JP2516882B2 - 重合体とその製造法 - Google Patents
重合体とその製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は重合体とその製造法に関し、詳しくはポリカ
ーボネート系の重合体とその効率のよい製造法に関す
る。
ーボネート系の重合体とその効率のよい製造法に関す
る。
［従来の技術および発明が解決しようとする問題点］ 従来から2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン（通称ビスフェノールＡ）をホスゲンや炭酸ジフェ
ニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性，耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せされ
ている。
パン（通称ビスフェノールＡ）をホスゲンや炭酸ジフェ
ニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性，耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せされ
ている。
しかし、様々な用途の拡大に伴ってポリカーボネート
樹脂に対する要求性能が厳しくなり、よりすぐれた性能
を有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されてい
る。特に、従来のポリカーボネート樹脂を用いて射出成
形などによって成形品を得た場合、この成形品は応力光
学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器
の素材には適さないという問題がある。
樹脂に対する要求性能が厳しくなり、よりすぐれた性能
を有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されてい
る。特に、従来のポリカーボネート樹脂を用いて射出成
形などによって成形品を得た場合、この成形品は応力光
学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器
の素材には適さないという問題がある。
そこで本発明者らは、透明性，耐熱性および機械的強
度などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を
維持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して
成形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上
したポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭
意研究を重ねた。
度などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を
維持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して
成形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上
したポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭
意研究を重ねた。
［問題点を解決するための手段］ その結果、特定の繰返し単位を有するポリカーボネー
ト系の新たな重合体が、上記目的に適うものであること
を見出し、本発明を完成するに至った。
ト系の新たな重合体が、上記目的に適うものであること
を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は 一般式 （式中、X1,X2は、それぞれ水素原子あるいはメチル基
を示し、Ｚは を示す。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体を提供するとともに、 一般式 （式中、X1,X2およびＺは前記と同じ。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることによって、前記の重合体を製造する
方法をも提供する。
を示し、Ｚは を示す。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体を提供するとともに、 一般式 （式中、X1,X2およびＺは前記と同じ。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることによって、前記の重合体を製造する
方法をも提供する。
本発明の重合体を構成する一般式（Ｉ）で示される繰
返し単位の具体的な構造を示せば、 などを挙げることができる。
返し単位の具体的な構造を示せば、 などを挙げることができる。
また、本発明の重合体の重合度（分子量）は、用途等
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒とす
る溶液の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上、
好ましくは0.3〜1.0d/gの範囲に選定することが好まし
い。ここで、上記極限粘度が0.3dl/g未満では、得られ
る重合体の機械的強度の小さいものとなる。
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒とす
る溶液の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上、
好ましくは0.3〜1.0d/gの範囲に選定することが好まし
い。ここで、上記極限粘度が0.3dl/g未満では、得られ
る重合体の機械的強度の小さいものとなる。
本発明の重合体は、様々な方法により製造することが
できるが、前述した本発明の製造法によれば、効率よく
かつ高品質の重合体を製造できる。
できるが、前述した本発明の製造法によれば、効率よく
かつ高品質の重合体を製造できる。
本発明の製造法では、前記一般式（II）で表わされる
二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系に
導入し、これを反応させる。
二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系に
導入し、これを反応させる。
ここで一般式（II）の二価フェノールは、炭酸エステ
ル形成性化合物と重縮合して、一般式（Ｉ）の繰返し単
位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前記
繰返し単位の具体例に対応するものをあげることができ
る。
ル形成性化合物と重縮合して、一般式（Ｉ）の繰返し単
位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前記
繰返し単位の具体例に対応するものをあげることができ
る。
なお、この一般式（II）の二価フェノールは、例えば
無溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 （式中、X1,X2は前記と同じ。） で表わされるフェノールと、一般式 （R,Y,nは前記と同じ）で表わされるアルデヒドまたは
ケトンを反応させることによって製造することができ
る。
無溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 （式中、X1,X2は前記と同じ。） で表わされるフェノールと、一般式 （R,Y,nは前記と同じ）で表わされるアルデヒドまたは
ケトンを反応させることによって製造することができ
る。
一方、炭酸エステル形成性化合物の種類は、製造すべ
く重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般
的にはジフェニルカーボネート，ジ−ｐ−トリルカルボ
ネート，フェニル−ｐ−トリルカーボネート，ジ−ｐ−
クロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボ
ネートなどのジアリールカーボネート、さらにはオスゲ
ン，ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用い
られ、そのうちジフェニルカーボネートあるいはホスゲ
ンが好ましい。
く重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般
的にはジフェニルカーボネート，ジ−ｐ−トリルカルボ
ネート，フェニル−ｐ−トリルカーボネート，ジ−ｐ−
クロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボ
ネートなどのジアリールカーボネート、さらにはオスゲ
ン，ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用い
られ、そのうちジフェニルカーボネートあるいはホスゲ
ンが好ましい。
本発明の製造法では、上述した二価フェノールと炭酸
エステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の条
件ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製造
に用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換法
に準ずればよい。通常は塩化メチレン，クロルベンゼン
等のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好
ましくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカ
リ，分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調
調節としては様々な一価フェノールをあげることができ
るが、好ましいものとしては、フェノール,tert−ブチ
ルフェノール，フェニルフェノール，クミルフェノール
などがあげられる。
エステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の条
件ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製造
に用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換法
に準ずればよい。通常は塩化メチレン，クロルベンゼン
等のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好
ましくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカ
リ，分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調
調節としては様々な一価フェノールをあげることができ
るが、好ましいものとしては、フェノール,tert−ブチ
ルフェノール，フェニルフェノール，クミルフェノール
などがあげられる。
上述の如き方法にしたがえば、本発明の新規重合体が
得られるが、これを用いて各種成形品を成形する場合
に、用途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添
加剤を加えてもよい。
得られるが、これを用いて各種成形品を成形する場合
に、用途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添
加剤を加えてもよい。
［実施例］ 次に、本発明を実施例および比較例により、さらに詳
しく説明する。
しく説明する。
実施例１ （１）二価フェノールの調製 ガス吹込み管を有する反応器に、ベンジルアセトン14
8g（1.0モル）と、フェノール282g（3.0モル）および助
触媒としてメルカプト酢酸5mlを入れ、40℃において撹
拌下に乾燥塩化水素ガスを５時間吹き込んだ。得られた
反応生成物を粉砕したのち、60℃の水500mlで３回洗浄
し、つぎにキシレンを用いて再結晶し、2,2−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−４−フェニル−ブタン258gを
得た。収率は81％であった。
8g（1.0モル）と、フェノール282g（3.0モル）および助
触媒としてメルカプト酢酸5mlを入れ、40℃において撹
拌下に乾燥塩化水素ガスを５時間吹き込んだ。得られた
反応生成物を粉砕したのち、60℃の水500mlで３回洗浄
し、つぎにキシレンを用いて再結晶し、2,2−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）−４−フェニル−ブタン258gを
得た。収率は81％であった。
（２）共重合体の製造 上記（１）で得られた2,2−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−フェニル−ブタン90g（0.283モル）を、
８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液500mlに溶解さ
せ、得られた溶液に、塩化メチレン400ml,p−ターシャ
リーブチルフェノール3.0gおよび触媒としてトリエチル
アミンの10重量％濃度水溶液1mlを加えて、激しく撹拌
しながらホスゲンガスを反応系のpHが9.0となるまで吹
き込んだ。得られた生成物に塩化メチレン500mlを加え
て有機層を希釈したのち、水１,0.01規定の水酸化ナ
トリウム水溶液500ml,水500ml,0.01規定の希塩酸500ml
および水500mlをそれぞれ用いて、この順序で洗浄し
た。ついで、有機層をメタノール中に注入して重合体を
析出させ回収した。収量は91gであった。
ェニル）−４−フェニル−ブタン90g（0.283モル）を、
８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液500mlに溶解さ
せ、得られた溶液に、塩化メチレン400ml,p−ターシャ
リーブチルフェノール3.0gおよび触媒としてトリエチル
アミンの10重量％濃度水溶液1mlを加えて、激しく撹拌
しながらホスゲンガスを反応系のpHが9.0となるまで吹
き込んだ。得られた生成物に塩化メチレン500mlを加え
て有機層を希釈したのち、水１,0.01規定の水酸化ナ
トリウム水溶液500ml,水500ml,0.01規定の希塩酸500ml
および水500mlをそれぞれ用いて、この順序で洗浄し
た。ついで、有機層をメタノール中に注入して重合体を
析出させ回収した。収量は91gであった。
この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする溶液の20℃
における極限粘度［η］が0.46dl/gであった。また、こ
の重合体の赤外線吸収スペクトルには、1650cm-1の位置
にカルボニル基による吸収が、また1240cm-1の位置にエ
ーテル結合による吸収がみられ、カーボネート結合を有
することが認められた。このことから、この重合体は下
記の繰返し単位を有することが分かった。
における極限粘度［η］が0.46dl/gであった。また、こ
の重合体の赤外線吸収スペクトルには、1650cm-1の位置
にカルボニル基による吸収が、また1240cm-1の位置にエ
ーテル結合による吸収がみられ、カーボネート結合を有
することが認められた。このことから、この重合体は下
記の繰返し単位を有することが分かった。
さらに、この重合体のガラス転移温度は144℃であ
り、光弾性係数は41.5×10-13cm2/dyneであった。
り、光弾性係数は41.5×10-13cm2/dyneであった。
実施例２ （１）二価フェノールの調製 原料として、ジフェニルメチルメチルケトン210g（1.
0モル）と、フェノール282g（3.0モル）を用いたほか
は、実施例１の（１）と同様にして、1,1−ジフェニル
−2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン198g
を得た。収率は52％であった。
0モル）と、フェノール282g（3.0モル）を用いたほか
は、実施例１の（１）と同様にして、1,1−ジフェニル
−2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン198g
を得た。収率は52％であった。
（２）重合体の製造 原料の二価フェノールとして、上記（１）で得られた
1,1−ジフェニル−2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン90gを用いたほかは、実施例１の（２）と
同様にして、重合体89gを得た。この重合体の極限粘度
［η］は0.61dl/gであった。また、この重合体は下記の
繰返し単位を有するものであった。
1,1−ジフェニル−2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン90gを用いたほかは、実施例１の（２）と
同様にして、重合体89gを得た。この重合体の極限粘度
［η］は0.61dl/gであった。また、この重合体は下記の
繰返し単位を有するものであった。
さらにこの重合体は、ガラス転移温度が158℃であ
り、光弾性係数32.8×10-13cm2/dyneであった。
り、光弾性係数32.8×10-13cm2/dyneであった。
実施例３ （１）二価フェノールの調製 原料として、ベンジルアセトン148g（1.0モル）と、
オルソメチルフェノール324g（3.0モル）を用いたほか
は、実施例１の（１）と同様にして、2,2−ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−フェニルブタ
ン270gを得た。収率は78％であった。
オルソメチルフェノール324g（3.0モル）を用いたほか
は、実施例１の（１）と同様にして、2,2−ビス（３−
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−フェニルブタ
ン270gを得た。収率は78％であった。
（２）重合体の製造 原料の二価フェノールとして、上記（１）で得られた
2,2−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−
４−フェニルブタン90gを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様にして、下記の繰返し単位を有する重合体
87gを得た。
2,2−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−
４−フェニルブタン90gを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様にして、下記の繰返し単位を有する重合体
87gを得た。
この重合体の極限粘度［η］は0.45dl/gであり、ガラ
ス転移温度は138℃であった。また、光弾性係数は34×1
0-13cm2/dyneであった。
ス転移温度は138℃であった。また、光弾性係数は34×1
0-13cm2/dyneであった。
比較例１ 原料の二価フェノールとして、2,2−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
ロキシフェニル）プロパンを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
このポリカーボネートの極限粘度［η］は0.55dl/gで
あり、ガラス転移温度は143℃であり、また、光弾性係
数は76×10-13cm2/dyneと大きい値であった。
あり、ガラス転移温度は143℃であり、また、光弾性係
数は76×10-13cm2/dyneと大きい値であった。
［発明の効果］ このようにして得られる本発明の重合体は、従来のポ
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
溶融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光
学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な
耐熱性ならびに機械的強度を有するものである。
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
溶融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光
学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な
耐熱性ならびに機械的強度を有するものである。
したがって、本発明の重合体は、光ディスクなどの光
学機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材と
して有効に利用することができる。
学機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材と
して有効に利用することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 （式中、X1,X2は、それぞれ水素原子あるいはメチル基
を示し、Ｚは を示す。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体。 - 【請求項２】一般式 （式中、X1,X2は、それぞれ水素原子あるいはメチル基
を示し、Ｚは を示す。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成化合物
を反応させることを特徴とする 一般式 （式中、X1,X2,Zは前記と同じ。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240965A JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240965A JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6395227A JPS6395227A (ja) | 1988-04-26 |
| JP2516882B2 true JP2516882B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=17067288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61240965A Expired - Lifetime JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2516882B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0668021B2 (ja) * | 1985-08-26 | 1994-08-31 | 三菱化成株式会社 | 光ディスク基板の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61240965A patent/JP2516882B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6395227A (ja) | 1988-04-26 |
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