JPH0873403A - ハロゲン置換安息香酸類の製造方法 - Google Patents
ハロゲン置換安息香酸類の製造方法Info
- Publication number
- JPH0873403A JPH0873403A JP7184913A JP18491395A JPH0873403A JP H0873403 A JPH0873403 A JP H0873403A JP 7184913 A JP7184913 A JP 7184913A JP 18491395 A JP18491395 A JP 18491395A JP H0873403 A JPH0873403 A JP H0873403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- halogen
- benzoic acid
- compound
- substituted benzoic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記式で示されるハロゲン置換安息香酸類の
製造方法。 【化１】 （式中、ＲはC1-6アルキル基、ＸはＣｌ又はＦ、ｎは３
〜５の数を示す。） 【効果】 ハロゲン置換安息香酸類が収率良く得られ
る。
製造方法。 【化１】 （式中、ＲはC1-6アルキル基、ＸはＣｌ又はＦ、ｎは３
〜５の数を示す。） 【効果】 ハロゲン置換安息香酸類が収率良く得られ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)
【化９】 （式中、Ｘは同一又は異なっても良い塩素原子又はフッ
素原子を示し、ｎは３〜５の整数を示す。）で表される
ハロゲン置換安息香酸類の製造方法に関するものであ
る。
素原子を示し、ｎは３〜５の整数を示す。）で表される
ハロゲン置換安息香酸類の製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】ハロゲン置換安息香酸、例えば２−クロ
ロ−４，５−ジフルオロ安息香酸は医薬の中間体として
有用な化合物であり、従来その製造方法は４，５−ジフ
ルオロ安息香酸のハロゲン化（特開平５−５１３４８
号）、２−クロロ−４，４−ジフルオロアセトフェノン
からのカルボニル化（特開平３−２７６４７号）、２−
クロロ−４，４−ジフルオロベンゾトリフルオライドの
加水分解（特開昭６２−１０８８３９号）等の方法が知
られている。
ロ−４，５−ジフルオロ安息香酸は医薬の中間体として
有用な化合物であり、従来その製造方法は４，５−ジフ
ルオロ安息香酸のハロゲン化（特開平５−５１３４８
号）、２−クロロ−４，４−ジフルオロアセトフェノン
からのカルボニル化（特開平３−２７６４７号）、２−
クロロ−４，４−ジフルオロベンゾトリフルオライドの
加水分解（特開昭６２−１０８８３９号）等の方法が知
られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は２−クロ
ロ−４，５−ジフルオロ安息香酸に代表されるハロゲン
置換安息香酸類の新規な製造方法に関して鋭意研究を重
ねた結果、本発明を完成させたものである。
ロ−４，５−ジフルオロ安息香酸に代表されるハロゲン
置換安息香酸類の新規な製造方法に関して鋭意研究を重
ねた結果、本発明を完成させたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の製造方法は、例
えば図式的に示すと以下の通りに例示することができ
る。
えば図式的に示すと以下の通りに例示することができ
る。
【化１０】 （式中、ＲはＣ1-6アルキル基を示し、Ｘ及びｎは前記
に同じ。）
に同じ。）
【０００５】一般式(III) で表される芳香族臭素化物、
一般式(IV)で表されるアルコール類及び一酸化炭素と
を、不活性溶媒の存在下又は不存在下にパラジウム化合
物、リン化合物及び塩基の存在下に反応させることによ
り一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル
類とし、該エステル類を単離し又は単離せずして加水分
解することにより一般式(I) で表されるハロゲン置換安
息香酸類を製造することができる。又、一般式(III) で
表される芳香族臭素化物及び一酸化炭素とを、不活性溶
媒の存在下又は不存在下にパラジウム化合物、リン化合
物及び塩基の存在下に反応させることにより一般式(I)
で表されるハロゲン置換安息香酸類を製造することがで
きる。
一般式(IV)で表されるアルコール類及び一酸化炭素と
を、不活性溶媒の存在下又は不存在下にパラジウム化合
物、リン化合物及び塩基の存在下に反応させることによ
り一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル
類とし、該エステル類を単離し又は単離せずして加水分
解することにより一般式(I) で表されるハロゲン置換安
息香酸類を製造することができる。又、一般式(III) で
表される芳香族臭素化物及び一酸化炭素とを、不活性溶
媒の存在下又は不存在下にパラジウム化合物、リン化合
物及び塩基の存在下に反応させることにより一般式(I)
で表されるハロゲン置換安息香酸類を製造することがで
きる。
【０００６】製造方法１． (1). 一般式(III) → 一般式(II) 本製造方法で触媒として使用するパラジウム化合物はリ
ン化合物と組み合わせて使用すれば良く、パラジウム化
合物としては、例えば金属パラジウム、パラジウムカー
ボン、パラジウムアルミナ、塩化パラジウム、臭化パラ
ジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビスシアノフェニル
パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラ
ジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム、ジクロロビスベンゾニトリルパラジウム、ジクロロ
ビスアセトニトリルパラジウム等を使用することができ
る。
ン化合物と組み合わせて使用すれば良く、パラジウム化
合物としては、例えば金属パラジウム、パラジウムカー
ボン、パラジウムアルミナ、塩化パラジウム、臭化パラ
ジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビスシアノフェニル
パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラ
ジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム、ジクロロビスベンゾニトリルパラジウム、ジクロロ
ビスアセトニトリルパラジウム等を使用することができ
る。
【０００７】本製造方法でパラジウム化合物と組み合わ
せて使用できるリン化合物としては、例えばトリメチル
ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン等のトリアルキルホスフィン、トリシクロヘキシル
ホスフィン等のトリシクロアルキルホスフィン類、トリ
フェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン類、一
般式(V) で表されるリン化合物としては、例えば１，１
−ビス（ジメチルホスフィノ）メタン、１，１−ビス
（ジエチルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジメチ
ルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジエチルホスフ
ィノ）エタン、１，３−ビス（ジメチルホスフィノ）プ
ロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフィノ）ブタン等
のビス( ジアルキルホスフィノ) アルカン類、１，１−
ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス
（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）ブタン等のビス（ジアリールホスフィ
ノ）アルカン類を例示することができる。
せて使用できるリン化合物としては、例えばトリメチル
ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン等のトリアルキルホスフィン、トリシクロヘキシル
ホスフィン等のトリシクロアルキルホスフィン類、トリ
フェニルホスフィン等のトリアリールホスフィン類、一
般式(V) で表されるリン化合物としては、例えば１，１
−ビス（ジメチルホスフィノ）メタン、１，１−ビス
（ジエチルホスフィノ）メタン、１，２−ビス（ジメチ
ルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（ジエチルホスフ
ィノ）エタン、１，３−ビス（ジメチルホスフィノ）プ
ロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフィノ）ブタン等
のビス( ジアルキルホスフィノ) アルカン類、１，１−
ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、１，２−ビス
（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）ブタン等のビス（ジアリールホスフィ
ノ）アルカン類を例示することができる。
【０００８】リン化合物の使用量はパラジウム化合物に
対して０．０１〜１００００倍モルの範囲で使用すれば
良く、好ましくは０．１〜１００倍モルの範囲で使用す
れば良い。本製造方法はパラジウム化合物とトリアルキ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリアルキル
ホスファイト、トリアリールホスファイト又は一般式
(V)で表されるリン化合物を組み合わせて使用すれば良
く、反応系にそれぞれ単独で使用しても良く、予め錯体
の形に調製して使用することもできる。添加量は特に限
定されるものではないが、パラジウム化合物及びリン化
合物を反応系に添加する量として、一般式(III) で表さ
れる芳香族臭素化物１モルに対して０．０００１〜０．
５倍モル使用すれば良く、好ましくは０．０００５〜
０．１倍モルの範囲から選択して使用すれば良い。
対して０．０１〜１００００倍モルの範囲で使用すれば
良く、好ましくは０．１〜１００倍モルの範囲で使用す
れば良い。本製造方法はパラジウム化合物とトリアルキ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリアルキル
ホスファイト、トリアリールホスファイト又は一般式
(V)で表されるリン化合物を組み合わせて使用すれば良
く、反応系にそれぞれ単独で使用しても良く、予め錯体
の形に調製して使用することもできる。添加量は特に限
定されるものではないが、パラジウム化合物及びリン化
合物を反応系に添加する量として、一般式(III) で表さ
れる芳香族臭素化物１モルに対して０．０００１〜０．
５倍モル使用すれば良く、好ましくは０．０００５〜
０．１倍モルの範囲から選択して使用すれば良い。
【０００９】本製造方法で使用できる塩基としては、例
えば炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、酢酸ナトリウム等の塩基を例示することができ、
好ましくは炭酸ナトリウム又は酢酸ナトリウムを使用す
るのが良い。使用する塩基の量としては、生成する塩化
水素を中和するのに必要な量を使用するのが好ましい
が、これより多くても少なくても良い。本製造方法で使
用する不活性溶媒としては本反応の進行を著しく阻害し
ないものであれば良く、例えばヘキサン、ベンゼン、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、塩化メチレ
ン、ヘキサメチルホスホトリアミド、アセトン、酢酸エ
チル、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、トルエン、
ジオキサン等の不活性溶媒の他に、一般式(IV)で表され
るアルコール類又は反応基質を反応溶媒として使用する
こともできる。
えば炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、酢酸ナトリウム等の塩基を例示することができ、
好ましくは炭酸ナトリウム又は酢酸ナトリウムを使用す
るのが良い。使用する塩基の量としては、生成する塩化
水素を中和するのに必要な量を使用するのが好ましい
が、これより多くても少なくても良い。本製造方法で使
用する不活性溶媒としては本反応の進行を著しく阻害し
ないものであれば良く、例えばヘキサン、ベンゼン、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、塩化メチレ
ン、ヘキサメチルホスホトリアミド、アセトン、酢酸エ
チル、クロロベンゼン、フルオロベンゼン、トルエン、
ジオキサン等の不活性溶媒の他に、一般式(IV)で表され
るアルコール類又は反応基質を反応溶媒として使用する
こともできる。
【００１０】本製造方法は常圧〜加圧下に反応すること
ができ、一酸化炭素の圧力は１〜１００気圧の範囲で適
宜選択され、好ましくは５〜５０気圧の範囲で行われ
る。反応温度は通常室温〜２５０℃の範囲で行うことが
でき、好ましくは室温〜２００℃の範囲である。本製造
方法で使用される反応容器としては通常用いられるもの
であれば良く、加圧反応の場合は反応圧力に耐え得るも
のであれば良く、通常金属製又はガラス製反応器を使用
することができる。反応時間は反応規模、反応温度によ
り一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すれ
ば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法によ
り単離し、必要に応じて精製等の操作を行うことにより
一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル類
を製造することができる。又、目的物を含む反応系から
目的物を単離せずして、次いで加水分解反応に供するこ
ともできる。
ができ、一酸化炭素の圧力は１〜１００気圧の範囲で適
宜選択され、好ましくは５〜５０気圧の範囲で行われ
る。反応温度は通常室温〜２５０℃の範囲で行うことが
でき、好ましくは室温〜２００℃の範囲である。本製造
方法で使用される反応容器としては通常用いられるもの
であれば良く、加圧反応の場合は反応圧力に耐え得るも
のであれば良く、通常金属製又はガラス製反応器を使用
することができる。反応時間は反応規模、反応温度によ
り一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すれ
ば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法によ
り単離し、必要に応じて精製等の操作を行うことにより
一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル類
を製造することができる。又、目的物を含む反応系から
目的物を単離せずして、次いで加水分解反応に供するこ
ともできる。
【００１１】(2). 一般式(II)→ 一般式(I) 本製造方法はエステル類の加水分解反応であり、溶媒と
してはメタノール、エタノール、プロパノール等のアル
コール類、水等を使用することができ、これらの溶媒は
単独で又は混合して使用することができる。塩基として
は無機塩基を使用することができ、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水酸化物を使用することができ、その使用量は
一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル類
に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使
用すれば良い。反応温度は室温乃至使用する溶媒の沸点
域の範囲であり、反応時間は反応温度、反応規模等によ
り一定しないが１時間乃至２４時間の範囲である。反応
終了後、目的物を含む反応系を酸性とし、溶媒抽出等の
方法により単離し、必要に応じて精製操作をすることに
より目的物を製造することができる。
してはメタノール、エタノール、プロパノール等のアル
コール類、水等を使用することができ、これらの溶媒は
単独で又は混合して使用することができる。塩基として
は無機塩基を使用することができ、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の水酸化物を使用することができ、その使用量は
一般式(II)で表されるハロゲン置換安息香酸エステル類
に対して等モル乃至過剰モルの範囲から適宜選択して使
用すれば良い。反応温度は室温乃至使用する溶媒の沸点
域の範囲であり、反応時間は反応温度、反応規模等によ
り一定しないが１時間乃至２４時間の範囲である。反応
終了後、目的物を含む反応系を酸性とし、溶媒抽出等の
方法により単離し、必要に応じて精製操作をすることに
より目的物を製造することができる。
【００１２】製造方法２．一般式(III) → 一般式(I) 本製造方法は製造方法１での一般式(IV)で表されるアル
コール類を使用しない以外は同様の条件で反応を行うこ
とにより一般式(I) で表されるハロゲン置換安息香酸類
を製造することができる。本製造方法で塩基は無機塩基
の使用が好ましく、更には炭酸ナトリウムを使用するの
が良い。
コール類を使用しない以外は同様の条件で反応を行うこ
とにより一般式(I) で表されるハロゲン置換安息香酸類
を製造することができる。本製造方法で塩基は無機塩基
の使用が好ましく、更には炭酸ナトリウムを使用するの
が良い。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１． １−１−１．２−クロロ−４，５−ジフルオロ安息香酸
エチルエステルの製造
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１． １−１−１．２−クロロ−４，５−ジフルオロ安息香酸
エチルエステルの製造
【化１１】 ステンレス製１００mlオートクレーブに２−クロロ−
４，５−ジフルオロブロモベンゼン４．５５ｇ（２０ミ
リモル）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム０．０１４０ｇ（０．０２ミリモル）、１，４
−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．１７１ｇ
（０．４ミリモル）、炭酸ナトリウム１．１７ｇ（１１
ミリモル）及びエタノール１５mlを入れ、一酸化炭素１
０ｋｇ／ｃｍ2 で３回置換した後、一酸化炭素２０ｋｇ
／ｃｍ2 に充填して１９０℃の油浴中で３時間反応を行
った。反応終了後、反応系を冷却してガスを除去した
後、反応液を濾過して不溶物を除去し、酢酸エチルによ
り目的物を抽出し、抽出液を水洗、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧下の濃縮することにより目的物
４．７ｇを得た。 物性 沸点（b.p.） １５０℃／１０ｍｍＨｇ ｎＤ １．４９６２（１７．１℃）1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm) 1.40(t.3H), 4.40(q.2H), 7.30(d.d.1H), 7.74(d.d.1
H). 収率 ４３．８％
４，５−ジフルオロブロモベンゼン４．５５ｇ（２０ミ
リモル）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム０．０１４０ｇ（０．０２ミリモル）、１，４
−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．１７１ｇ
（０．４ミリモル）、炭酸ナトリウム１．１７ｇ（１１
ミリモル）及びエタノール１５mlを入れ、一酸化炭素１
０ｋｇ／ｃｍ2 で３回置換した後、一酸化炭素２０ｋｇ
／ｃｍ2 に充填して１９０℃の油浴中で３時間反応を行
った。反応終了後、反応系を冷却してガスを除去した
後、反応液を濾過して不溶物を除去し、酢酸エチルによ
り目的物を抽出し、抽出液を水洗、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧下の濃縮することにより目的物
４．７ｇを得た。 物性 沸点（b.p.） １５０℃／１０ｍｍＨｇ ｎＤ １．４９６２（１７．１℃）1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm) 1.40(t.3H), 4.40(q.2H), 7.30(d.d.1H), 7.74(d.d.1
H). 収率 ４３．８％
【００１４】同様にして一般式(II)で表される以下の化
合物を製造した。
合物を製造した。
【化１２】
【表１】 注：b.p.(mmHg)は沸点（℃）／圧力(mmHg)を示す。
【００１５】第１表の化合物の 1H-NMR データを第２表
に示す。
に示す。
【表２】
【００１６】１−１−１と同様にして第３表に示す条件
で反応を行って目的物を得た。
で反応を行って目的物を得た。
【表３】
【００１７】
【表４】
【００１８】
【表５】 注：PdCl2(tpp)2 ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム 5%-Pd-C ５％−パラジウム−カーボン dppb １，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン tpp トリフェニルホスフィン 収率は上段がガスクロマトグラフィーの面積百分率を示
し、下段の括弧内は単離収率を示す。実施例1-1-14は反
応時間５時間、1-1-15は８時間。
し、下段の括弧内は単離収率を示す。実施例1-1-14は反
応時間５時間、1-1-15は８時間。
【００１９】１−２． ２−クロロ−４，５−ジフルオ
ロ安息香酸の製造
ロ安息香酸の製造
【化１３】 １−１で得られた２−クロロ−４，５−ジフルオロ安息
香酸エチルエステル２．８７ｇ（１３ミリモル）、８５
％水酸化カリウム１．０３ｇ（１６ミリモル）、エタノ
ール３．３ml及び水６．５mlとを５０℃で１時間反応を
行った。反応終了後、濃塩酸２．７ｇ（２６ミリモル）
を加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗・
乾燥後濃縮することにより目的物２．２７ｇを得た。 物性 融点（m.p.） １０５℃1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm): 7.36(d.d.1H), 7.93(d.
d.1H). 収率 ９０．６％
香酸エチルエステル２．８７ｇ（１３ミリモル）、８５
％水酸化カリウム１．０３ｇ（１６ミリモル）、エタノ
ール３．３ml及び水６．５mlとを５０℃で１時間反応を
行った。反応終了後、濃塩酸２．７ｇ（２６ミリモル）
を加えて目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗・
乾燥後濃縮することにより目的物２．２７ｇを得た。 物性 融点（m.p.） １０５℃1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm): 7.36(d.d.1H), 7.93(d.
d.1H). 収率 ９０．６％
【００２０】実施例２． ２−１． ２−クロロ−４，５−ジフルオロ安息香酸の
製造
製造
【化１４】 ステンレス製１００mlオートクレーブに２−クロロ−
４，５−ジフルオロブロモベンゼン３．４１ｇ（１５ミ
リモル）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム０．０１０５ｇ（０．０１５ミリモル）、１，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．０３２ｇ
（０．０７５ミリモル）、炭酸ナトリウム３．１８ｇ
（３０ミリモル）及びトルエン１１．３mlを入れ、一酸
化炭素１０ｋｇ／ｃｍ2 で３回置換した後、一酸化炭素
２０ｋｇ／ｃｍ2 に充填して１９０℃の油浴中で３時間
反応を行った。反応終了後、反応系を冷却してガスを除
去した後、反応液に水５０mlを加えて濾過して不溶物を
除去し、濾液を分液して水層に塩酸を加えて酸性とした
後、酢酸エチルで目的物を抽出し、抽出液を水洗及び無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮することに
より目的物１．１ｇを得た。 物性 b.p.１０５℃／１０ｍｍＨｇ1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm) 7.36(d.d.1H), 7.93(d.d.1H). 収率 ３８．１％ ２−１と同様にして第３表に示す条件で反応を行って目
的物を得た。
４，５−ジフルオロブロモベンゼン３．４１ｇ（１５ミ
リモル）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム０．０１０５ｇ（０．０１５ミリモル）、１，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン０．０３２ｇ
（０．０７５ミリモル）、炭酸ナトリウム３．１８ｇ
（３０ミリモル）及びトルエン１１．３mlを入れ、一酸
化炭素１０ｋｇ／ｃｍ2 で３回置換した後、一酸化炭素
２０ｋｇ／ｃｍ2 に充填して１９０℃の油浴中で３時間
反応を行った。反応終了後、反応系を冷却してガスを除
去した後、反応液に水５０mlを加えて濾過して不溶物を
除去し、濾液を分液して水層に塩酸を加えて酸性とした
後、酢酸エチルで目的物を抽出し、抽出液を水洗及び無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮することに
より目的物１．１ｇを得た。 物性 b.p.１０５℃／１０ｍｍＨｇ1 H-NMR(CDCl3/TMS δ値、ppm) 7.36(d.d.1H), 7.93(d.d.1H). 収率 ３８．１％ ２−１と同様にして第３表に示す条件で反応を行って目
的物を得た。
【００２１】
【表６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 51/09 51/10 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (12)
- 【請求項１】 一般式(III) 【化１】 （式中、Ｘは同一又は異なっても良い塩素原子又はフッ
素原子を示し、ｎは３〜５の整数を示す。）で表される
芳香族臭素化物、一般式(IV) 【化２】R-OH (IV) （式中、ＲはC1-6アルキル基を示す。）で表されるアル
コール類及び一酸化炭素をパラジウム化合物、リン化合
物及び塩基の存在下に一酸化炭素と反応させて一般式(I
I) 【化３】 （式中、Ｒ、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表されるハロ
ゲン置換安息香酸エステル類とし、該エステル類を単離
し又は単離せずして加水分解することを特徴とする一般
式(I) 【化４】 （式中、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表されるハロゲン
置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項２】 一般式(I) で表される安息香酸が２−ク
ロロ−４，５−ジフルオロ安息香酸である請求項第１項
記載のハロゲン置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項３】 パラジウム化合物がパラジウム金属、固
体に担持されたパラジウム金属、０価若しくは２価の錯
体である請求項第１項記載のハロゲン置換安息香酸類の
製造方法。 - 【請求項４】 パラジウム化合物がパラジウム−カーボ
ン、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、テトラキス（ト
リフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（ベ
ンゾニトリル）パラジウム、ジクロロビス（アセトニト
リル）パラジウム又はジクロロビス（トリフェニルホス
フィン）パラジウムである請求項第３項記載のハロゲン
置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項５】 リン化合物がトリアルキルホスフィン、
トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、
トリアリールホスファイト、下記一般式(V)で表される
化合物から選択される化合物一種以上である請求項第１
項記載のハロゲン置換安息香酸類の製造方法。 一般式(V): 【化５】 (R')2-P-Y-P-(R')2 (V) （式中、R'はC1-6アルキル基、フェニル基又はハロゲン
原子、C1-6アルキル基、ハロC1-6アルキル基、C1-6アル
コキシ基、ハロC1-6アルコキシ基、C1-6アルキルチオ基
又はハロC1-6アルキルチオ基から選択される１以上の置
換基を有するフェニル基を示し、Y はC1-6のアルキレン
基を示す。） - 【請求項６】 リン化合物がビス（ジフェニルホスフィ
ノ）アルカンである請求項第５項記載のハロゲン置換安
息香酸の製造方法。 - 【請求項７】 一般式(III) 【化６】 （式中、Ｘは同一又は異なっても良い塩素原子又はフッ
素原子を示し、ｎは３〜５の整数を示す。）で表される
芳香族臭素化物及び一酸化炭素をパラジウム化合物、有
機リン系化合物及び塩基の存在下に一酸化炭素と反応さ
せることを特徴とする一般式(I) 【化７】 （式中、Ｘ及びｎは前記に同じ。）で表されるハロゲン
置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項８】 一般式(I) で表される安息香酸が２−ク
ロロ−４，５−ジフルオロ安息香酸である請求項第７項
記載のハロゲン置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項９】 パラジウム化合物がパラジウム金属、固
体に担持された金属パラジウム、０価若しくは２価の錯
体である請求項第７項記載のハロゲン置換安息香酸類の
製造方法。 - 【請求項１０】 パラジウム化合物がパラジウム−カー
ボン、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス
（ベンゾニトリル）パラジウム、ジクロロビス（アセト
ニトリル）パラジウム又はジクロロビス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウムである請求項第９項記載のハロ
ゲン置換安息香酸類の製造方法。 - 【請求項１１】 リン化合物がトリアルキルホスフィ
ン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイ
ト、トリアリールホスファイト、下記一般式(V) で表さ
れる化合物から選択される化合物一種以上である請求項
第７項記載のハロゲン置換安息香酸類の製造方法。 一般式(V): 【化８】 (R')2-P-Y-P-(R')2 (V) （式中、R'はC1-6アルキル基、フェニル基又はハロゲン
原子、C1-6アルキル基、ハロC1-6アルキル基、C1-6アル
コキシ基、ハロC1-6アルコキシ基、C1-6アルキルチオ基
又はハロC1-6アルキルチオ基から選択される１以上の置
換基を有するフェニル基を示し、Y はC1-6のアルキレン
基を示す。） - 【請求項１２】 リン化合物がビス（ジフェニルホスフ
ィノ）アルカンである請求項第１１項記載のハロゲン置
換安息香酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7184913A JPH0873403A (ja) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | ハロゲン置換安息香酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-171808 | 1994-06-30 | ||
| JP17180894 | 1994-06-30 | ||
| JP7184913A JPH0873403A (ja) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | ハロゲン置換安息香酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873403A true JPH0873403A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=26494406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7184913A Pending JPH0873403A (ja) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | ハロゲン置換安息香酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0873403A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0819679A3 (de) * | 1996-07-18 | 1998-01-28 | Lonza Ag | Verfahren zur Herstellung von Pyrimidin-2-carbonsäureestern |
| EP0820987A1 (de) * | 1996-07-23 | 1998-01-28 | Lonza Ag | Verfahren zur Herstellung von Pyridin-2,3-dicarbonsäureestern |
| JP2002167351A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Adchemco Corp | ４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテルおよびその誘導体の製造方法 |
| US7057067B2 (en) | 2000-04-28 | 2006-06-06 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Process for the preparation of 2-halobenzoic acids |
| CN111995520A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-11-27 | 埃法姆药物研发(宁夏)有限公司 | 一种4-甲酰基-2-（三氟甲基）苯甲酸的合成方法 |
-
1995
- 1995-06-28 JP JP7184913A patent/JPH0873403A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0819679A3 (de) * | 1996-07-18 | 1998-01-28 | Lonza Ag | Verfahren zur Herstellung von Pyrimidin-2-carbonsäureestern |
| EP0820987A1 (de) * | 1996-07-23 | 1998-01-28 | Lonza Ag | Verfahren zur Herstellung von Pyridin-2,3-dicarbonsäureestern |
| US7057067B2 (en) | 2000-04-28 | 2006-06-06 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Process for the preparation of 2-halobenzoic acids |
| JP2002167351A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-11 | Adchemco Corp | ４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテルおよびその誘導体の製造方法 |
| CN111995520A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-11-27 | 埃法姆药物研发(宁夏)有限公司 | 一种4-甲酰基-2-（三氟甲基）苯甲酸的合成方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5880309A (en) | Phenylphosphonic acid derivative and production process therefor | |
| JPH06192281A (ja) | α−カルボニルホスフィンオキシドの製造方法および２−ヒドロキシベンジルホスフィンオキシド | |
| JPH0873403A (ja) | ハロゲン置換安息香酸類の製造方法 | |
| JP2693615B2 (ja) | １‐ハロ‐４，６，１０‐ヘキサデカトリエン化合物およびその製造方法 | |
| JP4165858B2 (ja) | ｔｅｒｔ−アミロキシハロゲノベンゼン化合物とその製法およびｔｅｒｔ−アミロキシシアノビフェニル化合物とその製法、並びにシアノヒドロキシビフェニル化合物の製法 | |
| JPH11193292A (ja) | フェニルホスホン酸誘導体及びその製造方法 | |
| JP3357076B2 (ja) | ジカルボン酸モノエステルの製造方法 | |
| JP2984847B2 (ja) | 安息香酸誘導体の製造方法及びその中間体並びにその製造方法 | |
| JP3268459B2 (ja) | アセトフェノン類の製造法 | |
| JP3605732B2 (ja) | ピロメリット酸誘導体の製造方法 | |
| JPH07316099A (ja) | 置換ベンゾイル脂肪酸誘導体の製造方法 | |
| EP0675102B1 (en) | A process for producing a substituted benzoyl fatty acid derivative | |
| JP2586950B2 (ja) | ｐ‐又はｍ‐ｔｅｒｔ―ブトキシベンズアルデヒドの製造法 | |
| JPS6225655B2 (ja) | ||
| JP4505876B2 (ja) | ４−ハロベンゾフラン誘導体及びその製造方法 | |
| JP3254746B2 (ja) | 末端アセチレン化合物およびその製造法 | |
| JP2748513B2 (ja) | ５―フルオロ―２―ニトロフェノキシ酢酸エステルの製造法 | |
| EP0990639A1 (en) | Process for producing n-cyclopropylanilines and intermediates used therefor | |
| JP2001335529A (ja) | ２−（１−ヒドロキシアルキル）シクロアルカノンの製造方法 | |
| Ohe et al. | Palladium (II)-and rhodium (III)-catalyzed carbonylation reaction of aryltin compounds | |
| US5364983A (en) | Process for the preparation of aromatic polyhydroxy compounds | |
| CN115279725A (zh) | 用于合成烷基2-苯甲酰基苯甲酸酯的高效和选择性的途径 | |
| JP3220973B2 (ja) | ジアリールカーボネートの製法 | |
| JP3357147B2 (ja) | ５−フェニルペンタン酸の製造方法 | |
| JPS6212784B2 (ja) |