JP2004051642A - 含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

【課題】電子供与性基を持つハロゲン化芳香族化合物において、ハロゲンとして必ずしもヨウ素を持っている必要はなく、クロル、ブロムでも含フッ素アルコキシ芳香族化合物を得ることができる方法を提供する。
【解決手段】　式
Ａｒ−Ｘ
（式中、Ａｒは電子供与性の基から選ばれる任意の１〜３個で置換された芳香族基であり、Ｘは含フッ素アルコキシ基である。）で表される含フッ素アルコキシ芳香族化合物を製造するにあたり、式
Ａｒ−Ｙ
　（式中、Ｙはハロゲン原子であり、Ａｒは前記と同意義である。）で表されるハロゲン化芳香族化合物と式Ｍ−Ｘ（式中、Ｍはアルカリ金属であり、Ｘは前記と同意義である。）で表される含フッ素アルコキシドを、ハロゲン化銅の存在下、ジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド溶媒中で反応させることを特徴とする含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
【選択図】　なし

Description

発明の詳細な説明

　本発明は、含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法に関する。

　含フッ素アルコキシ基をもつ芳香族化合物は医薬・農薬分野で多く利用されている（非特許文献１）。そのため、簡便に含フッ素アルコキシ基を芳香環に導入する方法の開発は重要である。
　含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造にあたり、電子求引性基を持つハロゲン化芳香族化合物は活性であり、ヘキサメチルフォスホラミド（ＨＭＰＴ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）溶媒中で、容易に含フッ素アルコキサイドと反応し含フッ素アルコキシ芳香族化合物を製造することができる（非特許文献１）。一方、電子供与性基を持つ不活性なハロゲン化芳香族化合物でも、ハロゲンとしてヨウ素を用い、２倍モルのヨウ化銅の存在下ＨＭＰＴ溶媒を用いることで含フッ素アルコキシ芳香族化合物を得ることができる報告がある（非特許文献３）。しかし、本報告には、ＨＭＰＴ溶媒中では還元的にヨード原子が脱離する副反応が、特に高温にすると起こると記載されている。また、ＤＭＦ溶媒中ではアルコキシドが導入されずジメチルアミノ化が副反応として起こること、ハロゲンとしてブロムでは長時間反応させても３０％以下の収率であること、クロルでは反応しないことが記載されている。また。さらに、電子供与性基としてアルキル基、アルコキシ基の例があるだけであり、水酸基については記載がない。　荒井昭治ら，ファインケミカル，２９巻，５−１５頁（２０００年） 　Ｊ．Ｐ．Ｉｄｏｕｘら，Ｊ．Ｏｒｇ，Ｃｈｅｍ．，１９８３，４８，３７７１ 　Ｈ．Ｓｕｚｕｋｉら，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８５，４９９

発明が解決しようとする課題

　本発明は、電子供与性基を持つハロゲン化芳香族化合物において、ハロゲンとして必ずしもヨウ素を持っている必要はなく、クロル、ブロムでも含フッ素アルコキシ芳香族化合物を得ることができる方法を提供することを目的とする。さらに、電子供与性基としてフェノール性水酸基、アシルアミノ基などが芳香族基に置換している場合でも極めて簡便に含フッ素アルコキシ基を導入する方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

　本発明者は、上記目的に鑑み鋭意検討した結果、ハロゲン化銅の存在下、種々の電子供与性基を持つハロゲン化芳香族化合物に含フッ素アルコキシドをジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド溶媒中で反応させることにより含フッ素アルコキシ基を導入させることを見いだし、本発明を完成した。
　本発明は、式
Ａｒ−Ｘ
（式中、Ａｒは電子供与性の基から選ばれる任意の１〜３個で置換された芳香族基であり、Ｘは含フッ素アルコキシ基である。）で表される含フッ素アルコキシ芳香族化合物を製造するにあたり、式
Ａｒ−Ｙ
（式中、Ｙはハロゲン原子であり、Ａｒは前記と同意義である。）で表されるハロゲン化芳香族化合物と式Ｍ−Ｘ（式中、Ｍはアルカリ金属であり、Ｘは前記と同意義である。）で表される含フッ素アルコキシドを、ハロゲン化銅の存在下、ジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド溶媒中で反応させることを特徴とする含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法である。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明において、芳香族基とは１〜３の環からなる芳香族基であり、例えばフェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、ピリジル基、キノリル基、インドリル基などが挙げられる。当該芳香族基は任意の官能基で置換されていてもよい。任意の官能基は反応に関与しないものであればいずれであってもよいが、本願発明は一般にこの種の反応に適しないとされている電子供与性基が芳香族基に置換していても反応が進行することに特徴があるので、電子供与性基が好ましい。このような電子供与性基としては、水酸基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミノ基及びアシルアミノ基が挙げられ、これらの電子供与性基から選ばれる１〜３個で芳香族基が置換される。
　含フッ素アルコキシ基とはフッ素原子が置換した直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ基であり、炭素原子数は特に限定されるものではないが２〜５個が好ましい。それらは、例えば２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基などが挙げられる。
　Ｙで示されるハロゲン原子とは、塩素、臭素、ヨウ素原子などであるが、本発明が利便性の効果を奏するのは塩素原子である。
　Ｍで示されるアルカリ金属は、リチウム、カリウム、ナトリウムなどが挙げられる。
　ハロゲン化銅のハロゲン原子は、塩素、臭素又はヨウ素原子である。
　本発明に用いられる溶媒としては、ジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミドなどが用いられるが、ジメチルアセトアミドがより好ましい。
　本発明の製造法によれば、含フッ素アルコールを金属アルカリなどを用いる通常の方法により含フッ素アルコキシドとし、これにジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド溶媒、ハロゲン化芳香族化合物及びハロゲン化銅を加え、加熱下反応させることにより、目的の含フッ素アルコキシ芳香族化合物を得ることができる。反応温度は室温〜１５０℃であり、１１０〜１３０℃が好ましい。反応時間は２〜１５時間である。

発明の効果

　本発明は、ハロゲン化銅としてヨウ化銅のみならず塩化銅及び臭化銅が０．１−２倍モルで使用でき、溶媒としてジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミドを用い、特に最も反応しにくいであろうと思われるフェノール性水酸基が共存していてもハロゲン原子を含フッ素アルコキシ基で置換できるのが特徴である。この場合、たとえば芳香族化合物に存在する二つの水酸基のうち望む一つだけを含フッ素アルコキシ基に変えたことと同意義になり、一般にそのような化合物は容易には合成できないので本法の利用が価値ある。
　また、アミノ基と含フッ素アルコキシ基が共に置換している芳香族化合物の合成においても、対応するアシルアミノ基とハロゲン原子をもつ芳香族化合物に本法を適用し、含フッ素アルコキシ化を行い、続いて加水分解すれば容易にアミノ基と含フッ素アルコキシ基が共に置換している芳香族化合物を合成できる。
ハロゲン化銅及びハロゲン化芳香族化合物のハロゲンとしてクロルを使用できるのは原料の入手が簡単になり、価格も安いので極めて経済的である。
　溶媒としてジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミドを用いることができるのは、これらが水に良く溶けるので有機溶媒による抽出操作が容易である。むろん、蒸留により溶媒を回収することもできる。
　先の｛従来の技術｝中に記載したＨＭＰＴ溶媒は健康並びに環境問題の上で有害（ｃａｒｃｉｎｏｇｅｎｉｃ）な溶媒であり、大量生産での使用には適さない。又ジメチルホルムアミド溶媒ではジメチルホルムアミドが分解しやすくジメチルアミノ化が起こる（非特許文献３）ことに鑑み、分解しにくいジメチルアセトアミド溶媒を使用したところ、反応は円滑に進行し、不活性と思われたブロムおよびクロル誘導体も含フッ素アルコキシ基と置換することができることを見出した。さらに、ジメチルホルムアミド溶媒でも本反応条件下ではジメチルアミノ化の副反応は起こらないことが確認できた。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
　実施例１　オルトトリフルオロエトキシフェノールの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（５２０ｍｇ）を冷却下加えソジウム　アルコキシドを合成した。次いで、ジメチルホルムアミドＤＭＦ（１５ｍｌ）、オルトブロモフェノール（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（６６４ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し、母液に６Ｍ　ＨＣｌ（１０ｍｌ）を加えて酸性とし酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×３）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：２）に付しオルトトリフルオロエトキシフェノール（２９０ｍｇ，８７％）を得た。
　ＩＲ（ｎｅａｔ）３５６０，１６００，１５０５，１２４０，１１７０，９７０，７５０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）δ４．４２（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８．１　Ｈｚ，２Ｈ），５．５８（ｓ，１Ｈ），６．８５−６．８９（ｍ，２Ｈ），６．９４−６．９９（ｍ，２Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　１９２（Ｍ^＋，８１．５），１０９（１００），８１（３９．６）
　ＨＲ−ＭＳ　ｍ／ｚ　ｆｏｒ　Ｃ_８Ｈ_７Ｆ_３Ｏ_２　ｃａｌｃｄ　１９２．０３９８，ｆｏｕｎｄ　１９２．０４００
　実施例２オルトトリフルオロエトキシフェノールの合成
　オルトクロロフェノール（３００ｍｇ，２．３３ｍｍｏｌ）及びＣｕＩ（２２３ｍｇ）を用い、それ以外は実施例１に従いオルトトリフルオロエトキシフェノール（３０４ｍｇ，６８％）を得た。
　実施例３オルトトリフルオロエトキシフェノールの合成
　ＣｕＢｒ（２４８ｍｇ）を用い、それ以外は実施例１に従いオルトトリフルオロエトキシフェノール（２０３ｍｇ，６１％）およびフェノール（４１ｍｇ，２５％）を得た。
　実施例４　メタトリフルオロエトキシフェノールの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（５２０ｍｇ）を冷却下加えソジウム　アルコキシドを合成した。次いで、ＤＭＦ（１５ｍｌ）、メタブロモフェノール（３０５ｍｇ）及びＣｕＩ（６６４ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し、母液に６Ｍ　ＨＣｌ（１０ｍｌ）を加え酸性とし酢酸エチル（３０ｍｌ３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×３）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：５）に付しメタトリフルオロエトキシフェノール（２９７ｍｇ，９０％）を得た。
　ＩＲ（ｎｅａｔ）：ｌ６０５，１４９５，１４６０，１２６５，１１６０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ_３）δ４．３２（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），５．０（ｓ，１Ｈ），６．４６（ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．４９−６．５４（ｍ，２Ｈ），７．１７（ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　１９２（Ｍ^＋）．
　実施例５　１−ベンジルオキシ−４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ベンゼン
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（２６２ｍｇ）を冷却下加えソジウムアルコキシドを合成した。次いで、ジメチルアセタミド（１５ｍｌ）、１−ベンジルオキシー４−ブロモベンゼン（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（４３５ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×３）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：３）に付し１−ベンジルオキシ−４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ベンゼン（２８５ｍｇ，９１％）を得た。

　ＩＲ（ＫＢｒ）１５２０，１４５５，１２８５，１２４０，１１６０，８３０，７５０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ４，２９（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），５．０３（ｓ，２Ｈ），６．４８−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．４６（ｍ，５Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２８２（Ｍ^＋，４５．３），９１（１００）．
　実施例６　４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）アセトアニリドの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（３２２ｍｇ）を冷却下加えソジウムアルコキシドを合成した。次いで、ジメチルアセタミド（１５ｍｌ）、４−ブロモアセトアニリド（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（２６８ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×２）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣を再結晶（ＡｃＯＥｔ／ｈｅｘａｎｅ）し、母液をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝２：ｌ）に付し４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）アセトアニリド（１２４ｍｇ＋７２ｍｇ＝１９６ｍｇ，６０％）を得た。

　ＩＲ（ＫＢｒ）３３００，１６６０，１５４０，１５２０，１１６５，９８０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ２．１７（ｓ，３Ｈ），４．３３（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８，１Ｈｚ，２Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２３３（Ｍ^＋，８５．９），１９１（８２．２），１０８（１００）
　実施例７　４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニールアセチックアシドの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（４１７ｍｇ）を冷却下加えソジウムアルコキシドを合成した。次いで、ジメチルアセタミド（１５ｍｌ）、４−ブロモフェニル酢酸（３００ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）及びＣｕＩ（２７ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１２時間攪拌した。反応終了後、５％ＨＣｌ（４０ｍｌ）を加え酸性とし酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×２）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝５：１）に付し、４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニールアセチックアシド（１９７ｍｇ，６０％）を得た。

　ＩＲ（ＫＢｒ）３０５０，１７０５，１６２０，１５２０，１２４０，１１９０，１１８０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ３．６２（ｓ，２Ｈ），４．３４（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．９１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）
　ＭＳ　ｍ／ｚ　２３４（Ｍ^＋，２８．４），１８９（１００）
　実施例８　３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ピリジンの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（４３７ｍｇ）を冷却下加えソジウム　アルコキシドを合成した。次いでジメチルアセタミド（１７ｍｌ）、３−ブロモピリジン（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（３６．４ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで３．５時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し、酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×３）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：３）に付し３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ピリジン（２２１ｍｇ，６６％）を得た。
　ＩＲ　ｎｅａｔ：１５８０，１４８０，１２９５，１２６０，１２３０，１１７０　ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ４．１６（ｑ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２７−７．２９（ｍ，２Ｈ），８．３４（ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），８．３８（Ｓ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　１７７（Ｍ^＋，１００），１０８（１９．８）
　実施例９　４−（２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ）トルエンの合成
　２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウム（４０３ｍｇ）を冷却下加え次いで暖めてソジウム　アルコキシドを合成した。次いで、ジメチルホルムアミド（１９ｍｌ）、４−ブロモトルエン（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（６７１ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで３．５時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し、酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、飽和食塩水（４０ｍｌ）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：２０）に付し４−（２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ）トルエン（２４３ｍｇ，６２％）を得た。
　ＩＲ（ｎｅａｔ）１６２０，１５９０，１４７０，１１２５，１１１０，８２０　ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ２．３０（ｓ，３Ｈ），４．３１（ｔ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝１１．９Ｈｚ，２Ｈ），６．０６（ｔｔ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝５３．６，５．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２２２（Ｍ^＋，１００），１２１（５９．０），１０７（４４．４），９１（５３．５），７７（２８．１）
　ＨＲ−ＭＳ　ｍ／ｚ　ｆｏｒ　Ｃ_１０Ｈ_１０Ｆ_４Ｏ　ｆｏｒ　ｃａｌｃｄ　２２２．０６６８，ｆｏｕｎｄ　２２２．０６８１．
　実施例１０　　２−（２，２，２−トリフロロエトキシ）アニリンの合成
　２，２，２−トリフルオロエチルアルコール（５ｍｌ）中に金属ナトリウ厶（２００ｍｇ）を冷却下加えソジウムアルコキシドを合成した。次いで、ジメチルアセタミド（１５ｍｌ）、２−ブロモアニリン（３００ｍｇ）及びＣｕＩ（３３３ｍｇ）を加え外温１２０Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、冷却下水（４０ｍｌ）を加え、不溶物をろ過し、酢酸エチル（３０ｍｌ×３）で抽出した。酢酸エチル層を合わせ、水（４０ｍｌ×２）で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎｅ＝１：５）に付し２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）アニリン（５２ｍｇ，１６％）を得た。
　ＩＲ（ｎｅａｔ）３４６０，３１６０，１６２０，１５９０，１５１０，１４６０，１１６５，９８０，７５０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ３．８４（ｂｒ　ｓ，２Ｈ），４．３６（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），６．６８−６．８２（ｍ，３Ｈ），６．８８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　１９１（Ｍ^＋，５６．５），１０８（１００），８０（７７．４）
　ＨＲ−ＭＳ　ｍ／ｚ　ｆｏｒ　Ｃ_８Ｈ_７Ｆ_３Ｏ_２　ｃａｌｃｄ　１９１．０５５８，ｆｏｕｎｄ　１９１．０５５１
　実施例１１　４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）キノリンの合成
　５０ｍｌのナスコールに水素化ナトリウム（６０％）（８６５ｍｇ，２１．６ｍｍｏｌ）を加え、無水ベンゼンで洗浄した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３ｍＬ）を加え、氷冷下、トリフルオロエタノール（４ｍＬ）を加えた。次いでその混合溶液に４−ブロモキノリン（３００ｍｇ，１，４４ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ（１３９ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（７ｍＬ）加え、アルゴンガス下、１３０℃、５時間、加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液に水（３０ｍＬ）を加え、不要物を吸引ろ過で除いた後、ろ液をＡｃＯＥｔ（２５ｍＬ　ｘ　３）で抽出し，ＡｃＯＥｔ層を飽和食塩水で洗浄，Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ：ｈｅｘａｎｅ＝１：１）で分離精製し、４−トリフルオロエトキシキノリン（２９３ｍｇ，９０％，ｍｐ３８−４６℃）を得た。
　ＩＲ（ＫＢｒ）１６３０，１５８５，１２９５，１２６５，１１７０，１１５０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）ｄ４．６２（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），８．９９（ｓ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２２７（Ｍ^＋，１００），１１６（５７．３），８９（１７．１）
　実施例１２　６−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）キノリンの合成
　５０ｍＬのナスコールに水素化ナトリウム（６０％）（９６ｍｇ，２．４１ｍｍｏｌ）を加え、無水ベンゼンで洗浄した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３ｍＬ）を加え、氷冷下、トリフルオロエタノール（４ｍＬ）を加えた。次いでその混合溶液に６−ブロモキノリン（１００ｍｇ，０．４８１ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ（９２ｍｇ，０．４８１ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）加え、アルゴンガス下、１３０℃、５時間、加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液に水（２５ｍＬ）を加え、不要物を吸引ろ過で除いた後、ろ液をＡｃＯＥｔ（２５ｍＬｘ３）で抽出し、ＡｃＯＥｔ層を飽和食塩水で洗浄、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ：ｈｅｘａｎｅ＝１：１）で分離精製し、６−トリフルオロエトキシキノリン（９９ｍｇ，９１％，ｍｐ　７１−７４℃）を得た。
　ＩＲ（ＫＢｒ）１６２５，１５０５，１２９０，１２３０，１１６０，１０７０，９８０，８３０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）ｄ４．４９（ｑ，Ｊ_Ｈ−Ｆ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ）；７．１２（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３５−７．５０（ｍ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，２Ｈ），８．８４（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２２７（Ｍ^＋，１００），１４４（１８．４），１１６（６０．４），８９（１２．７）．
　実施例１３　４−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）インドールの合成
　５０ｍＬのナスコールに水素化ナトリウム（６０％）（３１６ｍｇ，７．８９ｍｍｏｌ）を加え、無水ベンゼンで洗浄した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（５ｍＬ）を加え、氷冷下、トリフルオロエタノール（２ｍＬ）を加えた。次いでその混合溶液に４−ブロモインドール（１５０ｍｇ，０．７８９ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ（３０４ｍｇ，１．５７８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（３ｍＬ）加え、アルゴンガス下、１３０℃、４時間、加熱撹拌した。反応終了後、反応溶液に水（２５ｍＬ）を加え、不要物を吸引ろ過で除いた後、ろ液をＡｃＯＥｔ（３０ｍＬｘ２）で抽出した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ：ｈｅｘａｎｅ＝１：５）で分離精製し、４−トリフルオロエトキシインドール　（１１６．０ｍｇ，６８％，ｍｐ６７−６８℃）を得た。
　ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３４００，１５８５，１５００，１１６０，９８０，８６０，７５０ｃｍ^{−１
　１}Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）ｄ４．５０（ｑ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），６．４９−６．５６（ｍ，１Ｈ），６．６９（ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１０−７．１３（ｍ，２Ｈ），７．１６（ｄｄ，Ｊ＝３．２，２．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｂｒｓ，１Ｈ）
　ＥＩ−ＭＳ　ｍ／ｚ　２１５（Ｍ^＋，１００），１３９（９１．６），１１６（２２．４），１０４（４０．９）

Claims (7)

1. 　式
   Ａｒ−Ｘ
   （式中、Ａｒは電子供与性の基から選ばれる任意の１〜３個で置換された芳香族基であり、Ｘは含フッ素アルコキシ基である。）で表される含フッ素アルコキシ芳香族化合物を製造するにあたり、式
   Ａｒ−Ｙ
   （式中、Ｙはハロゲン原子であり、Ａｒは前記と同意義である。）で表されるハロゲン化芳香族化合物と式Ｍ−Ｘ（式中、Ｍはアルカリ金属であり、Ｘは前記と同意義である。）で表される含フッ素アルコキシドを、ハロゲン化銅の存在下、ジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド溶媒中で反応させることを特徴とする含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
2. 　電子供与性の基が、水酸基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミノ基又はアシルアミノ基である請求項１記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
3. 　芳香族基が、フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、ピリジル基、キノリル基又はインドリル基である請求項１又は２記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
4. 　芳香族基が、水酸基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミノ基及びアシルアミノ基から選ばれる任意の１〜３個で置換されたフェニル基である請求項１又は２記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
5. 　芳香族基が、水酸基で置換されたフェニル基である請求項４記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
6. 　Ｙが、塩素原子である請求項１〜５のいずれか１項記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。
7. 　溶媒が、ジメチルアセトアミドである請求項１〜６のいずれか１項記載の含フッ素アルコキシ芳香族化合物の製造法。