JPS62185709A - 光学機器用素材 - Google Patents
光学機器用素材Info
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- JPS62185709A JPS62185709A JP61025968A JP2596886A JPS62185709A JP S62185709 A JPS62185709 A JP S62185709A JP 61025968 A JP61025968 A JP 61025968A JP 2596886 A JP2596886 A JP 2596886A JP S62185709 A JPS62185709 A JP S62185709A
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Landscapes
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学機器用素材に関し、詳しくは光弾性係数が
小さく特にデジタルオーディオディスクや光メモリ−デ
ィスクなどに適した素材に関する。
小さく特にデジタルオーディオディスクや光メモリ−デ
ィスクなどに適した素材に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕一般
に、上述したような光学機器用の素埜には様々な性能が
要求されている。例えば、透明性。
に、上述したような光学機器用の素埜には様々な性能が
要求されている。例えば、透明性。
耐熱性、低透湿性１機械的強度等に優れているとともに
光学的性質に優れていることが必要である。
光学的性質に優れていることが必要である。
このような性質を有するものの一つとして、比較的分子
量の低いビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系のポリ
カーボネートを用いることが提案されている（特開昭５
８−１２６１１９号公報、同５８−１７９２２４号公報
）、シかしながら、これらの公報に記載されているビス
（ヒドロキシフェニル）アルカンを原料とするポリカー
ボネートは光学的性質に劣り、ことに光弾性係数が大き
く、情報の読取りのエラーが発生しやすい等の問題があ
る。
量の低いビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系のポリ
カーボネートを用いることが提案されている（特開昭５
８−１２６１１９号公報、同５８−１７９２２４号公報
）、シかしながら、これらの公報に記載されているビス
（ヒドロキシフェニル）アルカンを原料とするポリカー
ボネートは光学的性質に劣り、ことに光弾性係数が大き
く、情報の読取りのエラーが発生しやすい等の問題があ
る。
そこで本発明者らは従来のポリカーボネートの欠点であ
る光弾性係数などを改善することによって、光学的性質
の向上したポリカーボネートを開発するために鋭意研究
を重ねた。
る光弾性係数などを改善することによって、光学的性質
の向上したポリカーボネートを開発するために鋭意研究
を重ねた。
その結果、意外なことにビス（ヒドロキシフェニル）ア
ルカンを原料とするもののなかで、特に２．２−ビス（
３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを原料
として得られるポリカーボネートが光学的諸性質におい
て格段に優れていることを見出した。
ルカンを原料とするもののなかで、特に２．２−ビス（
３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを原料
として得られるポリカーボネートが光学的諸性質におい
て格段に優れていることを見出した。
すなわち本発明は、
式
で表わされる繰返し単位を有し、かつ２０℃における濃
度０．５ｇ／ｄｆの塩化メチレン溶液の還元粘度〔η＊
ｐ／Ｃ）が０．３〜１．５ｄｌ／ｇであるポリカーボネ
ート重合体からなる光学機器用素材を提供するものであ
る。
度０．５ｇ／ｄｆの塩化メチレン溶液の還元粘度〔η＊
ｐ／Ｃ）が０．３〜１．５ｄｌ／ｇであるポリカーボネ
ート重合体からなる光学機器用素材を提供するものであ
る。
本発明の素材は上記式（１）の繰返し単位を有する重合
体である。該重合体の重合度に関しては光学機器の種類
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレン溶液を溶媒
とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元
粘度〔ηｓｐ／Ｃ）が０．３〜１．５ｄｌｌ／ｇ、好ま
しくは０．３〜０．８ｄｆ／ｇの重合体になるように重
合させるべきである。ここで還元粘度が０，３ｄｊ！／
ｇ未満であると、機械的強度や耐熱性が不十分なものと
なり、また１、５ｄ １．７ｇを超えると流動性が低下
して成形加工性が低下し、残留歪が大きく光学的性質の
劣ったものとなる。
体である。該重合体の重合度に関しては光学機器の種類
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレン溶液を溶媒
とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元
粘度〔ηｓｐ／Ｃ）が０．３〜１．５ｄｌｌ／ｇ、好ま
しくは０．３〜０．８ｄｆ／ｇの重合体になるように重
合させるべきである。ここで還元粘度が０，３ｄｊ！／
ｇ未満であると、機械的強度や耐熱性が不十分なものと
なり、また１、５ｄ １．７ｇを超えると流動性が低下
して成形加工性が低下し、残留歪が大きく光学的性質の
劣ったものとなる。
上述の重合体は様々な方法により製造することができる
が、通常はビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン）を出発物質とする一般のポ
リカーボネート樹脂と同様に製造することができる。例
えば式 で表わされる２、２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンにホスゲンを加え、適当な溶媒中
でアルカリや所望により分子量調節剤等の存在下にて反
応させるホスゲン法によって目的とする重合体が得られ
る。また、ホスゲンの代わりにジフェニルカーボネート
等の炭酸エステル形成性化合物を用いるエステル交換法
によっても製造することができる。
が、通常はビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン）を出発物質とする一般のポ
リカーボネート樹脂と同様に製造することができる。例
えば式 で表わされる２、２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンにホスゲンを加え、適当な溶媒中
でアルカリや所望により分子量調節剤等の存在下にて反
応させるホスゲン法によって目的とする重合体が得られ
る。また、ホスゲンの代わりにジフェニルカーボネート
等の炭酸エステル形成性化合物を用いるエステル交換法
によっても製造することができる。
なお、本発明の重合体を用いてディスク等を成形するに
あたっては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの通常の添
加剤を配合してもよい。
あたっては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの通常の添
加剤を配合してもよい。
このようにして得られる本発明の重合体は、従来のポリ
カーボネート樹脂に比べて特に光弾性係数が小さく
（４０Ｘ１０−Ｉ３ｃａ／ｄｙｎｅ程度）、また流動性
に優れているため複屈折が小さく光学的性質の極めて優
れたものである。しかも、耐熱性２機械的強度にもすぐ
れたものである。したがって本発明の重合体を各種光学
機器の素材として用いれば光学的性質が改良されている
ためディスクに記録された情報の読取り感度が高く、エ
ラーの発゛生の少ない光学機器が得られる。また、熱的
にも機械的にも良好な素材であるため、これを用いて作
られた光学機器は様々な条件下で安定して作動する。
カーボネート樹脂に比べて特に光弾性係数が小さく
（４０Ｘ１０−Ｉ３ｃａ／ｄｙｎｅ程度）、また流動性
に優れているため複屈折が小さく光学的性質の極めて優
れたものである。しかも、耐熱性２機械的強度にもすぐ
れたものである。したがって本発明の重合体を各種光学
機器の素材として用いれば光学的性質が改良されている
ためディスクに記録された情報の読取り感度が高く、エ
ラーの発゛生の少ない光学機器が得られる。また、熱的
にも機械的にも良好な素材であるため、これを用いて作
られた光学機器は様々な条件下で安定して作動する。
それ故、本発明の素材は、デジタルオーディオディスク
や光メモリ−ディスクなどの光学機器用素材として有効
に利用することができる。
や光メモリ−ディスクなどの光学機器用素材として有効
に利用することができる。
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例１
２．２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン８３ｇを６％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５
５０ｍｊ！に溶解した溶液と、塩化メチレン２５０ｍＪ
とを混合して攪拌しながら、この混合液中にホスゲンガ
スを９５０ｍ１１分の割合で１５分間吹き込んだ。次い
で、反応液を静置分離し、有機層に重合度が２〜３であ
り分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの
塩化メチレン溶液を得た。
プロパン８３ｇを６％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５
５０ｍｊ！に溶解した溶液と、塩化メチレン２５０ｍＪ
とを混合して攪拌しながら、この混合液中にホスゲンガ
スを９５０ｍ１１分の割合で１５分間吹き込んだ。次い
で、反応液を静置分離し、有機層に重合度が２〜３であ
り分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの
塩化メチレン溶液を得た。
得られたオリゴマー溶液に塩化メチレンを加えて全量を
４５０ｍｌ１としたのち、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン３２ｇを２規定の水
酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｊ２に溶解した溶液と混
合し、これに分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェノール３．０ｇを加えた。次いでこの混合液を激し
く攪拌しながら触媒として７重量％濃度のトリエチルア
ミン水溶液を５ ｍ ｌ加え、２８℃において撹拌下に
１．５時間反応を行なった。
４５０ｍｌ１としたのち、２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン３２ｇを２規定の水
酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｊ２に溶解した溶液と混
合し、これに分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェノール３．０ｇを加えた。次いでこの混合液を激し
く攪拌しながら触媒として７重量％濃度のトリエチルア
ミン水溶液を５ ｍ ｌ加え、２８℃において撹拌下に
１．５時間反応を行なった。
反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１Ｎでぶ
希釈し、次いで水１．５で２回、０．０１規定塩酸ｌｌ
、水１１の順に洗浄し、有機層を濃縮してメタノール中
に投入して再沈精製した。
、水１１の順に洗浄し、有機層を濃縮してメタノール中
に投入して再沈精製した。
このようにして得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒
とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元
粘度（ηｓｐ／ｃ ）が０．４０ｄｌ／ｇであった。ま
た、この重合体の流動性を評価するため、ＪＩＳ Ｋ
６７１９に準拠して荷重２１６０ｇ、温度２８０℃
でのメルトインデックスを測定したところ９３ｇ／１０
分であった。さらに、光学的性質の評価のためにこの重
合体を３１０℃においてプレス成形して得た肉厚０．２
鍋−のシートを用いて波長６３３ｎｍにおいて光弾性係
数を測定した結果４１ＸＩＯ−１３Ｃ己／ｄｙｎｅであ
った。さらに透湿性についてＪＩＳ Ｚ ０２０Ｂ
に準拠して透湿度を測定した結果０．５ ｇ −ｍｍ／
ｒｒｒ ・２４ｈｒｓという低い値を示した。これら結
果をまとめて第１表に示す。
とする０、５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元
粘度（ηｓｐ／ｃ ）が０．４０ｄｌ／ｇであった。ま
た、この重合体の流動性を評価するため、ＪＩＳ Ｋ
６７１９に準拠して荷重２１６０ｇ、温度２８０℃
でのメルトインデックスを測定したところ９３ｇ／１０
分であった。さらに、光学的性質の評価のためにこの重
合体を３１０℃においてプレス成形して得た肉厚０．２
鍋−のシートを用いて波長６３３ｎｍにおいて光弾性係
数を測定した結果４１ＸＩＯ−１３Ｃ己／ｄｙｎｅであ
った。さらに透湿性についてＪＩＳ Ｚ ０２０Ｂ
に準拠して透湿度を測定した結果０．５ ｇ −ｍｍ／
ｒｒｒ ・２４ｈｒｓという低い値を示した。これら結
果をまとめて第１表に示す。
実施例２
実施例１においてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールの使
用量を１．２ｇに変えたこと以外は実施例１と同様にし
た。結果を第１表に示す。
用量を１．２ｇに変えたこと以外は実施例１と同様にし
た。結果を第１表に示す。
比較例１
実施例１において２．２−ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）
７４ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果
を第１表に示す。
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）
７４ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にした。結果
を第１表に示す。
比較例２
実施例１において２．２−ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（３
，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン９
７ｇを用い、かつｐ−ｔｅｒｔ−７’チルフエノールを
用いなかったこと以外は実施例１と同様にした。結果を
第１表に示す。
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（３
，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン９
７ｇを用い、かつｐ−ｔｅｒｔ−７’チルフエノールを
用いなかったこと以外は実施例１と同様にした。結果を
第１表に示す。
比較例３
実施例１において２．２−ビス（３−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（３
，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）プロパン９７ｇを用い、カッｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノールを用いなかったこと以外は実施例１と同様にし
た。結果を第１表に示す。
ロキシフェニル）プロパンに代えて、２゜２−ビス（３
，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル
）プロパン９７ｇを用い、カッｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノールを用いなかったこと以外は実施例１と同様にし
た。結果を第１表に示す。
＊１ 流動性、光弾性係数に著しく劣っていたため透湿
度の測定は省略した。
度の測定は省略した。
＊２ 試片（シート）が脆く、測定不可能であった。
Claims (1)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる繰返し単位を有し、かつ２０℃における濃
度０．５ｇ／ｄｌの塩化メチレン溶液の還元粘度〔η＿
ｓ＿ｐ／Ｃ〕が０．３〜１．５ｄｌ／ｇであるポリカー
ボネート重合体からなる光学機器用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61025968A JPS62185709A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 光学機器用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61025968A JPS62185709A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 光学機器用素材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62185709A true JPS62185709A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=12180526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61025968A Pending JPS62185709A (ja) | 1986-02-10 | 1986-02-10 | 光学機器用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62185709A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6469625A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Daicel Chem | Polycarbonate polymer having excellent surface hardness |
-
1986
- 1986-02-10 JP JP61025968A patent/JPS62185709A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6469625A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Daicel Chem | Polycarbonate polymer having excellent surface hardness |
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