JP2512976B2

JP2512976B2 - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JP2512976B2
Application number: JP33530387A
Authority: JP
Inventors: 潤一斎藤; 順一本多
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1987-12-29
Filing date: 1987-12-29
Publication date: 1996-07-03
Anticipated expiration: 2011-07-03
Also published as: JPH01176304A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、いわゆるメタルテープ等の高抗磁力磁気記
録媒体への記録再生に使用される磁気ヘッドに関するも
のであり、特に金属磁性膜によって閉磁路が構成される
磁気ヘッドの改良に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、基板とこの基板の突合わせ面上に成膜され
た金属磁性膜よりなる磁気コア半体対が接合一体化さ
れ、前記金属磁性膜により閉磁路を構成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、基板に形成された巻線溝の両側壁と突合
わせ面とのなす角度を緩やかにするように上記側壁の開
口縁部に傾斜部を形成することにより、巻線溝内の金属
磁性膜の磁気特性を向上させて再生出力に優れた磁気ヘ
ッドを提供することを可能とするものである。

〔従来の技術〕

例えばVTR（ビデオテープレコーダ）等の磁気記録再
生装置においては、高画質化等の目的として情報信号の
短波長記録化が進められており、これに対して磁性粉に
強磁性金属粉末を用いたいわゆるメタルテープや、ベー
スフィルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テー
プ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになって
きている。

一方、磁気ヘッドの分野においてもこれに対処するべ
く研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒体に好適
な磁気ヘッドとして磁気コアに金属磁性体を用いた磁気
ヘッドが種々開発されている。

その磁気ヘッドの一例として、例えば第22図に示す如
く構成されたものが知られている。

この磁気ヘッドは、第22図に示すように酸化物磁性材
料あるいは非磁性材料からなる基板（１），（２）の突
合わせ面に金属磁性膜（３），（４）がそれぞれ被着形
成されてなる磁気コア半体（Ｉ），（II）対がその金属
磁性膜（３），（４）を当接面として突合わされされて
なり、当該金属磁性膜（３），（４）により閉磁路が形
成さてなるものである。

この磁気ヘッドの磁気ギャップｇは、金属磁性膜
（３），（４）同士がギャップスペーサを挟み込んで突
合わされることにより形成されている。そして、上記磁
気ギャップｇのデプスを規制するとともにコイルを巻装
するための溝として断面略コ字状の巻線溝（５）が前記
一方の基板（１）の中途部に形成されている。

ここで、上記巻線溝（５）は、フロントギャップ側に
突合わせ面Ｓ′とα_１なる角度を有する側壁面（5a）
と、上記突合わせ面Ｓ′と平行なコイル巻装面（5c）
と、バックギャップ側に上記突合わせ面Ｓ′とα_２なる
角度を有する側壁面（5b）とからなっている。そして、
上記両側壁面（5a），（5b）と突合わせ面Ｓ′とのなす
角度α₁,α_２は、通常はそれぞれ40゜〜60゜,90゜とさ
れている。

ところが、特にバックギャップ側の側壁面（5b）と突
合わせ面Ｓ′とのなす角α_２が90゜，すなわち直角に形
成されているために、この部分に成膜される金属磁性膜
（３）は大きく屈曲され、この部分で当該金属磁性膜
（３）の有する保磁力Hc,飽和磁束密度Bsあるいは透磁
率μ等の磁気特性が著しく低下している。また、前記屈
曲部に成膜される金属磁性膜（３）の膜厚が薄くなるこ
ともあり、より一層金属磁性膜（３）の磁気特性の低下
を招いている。特に、非磁性材料からなる基板に金属磁
性膜（３）を成膜した場合は、これら金属磁性膜
（３），（３）のみより閉磁路が構成されるので、上記
金属磁性膜（３）の磁気特性が直接影響するため磁気ヘ
ッドの再生出力がさらに低下する。

このように、巻線溝（５）内に成膜された金属磁性膜
（３）は閉磁路を構成するため、その磁気特性が低下す
ることのないように成膜されることが要求される。

そこで、上記金属磁性膜の磁気特性の低下を防止する
ために種々研究が進められており、例えば特開昭61−29
2211号公報に記載されるように、巻線溝（５）の両側に
形成された側壁面（5a），（5b）と突合わせ面Ｓ′との
なす角度α₁,α_２をそれぞれ20゜〜80゜の範囲とする磁
気ヘッドが提案されている。

この磁気ヘッドによれば、金属磁性膜の磁気特性の低
下も少なく2dB程度の再生出力の向上が報告されてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、さらに一層の磁気特性の向上を図るために
は、上記巻線溝（５）の両側に形成された側壁面（5
a），（5b）と突合わせ面Ｓ′とのなす角度α₁,α_２を
なるべく小さくして金属磁性膜（３）の磁気特性を向上
させることが必要である。

しかし、上記角度α₁,α_２をあまり小さくし過ぎると
巻線溝（５）の開口幅が大きくなってしまい、コアの磁
路長が長くなり磁束の効率が低下する。

そうかと言って、巻線溝（５）の開口幅を小さくする
ために当該巻線溝（５）の深さを浅くすると、コイルを
巻装するスペースが狭くなり、高抗磁力磁気記録媒体に
対して充分な磁界を発生するだけのコイルを巻装するこ
とができなくなる。

したがって、上述のようなことから、優れた再生出力
を有する磁気ヘッドを得るには至っていない。

そこで本発明は、上述の諸問題を解決するべく提案さ
れたものであって、特に巻線溝周辺の金属磁性膜の磁気
特性を向上させ、優れた再生出力を有する磁気ヘッドを
提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上述の目的を達成するために、少なくとも
一方の磁気コア半体が基板とこの基板の巻線溝内を含む
突合わせ面上に沿って成膜された金属磁性膜よりなる一
対の磁気コア半体が接合一体化され、前記金属磁性膜に
より閉磁路が構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記
巻線溝の両側壁と突合わせ面とのなす角度θ₁,θ_２がそ
れぞれ20゜〜80゜であって、少なくとも一方の側壁の開
口縁部が切り欠れ、前記側壁の傾斜が緩和されたことを
特徴とするものである。

〔作用〕

本発明の磁気ヘッドは、基板に形成された巻線溝の両
側壁と突合わせ面とのなす角度θ₁,θ_２がそれぞれ20゜
〜80゜とされ、さらにその両側壁の開口縁部に切り欠き
が設けられているので、上記側壁の傾斜は緩和される。

したがって、上記巻線溝内に成膜される金属磁性膜は
均一の膜厚に形成されその磁気特性は低下することはな
い。

また巻線溝は、コイルが巻装される部分も充分確保さ
れ、必要以上に大きく形成されることがないので、磁路
長が短いものとなり磁束の伝達効率が向上する。

また、上記両側壁の開口縁部が切り欠かれているた
め、磁気ギャップ近傍の磁束のもれ（リーク）が低減さ
れる。

〔実施例〕以下、本発明を適用した実施例について図面を参照し
ながら説明する。

本実施例の磁気ヘッドは、第１図に示すように、磁気
ギャップＧを境にして左右別々に作成された磁気コア半
体（III），（IV）対が金属磁性膜（８），（９）を当
接面としてギャップスペーサを挟み込んで突き合わされ
てなり、これら金属磁性膜（８），（９）により閉磁路
が構成されてなるものである。

上記一対の磁気コア半体（III），（IV）のうち一方
の磁気コア半体（IV）は、フェライト等の酸化物磁性材
料あるいはセラミックス等の非磁性材料からなる基板
（７）の突合わせ面が平坦な面とされ、この平坦な面に
強磁性金属材料等の金属磁性膜（９）が被着形成された
ものである。

これに対し他方の磁気コア半体（III）は、上記基板
（７）と同じ材料から形成される基板（６）の中途部に
巻線溝（10）が設けられ、その突合わせ面に金属磁性膜
（８）が被着形成されたものである。

ここで、上記金属磁性膜（８）は、基板（６）の突合
わせ面であるフロントギャップ側から巻線溝（10）内を
経てバックギャップ側に至るまで前記基板（６）の形状
に沿って被着形成されている。なお、上記巻線溝（10）
は、コイルを巻装するためのものであるとともにフロン
トギャップＧのデプスを規制するものでもある。また、
これら金属磁性膜（８），（９）の対向幅は、上記基板
（６），（７）の突合わせ面Ｓの幅（すなわちコア厚と
同じ幅）とされている。

なお、上記金属磁性膜（８），（９）には、高い飽和
磁束密度を有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使
用されるが、かかる強磁性材料としては従来から公知の
ものがいずれも使用でき、結晶質，非結晶質を問わな
い。例示するならば、Fe−Al−Si系合金、Fe−Al系合
金、Fe−Si−Co系合金、Fe−Ni系合金、Fe−Al−Ge系合
金、Fe−Ga−Ge系合金、Fe−Si−Ge系合金、Fe−Co−Si
−Al系合金等の強磁性金属材料、あるいは、Fe−Ga−Si
系合金、さらには、上記Fe−Ga−Si系合金の耐蝕性や耐
摩耗性の一層の向上を図るために、Fe,Ga,Co（Feの一部
をCoで置換したものを含む）,Siを基本組成とする合金
に、Ti,Cr,Mn,Zr,Nb,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh,Ir,Re,Ni,Pd,P
t,Hf,Vの少なくとも１種を添加したものであってもよ
い。また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファ
ス合金（例えば、Fe,Ni,Coの１つ以上の元素とP,C,B,Si
の１つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主成分
としAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含ん
だ合金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金、あ
るいはCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分と
するメタル−メタル系アモルファス合金）等も使用され
る。これら金属磁性膜（８），（９）の成膜方法として
は、真空蒸着法，スパッタリング法，イオンプレーティ
ング法，クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術が採用される。なお、上記金属磁性膜
（８），（９）は前記強磁性合金材料の単層膜であって
もよいが、例えばSiO₂,T₂O₃,Al₂O₃,ZrO₂,Si₃N₄等の絶縁
膜を介して多層膜としてもよい。

ここで、閉磁路を構成する金属磁性膜（８），（９）
の磁気特性に大きく影響する巻線溝（10）の形状につい
て第２図を参照しながら説明する。なお、第２図は第１
図に示す磁気ヘッドの巻線溝（10）近傍分の要部拡大図
である。

上記巻線溝（10）は、フロントギャップ側およびバッ
クギャップ側に形成される両側壁（10A），（10B）と、
これら両側壁（10A），（10B）間に形成されるコイル巻
装壁（10C）とで構成され、全体として略台形状とされ
ている。

その両側壁（10A），（10B）と突合わせ面Ｓとのなす
角度θ₁,θ_２は、この両側壁（10A），（10B）上に成膜
される金属磁性膜（８），（９）が最も優れた磁気特性
を示す20゜〜80゜の範囲に設定されている。なお、本実
施例ではθ₁,θ_２はいずれも45゜となっている。

これに対して上記両側壁（10A），（10B）間に挟まれ
たコイル巻装壁（10C）は、突合わせ面Ｓと略平行に形
成されコイルを巻装するのに必要充分な大きさとされて
いる。

また、上記両側壁（10A），（10B）の突合わせ面Ｓ側
の開口縁部が切り欠かれて傾斜部（10a），（10b）がそ
れぞれ形成されている。これら傾斜部（10a），（10b）
と突合わせ面Ｓとのなす角度θ₃,θ_４は、前記両側壁
（10A），（10B）との突合わせ面Ｓとのなす角度θ₁,θ
_２よりも小さい角度とされている。本実施例では、上記
角度θ₃,θ_４を30゜としている。

この結果、上記フロントギャップ側およびバックギャ
ップ側での両側壁（10A），（10B）の傾斜はこれら傾斜
部（10a），（10b）により緩和される。したがって、巻
線溝（10）内に被着形成される金属磁性膜（８）の有す
る保磁力，飽和磁束密度あるいは透磁率等の磁気特性は
低下することがない。

さらには、この部分に成膜される金属磁性膜（８）は
均一な膜厚に形成されるため、当該金属磁性膜（８）の
有する磁気特性は一層良好なものとなる。

なお、本実施例の磁気ヘッドは、上記傾斜部（10
a），（10b）が設けられていない巻線溝を有する磁気ヘ
ッドに比べてその再生出力は1dBの向上が得られた。

また、上記傾斜部（10a），（10b）と突合わせ面Ｓと
のなす角度θ₃,θ_４は極端に小さい値ではないので、上
記巻線溝（10）は大きく形成されることはない。このた
め、上記巻線溝（10）内に成膜される金属磁性膜（８）
の磁路長さは短くなり磁束の伝達効率は向上する。さら
には、巻線溝（10）は大きく形成されることはないので
小チップ構造とした磁気ヘッドとすることが可能とな
る。

また、上記傾斜部（10a），（10b）が形成されること
により、フロントギャップ側での磁束のもれが低減され
る。

したがって、磁気特性の低下のない優れた再生出力を
発揮する磁気ヘッドが実現される。

次に、本発明を適用した第１図に示す磁気ヘッドの製
造方法についてその工程順に沿って図面を参照しながら
説明する。

この磁気ヘッドを作成するには先ず第３図に示すよう
に、フェライト等の酸化物磁性材料あるいはセラミック
ス等の非磁性材料からなるヘッドコアブロック（11）を
用意し、このヘッドコアブロック（11）の突合わせ面と
なる一表面（11a）上にコイルを巻装するための巻線溝
（12）を切削加工する。なお上記巻線溝（12）の形状
は、第２図に示すものと同じであるためその説明は省略
する。

次に、第４図に示すように、上記突合わせ面となる一
表面（11a）上に巻線溝（12）内も成膜されるように金
属磁性膜（13）を真空薄膜形成技術を用いてスパッタリ
ング法等により被着形成する。

次いで、第５図に示すように、金属磁性膜（14）が被
着された長方形状のヘッドコアブロック（15）を用意
し、このヘッドコアブロック（15）を前記工程で形成し
た一方のヘッドコアブロック（11）に、これら金属磁性
膜（13），（14）同士をギャップスペーサを挟み込んで
突合わせガラス融着により接合一体化する。

しかる後に、磁気記録媒体対接面に対して磁気ギャッ
プが所定のデプスとなるまで研磨を施し、必要に応じて
当たり幅加工等を施した後、ａ−ａ線およびｂ−ｂ線で
示す位置でスライシング加工してヘッドチップを切り出
して磁気ヘッドを完成する。

ここで本発明は、前述した磁気ヘッドに限定されるこ
となく例えば第６図に示すような構造の磁気ヘッドにも
適用することができる。なお、第６図に示す磁気ヘッド
には、第１図および第２図に示すものと同一部材には同
一の符号を付した。

上記第６図に示す磁気ヘッドは、両方の磁気コア半体
（III），（III）に巻線溝（10），（10）がそれぞれ形
成されたものである。

すなわち、第１図および第２図に示す磁気ヘッドの巻
線溝（10）が形成された磁気コア半体（III）を二つ作
製し、これら磁気コア半体（III），（III）同士を金属
磁性膜（８），（８）を当接面としてギャップスペーサ
を挟み込んで突合わせ接合一体化したものである。な
お、その他の構成は前記第１図および第２図に示す磁気
ヘッドと同一のためその説明は省略する。

この磁気ヘッドは、巻線溝（10），（10）が両側に形
成されているので各巻線溝（10），（10）の深さを浅く
形成することが可能となり当該巻線溝（10），（10）内
に成膜される金属磁性膜（８），（８）の磁路長さがよ
り短くなり磁束の伝達効率が一層向上する。

また、フロントギャップＧ近傍では、金属磁性膜
（８），（８）同士が巻線溝（10），（10）の傾斜部
（10a），（10a）により離されているため磁束の漏れは
防止される。したがって、効率の観点から巻線溝（1
0），（10）は両側に形成することがより好ましい。

さらに、本発明は第７図に示す如く構成された磁気ヘ
ッドにも適用することが可能である。

この第７図に示す磁気ヘッドは、巻線溝の形状を半円
状としその巻線溝の両端を切り欠いたものである。

すなわち上記磁気ヘッドは、半円状の巻線溝（16）が
形成された基板（17）の突合わせ面Ｓ′に金属磁性膜
（18）が被着形成されてなる磁気コア半体（Ｖ），
（Ｖ）対を当該金属磁性膜（18），（18）を当接面とし
てギャップスペーサを挟み込んで突き合わせ接合一体化
してなるものである。

ここで、上記基板（16）の中途部に形成された半円状
の巻線溝（16）は、さらにその両端がそれぞれ開放する
ように切り欠かれ傾斜面（19a），（19b）が形成されて
いる。この両傾斜面（19a），（19b）と突合わせ面Ｓ′
とのなす角度θ₅,θ_６は、この巻線溝（16）内に成膜さ
れる金属磁性膜（18）の磁気特性を低下させることのな
い角度に設定されている。例えば、前記第１図に示した
磁気ヘッドと同様30゜に設定する。

また、上記巻線溝（16）の曲率Ｒは前記第１図および
第２図に示す巻線溝（10）の両側壁（10A），（10B）と
突合わせ面Ｓとのなす角度θ₁,θ_２（20゜〜80゜）を持
つ断面形状に略近い曲率Ｒとすることが好ましい。すな
わち、上記範囲以内とすることで巻線溝（16）に成膜さ
れる金属磁性膜（16）の磁気特性が向上するからであ
る。

上述のように形成された磁気ヘッドは、前記した磁気
ヘッドと同様、巻線溝（16）内に成膜された金属磁性膜
（18）の磁気特性の低下がなく優れた再生出力を示す。

さらに本発明は第８図に示すように、金属磁性膜の斜
め膜が磁気記録媒体摺動面から見たときに一直線上に連
なるようにその斜め膜の端面同士が突き合わされてなる
磁気ヘッドにも適用することができる。

その磁気ヘッドの構成を簡単に説明する。なお、第８
図は本例の磁気ヘッドを記録媒体摺動面から見たもので
ある。

この磁気ヘッドの磁気ギャップＧ′は、金属磁性膜
（20），（21）同士をギャップスペーサを介して突き合
わされることにより形成されるが、本実施例の磁気ヘッ
ドでは、基板（22），（23）の突合わせ面が斜めに切り
欠かれ、この傾斜面（22a），（23a）に金属磁性膜（2
0），（21）が成膜され、上記金属磁性膜（20），（2
1）の当接面がトラック幅Twの磁気ギャップＧ′となる
ように構成されている。

そして、上記傾斜面（22a），（23a）により削り落と
された切り欠き部分には、接合ガラス（24），（25）が
充填され、磁気記録媒体に対する当たり特性を確保する
ようになっている。

この磁気ヘッドの構成をより明確なものとするため、
その製造方法について図面を参照しながら説明する。

先ず、第９図に示すように、フェライト等の酸化物磁
性材料あるいはセラミックス等の非磁性材料からなるヘ
ッドコアブロック（26）を用意し、このヘッドコアブロ
ック（26）の上面（26a）、すなわち磁気コア半体突合
わせ時の接合面に回転砥石等により断面略Ｖ字状の切り
溝（27）を入れて金属磁性膜形成面（27a）を形成す
る。

次に、第10図に示すように、先の切り溝（27）と直交
する方向にコイルを巻装するための断面略台形状の巻線
溝（28）を切削加工する。

この巻線溝（28）を形成するには、先ず、第11図に示
すように、ヘッドコアブロック（26）の上面（26a）と
平行に所定深さ、所定幅となるように切削加工を施しコ
イル巻装面（28C）を形成する。

次いで、そのコイル巻装面（28C）の両端にそれぞれ
前記上面（26a）となす角度θ₇,θ_８が45゜となるよう
に斜面（28A），（28B）をそれぞれ形成する。なお、上
記角度θ₇,θ_８は、20゜〜80゜の範囲であればよい。

さらに、上記両斜面（28A），（28B）の開口縁部に当
該斜面（28A），（28B）の傾斜を緩和させるように、上
記斜面（28A），（28B）の傾斜よりも小さい角度、すな
わち前記上面（26a）となす角度θ₉,θ₁₀が30゜となる
ように傾斜面（28a），（28b）をそれぞれ形成する。

これによって、上記巻線溝（28）内に被着形成される
金属磁性膜の有する磁気特性が低下することはなくな
る。

なお、上記巻線溝（28）の形成方法として他に、例え
ば予め巻線溝（28）の形状とした回転砥石を用い、この
回転砥石を上記ヘッドコアブロック（26）に当て切削加
工してもよい。これによれば、上記巻線溝（28）は一工
程で加工することができ製造工程も簡略化できる。

しかる後に、第12図に示すように、上記ヘッドコアブ
ロック（26）の上面（26a）全体に亘って金属磁性膜（2
9）を薄膜形成技術等の方法により被着形成する。

次に、第13図に示すように、上記Ｖ字状の切り溝（2
7）および巻線溝（28）内にガラス（30）を充填させ
る。その後、ヘッドコアブロック（26）の上面（26a）
に成膜された金属磁性膜（29）を平面研磨して取り巻
き、上記ヘッドコアブロック（26）の上面（26a）が覗
いたところで研磨を終了する。

この結果、金属磁性膜（29）はＶ字状の切り溝（27）
と巻線溝（28）内の部分のみが残ることになる。

次に、第14図に示すように、デプス零（図中破線で示
す位置）の先端位置出しを行う。続いて、巻線溝（28）
内に充填されているガラス（30）を図中一点鎖線で示す
位置まで切削加工して取り除く。

しかる後に、第15図に示すように、得られたヘッドコ
アブロック（26），（26）対の金属磁性膜（29），（2
9）同士を重ね合わせ、トラック幅を一致させてギャッ
プスペーサを介してガラス融着により接合一体化する。
その後、必要に応じて当たり幅加工等を施した後、第15
図中ｃ−ｃ線およびｄ−ｄ線で示す位置でスライシング
加工して各ヘッドチップに切り出し磁気ヘッドを完成す
る。

ここで、ヘッドコアブロック対の接合強度をさらに向
上させ信頼性のある磁気ヘッドを得ようとするには、例
えば、金属磁性膜の磁路としての不要な部分を取り除
き、金属磁性膜が成膜されていいない当該ヘッドコアブ
ロック同士の接合面を増やしてガラス融着することで可
能となる。

その磁気ヘッドの製造方法を図面を参照しながら説明
する。

なお、ここで説明する磁気ヘッドは、ヘッドコアブロ
ックの突合わせ面が磁気ギャップと平行な面とトラック
幅規制溝により切削される傾斜面とからなり、前記平行
な面によりトラック幅が決定されるヘッドコアブロック
同士が突合わされてなるもので、これら平行な面と傾斜
面に金属磁性膜が成膜されてなるものである。

先ず、第16図に示すように、前記した製造方法と同じ
材料からなるヘッドコアブロック（31）にトラック幅を
規制するための断面略Ｖ字状のトラック幅規制溝（32）
を切削加工する。その際、上記トラック幅規制溝（3
2），（32）間には、金属磁性膜成膜後に削り取られる
突出部（33）を残す。なお、本例の突出部（33）の形状
は長方形状となっている。

そして、上記トラック幅規制溝（32）と直交する方向
にコイルを巻装するための巻線溝（34）およびガラス溝
（35）を切削加工する。

この結果、上記巻線溝（34）前方にはフロントギャッ
プ部が形成され、巻線溝（34）とガラス溝（35）間には
バックギャップ部がそれぞれ形成される。

次に、第17図に示すように、上記トラック幅規制溝
（32），巻線溝（34），ガラス溝（35）等が形成された
面全体に、金属磁性材料からなる金属磁性膜（37）を真
空薄膜形成技術により被着形成する。

次に、第18図に示すように、突出部（33）とガラス溝
（35）内を切削加工する。

すなわち、第19図に示すように、回転砥石で上記突出
部（33）をトラック幅規制溝（32）の折り返し部（32
a），（32a）〔すなわちＶ字状の底の部分〕がそれぞれ
残るように切削する。この結果、上記突出部（33）上に
成膜された金属磁性膜（37）は削り取られ、ヘッドコア
ブロック（31）が露出し切り欠き部（33a）が形成され
る。なお、上記切り欠き部（33a）はギャップ形成面よ
りも下がった（図中下方）位置となっている。

そして、第20図に示すように、ガラス溝（35）内に成
膜された金属磁性膜（37）も切削しヘッドコアブロック
（31）が露出するように切り欠き部（35a）を形成す
る。その際、上記ガラス溝（35）内に成膜された金属磁
性膜（37）の折り返し部（37a），（37a）をそれぞれ残
すように切削する。

このように、トラック幅規制溝（32）上に成膜された
金属磁性膜（37）の折り返し部（32a）およびガラス溝
（35）内に成膜された金属磁性膜（37）の折り返し部
（37a），（37a）をそれぞれ残すように切削しているた
め、磁路に関与する金属磁性膜（37）とヘッドコアブロ
ック（31）間には切削時の衝撃が伝わらず当該金属磁性
膜（37）ヘッドコアブロック（31）との接合強度は保た
れる。

さらには、上記突出部（33）の切り欠き部（33a）お
よびガラス溝（35）内の切り欠き部（35a）の切削加工
による切断面のエッジは、ヘッドコアブロック（31）の
表面（突合わせ面）に出ることはない。したがって、切
削による膜剥がれも防止でき切削加工自体も高速化でき
る。

最後に、第21図に示すように、これらヘッドコアブロ
ック（31），（31）の金属磁性膜（37），（37）同士を
重ね合わせ、トラック幅を一致させてギャップスペーサ
を介しガラス（38）により融着して接合一体化する。そ
の後、必要に応じて当たり幅加工等を施した後、スライ
ッシング加工してヘッドチップに切り出し磁気ヘッドを
完成する。

このように、ヘッドコアブロック（31），（31）対接
合時に金属磁性膜（37）の磁路として不要な部分を予め
取り除き、当該ヘッドコアブロック（31），（31）同士
の接合面でガラス融着するため、金属磁性膜（37）の濡
れを考慮することなくガラス融着することができ、しか
もコア同士の接合強度およびガラス流れが向上する。ま
た、接合強度が向上するためヘッドチップ切り出し時の
衝撃による金属磁性膜の膜剥がれおよびギャップ不良等
を防止することができる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明が
これら実施例に限定されるものでないことはいうまでも
ない。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明に係る磁気
ヘッドにおいては、基板に形成された巻線溝の両側壁と
突合わせ面とのなす角度が上記両側壁の開口縁部に設け
られた切り欠きにより緩和されるため、当該巻線溝内に
成膜される金属磁性膜の保磁力，飽和磁束密度あるいは
透磁率等の磁気特性が向上する。

さらには、この部分に成膜される金属磁性膜は均一な
膜厚に形成されるため、当該金属磁性膜の有する磁気特
性は一層良好なものとなる。

また、上記巻線溝の開口部は大きく形成されることが
ないので、閉磁路の磁路長は短かいものとなり磁束の伝
達効率は向上する。しかも巻線溝が大きくないため小チ
ップ構造とした磁気ヘッドとすることができる。

したがって、磁気特性に優れ且つ極めて良好な再生出
力を発揮する磁気ヘッドを提供することができる。

また、本発明の磁気ヘッドは、巻線溝を形成する際
に、当該巻線溝の両側壁に単に切り欠きを設けるのみで
簡単に作製することができるため、生産性の観点からも
好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す側面
図であり、第２図はその巻線溝近傍の要部拡大側面図で
ある。第３図乃至第５図は第１図に示す磁気ヘッドの製造工程
を示し、第３図は巻線溝形成工程を示す概略斜視図、第
４図は金属磁性膜被着工程を示す概略斜視図、第５図は
ヘッドコアブロック突合わせ工程を示す概略斜視図であ
る。第６図は本発明を適用した磁気ヘッドの他の例を示す側
面図であり、第７図はさらに他の例を示す側面図であ
る。第８図は本発明を適用した磁気ヘッドのさらに他の例の
記録媒体摺動面の要部拡大平面図である。第９図乃至第15図は第８図に示す磁気ヘッドの製造工程
を示し、第９図はトラック幅規制溝形成工程を示す概略
斜視図、第10図および第11図は巻線溝形成工程を示す概
略斜視図および巻線溝近傍の要部拡大側面図、第12図は
金属磁性膜被着形成工程を示す概略斜視図、第13図はガ
ラス充填工程を示す概略斜視図、第14図はデプス位置出
し工程およびガラス除去工程を示す巻線溝近傍の要部拡
大側面図、第15図はヘッドコアブロック突合わせ工程を
示す要部拡大平面図である。第16図乃至第21図はヘッドコアブロック突合わせ時の接
合強度を向上させるための磁気ヘッドの製造工程の一例
を示す図であり、第16図は溝加工工程を示す概略斜視
図、第17図は金属磁性膜被着形成工程を示す概略斜視
図、第18図は突出部およびガラス溝内の研削工程を示す
概略斜視図、第19図は突出部の研削後の状態を示す要部
拡大側面図、第20図はガラス溝内の研削後の状態を示す
要部拡大側面図、第21図はヘッドコアブロック突合わせ
工程を示す概略斜視図である。第22図は従来の磁気ヘッドの一例を示す側面図である。 6,7……基板 8,9……金属磁性膜 10……巻線溝 10A,10B……側壁 10a,10b……傾斜面 θ₁,θ_２……側壁と突合わせ面とのなす角度Ｓ……突合わせ面Ｇ……磁気ギャップ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方の磁気コア半体が基板とこ
の基板の巻線溝内を含む突合わせ面上に沿って成膜され
た金属磁性膜よりなる一対の磁気コア半体が接合一体化
され、前記金属磁性膜により閉磁路が構成されてなる磁
気ヘッドにおいて、上記巻線溝の両側壁と突合わせ面とのなす角度θ₁,θ_２
がそれぞれ20゜〜80゜であって、少なくとも一方の側壁
の開口縁部が切り欠れ、前記側壁の傾斜が緩和されたこ
とを特徴とする磁気ヘッド。