JPS6221708A - 粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法 - Google Patents

粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法

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JPS6221708A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造す
る方法に関する。
西独特許出願公開公報第3302745号からは粒子状
合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法が公知で
ある。その際原料としては高純度の四塩化珪素と高純度
の水とが用いられる。四塩化珪素の加水分解のためには
このものを過剰の水中にもたらすことができる。原料は
撹拌を行って互いに混きさせる。加水分解は室温〜沸点
の温度範囲において実施できる。加水分解生成物は濾過
または遠心分離により残留液相から分離し、続いて乾燥
させて得られた乾燥粒子状生成物すなわち二酸化珪素か
らそれをさらに加工して所望の物品を製造する。今般四
塩化珪素を過剰の水中にもたらして遣られた生成物から
は気泡の多い物品が生じることを見出だした。
西独特許公報第1596839号からは二成分または多
成分ガラスからの成形体の製法であってガラスの主成分
の少なくとも一種を液状または溶解有機化合物の形にお
いて加水分解されかつゲル化されているのが公知である
。そのゲルはまず乾燥され、続いて1230℃において
予備灼熱された後に微粉砕され!&後に1600℃にお
いて灼熱され、よって密実の成形体が生じる。
米国特許第4278632号からは二酸化珪素及び二酸
化チタンからガラス状物の製法が公知である。
この場合は珪素アルコキシド及びチタンアルコキシドを
加水分解し、生成するゲルを予め定められた形状とし、
乾燥させ、融点以下の温度での焼結によって単一体のガ
ラス状物に変える。引続いて焼結ずみ材料を砕いて微粒
子のガラスとし次にそれを再加工して難融性ガラス状物
を造る。
本発明の課題は粒子状二酸化珪素の嵩比重を石英粒子の
ような天然の粒子状二酸化珪素の嵩比重にできるだけ近
付くようにした気泡の少ない合成高純度二酸化珪素から
物品を製造する方法を提供するにある。
高純度四塩化珪素を高純度の水に撹拌を行いながら加え
、生成する加水分解生成物を乾燥させ、乾燥した粒子状
材料を再加工して物品とする合成高純度二酸化珪素製物
品の製法についての課題は本発明により、対応した四塩
化珪素対水の混合比率の選択により加水分解生成物とし
てゲルを造り、得られたゲルを塩酸の溜去後にまず10
0〜1000℃の範囲において予備乾燥させて予備生成
物とし、その予備生成物を室温において磨砕し、磨砕し
た粒子を篩分けて粒度が40〜1000μ輪の範囲の粒
子区分を得、引続いて篩分けずみの前記粒子区分をゆっ
くり最高1400℃の温度まで加熱して乾燥させ物品に
再加工可能の粒子状生成物とすることにより解決される
有利には予備乾燥は300〜700℃の温度範囲におい
て行う、予備乾燥中にゲルを及び/または乾燥中に篩分
けずみの粒子区分を撹拌または旋転するのが好都合と判
明した。
磨砕後の粒子から篩分けによって、粒度が本質6el 
J、−1+ A凸、瓜へ〇、1−小詰皿1−令2れヱ仲
帖ヱ区分を回収するのが有効であると判明した。この種
の粒子篩分は区分が石英ガラス溶融製品に再加工するの
に特によく適していることが判明した。
これは例えば篩分は粒子区分を酸水素バーナの炎中へ導
入することによって実施できる。
加水分解は本発明による方法の場合内面をガラスライニ
ングした石英製容器内において有利に行われる。それに
よって、付加的な不純分が加水分解生成物中に入らない
ことが確保される。そのほかこのことによって石英製品
の良好な赤外線透過性のためこの容器内の加水分解生成
物から塩酸を溜去でき、その際赤外線源は容器の外周に
取付けられる。
予備乾燥ならびに磨砕ずみ粒子の乾燥も有利に石英製品
または石英ガラスからなる装置中において行われて再加
工可能の合成二酸化珪素中への不純分の侵入ができるだ
け排除されることになる。
磨砕ずみの粒子の加熱速度としては毎時的100℃の加
熱速度が有効と判明した。約1000℃の温度に到達し
次第、この温度を数時間保持した1麦にさらに例えば1
200℃までゆっくり温度を上昇させ同じくこの温度を
数時間保持する。次に磨砕ずみの粒子を比較的速やかに
数時間以内に室温まで冷却させ、その後に再加工して所
望の石英ガラス製品を造ることができる。
本発明方法によれば、嵩比重が天然の粒子状二酸化珪素
のものにほぼ一致し、且つ再加工して気泡の少ない高純
度の石英ガラス製物品を造るのに適した微粉砕した気孔
の少ない高純度合成二酸化珪素を製造することができる
下記の実施例によって、第1図のフローシートに諸段階
が表しである本発明の詳細な説明する。
内面がガラスライニングしである石英製容器内に脱イオ
ンした高純度水2501を入れて置いた。
撹拌を行いながら液状の高純度四塩化珪素27、iを定
量供給ポンプにより約1時間内に水中へ導入した。その
際まずシリカゾルが生じた。
引続いて材料全体が固化してシリカゲルが生成した。シ
リカゲル中に含まれている塩酸の溶去のために石英製容
器を外から市販の赤外線源を用いて加熱した。大部分の
塩酸の溜去後に湿った二酸化珪素的57kl?が得られ
た。これを石英製容器から取り出した後に、石英製管で
内張した炉内において600℃の温度で約8時間予備乾
燥させた。石英製管は予備乾燥中ゆっくり回転され、よ
って二酸化珪素は旋転させられた。こうして得られた予
備生成物の重量は14.5kgであった。予備生成物が
室温に冷却した後にこれを磨砕して篩分け、80%を超
える粒子が63〜250μmの範囲の粒度である粒子区
分が得られた。引続いてこの粒子区分を石英ガラス製容
器内で撹拌しながら乾燥させた。その際には第2図に示
しである温度の時間的経過が維持された。この乾燥過程
において粒子区分はなおその重量の約5%を失った。こ
うして得られた微粒子生成物は、その嵩比重が天然の粒
子状二酸化珪素のものとほぼ一致し、例えば米国特許第
4368846号から公知のとおり酸水素バーナの炎中
に導入して加工し石英ガラス溶融製品とした。
本発明により製造された微粒子状生成物から高純度き酸
二酸化珪素製品への加工は勿論酸水素バーナによる石英
ガラス溶融製品の製造に限定されることなく、むしろ本
発明による微粒子合成生成物は天然の微粒子二酸化珪素
の理想的代替品であり、それ故従来天然の微粒子二酸化
珪素を加工して製品とした殆どすべてに使用することが
できる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明による高純度微粒子合成二酸化珪素の製
造及び加工方法の諸過程を示すフローシートである。 第2図は篩分けずみ粒子区分の乾燥の際の温度の時間的
経過を示す線図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、高純度の四塩化珪素を過剰の高純度の水に撹拌を行
    いながら加え、生成した加水分解生成物を乾燥し、乾燥
    した粒子状生成物をさらに目的物品に加工することから
    なる合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法にお
    いて、水に四塩化珪素を混入する比率の対応した選択に
    より加水分解生成物としてゲルを形成させ、得られたゲ
    ルを塩酸の溜去後にまず100〜1000℃の範囲のあ
    る温度において予備乾燥させて予備生成物とし、その予
    備生成物を室温において磨砕して微細粒子とし、磨砕さ
    れた粒子を篩分けて40〜1000μmの範囲の粒度の
    粒子区分をとり、篩分けた粒子を引続いて最高1400
    ℃の温度までゆつくり加熱して乾燥させ、さらに加工し
    て物品となし得る粒子状生成物とする方法。 2、ゲルを予備乾燥中に及び/または篩分けた粒子区分
    を乾燥中に撹拌するまたは旋転する、特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 3、予備乾燥は300〜700℃の温度範囲において行
    う特許請求の範囲第1項及び/または第2項記載の方法
    。 4、磨砕ずみの粒子を篩分けて、粒度が40〜600μ
    mの範囲にある粒子とする特許請求の範囲第1項から第
    3項までのいずれか1項記載の方法。 5、篩分けた粒子区分を毎時100℃の速度で加熱する
    特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれか1項記
    載の方法。 6、加水分解及び/または予備乾燥及び/または乾燥は
    石英製品または石英ガラス製の装置内において実施する
    特許請求の範囲第1項記載の方法。 7、塩酸の溜去のためには加水分解生成物を収容してい
    る容器を外部から赤外線をもって加熱する特許請求の範
    囲第1項または第6項記載の方法。 8、乾燥した粒子状生成物を酸水素バーナの炎中へ導入
    する特許請求の範囲第1項から第7項までのいずれか1
    項記載の方法。
JP61159901A 1985-07-17 1986-07-09 粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法 Granted JPS6221708A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02199037A (ja) * 1989-01-27 1990-08-07 Shinetsu Sekiei Kk 石英ガラスの製造方法
JPH0337120A (ja) * 1989-06-30 1991-02-18 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスの製造方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4767429A (en) * 1986-12-11 1988-08-30 American Telephone & Telegraph Co., At&T Bell Laboratories Glass body formed from a vapor-derived gel and process for producing same
JPH02124739A (ja) * 1988-10-31 1990-05-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 合成石英ガラスおよびその製造方法
US5141786A (en) * 1989-02-28 1992-08-25 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Synthetic silica glass articles and a method for manufacturing them
US5158758A (en) * 1989-04-24 1992-10-27 International Minerals & Chemical Corp. Production of silica having high specific surface area
JPH02307830A (ja) * 1989-05-18 1990-12-21 Chisso Corp 石英ガラス粉末の製造方法
JP2617822B2 (ja) * 1990-04-10 1997-06-04 日東化学工業株式会社 非焼結状クリストバライト粒子の製造方法
EP0486004B1 (en) * 1990-11-16 1996-09-11 Mitsubishi Chemical Corporation Method for producing a high-purity silica glass powder
US5236651A (en) * 1991-12-02 1993-08-17 Akzo N.V. Extrusion, collection, and drying of ceramic precursor gel to form dried gel particles
IT1304475B1 (it) * 1998-08-06 2001-03-19 Sacmi Procedimento ed impianto per la produzione di vetro ed in particolaredi fritte ceramiche.
US7797966B2 (en) * 2000-12-29 2010-09-21 Single Crystal Technologies, Inc. Hot substrate deposition of fused silica
US20020083740A1 (en) * 2000-12-29 2002-07-04 Pandelisev Kiril A. Process and apparatus for production of silica grain having desired properties and their fiber optic and semiconductor application
US20020117625A1 (en) * 2001-02-26 2002-08-29 Pandelisev Kiril A. Fiber optic enhanced scintillator detector
JP2006219309A (ja) * 2005-02-08 2006-08-24 Asahi Glass Co Ltd 多孔質石英ガラス母材の製造方法及び装置
US20120288716A1 (en) * 2010-01-07 2012-11-15 Mitsubishi Materials Corporation Synthetic amorphous silica powder
EP2690066A4 (en) 2011-03-23 2014-08-20 Mitsubishi Materials Corp SYNTHETIC AMORPHIC SILICONE POWDER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
CN102491273B (zh) * 2011-11-15 2013-09-04 四川银邦硅业有限公司 用多晶硅副产物四氯化硅制备高浓度盐酸的方法
CN105722788B (zh) 2014-01-29 2018-04-03 三菱综合材料株式会社 合成非晶质二氧化硅粉末及其制造方法
CN110612274B (zh) 2017-04-26 2022-04-01 东曹石英素材股份有限公司 抗紫外线石英玻璃及其制造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59137325A (ja) * 1983-01-27 1984-08-07 ワツカ−・ヘミトロニク・ゲゼルシヤフト・フユア・エレクトロニク・グルントシユトツフエ・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 高純度合成石英ガラスからなる物品の製法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1596839B1 (de) * 1966-05-07 1970-11-26 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Verfahren zur Herstellung von Formkoerpern aus Glaesern bei einer Temperatur unterhalb der ueblichen Schmelztemperatur
US3959174A (en) * 1971-08-24 1976-05-25 W. R. Grace & Co. Method of selectively producing high pore volume silica gel
JPS53298A (en) * 1976-06-23 1978-01-05 Nippon Saafuakutanto Kougiyou Process for producing epoxy resin emulsion
NL7707961A (nl) * 1977-07-18 1979-01-22 Stamicarbon Werkwijze ter bereiding van poreus, zuiver siliciumdioxyde.
NL7707960A (nl) * 1977-07-18 1979-01-22 Stamicarbon Werkwijze ter bereiding van poreus, zuiver siliciumdioxyde.
US4303641A (en) * 1978-05-24 1981-12-01 W. R. Grace & Co. Hydrous silica gel containing dentifrice
US4221691A (en) * 1979-02-16 1980-09-09 Dow Corning Corporation Method of hydrolyzing chlorosilanes
DE2952038C2 (de) * 1979-12-22 1982-03-11 Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau Schmelzvorrichtung aus Quarzglas zum Herstellen von massivem Quarzglas
US4278632A (en) * 1980-02-08 1981-07-14 Westinghouse Electric Corp. Method of conforming clear vitreous gal of silica-titania material
JPH05140797A (ja) * 1991-11-18 1993-06-08 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続電気めつき鋼帯の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59137325A (ja) * 1983-01-27 1984-08-07 ワツカ−・ヘミトロニク・ゲゼルシヤフト・フユア・エレクトロニク・グルントシユトツフエ・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 高純度合成石英ガラスからなる物品の製法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02199037A (ja) * 1989-01-27 1990-08-07 Shinetsu Sekiei Kk 石英ガラスの製造方法
JPH0337120A (ja) * 1989-06-30 1991-02-18 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4826521A (en) 1989-05-02
DE3525495C1 (de) 1987-01-02
GB2178020B (en) 1989-12-28
GB8617189D0 (en) 1986-08-20
GB2178020A (en) 1987-02-04
JPH0475848B2 (ja) 1992-12-02
FR2585013A1 (fr) 1987-01-23
FR2585013B1 (fr) 1990-06-29

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