind Co Ltd ２−ハロゲノ−４，５−ジフルオロ安息香酸の製造法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1163236A (en) 1966-12-19 1969-09-04 Gulf Research Development Co Process for preparing Halogenated Aromatic Compounds
DE2500157C2 (de) 1975-01-03 1983-09-15 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt N-Acyl-4-(2-aminoäthyl)-benzoesäuren, deren Salze und Ester, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JPH0873403A (ja) 1994-06-30 1996-03-19 Nippon Nohyaku Co Ltd ハロゲン置換安息香酸類の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0551348A (ja) * 1991-08-22 1993-03-02 Ihara Chem Ind Co Ltd ２−ハロゲノ−４，５−ジフルオロ安息香酸の製造法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005063703A1 (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Nihon Nohyaku Co., Ltd. ２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法
JP2005206593A (ja) * 2003-12-26 2005-08-04 Nippon Nohyaku Co Ltd ２−ハロゲン化安息香酸アミド類の製造方法
US7763750B2 (en) 2003-12-26 2010-07-27 Nihon Nohyaku Co., Ltd. Process for producing 2-halogenobenzamide compound
JP5248489B2 (ja) * 2007-05-18 2013-07-31 日宝化学株式会社 ハロゲン化芳香族化合物の製造方法
JP2019199457A (ja) * 2018-05-18 2019-11-21 国立大学法人千葉大学 フェナントリジン化合物の製造方法
JP7061772B2 (ja) 2018-05-18 2022-05-02 国立大学法人千葉大学 フェナントリジン化合物の製造方法

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