JPS60187908A

JPS60187908A - 磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS60187908A
Application number: JP4360484A
Authority: JP
Inventors: Terumasa Sawai; 瑛昌沢井; Akio Kuroe; 章郎黒江; Mitsuo Satomi; 三男里見; Masaru Higashioji; 賢東陰地
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1984-03-07
Filing date: 1984-03-07
Publication date: 1985-09-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野この発明は磁気へ・ンドに関するもので、一対のコア半
休をガラス結合する際のガラス融着範囲を正確かつ安定
にし、磁気ヘッドの製造を容易とする技術を提供するも
のである。

従来例の構成とその問題点第１図はフェライト材料を用いた従来の磁気ヘッドの一
例を示すものである。すなわち、巻線溝１を持ったコア
半体２を一対として、ギャップ形成面３に必要なギャツ
プ幅の厚みのガラス材例えば５ｉ０２のギャップ形成材
４をスパッタ法などによって形成し、次いで両コア半休
２，２を接合した後、両巻線溝１，１による巻線窓１ａ
にガラス５を置きこのガラス５の溶融温度に加熱して両
コア半休２．２の双方に融着し、両コア半休２゜２を結
合一体化したヘッド本体Ｈを製造していた。

ヘッド本体Ｈがフェライト材料の場合は、フェライトの
焼成温度が高いので、フェライト特性を劣化させること
なく、結合ガラス５を十分な溶融温度で融着できるため
、ヘッドギャップをはじめヘッド本体の融着も強固にで
きる。そして、前記ヘンドギャソプをテープに摺動させ
ても、ギャップ部での崩れを生じるおそれがない。この
点から一般にヘッド製造において、そのギャップやコア
結合などをガラス材の融着で行うことが最も好ましいと
され、また実際に適用されている。

しかし、最近では高密度記録に伴い、飽和磁束密度の大
きい金属系磁性材を用いた磁気テープが多用されるよう
になり、このような金属テープに使用する磁気ヘッドと
して、センダスト合金系やアモルファス合金系のものが
あり、特に最近ではアモルファス合金ヘッドが特性的に
優れ、製造の試みが多くなされている。

このようなアモルファス合金材料は、その特性の一つと
して結晶化温度をもち、その結晶化温度は高々４００〜
５５０℃であり、結晶化温度を超える高い温度で加熱処
理すると、アモルファス合金は磁気特性が劣化したり機
械的にももろくなる性質がある。このため、アモルファ
ス合金によるヘッドコアを用い、しかもガラス融着法に
よってギャップ部やコア結合を行うヘッド製造法の場合
に、そのガラスの選択が非常に難しい問題となっていた
。

従来、出願人においては、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルフ
ァス合金の結晶化温度が５００　”ｃ程度であるため、
コア結合用の融着ガラスとして、融点５００°Ｃ以下の
いわゆる低融点ガラスを選択使用していた。このような
低融点ガラスは、その成分がＰｂＯ主体の鉛ガラス系の
ものが殆どである。

このような船主体の低融点ガラスをアモルファス合金コ
アの表面に十分流動させ、融着結合するためには、その
ガラスの融点以上の作業温度での加熱が必要である。し
かし、融着温度は前記アモルファス合金の結晶化温度で
制約を受けるため十分な加熱ができず、ガラスの流動が
不十分でありコア結合力が弱い欠点があった。さらに、
このような低融点ガラスのＰｂＯはアモルファス合金の
コア表面上で還元され、前記ＰｂＯは金属鉛層を形成し
、コア表面上での低融点ガラスの流動性を一層弱め、こ
れが、十分なコア融着ができない一因ともなっていた。

そこで、近時、アモルファス合金によるコア表面におい
て、低融点（結晶化温度以下の温度）で十分流動し、融
着状態とするための手段として、第２図（Ａ）の如く、
巻線溝１の表面全域に１〜２ミクロン程度の厚さのクロ
ム膜６をスパッタ法や蒸着法などによって設けた構造と
した。このようなりロム膜６上であれば、前記アモルフ
ァス合金の結晶化温度以下の融点を有する低融点ガラス
５でも、その軟化温度から融点までの温度範囲と必要な
時間の加熱処理条件により、極めて良好な流動性を示し
た。

上記の如く、従来のへリドコアでは蒸着法やスパッタ法
あるいはメッキ法などにより、その巻線ａ１の全域にク
ロム膜６を設けた構造であるため、クロム膜６に沿って
融着用の低融点ガラス５が非常によくぬれる状態となる
。しかし、その反面、第２図（Ｂ）、（Ｃ）の如く、ガ
ラス５の流れる位置が定まらない欠点があった。

ガラス５の流れについて最も重要なことは、両コア半休
２．２の接合部である。ギヤ、プ形成月４の近傍にガラ
スが溜り、融着結合し７ていることである。

しかしながら、前述の如く、巻線溝１の全１４にクロム
膜６を台する従来のコアでは、その結合用ガラス５のぬ
れ方が極端な場合に、図（Ｂ）。

（Ｃ）のように片側のコア半休に隼申し・たり、他方の
コア十体上には存在しない状態など、コア半休を結合さ
セる効果を発揮しない場合があり、また、多くの場合ガ
ラス５の溜る場所が定まらず、強度的にも、巻線が巻き
にくく、さらにギャップが広がるためヘッドの電磁特性
が不安定であるとい・う欠点があった。

発明の目的この発明の目的は、一対のコア半休をガラス融着結合す
る際のガラス融着範囲を正確かつ安定なものとすること
により、製造が容易で、しかも強度および磁気特性に優
れた磁気ヘッドを提供することである。

発明の構成発明の磁気ヘッドは、巻線溝と、この巻線溝の両側に連
続し互いにほぼ同一面上に位置するギャップ形成面およ
び接合面と、前記巻線溝の内面において前記ギャップ形
成面との境界位置に一端を有し前記接合面に連続する巻
線溝の天面よりもギャップ形成面に近い位置に他端を有
する状態で付着形成した低融点ガラスぬれ促進用の膜体
とを有するコア半休の２つを、前記両接合面および両膜
体の端部を互いに接合し前記両ギャップ形成面間にギャ
ップ形成材を介在する状態で一体的に接合してなるヘッ
ド本体と、前記接合した両膜体が形成する凹部に充填す
ることにより前記両コア半休を結合する低融点ガラスの
結合体とを備えたものである。

この構成において、低融点ガラスぬれ促進用の膜体とし
ては、クロム、銅、チタンなどの群から選ばれた１種以
上の金属材料がある。この膜体が巻線溝の全域ではなく
、前記接合面に至るまでのところで終わっているため、
この膜体上に溶着するコア結合のためのガラスの流れ範
囲を膜体の終端までに規制する。したがって、両膜体が
形成する凹部に限ってガラスが存在することになり、ガ
ラス融着範囲が正確かつ安定したものになる。よって、
ガラスによる結合強度が高く、磁気ヘッド自体の機械的
強度および磁気特性が優れたものとなる。

実施例の説明第３図はビデオヘッドに適用したこの発明の一実施例を
示すものである。以下これについて説明する。

図（Ａ）の如く、ビデオヘッドの構造として、コア半体
２の一部に巻線を施して磁路を形成するための巻線溝１
を設けている。２ａ、２ｂはほぼ同一・面上に位置する
ギヤツブ形成面と接合面である。巻線溝１の寸法は一般
に０．５鰭角程度の非常に小さい溝である。

まず、この巻線溝１の面部全域にクロム膜６とスパッタ
法や蒸着法、あるいは電気メツキ法などの手段によって
設けている。クロム膜６は従来例でも述べた通り、ガラ
ス融着時のガラスの流動性を良くするための作用を発揮
させるためのものである。クロム膜６の厚さは、実験結
果によれば０゜１ミクロン以上が必要であることが判明
し、ビデオヘッドでは、１〜２ミクロンの厚みをつける
のが好ましい。さらに、ギャップ形成面２ａと接合面２
ｂを平面かつ鏡面に研摩する。

次に図（Ｂ）の如く、コア半休２中の巻線溝ｌ中の天面
１ｂよりもギャップ形成面２ａに近い適当な位置から、
その一部に、クロム膜６上からコア半休２の一部に切欠
溝７を加工する。切欠溝７のり久方法は、ダイヤモンド
ブレード使用による機械的加工によるもの、あるいはク
ロム膜６上からマスキングによるエツチング法などによ
り行うことができる。切欠ｌＲ７の・」°ン大は　幅お
よびｌ（１さとも約Ｑ、　’ｌ　ｍｍ程度でよい。切欠
溝７により、前記クロム膜６を部分（ｊａと部分６ｂに
分断した構造となす。

図（Ｃ）は、前記加工したコア半休２の一対を用いて、
少なくとも前記ギャップ形成面２ａに５ｉ０２などのガ
ラス組成物あるいはＣｒ　Ｏなどの金属組成物からなる
適当なギャップ形成材４を、必要な厚みに応してスパッ
タ法、蒸着法などによって付着さ−Ｕた後ギャップ形成
面２ａ、２ａどうし、接合面２ｂ、２ｂとうじを接合し
て、２つのコア半休２．２を一体化し、両Ｓ線／Ｍｌ、
Ｉによ−って巻線窓１ａを形成しヘッド本体１１とする
。

巻線窓１ａに挿入した棒状のガラス５をギヤ、７プ形成
材４に連なるＶ字状のクロム膜部分６ａ。

６ａ上に設置する。ここで、ガラス５の設置量は、切欠
溝７から下方のクロム成分６ａ、６ａで囲まれた部分を
充満させるか、あるいはそれよりも少量とすることが好
ましい。少な（とも、巻線窓１ａを充満させる容量のガ
ラス５は設置しないよう制限する。

さらに、図（Ｄ）のように、前記コア半休２゜２の巻線
窓ｌａ中に設置したガラス５をクロム膜部分５ａ、５ａ
が形成する凹部において融着させ、ヘッド本体Ｈを構成
する。

前記の如く、ガラス融着する際、そのガラスの選択はコ
ア材料が特にアモルファス合金の場合には、コア材結晶
化温度の点で制限を受ける。発明者が使用したアモルフ
ァス合金は、その結晶化温度が５００℃前後である。通
常のアモルファス合金の場合でもこの値と大きくは異な
らない。アモルファス合金はこの結晶化温度を超える温
度で長時間加熱すると、そのコア磁気特性が劣化し、機
械的特性が極端に劣化する。

このため、この発明では、前述のガラス５として、前記
コア半休２の結晶化温度を超えない範囲の熱処理温度が
処理できるガラス材料を選択使用した。具体的にはアモ
ルファス合金コア材の結晶化温度５００　’Ｃを超えな
い範囲の軟化点３８０℃、融点４８０°Ｃの低融点ガラ
スを選択使用し、４８０℃で３０分間融着処理すること
によって、下あのクロム膜部分６ａ、ｆｉａの」一端よ
りＦカにおいて、巻線窓１ａ中に融着さセ、両コア１′
体２．２を一体結合させたヘッド本体Ｉ（を構成できた
。

すなわち、低周；点結合ガラス５は巻線窓ｌａ中のクロ
ム１ｉ６ａ、６ａ上のみにおいて画−ｌア半体２．２間
にわたり、集中して融着ずろことができた。しかも、巻
線窓１ａ中の切欠溝７，７より旧都のクロム膜部分６ａ
、６ａ方向にはガラス５の流れが進んでいないことも確
認できた。そＵ７て、切欠溝７Ｇこより′：１ア半体２
，２間におりるガラス５のぬれ範囲を粘度よく規制でき
た。

クロム膜６を分断する切欠溝７はコア月の面部となり、
このコア祠面部はガラス５のぬれ性が悪く、クロム膜部
分６ａの上端から」一方に進行するガラス５の流れを阻
止する働きとなり、切欠溝７の配設によって巻線窓Ｉａ
中の結合用ガラス５の融着範囲を規制したものである。

なお、上記ではクロム膜を例にとって述べたが、銅、チ
タンなど他の金属膜でも有効である。

なお、第３図（Ｂ）において、９Ｊ％／ｌをコア半体２
に及ぼさずに、クロム膜６の全肉厚に相当する深さのも
のとしたものや、上方のクロム膜部分６ｂをもたないも
のもこの発明の一実施例である。

発明の効果この発明によれば、ガラス融着範囲が正確かつ安定した
ものとなり、磁気へ・ノドの機械的強度および磁気特性
を向上することができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例の正面図、第２図（Ａ）〜（Ｃ）は別の
従来例の正面図、第３図（Ａ）〜（Ｄ）はこの発明の一
実施例の磁気ヘッドについての製造の工程図（正面図）
である。１・・・巻線溝、１ｂ・・・天面、２・・・コア半休、
２ａ・・・ギャップ形成面、２ｂ・・・接合面、４・・
・ギヤ・ノブ形成材、５・・・低融点ガラス、６・・・
低融点ガラスぬれ促進用の膜体、■（・・・ヘッド本体
第１図ａ４２　４２筑２図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）巻線溝と、この巻線溝の両側に連続し互いにほぼ
同一面上に位置するギャップ形成面および接合面と、前
記巻線溝の内面において前記ギャップ形成面との境界位
置に一端を有し前記接合面に連続する巻線溝の天面より
もギャップ形成面に近い位置に他端を有する状態で付着
形成した低融点ガラスぬれ促進用の膜体とを有するコア
半休の２つを、前記両接合面および両膜体の端部を互い
に接合し前記両ギャップ形成面間にギャップ形成材を介
在する状態で一体的に接合してなるヘッド本体と、前記
接合した両膜体が形成する凹部に充填することにより前
記両コア半休を結合する低融点ガラスの結合体とを備え
た磁気ヘッド。
（２）前記両コア半休が、前記各膜体の前記他端に隣接
する位置において前記各巻線溝からさらに四人する低融
点ガラス流れ止め用の溝を有している特許請求の範囲第
ｆｌ）項記載の磁気ヘッド。
（３）前記膜体がクロム、銅、チタンの群から選ばれた
Ｌ種以上の材料から構成されている特許請求の範囲第（
］）項または第（２）項記載の磁気ヘッド。
（４）前記両コア半休がアモルファス合金製である特許
請求の範囲第（１）項記載の磁気ヘッド。