JPH0337120A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
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- JPH0337120A JPH0337120A JP16935689A JP16935689A JPH0337120A JP H0337120 A JPH0337120 A JP H0337120A JP 16935689 A JP16935689 A JP 16935689A JP 16935689 A JP16935689 A JP 16935689A JP H0337120 A JPH0337120 A JP H0337120A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
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- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｍ発明の目的
［産業上の利用分野Ｊ
本発明は、石英ガラスの製造方法に関し、特に、アルキ
ルシリケートを主原料としてゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルに対し粉砕および熱処理を施して作成し
た非晶質シリカ粉を熔融することにより石英ガラスを製
造してなる石英ガラスの製造方法に関するものである。
ルシリケートを主原料としてゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルに対し粉砕および熱処理を施して作成し
た非晶質シリカ粉を熔融することにより石英ガラスを製
造してなる石英ガラスの製造方法に関するものである。
［従来の技術１
従来、この種の石英ガラスの製造方法としては、まず（
ｉｌ アルキル基Ｒをもつ適宜のアルキルシリケートＳ
ｉ ｆＯＲｌ ４を適宜のアルコール水溶液および微粉
末シリカと混合してシリカゲルを作成し、次いで（ｉｉ
ｌそのシリカゲルに対し溶媒ａ縮あるいは加熱などの適
宜の処理を加えることによって塊状のシリカゲルを作成
し、最後に（ｉｉｉｌ塊状のシリカゲルを熱処理炉に取
込み適宜の熱処理条件の下で焼結を実行することにより
、石英ガラスを製造するものが提案されていた。
ｉｌ アルキル基Ｒをもつ適宜のアルキルシリケートＳ
ｉ ｆＯＲｌ ４を適宜のアルコール水溶液および微粉
末シリカと混合してシリカゲルを作成し、次いで（ｉｉ
ｌそのシリカゲルに対し溶媒ａ縮あるいは加熱などの適
宜の処理を加えることによって塊状のシリカゲルを作成
し、最後に（ｉｉｉｌ塊状のシリカゲルを熱処理炉に取
込み適宜の熱処理条件の下で焼結を実行することにより
、石英ガラスを製造するものが提案されていた。
［解決すべき問題点１
しかしながら、従来の石英ガラスの製造方法では、（ｉ
）石英ガラスに対し高温状態（たとえば最高焼結温度よ
り２００〜３００℃程度高い温度）で熱処理を施すと、
発泡あるいは失透を生じてしまう欠点があり、結果的に
１ｉｉ１石英ガラスを高温状態で使用できない欠点、あ
るいはｆｉｉｉ１石英管などを製造するために加熱熔融
することができない欠点があった。
）石英ガラスに対し高温状態（たとえば最高焼結温度よ
り２００〜３００℃程度高い温度）で熱処理を施すと、
発泡あるいは失透を生じてしまう欠点があり、結果的に
１ｉｉ１石英ガラスを高温状態で使用できない欠点、あ
るいはｆｉｉｉ１石英管などを製造するために加熱熔融
することができない欠点があった。
そこで、本発明は、これらの欠点を除去すべく、アルキ
ルシリケートを主原料としてゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の
非晶質シリカ粉とし、１０００〜１４００℃の温度で熱
処理してＯＨ基を取除いたのち、Ｉ Ｔｏｒｒ以下の真
空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱することによ
り、石英ガラスを製造してなる石英ガラスの製造方法を
提供せんとするちのである。
ルシリケートを主原料としてゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の
非晶質シリカ粉とし、１０００〜１４００℃の温度で熱
処理してＯＨ基を取除いたのち、Ｉ Ｔｏｒｒ以下の真
空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱することによ
り、石英ガラスを製造してなる石英ガラスの製造方法を
提供せんとするちのである。
（２）発明の構成
［問題点の解決手段］
本発明により提供される問題点の解決手段は、「アルキ
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを熱処理することにより石英ガラスを製造
してなる石英ガラスの製造方法において、 （ａ）乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の
非晶質シリカ粉を作 成するための粉砕工程と、 （ｂｌ粉砕工程で作成された最大粒子径が６００μ以下
の非晶質シリカ粉を １０００〜１４００℃の温度に加熱するための熱処理工
程と、 （ｃｌ熱処理工程で熱処理された非晶質シリカ粉をＩ
Ｔｏｒｒ以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に
加熱し て熔融するための熔融工程と を備えてなることを特徴とする石英ガラスの製造方法」 である。
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを熱処理することにより石英ガラスを製造
してなる石英ガラスの製造方法において、 （ａ）乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の
非晶質シリカ粉を作 成するための粉砕工程と、 （ｂｌ粉砕工程で作成された最大粒子径が６００μ以下
の非晶質シリカ粉を １０００〜１４００℃の温度に加熱するための熱処理工
程と、 （ｃｌ熱処理工程で熱処理された非晶質シリカ粉をＩ
Ｔｏｒｒ以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に
加熱し て熔融するための熔融工程と を備えてなることを特徴とする石英ガラスの製造方法」 である。
［作用］
本発明にかかる石英ガラスの製造方法は、アルキルシリ
ケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成した乾
燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の非晶質シ
リカ粉を作成するための粉砕工程を備えているので。
ケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成した乾
燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の非晶質シ
リカ粉を作成するための粉砕工程を備えているので。
（ｉｌ後続の熱処理工程における熱処理効果を増大する
作用 をなす。
作用 をなす。
また、本発明にかかる石英ガラスの製造方法は、アルキ
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た最大粒子径が６００ｕ以下の非晶質シリカ粉を１００
０〜１４００℃の温度に加熱するための熱処理工程を備
えているので、（ｉｉ！石英ガラス中におけるＯＨ基の
存在量を削減する作用 をなし、ひいては （ｉｉｉｌ加熱熔融に際し石英ガラスの発泡を防止する
作用 をなす。
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た最大粒子径が６００ｕ以下の非晶質シリカ粉を１００
０〜１４００℃の温度に加熱するための熱処理工程を備
えているので、（ｉｉ！石英ガラス中におけるＯＨ基の
存在量を削減する作用 をなし、ひいては （ｉｉｉｌ加熱熔融に際し石英ガラスの発泡を防止する
作用 をなす。
更に、本発明にかかる石英ガラスの製造方法は、アルキ
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た非晶質シリカ粉を熱処理工程で熱処理したのちＩ Ｔ
ｏｒｒ以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加
熱して熔融するための熔融工程を備えているので、 １ｉｖｌ加熱熔融に際して石英ガラス中に混入される気
泡の量を削減する作用 をなす。
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た非晶質シリカ粉を熱処理工程で熱処理したのちＩ Ｔ
ｏｒｒ以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加
熱して熔融するための熔融工程を備えているので、 １ｉｖｌ加熱熔融に際して石英ガラス中に混入される気
泡の量を削減する作用 をなす。
【実施例］
次に、本発明にかかる石英ガラスの製造方法について、
その好ましい実施例を挙げ、具体的に説明する。しかし
ながら、以下に説明する実施例は１本発明の理解を容易
化ないし促進化するために記載されるものであって、本
発明を限定するために記載されるものではない、換言す
れば、以下に説明される実施例において開示される各要
素は２本発明の精神ならびに技術的範囲に属する全ての
設計変更ならびに均等物置換を含むちのである。
その好ましい実施例を挙げ、具体的に説明する。しかし
ながら、以下に説明する実施例は１本発明の理解を容易
化ないし促進化するために記載されるものであって、本
発明を限定するために記載されるものではない、換言す
れば、以下に説明される実施例において開示される各要
素は２本発明の精神ならびに技術的範囲に属する全ての
設計変更ならびに均等物置換を含むちのである。
の および
まず、本発明にかかる石英ガラスの製造方法の一実施例
について、その構成および作用を詳細に説明する。
について、その構成および作用を詳細に説明する。
本発明にかかる石英ガラスの製造方法は、アルキル基Ｒ
をちつアルキルシリケートＳｉ ｆＯＲｌ、を主属ネ４
としゾルゲル法にしがたい酢酸あるいはアンモニアなど
の適宜の処理液を用いて加水分解することにより作成さ
れた乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下（好
ましくは３５０μ以下）の非晶質シリカ粉を作成するた
めの粉砕工程と、粉砕工程で作成された最大粒子径が６
００μ以下（好ましくは３５０ ｕ以下）の非晶質シリ
カ粉を適宜の雰囲気（すなオ）ち空気雰囲気９アルゴン
雰囲気あるいは窒素雰囲気などの雰囲気）中で１０００
−１４００℃の温度に加熱するための熱処理工程と、熱
処理工程で熱処理された非晶質シリカ粉をｌ Ｔｏｒｒ
以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱しで
熔融するための熔融工程とを備えている。
をちつアルキルシリケートＳｉ ｆＯＲｌ、を主属ネ４
としゾルゲル法にしがたい酢酸あるいはアンモニアなど
の適宜の処理液を用いて加水分解することにより作成さ
れた乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下（好
ましくは３５０μ以下）の非晶質シリカ粉を作成するた
めの粉砕工程と、粉砕工程で作成された最大粒子径が６
００μ以下（好ましくは３５０ ｕ以下）の非晶質シリ
カ粉を適宜の雰囲気（すなオ）ち空気雰囲気９アルゴン
雰囲気あるいは窒素雰囲気などの雰囲気）中で１０００
−１４００℃の温度に加熱するための熱処理工程と、熱
処理工程で熱処理された非晶質シリカ粉をｌ Ｔｏｒｒ
以下の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱しで
熔融するための熔融工程とを備えている。
本発明にかかる石英ガラスの製造方法が、乾燥ゲルを粉
砕して最大粒子径が６００μ以下（好ましくは３５０μ
以下）の非晶質シリカ粉を作成するための粉砕工程を備
えている根拠は、後続の熱処理工程おける熱処理効果を
増大することにある。ここで、粉砕工程における非晶質
シリカ粉の最大粒子径が６００Ｕ以下とされている根拠
は、最大粒子径が６００μを超えると、後続の熱処理工
程において所要の熱処理効果を達成するために長時間の
塾処理を必要とし、熱処理効率を改善できず、しがち熱
処理炉からの汚染量が増加してしまうことにある。
砕して最大粒子径が６００μ以下（好ましくは３５０μ
以下）の非晶質シリカ粉を作成するための粉砕工程を備
えている根拠は、後続の熱処理工程おける熱処理効果を
増大することにある。ここで、粉砕工程における非晶質
シリカ粉の最大粒子径が６００Ｕ以下とされている根拠
は、最大粒子径が６００μを超えると、後続の熱処理工
程において所要の熱処理効果を達成するために長時間の
塾処理を必要とし、熱処理効率を改善できず、しがち熱
処理炉からの汚染量が増加してしまうことにある。
また、本発明にかかる石英ガラスの製造力ｌ去が、粉砕
工程で作成された最大粒子径が６００１１以下（好まし
くは３５０μ以下）の非晶質シリカ粉を１０００〜１４
００℃以上の温度に加熱するための熱処理工程を備えて
いる根拠は、非晶質シリカ粉中のＯＨ基を取除き、後続
の熔融工程における加熱熔融時の発泡を防止することに
ある。ここで、熱処理工程における非晶質シリカ粉の熱
処理温度が１０００〜１４００℃とされている根拠は、
（ｉｆ １０００℃未満の温度では、非晶質シリカ粉（
ひいては石英ガラス）中のＯＨ基が十分に除去されず、
比表面積も減少しないことにあり、また（ｉｉ） １４
００℃を超える温度では、非晶質シリカ粉が焼結され、
また後続の溶融工程における非晶質シリカ粉（ひいては
石英ガラス）の加熱熔融に際し発泡が生じてしまうこと
にある。
工程で作成された最大粒子径が６００１１以下（好まし
くは３５０μ以下）の非晶質シリカ粉を１０００〜１４
００℃以上の温度に加熱するための熱処理工程を備えて
いる根拠は、非晶質シリカ粉中のＯＨ基を取除き、後続
の熔融工程における加熱熔融時の発泡を防止することに
ある。ここで、熱処理工程における非晶質シリカ粉の熱
処理温度が１０００〜１４００℃とされている根拠は、
（ｉｆ １０００℃未満の温度では、非晶質シリカ粉（
ひいては石英ガラス）中のＯＨ基が十分に除去されず、
比表面積も減少しないことにあり、また（ｉｉ） １４
００℃を超える温度では、非晶質シリカ粉が焼結され、
また後続の溶融工程における非晶質シリカ粉（ひいては
石英ガラス）の加熱熔融に際し発泡が生じてしまうこと
にある。
更に、本発明にかかる石英ガラスの製造方法が、熱処理
工程で熱処理された非晶質シリカ粉をＩ Ｔｏｒｒ以下
の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱して熔融
するための熔融工程を備えている根拠は、加熱熔融に際
して石英ガラス中に混入される気泡の量を削減すること
にある。換言すれば、ｆｉ）熔融工程を実行する雰囲気
がＩ Ｔｏｒｒを超える真空雰囲気中であると、雰囲気
ガスが石英ガラス中に混入して気泡を発生してしまい、
また（ｉｉｌ熔融工程を実行する濃度が１５００℃未満
となると、十分な粘性流動を達成できず、結果的に石英
ガラス中に多くのは欠陥が残留してしまうことにある。
工程で熱処理された非晶質シリカ粉をＩ Ｔｏｒｒ以下
の真空雰囲気中で１５００℃以上の温度に加熱して熔融
するための熔融工程を備えている根拠は、加熱熔融に際
して石英ガラス中に混入される気泡の量を削減すること
にある。換言すれば、ｆｉ）熔融工程を実行する雰囲気
がＩ Ｔｏｒｒを超える真空雰囲気中であると、雰囲気
ガスが石英ガラス中に混入して気泡を発生してしまい、
また（ｉｉｌ熔融工程を実行する濃度が１５００℃未満
となると、十分な粘性流動を達成できず、結果的に石英
ガラス中に多くのは欠陥が残留してしまうことにある。
ユ且佳明り
加えて、本発明にかかる石英ガラスの製造方法の一実施
例について、−層理解を深めるために、具体的な数値な
どを挙げ説明する。ここでは、酢酸を用いた加水分解に
より乾燥ゲルを作成する場合についてのみ説明するが、
アンモニアを用いた加水分解によって乾燥ゲルを作成し
ても実質的に差異が生じないことが判明している。
例について、−層理解を深めるために、具体的な数値な
どを挙げ説明する。ここでは、酢酸を用いた加水分解に
より乾燥ゲルを作成する場合についてのみ説明するが、
アンモニアを用いた加水分解によって乾燥ゲルを作成し
ても実質的に差異が生じないことが判明している。
ユ叉息量工二刀と
アルキルシリケートを主原料としてゾルゲル法にしたが
い酢酸で加水分解することによって作成された乾燥ゲル
を、適宜の粉砕手段によって粉砕したのち、第１表１ａ
ｌ （ｂｌに示した粒子径の区分にしたがい適宜の手段
によって分類することにより、非晶質シリカ粉の試料が
必要数だけ作成された。
い酢酸で加水分解することによって作成された乾燥ゲル
を、適宜の粉砕手段によって粉砕したのち、第１表１ａ
ｌ （ｂｌに示した粒子径の区分にしたがい適宜の手段
によって分類することにより、非晶質シリカ粉の試料が
必要数だけ作成された。
非晶質シリカ粉の試料は、それぞれ、第１表二基−Ｌｔ
山Ｌ ＊）昇温速度は、５℃／分であった。
山Ｌ ＊）昇温速度は、５℃／分であった。
二基」−シー皿−
ネ）昇温速度は、５℃／分であった。
（ａｌ ｆｂ）に示した熱処理条件（すなわち熱処理温
度および保持時間）にしたがって適宜の熱処理炉中で熱
処理された。
度および保持時間）にしたがって適宜の熱処理炉中で熱
処理された。
熱処理された非晶質シリカ粉は、それぞれ、１Ｔｏｒｒ
の真空雰囲気中で１７５０℃の温度に加熱して適宜の熔
融手段中で熔融されることにより、石英ガラスとされた
。
の真空雰囲気中で１７５０℃の温度に加熱して適宜の熔
融手段中で熔融されることにより、石英ガラスとされた
。
石英ガラス中のＯＨ基の存在量および気泡の存在量は、
適宜の測定手段によって測定したところ、第１表（ａｌ
（ｂ）に示すとおりであった。
適宜の測定手段によって測定したところ、第１表（ａｌ
（ｂ）に示すとおりであった。
工止紋困上二月と
非晶質シリカ粉の試料の粒子径の区分が、それぞれ、第
２表に示したごとく変更されたことを除き、実施例１〜
３４が反復された。
２表に示したごとく変更されたことを除き、実施例１〜
３４が反復された。
石英ガラス中のＯＨ基の存在量および気泡の存在量は、
適宜の測定手段によって同様に測定したところ、第２表
に示すとおりであった。
適宜の測定手段によって同様に測定したところ、第２表
に示すとおりであった。
１〜３４と １〜ｌＯとの
第１表（ａｌ （ｂｌおよび第２表において、実施例１
〜３４と比較例１−１０を比較すれば明らかなごと二４
二りｋ＝ ＊）昇温速度は、５℃／分であった。
〜３４と比較例１−１０を比較すれば明らかなごと二４
二りｋ＝ ＊）昇温速度は、５℃／分であった。
＊＊）熱処理後すでに発泡していた。
く、本発明では、非晶質シリカ粉の粒子径が６００μ以
下であり、かつ熱処理温度が１０００〜１４００℃であ
れば、石英ガラス中のＯＨ基の存在量を１５００ｐｐｍ
以下とでき、併せて石英ガラス中の気泡の存在量を２ｘ
ｌＯ−’以下とできる。特に、非晶質シリカ粉の粒子径
が３５０μ以下であれば、熱処理炉における保持時間が
短かくてち、石英ガラス中のＯＨ基の存在量ならびに気
泡の存在量を削減でき、好ましい。
下であり、かつ熱処理温度が１０００〜１４００℃であ
れば、石英ガラス中のＯＨ基の存在量を１５００ｐｐｍ
以下とでき、併せて石英ガラス中の気泡の存在量を２ｘ
ｌＯ−’以下とできる。特に、非晶質シリカ粉の粒子径
が３５０μ以下であれば、熱処理炉における保持時間が
短かくてち、石英ガラス中のＯＨ基の存在量ならびに気
泡の存在量を削減でき、好ましい。
３）発明の効果
上述より明らかなように、本発明にかかる石英ガラスの
製造方法は、アルキルシリケートを主原料としゾルゲル
法にしたがって作成した乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径
が６００μ以下の非晶質シリカ粉を作成するための粉砕
工程を備えているので。
製造方法は、アルキルシリケートを主原料としゾルゲル
法にしたがって作成した乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径
が６００μ以下の非晶質シリカ粉を作成するための粉砕
工程を備えているので。
ｆｉ＋後続の熱処理工程における熱処理効果を増大でき
る効果 を有する。
る効果 を有する。
また、本発明にかかる石英ガラスの製造方法は、アルキ
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た最大粒子径が６００μ以下の非晶質シリカ粉を１００
０〜１４００℃の温度に和書するための熱処理工程を備
えているので、ｆｉｉ１石英ガラス中におけるＯＨ基の
存在量を削減できる効果 を有し、ひいては ｆｉｉｉ）加熱熔融に際し石英ガラスの発泡を防止でき
る効果 を有する。
ルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがって作成
した乾燥ゲルを粉砕工程で粉砕することにより作成され
た最大粒子径が６００μ以下の非晶質シリカ粉を１００
０〜１４００℃の温度に和書するための熱処理工程を備
えているので、ｆｉｉ１石英ガラス中におけるＯＨ基の
存在量を削減できる効果 を有し、ひいては ｆｉｉｉ）加熱熔融に際し石英ガラスの発泡を防止でき
る効果 を有する。
更に、本発明にかかる石英ガラスの製造方Ｕ、は、アル
キルシリケートを主原料とじゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルを粉砕することにより作成された非晶質
シリカ粉を熱処理工程で軌処理したのちＩ Ｔｏｒｒ以
下の真空雰囲気中で１５００″Ｃ以上の温度に加熱して
熔融するための熔融工程を備えているので、 ｆｉｖｌ加熱溶融に際して石英ガラス中に混入される気
泡の量を削減できる効果 を有する。
キルシリケートを主原料とじゾルゲル法にしたがって作
成した乾燥ゲルを粉砕することにより作成された非晶質
シリカ粉を熱処理工程で軌処理したのちＩ Ｔｏｒｒ以
下の真空雰囲気中で１５００″Ｃ以上の温度に加熱して
熔融するための熔融工程を備えているので、 ｆｉｖｌ加熱溶融に際して石英ガラス中に混入される気
泡の量を削減できる効果 を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 アルキルシリケートを主原料としゾルゲル法にしたがっ
て作成した乾燥ゲルを熱処理することにより石英ガラス
を製造してなる石英ガラスの製造方法において、 （ａ）乾燥ゲルを粉砕して最大粒子径が６００μ以下の
非晶質シリカ粉を作成するた めの粉砕工程と、 （ｂ）粉砕工程で作成された最大粒子径が ６００μ以下の非晶質シリカ粉を１０００〜１４００℃
の温度に加熱するための熱処理 工程と、 （ｃ）熱処理工程で熱処理された非晶質シリカ粉を１Ｔ
ｏｒｒ以下の真空雰囲気中で １５００℃以上の温度に加熱して熔融する ための熔融工程と を備えてなることを特徴とする石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16935689A JPH0337120A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16935689A JPH0337120A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0337120A true JPH0337120A (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=15885060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16935689A Pending JPH0337120A (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0337120A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6221708A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-30 | ヘレウス・クアルツシユメルツエ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング | 粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法 |
| JPS6230633A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-09 | Nippon Sanso Kk | ガラスの製造法 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP16935689A patent/JPH0337120A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6221708A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-30 | ヘレウス・クアルツシユメルツエ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクタ−・ハフツング | 粒子状合成高純度二酸化珪素から物品を製造する方法 |
| JPS6230633A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-09 | Nippon Sanso Kk | ガラスの製造法 |
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