JPS61255929A - 光ディスク用素材 - Google Patents
光ディスク用素材Info
- Publication number
- JPS61255929A JPS61255929A JP60096635A JP9663585A JPS61255929A JP S61255929 A JPS61255929 A JP S61255929A JP 60096635 A JP60096635 A JP 60096635A JP 9663585 A JP9663585 A JP 9663585A JP S61255929 A JPS61255929 A JP S61255929A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- polycarbonate resin
- phosgene
- bisphenol
- aryl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
- G11B7/2534—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins polycarbonates [PC]
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタルオーディ
オディスクや光メモリ−ディスクなどに適した素材に関
する。
オディスクや光メモリ−ディスクなどに適した素材に関
する。
Ｃ従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕一般
に、上述したような光学機器用の素材には様々な性能が
要求されている。例えば、透明性。
に、上述したような光学機器用の素材には様々な性能が
要求されている。例えば、透明性。
耐熱性、低透湿性１機械的強度等に優れているとともに
光学的性質に優れていることが必要である。
光学的性質に優れていることが必要である。
従来、このような性質を有するものの一つとして、ポリ
カーボネート樹脂が知られているが、一般に用いられて
いるビスフェノールＡ（２，２−ビス（４′−ヒドロキ
シフェニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフェニル等
と反応させて得られるポリカーボネート樹脂は耐熱性、
低透湿性、耐衝撃性などにおいて優れているものの、光
弾性係数が比較的太き（、しかも成形加工時の流動性も
満足すべきものでない、そのため成形加工後の残留歪に
よる成形品の歪みが大きくなり、これらに基因して成形
品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録された情報の
読み取り感度が低下するという難点がある。このように
、未だ光学機器用素材として充分に満足すべきものは得
られていない。
カーボネート樹脂が知られているが、一般に用いられて
いるビスフェノールＡ（２，２−ビス（４′−ヒドロキ
シフェニル）プロパン）をホスゲンや炭酸ジフェニル等
と反応させて得られるポリカーボネート樹脂は耐熱性、
低透湿性、耐衝撃性などにおいて優れているものの、光
弾性係数が比較的太き（、しかも成形加工時の流動性も
満足すべきものでない、そのため成形加工後の残留歪に
よる成形品の歪みが大きくなり、これらに基因して成形
品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録された情報の
読み取り感度が低下するという難点がある。このように
、未だ光学機器用素材として充分に満足すべきものは得
られていない。
そこで本発明者らは従来のポリカーボネート樹脂の欠点
である光弾性係数、流動性などを改善することによって
、光学的性質の向上したポリカーボネート樹脂を開発す
るために鋭意研究を重ねた。
である光弾性係数、流動性などを改善することによって
、光学的性質の向上したポリカーボネート樹脂を開発す
るために鋭意研究を重ねた。
その結果、特定のポリカーボネート樹脂が上記目的を達
成しうるちのであることを見い出し、この知見に基づい
て本発明を完成した。
成しうるちのであることを見い出し、この知見に基づい
て本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
一般式
〔式中、ＲＩ 、 Ｒｔはそれぞれ炭素数１〜５のアル
キル基、炭素数１〜５のアルコキシル基。
キル基、炭素数１〜５のアルコキシル基。
了り−ル基、シクロアルキル基あるいはハロゲン原子を
示し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基
またはアリール基を示す（但し、Ｒ′ｌ、Ｒ４が共にメ
チル基である場合を除く。）〕で表わされる繰返し単°
位を有し、かつ２０℃における濃度０．５ｇ／ｄｆｆｉ
の塩化メチレン溶液の還元粘度〔η、、／ｃ〕が０．３
〜１．０ｄｌ／ｇであるポリカーボネート樹脂からなる
光学機器用素材を提供するものである。
示し、Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基
またはアリール基を示す（但し、Ｒ′ｌ、Ｒ４が共にメ
チル基である場合を除く。）〕で表わされる繰返し単°
位を有し、かつ２０℃における濃度０．５ｇ／ｄｆｆｉ
の塩化メチレン溶液の還元粘度〔η、、／ｃ〕が０．３
〜１．０ｄｌ／ｇであるポリカーボネート樹脂からなる
光学機器用素材を提供するものである。
上記一般式ＣＩ）で表わされる繰返し単位を有する重合
体は、ＲＩ、、 Ｒ４の種類により様々なものがあるが
、具体的な繰返し単位の構造を示せば、し！Ｈ５（Ｊ ｉｓｏ−ＣａＨｑ Ｕなどをあげる
ことができる。
体は、ＲＩ、、 Ｒ４の種類により様々なものがあるが
、具体的な繰返し単位の構造を示せば、し！Ｈ５（Ｊ ｉｓｏ−ＣａＨｑ Ｕなどをあげる
ことができる。
また、上記繰返し単位を有する重合体の重合度は、光学
機器の種類に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレン
溶液を溶媒とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃に
おける還元粘度〔η、、／ Ｃ）が０．３〜１．０ｄｌ
／ｇ、好ましくは０．３〜０．８ ｄ １／ｇの重合体
になるように重合させるべきである。
機器の種類に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレン
溶液を溶媒とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃に
おける還元粘度〔η、、／ Ｃ）が０．３〜１．０ｄｌ
／ｇ、好ましくは０．３〜０．８ ｄ １／ｇの重合体
になるように重合させるべきである。
ここで還元粘度が０．３ｄｊ！／ｇ未満であると、耐熱
性や機械的強度が劣るものとなり、また１、０ｄ １７
ｇを超えると流動性が低下して成形加工性が低下し、残
留歪が大きく光学的性質の低いものとなる。
性や機械的強度が劣るものとなり、また１、０ｄ １７
ｇを超えると流動性が低下して成形加工性が低下し、残
留歪が大きく光学的性質の低いものとなる。
上述の重合体は様々な方法により製造することができる
が、通常はビスフェノールＡを出発物質とする一般のポ
リカーボネート樹脂と同様に製造することができる。例
えば 一般式 〔式中、Ｒｌ、、 Ｒ４は前記と同じ。〕で表わされる
ビスフェノール類にホスゲンを加え、適当な溶媒中でア
ルカリや所望により分子量調節剤等の存在下にて反応さ
せるホスゲン法によって目的とする重合体が得られる。
が、通常はビスフェノールＡを出発物質とする一般のポ
リカーボネート樹脂と同様に製造することができる。例
えば 一般式 〔式中、Ｒｌ、、 Ｒ４は前記と同じ。〕で表わされる
ビスフェノール類にホスゲンを加え、適当な溶媒中でア
ルカリや所望により分子量調節剤等の存在下にて反応さ
せるホスゲン法によって目的とする重合体が得られる。
また、ホスゲンの代わりに炭酸ジフェニル等を用いるエ
ステル交換法によっても製造することができる。
ステル交換法によっても製造することができる。
なお、本発明の重合体を用いてディスク等を成形するに
あたっては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの通常の添
加剤を配合してもよい。
あたっては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの通常の添
加剤を配合してもよい。
Ｃ発明の効果〕
このようにして得られる本発明の重合体は、従来のポリ
カーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また成
形性が良好であって成形歪が少ないため複屈折が小さく
光学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、耐熱
性９機械的強度にもすぐれたものである。したがって本
発明の重合体を各種光学機器の素材として用いれば光学
的性質が改良されているためディスクに記録された情報
の読取り感度が高く、エラーの発生の少ない光学機器が
得られる。また、熱的にも機械的にも良好な素材である
ため、これを用いて作られた光学機器は様々な条件下で
安定して作動する。
カーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また成
形性が良好であって成形歪が少ないため複屈折が小さく
光学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、耐熱
性９機械的強度にもすぐれたものである。したがって本
発明の重合体を各種光学機器の素材として用いれば光学
的性質が改良されているためディスクに記録された情報
の読取り感度が高く、エラーの発生の少ない光学機器が
得られる。また、熱的にも機械的にも良好な素材である
ため、これを用いて作られた光学機器は様々な条件下で
安定して作動する。
それ故、本発明の素材は、デジタルオーディオディスク
や光メモリ−ディスクなどの光学機器用素材として有効
に利用することができる。
や光メモリ−ディスクなどの光学機器用素材として有効
に利用することができる。
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例１
１−フェニル−１，１−ビス（３−メチル−４〜ヒドロ
キシフエニル）エタン３１．８ｇを２規定の水酸化ナト
リウム水溶液２００ｍｌに溶解した溶液と、分子量調節
剤であるｐ −ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．１ｇを
塩化メチレン２５０ｍｊ＋に溶解した溶液とを混合して
攪拌しながら、この混合液中に触媒としてトリエチルア
ミン０．５ ｍ ｌを加え、次いでホスゲンガスを３０
０ｍ１ｌ１分の割合で吹込み、反応系のｐＨが９になっ
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次いで、反
応液を静置分離し、得られた有機層を水洗したのち２Ｉ
ｌのメタノール中に注入して重合体を析出させて回収し
た。
キシフエニル）エタン３１．８ｇを２規定の水酸化ナト
リウム水溶液２００ｍｌに溶解した溶液と、分子量調節
剤であるｐ −ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．１ｇを
塩化メチレン２５０ｍｊ＋に溶解した溶液とを混合して
攪拌しながら、この混合液中に触媒としてトリエチルア
ミン０．５ ｍ ｌを加え、次いでホスゲンガスを３０
０ｍ１ｌ１分の割合で吹込み、反応系のｐＨが９になっ
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次いで、反
応液を静置分離し、得られた有機層を水洗したのち２Ｉ
ｌのメタノール中に注入して重合体を析出させて回収し
た。
得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒とする０、５ｇ
／ｄｊ！？、１度の溶液の２０℃における還元粘度〔η
、、／ Ｃ）が０．５ｄｌ／ｇであった。また、この重
合体のガラス転移温度は１５１ｔであった。
／ｄｊ！？、１度の溶液の２０℃における還元粘度〔η
、、／ Ｃ）が０．５ｄｌ／ｇであった。また、この重
合体のガラス転移温度は１５１ｔであった。
さらに、この共重合体を２８０℃においてプレス成形し
て得た肉厚０．３鰭のシートを用いて波長６３３ ｎｍ
において光弾性係数を測定した。これら結果をまとめて
第１表に示す。
て得た肉厚０．３鰭のシートを用いて波長６３３ ｎｍ
において光弾性係数を測定した。これら結果をまとめて
第１表に示す。
実施例２
実施例１において１−フェニル−１，１−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）エタンに代えて、４−
メチル−２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）ペンタン３１．２ｇを用いたこと以外は実施例
１と同様にした。結果を第１表に示す。
チル−４−ヒドロキシフェニル）エタンに代えて、４−
メチル−２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）ペンタン３１．２ｇを用いたこと以外は実施例
１と同様にした。結果を第１表に示す。
実施例３
１−フェニル−１，１−ビス（３゛−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）エタンに代えて、２，２−ビス（４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）へブタン３２．６ｇ
を用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１
表に示す。
ロキシフェニル）エタンに代えて、２，２−ビス（４−
ヒドロキシ−３−メチルフェニル）へブタン３２．６ｇ
を用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１
表に示す。
実施例４
１−フェニル−１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）エタンに代えて、３．３−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）ペンタン２８．４ｇを
用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１表
に示す。
キシフェニル）エタンに代えて、３．３−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）ペンタン２８．４ｇを
用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１表
に示す。
実施例５
１−フェニル−１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）エタンに代えて、４−メチル−２，２−
ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ペンタ
ン３４．４ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にした
。結果を第１表に示す。
キシフェニル）エタンに代えて、４−メチル−２，２−
ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ペンタ
ン３４．４ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にした
。結果を第１表に示す。
実施例６
１−フェニル−１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）エタンに代えて２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−クロルフェニル）ペンタン３２．５ｇを用
いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１表に
示す。
キシフェニル）エタンに代えて２，２−ビス（４−ヒド
ロキシ−３−クロルフェニル）ペンタン３２．５ｇを用
いたこと以外は実施例１と同様にした。結果を第１表に
示す。
比較例１
原料として市販の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンを用い、通常のホスゲン法によりポリカー
ボネートを得た。このポリカーボネートについても実施
例と同様にして各種物性を測定した。結果を第１表に示
す。
ル）プロパンを用い、通常のホスゲン法によりポリカー
ボネートを得た。このポリカーボネートについても実施
例と同様にして各種物性を測定した。結果を第１表に示
す。
上記の結果から、本発明の素材は比較例１のポリカーボ
ネートに比し、光弾性係数がすぐれており、成形品の光
の複屈折を低く抑えることが判る。
ネートに比し、光弾性係数がすぐれており、成形品の光
の複屈折を低く抑えることが判る。
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はそれぞれ炭素数１〜５のアル
キル基、炭素数１〜５のアルコキシル基、アリール基、
シクロアルキル基あるいはハロゲン原子を示し、Ｒ＾３
、Ｒ＾４はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基またはア
リール基を示す（但し、Ｒ＾３、Ｒ＾４が共にメチル基
である場合を除く。）〕で表わされる繰返し単位を有し
、かつ２０℃における濃度０．５ｇ／ｄｌの塩化メチレ
ン溶液の還元粘度〔η＿ｓ＿ｐ／ｃ〕が０．３〜１．０
ｄｌ／ｇであるポリカーボネート樹脂からなる光学機器
用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60096635A JPH0645678B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | 光ディスク用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60096635A JPH0645678B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | 光ディスク用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61255929A true JPS61255929A (ja) | 1986-11-13 |
| JPH0645678B2 JPH0645678B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=14170290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60096635A Expired - Fee Related JPH0645678B2 (ja) | 1985-05-09 | 1985-05-09 | 光ディスク用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645678B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6383128A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-13 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト重合体 |
| JPS63154729A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学式デイスク |
| JPS63189431A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-05 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト共重合体 |
| JPS6445424A (en) * | 1987-08-14 | 1989-02-17 | Daicel Chem | Polycarbonate polymer |
| EP0312860A2 (en) * | 1987-10-20 | 1989-04-26 | Idemitsu Kosan Company Limited | Resin material for optical instruments |
| JP2011089049A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | ポリカーボネート樹脂及びそれを用いた積層成形部材 |
| JP2015151339A (ja) * | 2014-02-10 | 2015-08-24 | 国立研究開発法人海洋研究開発機構 | ３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−プロパノール及びその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5098332A (ja) * | 1973-12-26 | 1975-08-05 |
-
1985
- 1985-05-09 JP JP60096635A patent/JPH0645678B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5098332A (ja) * | 1973-12-26 | 1975-08-05 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6383128A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-13 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト重合体 |
| JPS63154729A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学式デイスク |
| JPS63189431A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-05 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト共重合体 |
| JPS6445424A (en) * | 1987-08-14 | 1989-02-17 | Daicel Chem | Polycarbonate polymer |
| EP0312860A2 (en) * | 1987-10-20 | 1989-04-26 | Idemitsu Kosan Company Limited | Resin material for optical instruments |
| JP2011089049A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | ポリカーボネート樹脂及びそれを用いた積層成形部材 |
| JP2015151339A (ja) * | 2014-02-10 | 2015-08-24 | 国立研究開発法人海洋研究開発機構 | ３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−プロパノール及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0645678B2 (ja) | 1994-06-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |