JPS62158755A - シリコーン組成物の製造方法 - Google Patents

シリコーン組成物の製造方法

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JPS62158755A
JPS62158755A JP29801185A JP29801185A JPS62158755A JP S62158755 A JPS62158755 A JP S62158755A JP 29801185 A JP29801185 A JP 29801185A JP 29801185 A JP29801185 A JP 29801185A JP S62158755 A JPS62158755 A JP S62158755A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、硬化反応によりゴムまたはゲル状態に変換し
うるポリオルガノシロキサン組成物に関し、とくに長期
間保管しても粘度等作業性および物理的特性を損うこと
のないシリコーン組成物に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来より硬化反応によりゴムに変換しうるポリオルガノ
シロキサン組成物には、機械的強度の向上のためにシリ
カ充填、剤を配合することが知られている。しかしなが
ら、これらのシリカ充填剤をそのままの状態でポリオル
ガノシロキサン組成物に配合すると、シリカ充填剤が遊
離水酸基を有するため、貯蔵中の未硬化のポリオルガノ
シロキサン組成物に経時的な増粘現象、ストラフチャー
の形成、クレープ硬化現象等を起こすことがある。
これらの技術的問題点を解決するために、シリカ充填剤
の表面処理の研究が数多くなされている。
このような目的から初期に試みられた1つの方法は、充
填剤を甚だしく高い温度すなわち200℃以上の温Bに
加熱し、それによって全ての水M基を充填剤から排除す
るというものであった。これを行なった場合、充填剤は
集塊を作る傾向を示し、そのためもはや自由流動性粉末
の状態ではなくなることが判明した。また、かかる充填
剤を室温に冷却した場合、それは高度の吸湿性を示して
大気中から湿気を吸収し易いことも判明した。従って、
かかる充填剤を加工することは極めて困難であった。
次にルーカス(tucas >の米国特許第29380
09号明細書中に記載のごとく、充填剤を環状シロキサ
ンで処理する方法が見出された。処理工程中、かかるシ
ロキサンは分裂して遊離水酸基と結合する結果、充填剤
中の遊離水酸基はその反応能力を失うことになる。従っ
て、ルーカスの方法により充填剤を処理すれば、構造化
を起こす傾向の少ないシリコーンゴム組成物の得られる
ことが判明した。また、こうして処理された充填剤は物
理的特性の高いシリコーンゴム組成物を与えることも判
明した。しかしながら、ルーカスの方法を用いた場合で
も、束縛ないし排除される遊離水酸基は一部にすぎない
ため、組成物の作業性は経時的に劣化する問題は残った
それ故、他の研究者達はこの分野においてざらに研究を
続けた。その結果、ブラウン(BrOWn )の米国特
許第3024126号明細言中に記載のごとく、アルコ
キシ−ヒドロキシル基を含有するシリコーン化合物およ
びアミン化合物群中の化合物で同時に充填剤を処理する
方法が見出された。ブラウンの方法を用いて処理された
シリカ充填剤により、経時安定性はいく分改良され、か
つシリコーンゴム組成物に望ましい物理的特性を付与す
るのであったが、かかる処理工程によっても束縛ないし
排除されない実質的なMの遊離水酸基がなお存在するこ
ともまた判明した。
ブラウンの特許に対する改良はスミス(Smith )
の米国特許第3635743号明細書中に見出すことが
できる。それによれば、まず前処理として充填剤がアン
モニアまたはアンモニア誘導体で処理され、それから各
種のシリコーン化合物で処理される。
すなわち、充1眞剤はまずアンモニア誘導体またはアミ
ン化合物で別個かつ独立に処理され、次にアルキル環状
ポリシロキサンで随意に処理され、それから最後にシリ
ル窒素化合物で処理されねばならないのである。かかる
発明において肝要なことは充填剤が最初にアンモニアま
たはアンモニア誘導体で別個かつ独立に処理されるべき
点にある。
それから、続く第2の工程において、シラザンを包含す
るシリコーン化合物で充填剤を処理すればよい。かかる
発明の利益を得るためには、これらの処理工程が別個か
つ独立でなければならないことが記載されている。スミ
スの方法に従って処理された充填剤は従来以上に高率の
遊離水酸基がトリオルガノシロキサン基で束縛ないし置
換され、従って十分良く処理されている点で有利である
かかる充填剤がシリコーンゴム組成物中に混入された場
合、硬化後の組成物は向上した物理的特性を示す。しか
し、シリコーンゴム組成物のある種の用途にとっては、
スミスの方法によって得られた充填剤を含むシリコーン
ゴム組成物でも望ましい物理的特性を有するとは言えな
いことが判明した。すなわち、未硬化状態のかかる組成
物は充分な貯蔵寿命を示さず、経時的に高い粘度を有す
るのである。
ざらに特開昭49−98861号公報には、シリカ充填
剤をヒドロキシルアミン、環状シロキサン、シリル窒素
化合物の3種の処理剤で同時に処理する方法が記載され
ている。この方法によれば、ある種の用途では組成物の
貯蔵安定性が改善され、かつ望ましい物理的特性を有す
るシリコーンゴムが得られる。しかしながら、この方法
では残存するアミン類、シリル窒素化合物およびその分
解物の除去が難しく、その結果得られる組成物は貯蔵安
定性が不十分であり経時的に粘度上昇が発生したり、硬
化後の物理的特性が不十分であるなどの問題を有してい
た。
〔発明の目的〕
本発明者は前述の従来技術の問題点を解決すべく検討し
た結果、シリカ充填剤をポリオルガノシロキサンポリマ
ーと共にシランおよびまたはシラノールおよびシラザン
化合物でインプロセス処理することにより、貯蔵安定性
に優れたポリオルガノシロキサン組成物が得られること
を見出した。
本発明はこのような知見にもとづいてなされたもので、
貯蔵安定性に優れ、優れた物理的特性を有するポリオル
ガノシロキサン組成物を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
すなわら本発明は (A>構造単位が一般式 %式%) (ここでR’は互いに同一または相異なる置換または非
置換の1価の炭化水素基、Xは反応性基、aが1または
2の整数、bが0〜2の整数、a十すが1〜3である)
で表わされ、かつXの反応性基を1分子当たり少なくと
も1個を含むポリオルガノシロキサン100重品部 (B)比表面積20〜800TIt/CIのシリカ粉末
1.0〜200重量部 (C)一般式 R;5iOR3 (ここでR2およびR3は互いに同一または相異なる置
換または非置換の1価の炭化水素基または水素原子であ
る)で表わされるケイ素化合物0oO5〜100重量部 (D)一般式 R:5iNH3rR二 (ここではR4は互いに同一または相異なる置換または
非置換の1価の炭化水素基または水素原子である)で表
わされるケイ素化合物0.005〜100重圏部 からなることを特徴とする。
本発明に用いられる(A>のポリオルガノシロキサンは
構造単位がRA Xb S i Q(4−a−1+ 1
/2(R’ 、X、a、bは前述のとおり)で示され、
かつケイ素原子に直結した反応性基Xを1分子中に少な
くとも1個有するもので、直鎖状であっても分岐状であ
ってもよく、またこれらの混合物であってもよい。
R1は互いに同一または相異なる置換または非置換の1
価の炭化水素基でメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、ドデシル基、等のアルキル基、フ
ェニル基、キシリル基、トリル基のようなアリール基、
ベンジル基、β−フェニルエチル基、β−フェニルプロ
ピル基のようなアラルキル基が例示され、ざらに、クロ
ロメチル基、3,3.3−トリフルオロプロピル基など
のハロゲン化アルキル基、シアノエチル基、シアノプロ
ピル基などのシアノアルキル基など置換炭化水素基も例
としてあげられる。これらのうち、合成し易く、しかも
硬化後に良好な物理的性質を保っており、かつ硬化前で
は低い粘度を有しているという点からメチル基が最も好
ましいが耐熱性、耐溶剤性等の機能を付加する目的で一
部にフェニル基、3,3.3−トリフルオロプロピル基
等を含んでもよい。
Xの反応性基は、1分子中に少なくとも1個必要でビニ
ル基、アリル基などのアルケニル基、水酸基、メトキシ
基、エトキシ基などのアルコキシ基があげられ、ゴム弾
性体やゲルを1ワるため反応機構に応じて適宜に選択さ
れる。その反応機構としては、(1B4N過酸化物加硫
剤による栗、(・6方法、(2)縮合反応による方法、
(3)付加反応による方法などが必り、これらによりポ
リオルガノシロキサンが選ばれるのは周知である。
すなわち、(1)の架橋方法においては、通常、(A)
のベースポリマーとして、1分子中のケイ素原子に結合
した有Ia基のうち、少なくとも1個がビニル基である
ポリジオルガノシロキサンが用いられる。
(2)の縮合反応においては、(A)のベースポリマー
として、1分子中のケイ素原子に結合した右l!Ifi
のうち、少なくとも2個が水酸基またはメトキシ基、エ
トキシ基等のフルコキシ基である25°Cにおける粘度
が50〜500,0OOcStのポリジオルガノシロキ
サンが用いられる。
(3)の付加反応においては、(A>のベースポリマー
としては1分子中のケイ素原子に結合した’fi1mの
うち少なくとも2個がアルケニル基である25℃におけ
る粘度が50〜500.000cStのポリジオルガノ
シロキサンが用いられる。
Xで表わされる反応性基はポリオルガノシロキサンの分
子鎖の末端または中間のいずれに存在してもあるいはそ
の双方に存在してもよいが、硬化後の組成物が優れた機
械的性質を有するためには、少なくとも末端に存在して
いることが好ましい。
本発明における(B)のシリカ粉末は、シリコーン組成
物をゴムまたはゲル硬化した場合の補強材である。この
シリカ粉末は20〜8QOm/CIの比表面積を有する
必要がある。20TIt/gに満たぬ場合はポリオルガ
ノシロキサンに対する補強性が不十分であり、800T
It/gを越えると粉末どうしの凝集が大きくなるため
、本発明のシリコーン組成物に適さない。このようなシ
リカ粉末としては、煙霧質シリカ、湿式シリカ、溶融シ
リカ等が例示され、その1種または2種以上を併用して
よい。
(B)の配合口は、(A>  100重量部に対し、1
.0〜200重量部である。1.0重量部未満では得ら
れた硬化物の機械的強度が不十分であり、また200重
母公金越えると系に混合することが困難であり均一な組
成物が11られない。
(C)のケイ素化合物は一般式Rζ5iOR3で表わさ
れる。R2およびR3は互いに同一または相異なる置換
または非置換の1価の炭化水素基あるいは水素原子で、
このような1価の炭化水素基としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基
などのアルキル基、フェニル基、キシリル基、トリル基
のようなアリール基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、ベンジル基、β−フェニルエチル基、β−フェ
ニルプロピル基のようなアラルキル基が例示され、ざら
に、クロロメチル基、3.3.3−トリフルオロプロピ
ル基等のハロゲン化アルキル基、シアンエチル基、シア
ノプロピル基などのシアノアルキル基等の置換炭化水素
基も例としてあげられる。
このようなケイ素化合物としてはトリメチルシラノール
、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラ
ン、フェニルメチルシラノール、フェニルジメチルメト
キシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、ジフェ
ニルメチルシラノール、ジフェニルメチルエトキシシラ
ン、ジフェニルメチルエトキシシラン、トリフェニルシ
ラノール、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニル
エトキシシラン、ビニルジメチルシラノール、トリエチ
ルシラノール、(α−ナフチル)ジメチルシラノール等
が例示されるが、(A)のポリオルガノシロキサンとの
相溶性、合成の容易さなどから、トリメチルシラノール
、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラ
ンが好ましい。
(C)の配合口は(A)  100重最部に対し、0.
05徂量部〜100重帛部である。0.05重量部未満
ではシリカ粉末の処理が十分に行えず、また100重帛
公金越えると加熱による除去時間が長くなり、しかも除
去しにくく残留物が組成物の機械的特性に悪影響を及ぼ
す。
(D)のケイ素化合物は一般式 R:s+N+s+Rsで表わされるシラザン化合物であ
る。ここでR4は同一または相異なる置換または非置換
の1価の炭化水素基または水素原子で、このような1価
の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基などのアルキル
基、フェニル基、キシリル基、トリル基のようなアリー
ル基、ビニル基、アリル基などのアルケニル基、ベンジ
ル基、β−フェニルエチル基、β−フェニルプロピル基
のようなアラルキル基が例示され、ざらに、クロロメチ
ル基、3,3.3−トリフルオロプロピル基等のハロゲ
ン化アルキル基、シアンエチル基、シアノプロピル基な
どのシアノアルキル基なと置換炭化水素基も例としてあ
げられる。
これらのシラザン化合物のうち、(A)のポリオルガノ
シロキサンとの相溶性の点からヘキサメチルジシラザン
、テトラメチルジシラザン、1゜1−ジビニルテトラメ
チルジシラザン、1,3−ジビニルテトラメチルジシラ
ザン、1,3−ジビニルテトラメチルジシラザンが好ま
しい。
(D>の配合量は(A>  100重量部に対して0.
005〜100重量部である。0.005重聞部上り少
ないとシリカ粉末の処理が充分に行えず、また100重
量部を越えるとシラザンの分解反応による不純物を除去
するための加熱処理時間が長くなり、しかも除去しにく
くなるため不都合である。
なお、本発明の組成物は硬化後のシリコーンゴム成形体
の特性向上の目的で耐熱向上剤、難燃用添加剤、各種染
料や顔料等添加剤を必要に応じて加えてもさしつかえな
く、この配合口は得られるシリコーンゴムやゲルの特性
を損わない限り自由とされる。
これらの組成物は、(A)〜(D)の各成分、必要に応
じて添加剤等を配合し、混練機にて0〜100℃の温度
で0.5〜10時間、好ましくは1〜5時間混練して均
一状態にする。さらに、常圧または減圧にて50〜20
0℃にて0.5〜10時間加熱して処理を行い、常温に
戻して得られる。
得られた組成物は、反応機構により選ばれる触媒、架橋
剤などの硬化剤と混合し、適切な方法にてゴム状または
ゲル状に硬化され、実用に供される。
(1)の有機過酸化物加硫剤による架橋ではベンゾイル
ペルオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルペルオキシ
ド、ジクミルペルオキシド、クミル−1−ブチルペルオ
キシド、2,5−ジーを一ブチルペルオキシヘキサン、
ジ−t−ブチルペルオキシド等の各種有機過酸化物加硫
剤が用いられる。なお、これらの有機過酸化物加硫剤は
、1種もしくは2種以上の混合物としても用いることが
できる。有機過酸化物の配合口は、(A>のポリオルガ
ノシロキサン100重ff1部に対して0.05〜15
車足部の範囲から選ばれるのが好ましい。配合口が0.
05 fflffi部未満では加硫が十分に行なわれず
、15重間部を越えると格別の効果がないばかりか、1
qられたシリコーンゴム成形体の物性に悪影響を与える
ことがあるからである。
(2)の縮合反応による架橋では、硬化剤としては架橋
剤としてメチルトリメトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、ビニル1〜リメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エヂル
オルソシリケート、プロピルオルソシリケート、および
それらの部分加水分解・縮合物が、硬化用触媒として鉄
オクトエート、コバルトオクトエート、マンガンオクト
エート、スズナフチネート、スズカプリレート、スズオ
レエートようなカルボン酸金属塩、ジメチルスズジオレ
エート、ジメチルスズジラウレート、ジブチルスズジア
セテート、ジブチルスズジオクト工−ト、ジブチルスズ
ジラウレート、ジメチルスズジオレエート、ジブチルス
ズジアセテート、酸化ジブチルスズ、ジブヂルスズジメ
トキシド、ジブチルビス(トリエトキシシロキシ)スズ
、ジオクチルスズジラウレートのような有機スズ化合物
が用いられる。
栗Iff剤の使用■は(A)成分100重量部に対し、
0.1〜20車E部である。o、iii部未満において
は硬化後のゴムに充分な強度が得られず、また20徂量
部を越えると得られるゴムが脆くなり、いずれも実用に
耐えない。
また、硬化用触媒の添加♀は(A>成分100重最部に
対し、0.01〜5徂♀部である。これより少ない添加
但では硬化触媒として不十分であって硬化に長時間を要
し、また空気との接触面から遠い内部での硬化が不良と
なる。他方これよりも多い場合には、保存安定性が低下
するので適当ではない。より好ましい添加量の範囲を示
せば0.1〜3重■部である。
(3)の付加反応による架橋では、硬化剤としては硬化
用触媒として塩化白金酸、白金オレフィン鏡体、白金ビ
ニルシロキサン錯体、白金黒、白金トリフェニルホスフ
ィン錯体、白金オタノノール錯体などの白金系触媒が用
いられ、架橋剤としてケイ素原子に結合した水素原子が
1分子中に平均少なくとも2個を超える数を有するポリ
ジオルガノシロキサンが用いられる。
硬化用触媒の配合但は(A)成分に対し、白金原子のa
で1〜1100ppの範囲である。1 ppm未満では
本発明の効果が奏せられず、また1100ppを超えて
もとくに硬化速度の向上などが期待できない。
(発明の効果) 本発明のごとく、シリカ充填剤をポリオルガノシロキサ
ンポリマーと共にシランおよび/またはシラノールおよ
びシラザン化合物でインプロセス処理することにより、
物理的特性に優れ、かつ長期保管においても粘度変化が
少ない、またはロール作業性を損わないなど、優れた保
存安定性を保持するシリコーン組成物を得ることができ
る。
このようなシリコーン組成物は、従来の液状シリコーン
ゴム、ゲルまたはミラブル型シリコーンゴム同様、電子
用、成形用、ポツティング用など広く用いられる。
(発明の実施例) 以下、本発明を実施例により説明する。なお、文中、部
とは、とくに説明のない限り重量部を表わす。
実施例1 両末端がジメチルビニルシリル基で閉鎖された、25℃
における粘度が1000cPのポリジメチルシロキサン
40部、比表面積が200Td/gの煙霧質シリカ10
部、トリメチルシラノール1.5部を万能混練機に仕込
み、常温で1時間混練した。次いでヘキサメヂルジシラ
ザン0.3部を添加して常温で3時間混練し、均一なフ
ンパウンドを得た。
このコンパウンドを150℃で窒素を流入しながら加熱
混線を4時間行い未反応のシランを系から追い出した後
、さらに150℃、5Torrの条件で4時間加熱減圧
混練を行った。このコンパウンドを常温に戻した1麦、
上記のポリジメチルシロキサン計60部を3回に分けて
混合、希釈し、常温で均一に混練することにより、液状
シリコーン組成物A−1を1qだ。
比較例1 実施例1のポリジメチルシロキサン40部に〈比表面積
が200TIi/qの煙霧質シリカをヘキサメチルジシ
ラザンで処理した粉末10部を万能混練機に仕込み、常
温で3時間混練して均一なコンパウンドを得た。ざらに
このコンパウンドに上記のポリジメチルシロキサン計6
0部を3回に分けて混合、希釈し、常温で均一に混練す
ることにより、液状シリコーン組成物B−1を得た。
粘度の経時変化 組成物A−16よびB−1について、常温にて保管し、
粘度の経時変化を調査した。その結果を第1表に示す。
第1表 単位cP(25℃) 応用例 ベースコンパウンドA−1110部、末端がトリメチル
シリル阜で閉塞されメチルハイドロジエンシロキシ単位
が56モル%、残余がジメチルシロキシ単位である25
℃における粘度が40cPのポリメチルハイドロジエン
シロキサ20145部、白金のビニルシロギサン錯体を
ベースコンパウンドA−1に対して白金原子として4p
pmを均一に混合し、脱泡した。この混合物をカップに
入れ、150℃で1時間加熱してゲル状硬化物を得た。
この硬化物のちょう度(11人度)を^STM D−1
403により測定したところ68.0であった。
この混合物をプリント基板の銅板上に流し塗りし、15
0’Cで1時間加熱して硬化させた後、80℃、90%
曲の条件下に3日間放置した。塗布されてない部分は腐
蝕が見られたが、ゲルが塗布された部分はまったく腐蝕
は見られなかった。
また、この混合物に0.3mmφのアルミワイヤーを入
れ、150℃で1時間加熱して硬化させた後、121°
CC12atで7日間放置した。ゲルが塗布されていな
い部分は粉末状に腐蝕が見られたが、ゲルで覆われたワ
イヤーの光沢は失われず、まったく腐蝕は見られなかっ
た。
実施例2 両末端がジメチルビニル基で閉塞され、メチルビニルシ
ロキシ単位0.15モル%、残余がジメチルシロキシ単
位である平均重合度が6.000のポリジメチルシロキ
サン100部、25℃における粘度がl0CPのα、ω
−ジヒドロキシポリジメチルシロキナン4部をドウミキ
サーに仕込み、比表面積が300Td/Qの煙霧質シリ
カ46部を数回に分けて仕込み、ざらにトリメチルメト
キシシラン2.3部を添加して、常温にて均一になるよ
うに混練した。
その後、ヘキサメチルジシラザン2.3部を添加して、
常温にて2時間混練して均一なコンパウンドを19た。
このコンパ1クンドを170’Cで4時間加熱混練を行
って未反応シランを系から追い出した後常温に戻し、ベ
ースコンパウンドA−2をjqた。
比較例2 実施例2のポリジメチルシロキサン100部、α。
ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン4部をドウミ
キサーに仕込み、比表面積が300Td/gの煙霧質シ
リカをオクタメチルシクロテトラシロキサンで処理した
粉末46部を数回に分けて仕込み、常温にて均一になる
ように2時間混練した。ざらにこのコンパウンドを17
0″Cで2時間加熱混練を行った後常温に戻し、ベース
コンパウンドB−2を得た。
加促試験 コンパウンドA−2、B−2各5000を50’Cにて
1力月間放置した後常温に戻し、8インチ幅ロールでロ
ール間隔 2mmにして作業性を調べた。
A−2は1回でロールにコンパウンドが巻きつき、良好
なロール作業性を有していたのに対し、B−2はスダレ
状になり、一部ロール間隔から落ちて1回ではたやすく
巻きつかなかった。
応用例2 コンパウンドA−2100部に2,5−ジメチル−2,
5−ジーt−ブチルペルオキシヘキサン0゜4部をロー
ルにて配合し、170℃で10分間プレス加硫後、20
0℃で4時間アト加硫したところ、第2表D1の機械的
特性を示した。
また、コンパウンドA−2100部に、2,4−ジクロ
ロベンゾイルペルオキシド0.5部をロールにて配合し
、120℃で15分間プレス加硫後、150℃で1時間
アト加硫したところ、第2表 D2の機械的特性を示し
た。
第2表 実施例3 末端がジメチルビニルシリル基で閉塞され、25℃にお
ける粘度が13,000cPのポリジメチルシロキサン
100部とトリメチルエトキシシラン7部を万能混練機
に仕込み、比表面@ 200m/C1の煙霧質シリカ3
3部を数回にわけて仕込み、混練した。
さらにヘキサメチルジシラザン0.3部を加えて混練し
たところ、次第に粘度が低下し、流動性を有する均一な
コンパウンドを1ワた。このコンパウンドを100℃で
窒素を流しながら2時間混練し、さらに150℃、10
Torr以下で4時間加熱減圧混練し、常温に戻してベ
ースコンパウンドA−3を得た。
実施例4 実施例3において、ヘキサメチルジシラザン0.3部の
代りにテトラメチルジシラザン0.3部を用いる以外は
同じ方法で、ベースコンパウンド八−4を得た。
比較例3 実施例3のポリジメチルシロキサン100部を万能混練
機に仕込み、比表面積200尻/gの煙霧質シリカ20
部を数回に分けて仕込み、混練した。ざらにこのコンパ
ウンドを180’Cで6時間加熱混練した後常温に戻し
てベースコンパウンドB−3を得た。
粘度の経時変化 組成物A−3、A−4およびB−3について、常温にて
保管し、粘度の経時変化を調査した。その結果を第3表
に示す。
第3表 単位CP(25℃) 応用例3 組成物A−3、A−46よびB−3100重量部に、末
端がトリメチルシリル基で閉鎖され、メチルハイドロジ
エンシロキシ単位が60モル%、残余がジメチルシロキ
シ単位で25℃における粘度が30cpであるポリメチ
ルハイドロジエンシロキサン1部、白金オクタツール錯
体組成物に対し白金原子として2ppm、反応抑制剤と
して3−メチル−1−ブテン−3−オール0.05部を
配合、均一に撹拌後、170’Cで10分間プレス加硫
を行い、第4表の特性を得た。
第4表 実施例5 25℃における粘度10.000cPの両末端ジメチル
ヒドロキシル桔閉塞のポリジメチルシロキサン100部
、25°Cにおける粘度20cPのジメチルポリシロキ
サン20部、比表面積が200Trt/Clの煙霧質シ
リカ30部、トリメチルシラノール2部を万能混線機に
仕込み、常温で2時間混練した。次いで1,1−ジビニ
ルテトラメチルジシラヂン0.15部を添加して常温で
3時間混練して均一なコンパウンドを(qだ。
このコンパウンドを150℃で窒素を流しながら3時間
加熱混線を行い、ざらに150℃、5Torrで4時間
加熱減圧混練を行った1多、常温に戻して、液状シリコ
ーン組成物A−5を得た。
比較例4 25℃における粘度10.0OOCPの両末端ジメチル
ヒドロキシル基閉塞のポリジメチルシロキサン100部
、25℃における粘920cPのジメチルポリシロキサ
ン30部、比表面積が200Td/Qの煙霧質シリカ3
0部を万能混練機に仕込み、常温で3時間混練した後、
150℃で10時間加熱混練を行い、常温に戻して液状
シリコーン組成物B−4を得た。
粘度の経時変化 組成物A−5およびB−4について、常温にて保管し、
粘度の経時変化を調査した。その結果を第5表に示す。
(以下余白) 第5表 単位cP(25°C) 応用例4 組成物A−5およびB−4100i量部に、エチルオル
ソシリケート3部、ジブチルスズジラウレート0.2部
、水o、i部を均一に混合し、2mm厚シートにして2
5℃、50%R1+で5日間放置して機械的特性を測定
した。その結果を第6表に示ず。
出願人     東芝シリコーン株式会社代理人弁理士
  須 山 佐 − 手続補正IN(自発) 昭和 62年3 月11  日

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)構造単位が一般式 R^1_aX_bをSiO_(_4_−_a_−_b_
    )_/_2(ここでR^1は互いに同一または相異なる
    置換または非置換の1価の炭化水素基、Xは反応性基、
    aが1または2の整数、bが0〜2の整数、a+bが1
    〜3である)で表わされ、かつXの反応性基を1分子当
    たり少なくとも1個を含むポリオルガノシロキサン10
    0重量部 (B)比表面積20〜800m^2/gのシリカ粉末1
    .0〜200重量部 (C)一般式R^2_3SiOR^3 (ここでR^2およびR^3は互いに同一または相異な
    る置換または非置換の1価の炭化水素基または水素原子
    である)で表わされるケイ素化合物0.05〜100重
    量部 (D)一般式R^4_3SiNHSiR^4_3(ここ
    でR^4は互いに同一または相異なる置換または非置換
    の1価の炭化水素基または水素原子である)で表わされ
    るケイ素化合物0.005〜100重量部 からなることを特徴とするシリコーン組成物。
  2. (2)(A)のXがビニル基である特許請求の範囲第1
    項記載のシリコーン組成物。
  3. (3)(A)のXが水酸基またはアルコキシ基である特
    許請求の範囲第1項記載のシリコーン組成物。
  4. (4)(C)のケイ素化合物がトリメチルシラノール、
    トリメチルメトキシシランおよびトリメチルエトキシシ
    ランから選ばれたものである特許請求の範囲第1項記載
    のシリコーン組成物。
  5. (5)(D)のケイ素化合物がヘキサメチルジシラザン
    、テトラメチルジシラザン、1、1−ジビニルテトラメ
    チルジシラザンから選ばれたものである特許請求の範囲
    第1項記載のシリコーン組成物。
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