JPH04222910A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、非磁性体材料などから
成る基板上に軟磁性薄膜を設け、薄膜積層ヘッドとして
構成される磁気ヘッドの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化に伴って、メ
タルテープのような高保磁力媒体が主流となってきてい
る。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこで、
そのような磁気ヘッドとしては、例えば図９に示すよう
に、高い飽和磁束密度を有する軟磁性金属から成る軟磁
性薄膜２２を、非磁性材料から成る基板２３上に設けた
磁気ヘッドチップ２６を備える薄膜積層磁気ヘッドが知
られている。このような基板２３では、耐摩耗性等を考
慮して、結晶化ガラスなどが使用される。上記のような
磁気ヘッドの製造過程では、図１０に示すように、上記
基板２３に、まず、例えば粒度１０００（以下、＃１０
００という）程度のブレードを用いたダイシング加工に
よって断面略Ｖ字状の連続した粗加工溝２４…を形成す
る。続いて、各粗加工溝２４…の壁面を、上記よりも粒
度の細かい＃３０００程度の高番手ブレードを用いて、
図中、破線で示すように、５μｍ以下の切り込み量でそ
れぞれ研削して、各仕上げ加工溝２５…が作成される。

【０００３】次に、こうして得られた各仕上げ加工溝２
５…の一方の壁面に、真空蒸着あるいはスパッタ法など
によりＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金から成る軟磁性薄膜２２
がそれぞれ形成される。以下の製造過程については図示
しないが、上記の工程後は、軟磁性薄膜２２の形成され
た各仕上げ加工溝２５…上に低融点ガラスを充填した後
、その表面研磨を行い、続いてコイル巻線用窓加工を施
して片側コアブロックを作製し、次いで一対の片側コア
ブロック同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互に接合し
た後、所定の幅で切断することで、図９に示すような磁
気ヘッドチップ２６が得られる。この磁気ヘッドチップ
２６は図示しないがコイル巻線が施され、磁気ヘッドチ
ップ用ベースに貼り着けられて磁気ヘッドとして完成さ
れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図１０に示すように、
仕上げ加工溝２５の壁面に沿って軟磁性薄膜２２を形成
する際、この軟磁性薄膜２２を磁気特性良く形成するた
めには、上記各仕上げ加工溝２５…の壁面が、面粗度約
２００Å以下の平滑度に仕上げられていることが望まし
い。ところが、上記の磁気ヘッドの製造方法では、＃３
０００程度の高番手ブレードを用いたダイシング加工に
より仕上げ加工溝２５が形成されても、その仕上げ加工
溝２５の壁面の平滑度は約５００Åである。一方、仕上
げ加工溝２５の平滑度を高めるためにダイシング加工に
用いるブレードの粒度をより細かくすることが考えられ
る。しかしながら、仕上げ加工溝２５の形成される前記
基板２３に使用される結晶化ガラスは、耐摩耗性には優
れているが、ダイシングによる加工性に劣っており、さ
らに上記より粒度の細かい高番手のブレードを用いると
、上記よりさらにブレードの目詰まりが生じ易く、その
目詰まりなどによる加工熱などからクラックが生じ易い
。また、このように目詰まりを生じ易いことから、ブレ
ードの加工送り速度も例えば　０．３ｍｍ／ｓｅｃ以下
とすることが必要となり、さらに多数個処理も容易には
行えないものとなっており、この結果、磁気ヘッド製造
の生産性に劣るという問題を生じている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの製
造方法は、結晶化ガラス等の非磁性体材料から成る基板
に溝を形成し、この溝の壁面に沿わせて軟磁性薄膜を設
けてなる磁気ヘッドの製造方法において、上記基板に所
定形状の溝を形成した後、この溝の壁面に沿ってガラス
薄膜を形成し、続いて、上記ガラス薄膜を加熱溶融し、
冷却後、上記ガラス薄膜の表面に前記軟磁性薄膜を設け
ることを特徴としている。

【０００６】

【作用】上記の方法によれば、溝の壁面に形成されたガ
ラス薄膜の溶融・冷却時に、ガラスの表面張力により、
ガラス薄膜の表面は２００Å以下の平滑度となり、また
、所定の平滑度を得るため従来のように高番手のブレー
ドを使用する必要がなく、従来におけるブレードの目詰
まり等に起因する溝壁面のクラックなどを生じることは
ない。よって、ガラス薄膜の表面は前記軟磁性薄膜の形
成面として非常に良好な状態となる。これらにより、そ
のガラス薄膜の表面に形成した上記軟磁性薄膜は非常に
良好な磁気特性を有する。

【０００７】

【実施例】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施
例について図１ないし図８に基づいて説明すれば、以下
の通りである。まず、図２に示すように、結晶化ガラス
等の非磁性材料から成る略直方体状の基板１の表面に、
所定のピッチ寸法Ａで断面略Ｖ字状の溝２を複数、相互
に隣接し平行に連続して形成する。これら溝２…の形成
は、ブレードの粒度を順次粗いものから細かいものへと
、例えば＃１０００から＃３０００へと順次換えながら
行うダイシング加工によって行う。その後、図１に示す
ように、各溝２…の溝壁面３に数μｍ〜数十μｍの膜厚
で非晶質ガラスから成るガラス薄膜４を真空蒸着あるい
はスパッタ法等によりそれぞれ形成する。このガラス薄
膜４の素材としては、その溶融時に前記基板１との濡れ
性の優れたガラスが選択され、また、ガラス転移点が、
上記基板１より低く、かつ各溝２…に充填される後述す
る低融点ガラスよりは高いガラスが選択される。次に、
上記各ガラス薄膜４…を、基板１の溶融しない程度の温
度まで加熱し、溶融する。その後、各ガラス薄膜４…を
徐々に冷却する。このようにして得られた各ガラス薄膜
４…の表面は、ガラス薄膜４の溶融時において基板１と
のぬれ性がよいため、溶融したガラスの表面張力により
、２００Å以下の平滑度となっている。

【０００８】続いて、図３に示すように、冷却後、略Ｖ
字状のガラス薄膜４の表面であるガラス溝壁面５の一方
に、真空蒸着あるいはスパッタ法等により所定の膜厚、
つまり磁気ヘッドのトラック幅にほぼ相当する膜厚（例
えば２０μｍ）となるようにＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金か
ら成る軟磁性薄膜６を形成する。この後、図４に示すよ
うに、前記各溝２…を覆うように前述した低融点ガラス
７を充填する。この低融点ガラス７は、前記ガラス薄膜
４のガラス転移点以下の温度で溶融し、各溝２…に充填
できるものが選択される。次に、図５に示すように、低
融点ガラス７の表面を、各溝２…の形成された基板１の
各凸部頂点に達するまで平面状に研磨して基板ブロック
１２を作製する。続いて、図６に示すように、基板ブロ
ック１２にコイル巻線用窓８・９が形成加工され、続い
て、低融点ガラス７の研磨された面上に、磁気ヘッドが
所定のギャップ長となるようにＳｉＯ２等の非磁性体材
料から成るギャップ材１０が真空蒸着あるいはスパッタ
法等により形成されて片側コアブロック１３を得る。そ
の後、図７に示すように、一対の片側コアブロック１３
・１３が、それぞれのギャップ材１０・１０を対向させ
ると共に、各軟磁性薄膜６…が直線状となるように位置
合わせを行い、加圧接合を行って接合し、コアブロック
１１を作製する。次に、その接合されたコアブロック１
１を所定の幅で切り出して、図８に示すような磁気ヘッ
ドチップ１４が得られる。この後、この磁気ヘッドチッ
プ１４は、図示しないが、前記各コイル巻線用窓８・９
にコイル巻線が施され、次に、テープ摺動面が研磨され
、ベース板に接着固定されて磁気ヘッドとして完成され
る。

【０００９】上記の方法では、図３に示すように、２０
０Å以下の平滑度を備えるガラス溝壁面５が得られる。 また、そのようなガラス溝壁面５では、従来における溝
形成のためのダイシング加工等のような、溝壁面に局部
的な熱応力や切削応力が加わることがなく、溝壁面のク
ラックなどが発生しない。したがって、このようなガラ
ス溝壁面５に形成された軟磁性薄膜６の磁気特性は極め
て良好なものとなっている。また、従来では、基板にク
ラックなどを生じないように、各溝ごとにゆっくりとブ
レードを送って仕上げ加工を行っていたが、上記の方法
では、一括して各ガラス溝壁面５…が加熱されて所定の
平滑度を得ており、従来より優れた平滑度を備えるガラ
ス溝壁面５を迅速に作成できる。したがって、上記よう
な優れた磁気特性を備える軟磁性薄膜６を有する磁気ヘ
ッドが生産性良く製造できる。

【００１０】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法は、以上
のように、非磁性体材料から成る基板に所定形状の溝を
形成した後、この溝の壁面に沿ってガラス薄膜を形成し
、続いて、上記ガラス薄膜を加熱溶融し、冷却後、上記
ガラス薄膜の表面に軟磁性薄膜を設ける方法である。 上記の方法によれば、ガラス薄膜の表面は、従来より平
滑となり、かつ、従来のようなクラックなども生じるこ
とはなく、前記軟磁性薄膜の形成面として非常に良好な
状態となる。したがって、上記のようなガラス薄膜の表
面に軟磁性薄膜が形成されることにより、磁気特性の良
好な軟磁性薄膜の形成が可能となる。また、そのような
平滑度を備えるガラス薄膜の形成は、一括して行うこと
ができ、従来より迅速に所定の平滑度を備えるガラス薄
膜を得ることができる。これらの結果、優れた磁気特性
を備える磁気ヘッドを生産性よく製造することができる
という効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製造方法における溝の壁
面にガラス薄膜を形成した基板の要部正面図である。

【図２】複数の上記溝が形成された基板の斜視図である
。

【図３】上記ガラス薄膜上に軟磁性薄膜が形成された基
板の要部正面図である。

【図４】上記軟磁性薄膜を備える各溝に低融点ガラスが
充填された基板の要部正面図である。

【図５】上記低融点ガラスの表面が研磨された基板の要
部正面図である。

【図６】上記基板にコイル巻線用窓を形成した片側コア
ブロックの斜視図である。

【図７】一対の上記片側コアブロックを接合してなるコ
アブロックの斜視図である。

【図８】上記コアブロックを切断してなる磁気ヘッドチ
ップの斜視図である。

【図９】従来における磁気ヘッドチップの斜視図である
。

【図１０】従来の磁気ヘッドの製造方法における軟磁性
薄膜が形成される溝の形成方法を示す基板の要部正面図
である。

【符号の説明】

１　　　　基板 ２　　　　溝 ４　　　　ガラス薄膜 ６　　　　軟磁性薄膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性体材料から成る基板に溝を形成し、
   この溝の壁面に沿わせて軟磁性薄膜を設けてなる磁気ヘ
   ッドの製造方法において、上記基板に所定形状の溝を形
   成した後、この溝の壁面に沿ってガラス薄膜を形成し、
   続いて、上記ガラス薄膜を加熱溶融し、冷却後、上記ガ
   ラス薄膜の表面に前記軟磁性薄膜を設けることを特徴と
   する磁気ヘッドの製造方法。