JP2516883B2 - 重合体とその製造方法 - Google Patents
重合体とその製造方法Info
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- JP2516883B2 JP2516883B2 JP61240966A JP24096686A JP2516883B2 JP 2516883 B2 JP2516883 B2 JP 2516883B2 JP 61240966 A JP61240966 A JP 61240966A JP 24096686 A JP24096686 A JP 24096686A JP 2516883 B2 JP2516883 B2 JP 2516883B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は重合体とその製造方法に関し、詳しくはポリ
カーボネート系の重合体とその効率のよい製造方法に関
する。
カーボネート系の重合体とその効率のよい製造方法に関
する。
［従来の技術および発明が解決しようとする問題点］ 従来から2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン（通称ビスフェノールＡ）をホスゲンや炭酸ジフェ
ニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性，耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せられ
ている。
パン（通称ビスフェノールＡ）をホスゲンや炭酸ジフェ
ニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性，耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せられ
ている。
しかし、様々な用途の拡大に伴ってポリカーボネート
樹脂に対する要求性能が厳しくなり、よりすぐれた性能
を有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されてい
る。特に、従来のポリカーボネート樹脂を用いて射出成
形などによって成形品を得た場合、この成形品は応力光
学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器
の素材には適さないという問題がある。
樹脂に対する要求性能が厳しくなり、よりすぐれた性能
を有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されてい
る。特に、従来のポリカーボネート樹脂を用いて射出成
形などによって成形品を得た場合、この成形品は応力光
学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器
の素材には適さないという問題がある。
そこで本発明者らは、透明性，耐熱性および機械的強
度などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を
維持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して
成形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上
したポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭
意研究を重ねた。
度などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を
維持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して
成形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上
したポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭
意研究を重ねた。
［問題点を解決するための手段］ その結果、特定の繰返し単位を有するポリカーボネー
ト系の新たな重合体が、上記目的に適うものであること
を見出し、本発明を完成するに至った。
ト系の新たな重合体が、上記目的に適うものであること
を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は 一般式 （式中、X,Yは共に水素原子であって、かつｍが２であ
り、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル基であっ
て、かつm,nが共に１である。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上である重
合体を提供するとともに、 一般式 （式中、X,Y,mおよびｎは前記と同じ。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることによって、前記の重合体を製造する
方法をも提供する。
り、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル基であっ
て、かつm,nが共に１である。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上である重
合体を提供するとともに、 一般式 （式中、X,Y,mおよびｎは前記と同じ。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることによって、前記の重合体を製造する
方法をも提供する。
本発明の重合体を構成する一般式〔Ｉ〕で示される繰
返し単位の具体的な構造を示せば、 を挙げることができる。
返し単位の具体的な構造を示せば、 を挙げることができる。
また、本発明の重合体の重合度（分子量）は、用途等
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒とす
る溶液の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上、
好ましくは0.3〜1.0dl/gの範囲に選定することが好まし
い。ここで、上記極限粘度が0.3dl/g未満では、得られ
る重合体は機械的強度の小さいものとなる。
に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒とす
る溶液の20℃における極限粘度［η］が0.3dl/g以上、
好ましくは0.3〜1.0dl/gの範囲に選定することが好まし
い。ここで、上記極限粘度が0.3dl/g未満では、得られ
る重合体は機械的強度の小さいものとなる。
本発明の重合体は、様々な方法により製造することが
できるが、前述した本発明の製造方法によれば、効率よ
くかつ高品質の重合体を製造できる。
できるが、前述した本発明の製造方法によれば、効率よ
くかつ高品質の重合体を製造できる。
本発明の製造方法では、前記一般式（II）で表わされ
る二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系
に導入し、これを反応させる。
る二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系
に導入し、これを反応させる。
ここで一般式（II）の二価フェノールは、炭酸エステ
ル形成性化合物と重縮合して、一般式（Ｉ）の繰返し単
位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前記
繰返し単位の具体例に対応するものをあげることができ
る。
ル形成性化合物と重縮合して、一般式（Ｉ）の繰返し単
位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前記
繰返し単位の具体例に対応するものをあげることができ
る。
なお、この一般式（II）の二価フェノールは、例えば
無溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 （X,Yは前記と同じ。） で表わされるフェノールと、一般式 （m,nは前記と同じ。） で表わされるケトン類とを反応させることによって製造
することができる。
無溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 （X,Yは前記と同じ。） で表わされるフェノールと、一般式 （m,nは前記と同じ。） で表わされるケトン類とを反応させることによって製造
することができる。
なお、上記一般式中、X,Y,m,およびｎはそれぞれ前記
した通りであり、X,Yは共に水素原子であって、かつｍ
が２であり、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル
基であって、かつm,nが共に１である。
した通りであり、X,Yは共に水素原子であって、かつｍ
が２であり、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル
基であって、かつm,nが共に１である。
一方、炭酸エステル形成性化合物の種類は、製造すべ
き重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般
的にはジフェニルカーボネート，ジ−ｐ−トリルカーボ
ネート，フェニル−ｐ−トリルカーボネート，ジ−ｐ−
クロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボ
ネートなどのジアリールカーボネート、さらにはホスゲ
ン，ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用い
られ、そのうちジフエニルカーボネートあるいはホスゲ
ンが好ましい。
き重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般
的にはジフェニルカーボネート，ジ−ｐ−トリルカーボ
ネート，フェニル−ｐ−トリルカーボネート，ジ−ｐ−
クロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボ
ネートなどのジアリールカーボネート、さらにはホスゲ
ン，ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用い
られ、そのうちジフエニルカーボネートあるいはホスゲ
ンが好ましい。
本発明の製造方法では、上述した二価フェノールと炭
酸エステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の
条件ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製
造に用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換
法に準ずればよい。通常は塩化メチレン，クロルベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、
好ましくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカ
リ，分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調
節剤としては様々な一価フェノールをあげることができ
るが、好ましいものとしては、フェノール,tert−ブチ
ルフェノール，フェニルフェノール，クミルフェノール
などがあげられる。
酸エステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の
条件ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製
造に用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換
法に準ずればよい。通常は塩化メチレン，クロルベンゼ
ン等のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、
好ましくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒，アルカ
リ，分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調
節剤としては様々な一価フェノールをあげることができ
るが、好ましいものとしては、フェノール,tert−ブチ
ルフェノール，フェニルフェノール，クミルフェノール
などがあげられる。
上述の如き方法にしたがえば、本発明の重合体が得ら
れるが、これを用いて各種成形品を成形する場合に、用
途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤を
加えてもよい。
れるが、これを用いて各種成形品を成形する場合に、用
途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤を
加えてもよい。
［実施例］ 次に、本発明を実施例および比較例により、さらに詳
しく説明する。
しく説明する。
実施例１ （１）二価フェノールの調製 ガス吹込み管を有する反応器に、フェニルエチル−フ
ェニルプロピルケトン252g（1.0ミリモル）と、フェノ
ール282g（3.0ミリモル）および助触媒としてメルカプ
ト酢酸5mlを加え、40℃において撹拌下に乾燥塩化水素
ガスを８時間吹き込んだ。
ェニルプロピルケトン252g（1.0ミリモル）と、フェノ
ール282g（3.0ミリモル）および助触媒としてメルカプ
ト酢酸5mlを加え、40℃において撹拌下に乾燥塩化水素
ガスを８時間吹き込んだ。
得られた反応生成物を60℃の水500mlで３回洗浄した
後、未反応のフェノールおよびフェニルエチル−フェニ
ルプロピルケトンを減圧留去した。減圧留去後の残渣を
キシレンを用いて再結晶することにより、3,3−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−1,6−ジフェニルヘキサ
ン192gを得た。収率は45.4％であった。
後、未反応のフェノールおよびフェニルエチル−フェニ
ルプロピルケトンを減圧留去した。減圧留去後の残渣を
キシレンを用いて再結晶することにより、3,3−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−1,6−ジフェニルヘキサ
ン192gを得た。収率は45.4％であった。
（２）重合体の製造 原料の二価フェノールとして、上記（１）で得られた
3,3−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−1,6−ジフェニ
ルヘキサン90gを８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液に溶解し、この溶液に塩化メチレン400ml,分子量調節
剤であるｐ−tert−ブチルフェノール3.0gおよび触媒で
あるトリエチルアミンの10重量％濃度水溶液1mlを加え
て、激しく撹拌しながら、これにホスゲンを30分間吹き
込んだ。
3,3−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−1,6−ジフェニ
ルヘキサン90gを８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液に溶解し、この溶液に塩化メチレン400ml,分子量調節
剤であるｐ−tert−ブチルフェノール3.0gおよび触媒で
あるトリエチルアミンの10重量％濃度水溶液1mlを加え
て、激しく撹拌しながら、これにホスゲンを30分間吹き
込んだ。
次いで、得られた反応生成物に塩化メチレンを500ml
加えて有機層を希釈した後、水１,0.01規定濃度の水
酸化ナトリウム水溶液500ml,水500ml,0.01規定濃度の希
塩酸500mlおよび水500mlをそれぞれ用いて、この順序で
洗浄した。次に、有機層を分離してメタノール中に注入
して、白色の重合体を得た。重合体の収量は85gであっ
た。
加えて有機層を希釈した後、水１,0.01規定濃度の水
酸化ナトリウム水溶液500ml,水500ml,0.01規定濃度の希
塩酸500mlおよび水500mlをそれぞれ用いて、この順序で
洗浄した。次に、有機層を分離してメタノール中に注入
して、白色の重合体を得た。重合体の収量は85gであっ
た。
得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒とする溶液の
20℃における極限粘度〔η〕が0.6dl/gであった。ま
た、この重合体の赤外線吸収スペクトルには、1650cm-1
の位置にカルボニル基による吸収が、1240cm-1の位置に
エーテル結合による吸収が、それぞれみられ、カーボネ
ート結合を有することが認められた。このことから、こ
の重合体は、下記の繰返し単位を有するものであること
が判明した。
20℃における極限粘度〔η〕が0.6dl/gであった。ま
た、この重合体の赤外線吸収スペクトルには、1650cm-1
の位置にカルボニル基による吸収が、1240cm-1の位置に
エーテル結合による吸収が、それぞれみられ、カーボネ
ート結合を有することが認められた。このことから、こ
の重合体は、下記の繰返し単位を有するものであること
が判明した。
この重合体のガラス転移温度は158℃であった。ま
た、光弾性係数は48.0×10-13cm2/dyneであった。
た、光弾性係数は48.0×10-13cm2/dyneであった。
実施例２ （１）二価フェノールの調製 原料として、ジベンジルケトン210g（1.0モル）と、
クレゾール324g（3.0モル）を用いたほかは、実施例１
の（１）と同様にして、2,2−ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−1,3−ジフェニルプロパン163g
を得た。収率は39.3％であった。
クレゾール324g（3.0モル）を用いたほかは、実施例１
の（１）と同様にして、2,2−ビス（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−1,3−ジフェニルプロパン163g
を得た。収率は39.3％であった。
（２）重合体の製造 原料の二価フェノールとして、上記（１）で得られた
2,2−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−
1,3−ジフェニルプロパン90gを用いたほかは、実施例１
の（２）と同様にして、下記の繰返し単位からなる重合
体86gを得た。
2,2−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−
1,3−ジフェニルプロパン90gを用いたほかは、実施例１
の（２）と同様にして、下記の繰返し単位からなる重合
体86gを得た。
この重合体の極限粘度［η］は0.55dl/gであり、ガラ
ス転移温度は150℃であった。また、光弾性係数は38×1
0-13cm2/dyneであった。
ス転移温度は150℃であった。また、光弾性係数は38×1
0-13cm2/dyneであった。
比較例１ 原料の二価フェノールとして、2,2−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパンを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
ロキシフェニル）プロパンを用いたほかは、実施例１の
（２）と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
このポリカーボネートの極限粘度［η］は0.55dl/gで
あり、ガラス転移温度は143℃であり、また、光弾性係
数は76×10-13cm2/dyneと大きい値であった。
あり、ガラス転移温度は143℃であり、また、光弾性係
数は76×10-13cm2/dyneと大きい値であった。
［発明の効果］ このようにして得られる本発明の重合体は、従来のポ
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
溶融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光
学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な
耐熱性ならびに機械的強度を有するものである。
リカーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また
溶融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光
学的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な
耐熱性ならびに機械的強度を有するものである。
したがって、本発明の重合体は、光ディスクなどの光
学機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材と
して有効に利用することができる。
学機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材と
して有効に利用することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 （式中、X,Yは共に水素原子であって、かつｍが２であ
り、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル基であっ
て、かつm,nが共に１である。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体。 - 【請求項２】一般式 （式中、X,Yは共に水素原子であって、かつｍが２であ
り、ｎが３であるか、或いはX,Yは共にメチル基であっ
て、かつm,nが共に１である。） で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることを特徴とする 一般式 （式中、X,Y,mおよびｎは前記と同じ。） で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度〔η〕が0.3dl/g以上である重
合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240966A JP2516883B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240966A JP2516883B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6395228A JPS6395228A (ja) | 1988-04-26 |
| JP2516883B2 true JP2516883B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=17067301
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61240966A Expired - Lifetime JP2516883B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2516883B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0668021B2 (ja) * | 1985-08-26 | 1994-08-31 | 三菱化成株式会社 | 光ディスク基板の製造方法 |
| JPS6357636A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-12 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂よりなる光学用材料 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61240966A patent/JP2516883B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6395228A (ja) | 1988-04-26 |
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