JPS60188422A - 光学機器用素材 - Google Patents
光学機器用素材Info
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- JPS60188422A JPS60188422A JP59044067A JP4406784A JPS60188422A JP S60188422 A JPS60188422 A JP S60188422A JP 59044067 A JP59044067 A JP 59044067A JP 4406784 A JP4406784 A JP 4406784A JP S60188422 A JPS60188422 A JP S60188422A
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- copolymer
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- hydroxyphenyl
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタルオーディ
オディスクや光メモリ−ディスクに適した素材に関する
。
オディスクや光メモリ−ディスクに適した素材に関する
。
一般に、上述したような光学機器用素材には様様な性能
が要求されており、例えば透明性、耐熱性、耐湿性2機
械的強度にすぐれていると共に、光学的な性質にすぐれ
ていることが必要である。
が要求されており、例えば透明性、耐熱性、耐湿性2機
械的強度にすぐれていると共に、光学的な性質にすぐれ
ていることが必要である。
このような性能を有する素材としては、従来からメタク
リル樹脂などが知られているが、このものは耐熱性や耐
湿性、耐衝撃性の点で未だ充分なものとは言い難いとい
う欠点がある。また、ビスフェノールA(2,2−ビス
(4′−ヒドロキシフェニル)プロパン)をホスゲンや
炭酸ジフェニル等と反応させて得られるポリカーボネー
ト樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性などにおいてすぐ
れているものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも成
形加工時の流動性を示す流れ値が小さいため、成形加工
後の残留応力による成形品の歪みが大きく、これらに基
因して成形品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録さ
れた情報の読み取り感度が低下するという難点がある。
リル樹脂などが知られているが、このものは耐熱性や耐
湿性、耐衝撃性の点で未だ充分なものとは言い難いとい
う欠点がある。また、ビスフェノールA(2,2−ビス
(4′−ヒドロキシフェニル)プロパン)をホスゲンや
炭酸ジフェニル等と反応させて得られるポリカーボネー
ト樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性などにおいてすぐ
れているものの、光弾性係数が比較的大きく、しかも成
形加工時の流動性を示す流れ値が小さいため、成形加工
後の残留応力による成形品の歪みが大きく、これらに基
因して成形品の複屈折が大きくなり、ディスクに記録さ
れた情報の読み取り感度が低下するという難点がある。
本発明の目的は、上記従来の欠点を解消した光学機器用
素材を提供することにあり、耐熱性や機械的強度などポ
リカーボネート樹脂の有するすぐれた特性を維持すると
共に、特にポリカーボネート樹脂の欠点である成形加工
性を改善することによって光学的性質の向上した素材を
提供することにある。
素材を提供することにあり、耐熱性や機械的強度などポ
リカーボネート樹脂の有するすぐれた特性を維持すると
共に、特にポリカーボネート樹脂の欠点である成形加工
性を改善することによって光学的性質の向上した素材を
提供することにある。
すなわち本発明は
一般式
で表わされる繰返し単位〔I〕および
一般式
%式%
のいずれかを示し、mは1〜10.nは1〜5を示す。
)
で表わされる繰返し単位〔旧を有し、かつ前記繰返し単
位[、I)および〔■〕のモル分率をそれぞれkおよび
!としたときのkZk十!の値が0.3〜0.95であ
ると共に、20’Cにおける濃度0.5 i/diの塩
化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp/。〕が0.2di
/I 以上の共重合体からなる光学機器用素材を提供す
るものである。
位[、I)および〔■〕のモル分率をそれぞれkおよび
!としたときのkZk十!の値が0.3〜0.95であ
ると共に、20’Cにおける濃度0.5 i/diの塩
化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp/。〕が0.2di
/I 以上の共重合体からなる光学機器用素材を提供す
るものである。
上記繰返し単位CI]および[n)を有する共重合体の
重合度は光学機器の種類に応じて適宜選定すればよいが
、濃度o、5g7tu の塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηap/c〕が0.2 di/i以上
、好ましくは0.4〜1.0#/、lit の共重合体
となるように重合させるべきである。また、上記繰返し
単位〔I〕のモル分率をk、上記繰返し単位[1[)の
モル分率をlとしたとき、k/に+lの値が0.3〜0
.95、好ましくは0.7〜0.9となるように1i1
4fII′iする。ここでkZk十ノの値が0.3未満
であると、得られる共重合体の耐熱性が低下し、一方0
.95を超えると、得られる共重合体の流動性が低下し
て成形加工性が低下し、これに基因して成形品の複屈折
が大きくなるので好ましくない。
重合度は光学機器の種類に応じて適宜選定すればよいが
、濃度o、5g7tu の塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔ηap/c〕が0.2 di/i以上
、好ましくは0.4〜1.0#/、lit の共重合体
となるように重合させるべきである。また、上記繰返し
単位〔I〕のモル分率をk、上記繰返し単位[1[)の
モル分率をlとしたとき、k/に+lの値が0.3〜0
.95、好ましくは0.7〜0.9となるように1i1
4fII′iする。ここでkZk十ノの値が0.3未満
であると、得られる共重合体の耐熱性が低下し、一方0
.95を超えると、得られる共重合体の流動性が低下し
て成形加工性が低下し、これに基因して成形品の複屈折
が大きくなるので好ましくない。
さらに、流れ値(JI8−に−6719に準拠)に関し
ては、10 x 10−” 117/sec、以上の良
流動性を有するものであることが好ましく、20 X
10−”xtl/sec、以上のものであることがより
好ましい。
ては、10 x 10−” 117/sec、以上の良
流動性を有するものであることが好ましく、20 X
10−”xtl/sec、以上のものであることがより
好ましい。
ここで共重合体の流れ値が10 X 10” m/se
c。
c。
未満では、成形後の歪みによる複屈折が犬きくなり光学
機器用素材に適さないものとなる。
機器用素材に適さないものとなる。
なお、前記した一般式
%式%
かであり、同一のものであってもよいし、また異なった
ものでもよい。さらに、前記した一般式%式% におけるAr’と同一のものであってもよいし、また異
なるものであってもよい。
ものでもよい。さらに、前記した一般式%式% におけるAr’と同一のものであってもよいし、また異
なるものであってもよい。
また、上記の一般式においてmは1〜10、nは1〜5
を示している。ここでmy nがそれぞれこの範囲より
小さいと、得られる共重合体の成形加工時における流動
性が低下し、また、この範囲より大きいと耐熱性が低下
するので好ましくない。
を示している。ここでmy nがそれぞれこの範囲より
小さいと、得られる共重合体の成形加工時における流動
性が低下し、また、この範囲より大きいと耐熱性が低下
するので好ましくない。
上述の共重合体は様々な方法により製造することができ
るが、例えば 式 で表わされる2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノール人)。
るが、例えば 式 で表わされる2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパン(ビスフェノール人)。
式
で表わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメ
タンおよび で表わされる1−フェニルー1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン のいずれかと、 一般式 %式%[ (式中、Ar 、 、” Ar” 、 m 、nは前記
と同じ。)で表わされる化合物を、ホスゲンを用いて重
縮合させて製造することができる。また、このようなホ
スゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法の(tll
lK、炭酸ジフェニルなどを用いろエステル交換性ポリ
カーボネートの製法に従って行なうこともできる。なお
、この場合例えば0式[111)で表わされるビスフェ
ノールA1式〔lV)で表わされる4、41−ジヒドロ
キシテトラフェニルメタンおよび式〔■〕で表ワされる
1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)エタンのいスレかと、一般式[VI)で表わされる化
合物をモノマーのまま直接混合し、ホスゲンまたは炭酸
ジフェニルと共に反応させてもよいし、■予め式[II
I]で表わされるビスフェノールA1式[IV)で表わ
される4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンお
よび式〔■〕で表わされる1−フェニル−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホス
ゲンまたは炭酸ジフェニルとを重縮合させてオリゴマー
を得、このオリゴマーと一般式〔■〕で表わされる化合
物を反応させてもよい。また、■予め式〔■〕で表わさ
れる化合物とホスゲンまたは炭酸ジフェニルを重縮合さ
せておき、その後代〔■〕で表わされるビスフェノール
人、式[IV)で表わされる4、4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタンおよび式〔■〕で表わされる1−フ
ェニル−1゜1−ビx(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ンのいずれかと反応させてもよい。さらに■予め、式[
l11)で表わされるビスフェノールA1式〔■〕で表
わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
および式[V]で表わされる1−フェニル−1゜1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホ
スゲンまたは炭酸ジフェニルとを重縮合させてオリゴマ
ーを得、このオリゴマーと一般式〔■〕で表わされる化
合物とホスゲンまたは炭酸ジフェニルを重縮合させて得
られるオリゴマーとを反応させてもよい。
タンおよび で表わされる1−フェニルー1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン のいずれかと、 一般式 %式%[ (式中、Ar 、 、” Ar” 、 m 、nは前記
と同じ。)で表わされる化合物を、ホスゲンを用いて重
縮合させて製造することができる。また、このようなホ
スゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法の(tll
lK、炭酸ジフェニルなどを用いろエステル交換性ポリ
カーボネートの製法に従って行なうこともできる。なお
、この場合例えば0式[111)で表わされるビスフェ
ノールA1式〔lV)で表わされる4、41−ジヒドロ
キシテトラフェニルメタンおよび式〔■〕で表ワされる
1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)エタンのいスレかと、一般式[VI)で表わされる化
合物をモノマーのまま直接混合し、ホスゲンまたは炭酸
ジフェニルと共に反応させてもよいし、■予め式[II
I]で表わされるビスフェノールA1式[IV)で表わ
される4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンお
よび式〔■〕で表わされる1−フェニル−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホス
ゲンまたは炭酸ジフェニルとを重縮合させてオリゴマー
を得、このオリゴマーと一般式〔■〕で表わされる化合
物を反応させてもよい。また、■予め式〔■〕で表わさ
れる化合物とホスゲンまたは炭酸ジフェニルを重縮合さ
せておき、その後代〔■〕で表わされるビスフェノール
人、式[IV)で表わされる4、4′−ジヒドロキシテ
トラフェニルメタンおよび式〔■〕で表わされる1−フ
ェニル−1゜1−ビx(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ンのいずれかと反応させてもよい。さらに■予め、式[
l11)で表わされるビスフェノールA1式〔■〕で表
わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン
および式[V]で表わされる1−フェニル−1゜1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホ
スゲンまたは炭酸ジフェニルとを重縮合させてオリゴマ
ーを得、このオリゴマーと一般式〔■〕で表わされる化
合物とホスゲンまたは炭酸ジフェニルを重縮合させて得
られるオリゴマーとを反応させてもよい。
なお、上記の各場合において、オリゴマーにモノマーを
混合させたものをオリゴマー単独のものに代えて用いる
こともできる。
混合させたものをオリゴマー単独のものに代えて用いる
こともできる。
また、一般式(Vl)で表わされる化合物(ム成分)は
、式[H[]で表わされるビスフェノールA2式〔■〕
で表わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメ
タンおよび式〔V)で表わされる1−7エ二ルー1.1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれか(
B成分)を、1,6−シグロモヘキサンや1,5−ジク
ロロペンタンなどのジハロゲン化ポリメチレンと反応さ
せて得ることができるが、この反応時にA成分と未反応
のB成分との混合物としておき、この混合物をホスゲン
または炭酸ジフェニルと重縮合させることKより共重合
体を得ることもできる。
、式[H[]で表わされるビスフェノールA2式〔■〕
で表わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメ
タンおよび式〔V)で表わされる1−7エ二ルー1.1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれか(
B成分)を、1,6−シグロモヘキサンや1,5−ジク
ロロペンタンなどのジハロゲン化ポリメチレンと反応さ
せて得ることができるが、この反応時にA成分と未反応
のB成分との混合物としておき、この混合物をホスゲン
または炭酸ジフェニルと重縮合させることKより共重合
体を得ることもできる。
この重縮合の際の条件は上記一般式〔■〕で表わされる
化合物の種類、所望する共重合体の重合度などにより一
義的に定めることはできないが、通常は塩化メチレン、
クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素やピリジンなど
の溶媒中で、好ましくは塩化メチレン溶液中で、適当な
触媒、アルカリ。
化合物の種類、所望する共重合体の重合度などにより一
義的に定めることはできないが、通常は塩化メチレン、
クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素やピリジンなど
の溶媒中で、好ましくは塩化メチレン溶液中で、適当な
触媒、アルカリ。
分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調節剤
としては様々な一価フエノールを挙げることができるが
、好ましいものとしては OH。
としては様々な一価フエノールを挙げることができるが
、好ましいものとしては OH。
また、上記一般式[VI]で表わされる化合物としては
様々なものがあるが、例えば で表わされるエチレン−ジー〔2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン〕エーテル。
様々なものがあるが、例えば で表わされるエチレン−ジー〔2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン〕エーテル。
で表わされるテトラメチレン−ジー〔2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)フロパン〕エーテル。
−ヒドロキシフェニル)フロパン〕エーテル。
式
で表わされるヘキサメチレン−ジー〔4′−ヒドロキシ
テトラフェニルメタン〕エーテル。
テトラフェニルメタン〕エーテル。
で表わされるヘキサメチレン−ジー〔I−フェニル−1
,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン〕エーテ
ルなどを挙げることができる。
,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン〕エーテ
ルなどを挙げることができる。
本発明の共重合体を構成する繰返し単位[1)は式〔■
〕で表わされるビスフェノールA、式cIV)で表わさ
れる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンおよ
び式[V)で表わされる1−フェニル−1,1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホスゲ
ン等との反応により形成され、また繰返し単位〔■〕は
一般式〔■〕で表わされる化合物とホスゲン等との反応
により形成される。
〕で表わされるビスフェノールA、式cIV)で表わさ
れる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンおよ
び式[V)で表わされる1−フェニル−1,1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)エタンのいずれかと、ホスゲ
ン等との反応により形成され、また繰返し単位〔■〕は
一般式〔■〕で表わされる化合物とホスゲン等との反応
により形成される。
従って、共重合体における繰返し単位CI〕、[1)の
所望するモル分率に応じて式〔■〕で表わされるビスフ
ェノールA2式〔■〕で表わされる4、4’−ジヒドロ
キシテトラフェニルメタンおよび式〔■〕で表わされる
1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)エタンのいずれかと一般式[VI)で表わされる化合
物の使用量を適宜選定すればよく、また上記の一般式〔
■〕で表わされる化合物の種類も、所望する繰返し単位
〔旧の種類により、上述した具体例の中あるいはそれ以
外から選定すればよい。なお、本発明の共重合体を用い
てディスク等を成形するにあたっては、酸化防止剤。
所望するモル分率に応じて式〔■〕で表わされるビスフ
ェノールA2式〔■〕で表わされる4、4’−ジヒドロ
キシテトラフェニルメタンおよび式〔■〕で表わされる
1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)エタンのいずれかと一般式[VI)で表わされる化合
物の使用量を適宜選定すればよく、また上記の一般式〔
■〕で表わされる化合物の種類も、所望する繰返し単位
〔旧の種類により、上述した具体例の中あるいはそれ以
外から選定すればよい。なお、本発明の共重合体を用い
てディスク等を成形するにあたっては、酸化防止剤。
紫外線吸収剤などの通常の添加剤を配合してもよ(ゝQ
このようにして得られる本発明の共重合体は、成形加工
時の流動性を示す流れ値が、従来のポリカニボネート樹
脂に比べ格段に大きく、成形加工後の残留応力が少な≦
て成形歪みが小さい。しかも、本発明の共重合体は従来
のポリカーボネート樹脂に比べ光弾性定数が小さい。し
たがって、本発明の共重合体によれば光の複屈折率の小
さい成形品を得ることができる。それ故、本発明の共重
合体を各種光学機器の素材として用いれば、光学的性質
が改良されているためディスクに記録された情報の読み
取り感度が高く、エラーの発生の少ない光学機器が得ら
れる。また、熱的にも強度的にも良好な素材であるため
、これを用いて作られた光学機器は様々な条件下で安定
して作動する。
時の流動性を示す流れ値が、従来のポリカニボネート樹
脂に比べ格段に大きく、成形加工後の残留応力が少な≦
て成形歪みが小さい。しかも、本発明の共重合体は従来
のポリカーボネート樹脂に比べ光弾性定数が小さい。し
たがって、本発明の共重合体によれば光の複屈折率の小
さい成形品を得ることができる。それ故、本発明の共重
合体を各種光学機器の素材として用いれば、光学的性質
が改良されているためディスクに記録された情報の読み
取り感度が高く、エラーの発生の少ない光学機器が得ら
れる。また、熱的にも強度的にも良好な素材であるため
、これを用いて作られた光学機器は様々な条件下で安定
して作動する。
機器用素材として有効に利用することができる。
次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
実施例1
2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン67
N (0,29モル)を水酸化ナトリウム水溶液(濃
度6重量%) 459mに溶解し、これに溶媒として塩
化メチレン200Mを加えて攪拌しながら、この混合液
中にホスゲンガスを室温で800d/分の供給割合で吹
込み、反応系のpHが9まで低下した時点でホスゲンガ
スの吠込みを停止した。次いで反応液を静置分離するこ
とにより有機相に分子末端にクロロホーメート基を有す
る重合度2〜3のポリカーボネート・オリゴマー溶液を
得た。
N (0,29モル)を水酸化ナトリウム水溶液(濃
度6重量%) 459mに溶解し、これに溶媒として塩
化メチレン200Mを加えて攪拌しながら、この混合液
中にホスゲンガスを室温で800d/分の供給割合で吹
込み、反応系のpHが9まで低下した時点でホスゲンガ
スの吠込みを停止した。次いで反応液を静置分離するこ
とにより有機相に分子末端にクロロホーメート基を有す
る重合度2〜3のポリカーボネート・オリゴマー溶液を
得た。
次に、エチレン−ジー〔2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェール)プロパン〕エーテル67、!iI(0,14
モル)を水酸化す) IJウム水溶液(濃度6重量%)
450−に溶解し、これに溶媒として塩化メチレン20
0mJlを加えた混合液を攪拌しながら、この混合液中
にホスゲンガスを室温で80017分の供給割合で吹込
み、反応系のpnが9まで低下した時点でホスゲンガス
の吹込みを停止した。
フェール)プロパン〕エーテル67、!iI(0,14
モル)を水酸化す) IJウム水溶液(濃度6重量%)
450−に溶解し、これに溶媒として塩化メチレン20
0mJlを加えた混合液を攪拌しながら、この混合液中
にホスゲンガスを室温で80017分の供給割合で吹込
み、反応系のpnが9まで低下した時点でホスゲンガス
の吹込みを停止した。
次いで、反応液を静置分離することにより有機相に分子
末端にクロロホーメート基を有する重合度2〜3のオリ
ゴマー溶液を得た。
末端にクロロホーメート基を有する重合度2〜3のオリ
ゴマー溶液を得た。
上記の如くシて得られた2種のオリゴマー溶液の等量混
合物250m1に、エチレン−ジー〔2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン〕エーテル25.6
、f (0,05モル)を塩化メチレン180IILl
に溶解した溶液および2.2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン12.8 、!9(0,06モル)を
水酸化ナトリウム水溶液(濃度2規定)140aに溶解
した溶液をそれぞれ加え、激しく攪拌しながら重合触媒
としてトリエチルアミン水溶液(濃度0.5モル/l)
1mを加えて、室温において1時間重合反応を行なった
。重合反応終了後、反応生成物を塩化メチレン11で希
釈したのち、水、水酸化ナトリウム水溶液(濃度0.0
1規定)。
合物250m1に、エチレン−ジー〔2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン〕エーテル25.6
、f (0,05モル)を塩化メチレン180IILl
に溶解した溶液および2.2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン12.8 、!9(0,06モル)を
水酸化ナトリウム水溶液(濃度2規定)140aに溶解
した溶液をそれぞれ加え、激しく攪拌しながら重合触媒
としてトリエチルアミン水溶液(濃度0.5モル/l)
1mを加えて、室温において1時間重合反応を行なった
。重合反応終了後、反応生成物を塩化メチレン11で希
釈したのち、水、水酸化ナトリウム水溶液(濃度0.0
1規定)。
水、塩酸(濃度0.01規定)、水の順で洗浄し、最後
に反応生成物をメタノール中に投入して共重合体を回収
した(収率98%)。
に反応生成物をメタノール中に投入して共重合体を回収
した(収率98%)。
得られた共重合体は、核磁気共鳴(NMR)による分析
の結果、k/に十ノの値は0.51であった。
の結果、k/に十ノの値は0.51であった。
また、濃度0.5177diの塩化メチレン溶液の20
℃における還元粘度〔ηsp/c〕を測定したところ0
.60 dt/9 であった。さらに、この共重合体に
ついてガラス転移温度ならびに共重合体の流動性を示す
流れ値(JI8−に−6719)を測定した。また、こ
の共重合体を280℃においてプレス成形し、肉厚0.
3mmのシートとし、波長630 nmにおいて光・弾
性定数を測定した。結果を第1表に示す。
℃における還元粘度〔ηsp/c〕を測定したところ0
.60 dt/9 であった。さらに、この共重合体に
ついてガラス転移温度ならびに共重合体の流動性を示す
流れ値(JI8−に−6719)を測定した。また、こ
の共重合体を280℃においてプレス成形し、肉厚0.
3mmのシートとし、波長630 nmにおいて光・弾
性定数を測定した。結果を第1表に示す。
実施例2
実施例1において製造した2、2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンからのオリゴマー溶液288II
Llに対して、テトラメチレン−ジー(2,2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパン〕エーテル27 #
(0,05モル)4ctJi化メチレン180m7!
に溶解させた溶液を加え、以降の操作は実施例1と同様
にして共重合体を得た(収率97%)。
シフェニル)プロパンからのオリゴマー溶液288II
Llに対して、テトラメチレン−ジー(2,2−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)プロパン〕エーテル27 #
(0,05モル)4ctJi化メチレン180m7!
に溶解させた溶液を加え、以降の操作は実施例1と同様
にして共重合体を得た(収率97%)。
得られた共重合体のに/に十ノの値は0.88であり、
濃度低5 fl/dlの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔η8p/。〕は0.55 dt/9 で
あった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性
定数を測定した。結果を第1表に示す。
濃度低5 fl/dlの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔η8p/。〕は0.55 dt/9 で
あった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性
定数を測定した。結果を第1表に示す。
実施例3
実施例1において製造した2、2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンからのオリゴマー溶液300 a
tに対して、 OH,OHa で表わされる二価フェノール72.8 g(0,09モ
ル)を塩化メチレン180m1に溶解させた溶液を加え
、以降の操作は実施例1と同様にして共重合体を得た(
収率93%)。
シフェニル)プロパンからのオリゴマー溶液300 a
tに対して、 OH,OHa で表わされる二価フェノール72.8 g(0,09モ
ル)を塩化メチレン180m1に溶解させた溶液を加え
、以降の操作は実施例1と同様にして共重合体を得た(
収率93%)。
得られた共重合体のに/に十ノの値は0.83であり、
濃度0,597dlの塩化メチレン溶液の20℃におけ
る還元粘度〔ηE3p/c〕は0.43 di/9 で
あった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性
定数を測定した。結果を第1表に示す。
濃度0,597dlの塩化メチレン溶液の20℃におけ
る還元粘度〔ηE3p/c〕は0.43 di/9 で
あった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性
定数を測定した。結果を第1表に示す。
実施例4
二価フェノールとして4,4′−ジヒドロキシテトラフ
ェニルメタン371i(0,105モル)を水酸化す)
IJウム水溶液(濃度7.5重量%)200ゴに溶解
したのち、これに1,6−ジプロモヘキ?/4.5 N
(0,019モル)を加えて窒素気流下に1時間還流
した。ここで得られたヘキサメチレン−ジー〔4′−ヒ
ドロキシテトーラフェニルメタン〕エーテルと未反応の
4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンの混合物
に、溶媒として塩化メチレン200aおよび重合触媒と
してトリエチルアミンI ll1lを加え、常温におい
てホスゲンガスを300dl分の供給割合で30分間導
入し、15規定の水酸化す) IJウム水溶液を滴下し
反応液のpHを10〜12に保持して重合反応を行なっ
た。
ェニルメタン371i(0,105モル)を水酸化す)
IJウム水溶液(濃度7.5重量%)200ゴに溶解
したのち、これに1,6−ジプロモヘキ?/4.5 N
(0,019モル)を加えて窒素気流下に1時間還流
した。ここで得られたヘキサメチレン−ジー〔4′−ヒ
ドロキシテトーラフェニルメタン〕エーテルと未反応の
4,4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタンの混合物
に、溶媒として塩化メチレン200aおよび重合触媒と
してトリエチルアミンI ll1lを加え、常温におい
てホスゲンガスを300dl分の供給割合で30分間導
入し、15規定の水酸化す) IJウム水溶液を滴下し
反応液のpHを10〜12に保持して重合反応を行なっ
た。
反応終了後、さらに塩化メチレン2001Llを加えて
、水、水酸化す) IJウム水溶液(濃度帆01規定)
、水、塩酸(濃度0.01規定)、水の順で洗浄し、最
後にこの反応生成物をメタノール中に投入して共重合体
を回収した(収率95%)。
、水、水酸化す) IJウム水溶液(濃度帆01規定)
、水、塩酸(濃度0.01規定)、水の順で洗浄し、最
後にこの反応生成物をメタノール中に投入して共重合体
を回収した(収率95%)。
得られた共重合体のに/lc+lの値は0.88であり
、濃度0.5i/diの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔η8p/c〕は0.3dl/7 であっ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性定数
を測定した。結果を第1表に示す。
、濃度0.5i/diの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔η8p/c〕は0.3dl/7 であっ
た。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性定数
を測定した。結果を第1表に示す。
実施例5
実施例4において、二価フェノールとして1−フェニル
−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン29
.0 g(0,1モル)を用いたこと以外は、実施例4
と同様にして共重合体を得た(収率92%)。
−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン29
.0 g(0,1モル)を用いたこと以外は、実施例4
と同様にして共重合体を得た(収率92%)。
得られた共重合体のに/に+7の値は0.92であり、
濃度0.51!/di の塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔η8p/。〕は0.30 di/9
であった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第1表に示す。
濃度0.51!/di の塩化メチレン溶液の20℃に
おける還元粘度〔η8p/。〕は0.30 di/9
であった。また、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾
性定数を測定した。結果を第1表に示す。
比較例1
原料として2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパンを用い、通常のホスゲン法によりポリカーボネー
トを得た。このポリカーボネートは、濃度0.5 fi
/diの塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度〔
ηsp/′c〕が0.51 di/9 であった。また
、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性定数を測定し
た。結果を第1表に示す。
ロパンを用い、通常のホスゲン法によりポリカーボネー
トを得た。このポリカーボネートは、濃度0.5 fi
/diの塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度〔
ηsp/′c〕が0.51 di/9 であった。また
、ガラス転移温度、流れ値ならびに光弾性定数を測定し
た。結果を第1表に示す。
上記の結果から、本発明の素材は比較例1のポリカーボ
ネートに比し、成形加工時の流動性を示す流れ値および
光弾性定数がすぐれており、成形品の光の複屈折を低く
抑えうろことが判る。
ネートに比し、成形加工時の流動性を示す流れ値および
光弾性定数がすぐれており、成形品の光の複屈折を低く
抑えうろことが判る。
特杵出願人 出光興産株式会社
−る−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 で表わされる繰返し単位〔I〕および 一般式 %式% のいずれかを示し、mは1〜10、nは1〜5を示す。 ) で表わされる繰返し単位[11)を有し、かつ前記繰返
し単位(1)および〔■〕のモル分率をそれぞれkおよ
び!としたときのに/に+tの値が0.3〜0.95で
あると共に、20℃における濃度0.597diの塩化
メチレン溶液の還元粘度〔η8p/c〕が0.2dl1
11 以上の共重合体からなる光学機器用素材。 2、共重合体が、10 X 10”−” tit/se
c、以上の流れ値(JIS4−6719 )を有するも
のである特許請求の範囲第1項記載の光学機器用素材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59044067A JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59044067A JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60188422A true JPS60188422A (ja) | 1985-09-25 |
JPH0319249B2 JPH0319249B2 (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=12681280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59044067A Granted JPS60188422A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用素材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60188422A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6155117A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光情報材料 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3155843B2 (ja) * | 1992-03-03 | 2001-04-16 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート重合体とその製造法及びこれを用いた電子写真感光体 |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59044067A patent/JPS60188422A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6155117A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光情報材料 |
JPH0662752B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-08-17 | 三菱化成株式会社 | 光情報材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0319249B2 (ja) | 1991-03-14 |
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