JPS618706A - 磁気ヘツドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに係り、特にＶＴＲに好適な磁気ヘ
ッド及びその製造法に関する。

〔発明の背景〕

従来の高透磁率フェライトと高飽和磁束密度非晶質合金
磁性膜とを用いた複合型磁気ヘッドの製造においては、
ギャップ形成の際に第１図に示したごとく高透磁率フェ
ライト基板１１．１２に高飽和磁束密度非晶質合金磁性
膜２を被清させ、トラック幅規制溝には、非磁性材３１
が充填されている。■コア１１と更に巻線窓４を設けた
Ｃコア１２とをギャップ長規制非磁性材３２を介して第
１図Ｃのごとく突き合わせ、トラック幅規制溝に充填さ
れた非磁性材ろ１を加熱溶融させることにより、あらた
めて接着用の非磁性材を付着する必要のないギャップ形
成方法を用いている。しかしこのギャップ形成において
トラック幅規制溝に充填されていた非磁性材３１が巻線
窓４に流入して巻線窓詰まりを起こしたり、非磁性材が
溶融する際に気泡が発生し脱泡できずに固まってしまい
、個々のヘッドチップに加工された時に非磁性材部分に
多数の気泡が残留してしまい強度不足となり、後の加工
工程に耐えられないという問題がある。

ギャップ形成時の加熱温度を下げると充填非磁性材の粘
性は上昇し巻線窓詰まりしにくくなるが、一方で充填非
磁性材中に発生した気泡は粘性が上昇したゆえに完全に
脱けきらずに非磁性材中に残留する割合が大きくなる。

このように巻線窓詰り率と残留気泡率は温度に対して相
反する虚動を示し、ことに非晶質合金を使用したヘッド
のギャップ形成の場合は非晶質合金の結晶化温度以下の
温度範囲で前述の相反する傾向の妥協点を捜さねば彦ら
ず、量産管理上の問題と寿っている。

〔発明の目的〕

本発明の目的は上記従来の非晶質合金複合型磁気ヘッド
製造方法において巻線窓詰まりなしに強度的にも満足で
きるギャップを形成し、量産性に優れた複合型磁気ヘッ
ド及びその製造法を提供するものである。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するために本発明ではトラック幅規制溝
に充填された非磁性材が巻線窓へ流出するのを毛細管現
象により防ぎ、かつ非磁性材中に残留する気泡がトラッ
ク幅規制溝の中心部に集中する傾向を利用して最終のヘ
ッドには気泡が残留することのないように巻線用Ｃ字形
溝の断面積をトラック幅規制用Ｖ字形溝の断面積より大
きくするものである。そしてＶ字形溝の中心位置と、作
動ギャップを形成しトラック幅となる部分との距離が、
該ヘッドのコア厚の５０％〜９０％になるようにトラッ
ク幅規制用Ｖ字形溝を加工するものである。これにより
Ｖ字形溝に非磁性材が充填されていてもボンディング工
程で、巻線用Ｃ字形牌に非磁性材が流入することはない
。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第２図〜第８図により説明す
る。１ず高透磁率フェライト基板に巻線窓となる溝を形
成する。次に巻線窓用溝を設けた該高透磁率フェライト
基板に巻線窓ｌこ直交させてトラック幅規制溝を、その
断面形状が第２図のごとくなるように設ける、第２図に
おいて５は高透磁率フェライト基板であり、６はトラッ
ク幅規制溝である。このときトラック幅規制溝６の中心
６２と将来ギャップを形成しギャップの中心となる部分
（第２図Ａ部）との距離ｌは１＝０１ｙｓｘとする。こ
れは所望する磁気ヘッドチップのコア厚（＝　０．１４
１１１１１　）の７１％に相当する。また溝６の角度は
６０°とし深さはｄ中０．１ｍｇとする。同形状の溝６
をｐ　＝　０．１５だけ離して形成し、これを繰り返し
て高透磁率フェライト基板の幅一杯に同一形状の溝６を
形成する。第３図はその斜視図であり、６本のトラック
幅規制溝６が設けられている。７は巻線窓となる。また
、このトラック幅規制溝６を設ける際に最終加工工程で
あるヘッドチップ切り離し工程において使用する刃物の
刃厚と所望のコア厚とから後述の式によってｐを決定す
れば良く、溝深さｄは刃物の形状によって変化する。こ
のトラック幅規制溝６を設けた基板５上に第４図のごと
く高飽和磁束密度非晶質合金磁性膜８を厚さ約２０μｍ
にスパッタリングにより被着せしめる。

次に第５図のごとく該トラック幅規制溝６に非磁性材と
して低融点ガラス（ＧＬ−９）９を充填せしめた後に第
６図のごとく非晶質合金磁性膜８が所望のトラック幅（
ＴＷ）で表面に露出するまで研削・研磨しこの面をギャ
ップ面とする。その後、従来技術として述べ第１図（ａ
）、（ｂ）に示したごとくＣコアと■コアとに切り離し
ギャップ長規制材として５ｉＯｚ薄膜をスパッタリング
により両コア１４００Ｘずつ被着せしめた後に（ｅ）の
ごとく両コアのトラック部分が相対峠するように突き合
わせトラツク幅規制溝に充填されたガラス９の融点（３
５０°Ｃ）以上に加熱することによってギャップ形式を
行う。この際に、高飽和磁束密度非晶質合金８の結晶化
温度は５３０°Ｃでありその温度近傍においても結晶化
し始めるために４６０°Ｃに昇温しその温度で１８分間
保持する。この温度と保持時間によればトラック幅規制
溝６に充填されたガラス９は充分に溶は合い、かつガラ
ス中に発生する気泡の大部分は抜は出してしまい、トラ
ック幅規制溝６の中心部に直径数十μｍ以下の気泡がわ
ずかに残るだけとなる。そして同時に、ガラス９が充分
に溶は合う程に粘度が下がっていてもトラック幅規制溝
６が形成する管状部分の毛細管現象のために充填された
ガラス９が巻線窓７へ流入することはない。第１図（ｃ
）に示したギャップ形成終了後のブロックの上面は将来
磁気記録媒体対向面となる。

その面を第７図に示したっ１０はトラック幅規制溝６に
充填されたガラス９中の残留気泡であり、１１がギャッ
プ部である。このブロックを刃厚すの刃物により切り離
すことで磁気ヘッドを得る所望する磁気ヘッドのコア厚
Ｃは０．１４１ｍであるためにｂ＝ｐ＋２１−Ｃの刃物
を用いて幅すだけ削り去ることによりトラック幅規制溝
の中心部の残留気泡は直径ｄ’＝２１−Ｃ以下のもので
あれば加工削りしろとなって削り去られ、第８図に示し
たごとく切り離されたヘッドチップのガラス充填部１２
には気泡は存在しないことになる。この図において１１
はギャップ、１５は高透磁率フェライトからなるコア、
８は高飽和磁束密度非晶質合金磁性膜、７は巻線窓を示
す。

〔発明の効果〕

本発明によれば、従来と比較して広温度範囲で巻線窓詰
まりがなく強度的にも優れたギャップ形成を容易に行な
えるので量産性向上の効果がある。当社比においては巻
線窓詰まり不良は２０％から５チへと向上し、また充填
非磁性材中の残留気泡がほとんど無くなったことにより
強度的にも改善され後の加工工程においてのギャップ部
分からの破壊も激減した。

【図面の簡単な説明】

第１図はギャップ形成工程を示す斜視図、第２図は本発
明の磁気ヘッドのトラック幅規制溝加工を示す断面図、
第３図〜第８図は本発明の一実施例を示し、第３図は巻
線窓とトラック幅規制溝加工後の高透磁率フェライト基
板の斜視図、第４図、第５図、第６図は高飽和磁束密度
非晶質合金磁性膜被着後、非磁性材充填後、及びギャッ
プ面研磨後のそれぞれの断面図、第７図はギャップ形成
後のブロックの上面の正面図、第８図は実施例によるヘ
ッドの斜視図である。 １・・・高透磁率フェライト基板 ２・・・高飽和磁束密度非晶質合金磁性膜３・・・トラ
ック幅規制溝に充填された非磁性材４・・・巻線窓

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、巻線用溝を有する一方のコアとこの一方のコアに突
   合される他方のコアとを有し前記一方のコアと他方のコ
   アとの突合せ部にヘツドギヤツプを有する主コアと、前
   記主コアに接合され磁路を構成する補助コアと、前記主
   コアのテープ摺動面の少なくとも一部が前記ギヤツプの
   突き合せ面と斜交するようにトラツク幅規制溝が設けら
   れ、前記トラツク幅規制溝に非磁性材が充てんされた複
   合型磁気ヘツドにおいて、前記巻線用溝の断面積を前記
   トラツク幅規制溝の断面積より大きくしたことを特徴と
   する複合型磁気ヘツド。 ２、少なくとも高透磁率基板にトラツク幅規制用溝と巻
   線用溝を設ける加工工程と、該高透磁率基板に高飽和磁
   束密度非晶質合金磁性膜を被着せしめる工程と、該基板
   上のトラツク幅規制用溝に非磁性材を充填せしめる工程
   と、該基板を研削し所望のトラツク幅を得る工程と、該
   基板を巻線溝を有す第１のコアと巻線溝をもたない第２
   のコアとに切断する工程と、該第１及び第２のコアのギ
   ヤツプ面を突き合わせた状態で昇温し、非磁性体同志を
   溶着させギヤツプを形成する工程とからなりトラツク幅
   規制用溝は、その中心とギヤツプの中心となる部分との
   距離が磁気ヘツドのコア厚の５０％〜９０％になるよう
   に設けることを特徴とする複合型磁気ヘツドの製造方法
   。