JPS6362528B2 - - Google Patents
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- JPS6362528B2 JPS6362528B2 JP59044068A JP4406884A JPS6362528B2 JP S6362528 B2 JPS6362528 B2 JP S6362528B2 JP 59044068 A JP59044068 A JP 59044068A JP 4406884 A JP4406884 A JP 4406884A JP S6362528 B2 JPS6362528 B2 JP S6362528B2
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Landscapes
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
本発明は光学機器用の素材に関し、特にデジタ
ルオーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適
した素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には
様々な性能が要求されており、例えば透明性、耐
熱性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共
に、光学的な性質として光弾性係数の小さいもの
が適している。このような性能を有する素材とし
ては、従来からメタクリル樹脂などが知られてい
るが、このものは耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点
で未だ充分なものとは言い難いという欠点があ
る。また、ビスフエノールＡ（２，２―ビス
（4′―ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲ
ンや炭酸ジフエニル等と反応させて得られるポリ
カーボネート樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性
などにおいてすぐれているものの、光弾性係数が
大きいため、これに起因して複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下したり、エラーが発生するという難点があ
る。 本発明の目的は上記従来の欠点を解消した光学
機器用素材を提供することにあり、特に光学的性
質として光弾性定数が小さく、デイスクに記録さ
れた情報の読み取り感度の高い光学機器用素材を
提供することを目的とするものである。 すなわち本発明は第１に 一般式 （式中、R1は
ルオーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適
した素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には
様々な性能が要求されており、例えば透明性、耐
熱性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共
に、光学的な性質として光弾性係数の小さいもの
が適している。このような性能を有する素材とし
ては、従来からメタクリル樹脂などが知られてい
るが、このものは耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点
で未だ充分なものとは言い難いという欠点があ
る。また、ビスフエノールＡ（２，２―ビス
（4′―ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲ
ンや炭酸ジフエニル等と反応させて得られるポリ
カーボネート樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性
などにおいてすぐれているものの、光弾性係数が
大きいため、これに起因して複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下したり、エラーが発生するという難点があ
る。 本発明の目的は上記従来の欠点を解消した光学
機器用素材を提供することにあり、特に光学的性
質として光弾性定数が小さく、デイスクに記録さ
れた情報の読み取り感度の高い光学機器用素材を
提供することを目的とするものである。 すなわち本発明は第１に 一般式 （式中、R1は
【式】および
【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜
10を示す。）
で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ濃度
0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元
粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマー
ル系重合体からなる光学機器用の素材を提供する
ものである。 さらに本発明は第２に 一般式 （式中、R1は
0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元
粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマー
ル系重合体からなる光学機器用の素材を提供する
ものである。 さらに本発明は第２に 一般式 （式中、R1は
【式】および
【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜
10を示す。）
で表わされる繰返し単位〔〕および
一般式
（式中、R2は
【式】および
【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜
10を示す。）
で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.5を超えるものであると共に、濃度0.5ｇ/dlの
塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマール系重
合体からなる光学機器用の素材を提供するもので
ある。 本発明の第１において、上記繰返し単位〔〕
を有するポリホルマール系重合体の重合度は光学
機器の種類に応じて適宜選択すればよいが、濃度
0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元
粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上、好ましくは0.3
〜0.8dl/ｇのものとなるように重合させるべきで
ある。 なお、上記繰返し単位〔〕においてｍは４〜
10を示しているが、ここでｍが４未満であると、
得られる重合体の成形加工時における流動性が低
下し、またｍが10を超えると耐熱性が低下するの
で好ましくない。 また、本発明の第２は、上記第１の発明におけ
る繰返し単位〔〕とともに、前記繰返し単位
〔〕を有するポリホルマール系重合体からなる
ものである。ここで本発明の第２においては、上
記繰返し単位〔〕をモル分率で全体の50％を超
えて含むように調節する。すなわち、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｋ、繰返し単位〔〕の
モル分率をｌとしたとき、ｋ／ｋ＋ｌの値が0.5
を超えるように調節する。ｋ／ｋ＋ｌの値が0.5
以下であると、光弾性定数の低下と、成形性の低
下をきたし成形歪に基く複屈折の増大をもたらす
ので好ましくない。 また、本発明の第２において、上記繰返し単位
〔〕および繰返し単位〔〕を有するポリホル
マール系重合体の重合度は、光学機器の種類に応
じて適宜選定すればよいが、第１の発明と同じ
く、濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上、好ま
しくは0.3〜0.8dl/ｇのものとなるように重合さ
せるべきである。 上述の繰返し単位〔〕を有するポリホルマー
ル系重合体は様々な方法により製造することがで
きるが、例えば 式 で表わされる４，4′―ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタン、 式 で表わされる１―フエニル―１，１―ビス（４―
ヒドロキシフエニル）エタンおよび 一般式 （式中、ｍは前記と同じ。） で表わされる化合物のいずれかを適当な触媒、分
子量調節剤などを用いてCH2Cl2、CH2Br2などの
ハロゲン化メチレンと反応させたり、またこのハ
ロゲン化メチレンおよびNaOHなどの塩基を反
応させて製造することができる。ここで分子量調
節剤としては様々なものを挙げることができる
が、例えば
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.5を超えるものであると共に、濃度0.5ｇ/dlの
塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマール系重
合体からなる光学機器用の素材を提供するもので
ある。 本発明の第１において、上記繰返し単位〔〕
を有するポリホルマール系重合体の重合度は光学
機器の種類に応じて適宜選択すればよいが、濃度
0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元
粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上、好ましくは0.3
〜0.8dl/ｇのものとなるように重合させるべきで
ある。 なお、上記繰返し単位〔〕においてｍは４〜
10を示しているが、ここでｍが４未満であると、
得られる重合体の成形加工時における流動性が低
下し、またｍが10を超えると耐熱性が低下するの
で好ましくない。 また、本発明の第２は、上記第１の発明におけ
る繰返し単位〔〕とともに、前記繰返し単位
〔〕を有するポリホルマール系重合体からなる
ものである。ここで本発明の第２においては、上
記繰返し単位〔〕をモル分率で全体の50％を超
えて含むように調節する。すなわち、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｋ、繰返し単位〔〕の
モル分率をｌとしたとき、ｋ／ｋ＋ｌの値が0.5
を超えるように調節する。ｋ／ｋ＋ｌの値が0.5
以下であると、光弾性定数の低下と、成形性の低
下をきたし成形歪に基く複屈折の増大をもたらす
ので好ましくない。 また、本発明の第２において、上記繰返し単位
〔〕および繰返し単位〔〕を有するポリホル
マール系重合体の重合度は、光学機器の種類に応
じて適宜選定すればよいが、第１の発明と同じ
く、濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃にお
ける還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上、好ま
しくは0.3〜0.8dl/ｇのものとなるように重合さ
せるべきである。 上述の繰返し単位〔〕を有するポリホルマー
ル系重合体は様々な方法により製造することがで
きるが、例えば 式 で表わされる４，4′―ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタン、 式 で表わされる１―フエニル―１，１―ビス（４―
ヒドロキシフエニル）エタンおよび 一般式 （式中、ｍは前記と同じ。） で表わされる化合物のいずれかを適当な触媒、分
子量調節剤などを用いてCH2Cl2、CH2Br2などの
ハロゲン化メチレンと反応させたり、またこのハ
ロゲン化メチレンおよびNaOHなどの塩基を反
応させて製造することができる。ここで分子量調
節剤としては様々なものを挙げることができる
が、例えば
【式】
【式】
【式】
【式】などの他、
【式】
（R3は炭素数１〜10のアルキル基またはアルア
ルキル基を示す。） などが挙げられる。また、このように分子量調節
剤を用いずに、ハロゲン化メチレン等の使用量を
適宜選択することにより、上記繰返し単位〔〕
を有するポリホルマール系重合体の重合度を上記
の如くにせしめることもできる。 また、上記一般式〔〕で表わされる化合物と
しては様々なものがあるが、例えば 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロペンタン、 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロヘキサン、 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロヘプタンなどを挙げることができ
る。 さらに、上述の繰返し単位〔〕を有する重合
体も様々な方法により製造することができるが、
例えば前記式〔〕で表わされる４，4′―ジヒド
ロキシテトラフエニルメタン、式〔〕で表わさ
れる１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフエニル）エタンおよび一般式〔〕で表わさ
れる化合物のいずれかを、ホスゲンを用いて重縮
合させて製造することができる。また、このよう
なホスゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法
の他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエステル交
換法ポリカーボネートの製法に従つて行なうこと
もできる。 したがつて、上記繰返し単位〔〕とともに繰
返し単位〔〕を有する本発明の第２のポリホル
マール系重合体を製造するには、例えば上述の如
く、式〔〕で表わされる４，4′―ジヒドロキシ
テトラフエニルメタン、式〔〕で表わされる１
―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）エタンおよび一般式〔〕で表わされる化
合物のいずれかを、単独で或いはこれらの混合物
をハロゲン化メチレン等と反応させて繰返し単位
〔〕を有するポリホルマール系低重合体を製造
し、その末端のフエノール性水酸基をホスゲン等
を用いて重縮合させればよい。 なお、この重合の際の条件は所望する共重合体
の重合度などにより一義的に定めることはできな
いが、通常適当な触媒、分子量調節剤などを用い
ればよい。ここで分子量調節剤としては前記した
ものなどが挙げられる。 本発明の第２のポリホルマール系共重合体を構
成する繰返し単位〔〕は式〔〕で表わされる
４，４―ジヒドロキシテトラフエニルメタン、式
〔〕で表わされる１―フエニル―１，１―ビス
（４―ヒドロキシフエニル）エタンおよび一般式
〔〕で表わされる化合物のいずれかと、ハロゲ
ン化メチレン等との反応により形成され、また繰
返し単位〔〕は式〔〕で表わされる４，4′―
ジヒドロキシテトラフエニルメタン、式〔〕で
表わされる１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒ
ドロキシフエニル）エタンおよび一般式〔〕で
表わされる化合物のいずれかと、ホスゲン等との
反応により形成される。従つて、共重合体におけ
る繰返し単位〔〕、〔〕の所望するモル分率に
応じて式〔〕で表わされる４，4′―ジヒドロキ
シテトラフエニルメタン、式〔〕で表わされる
１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキシフ
エニル）エタンおよび一般式〔〕で表わされる
化合物の使用量を適宜選定すればよく、また上記
の一般式〔〕で表わされる化合物の種類も、所
望する繰返し単位〔〕或いは繰返し単位〔〕
の種類により、上述した具体例の中あるいはそれ
以外から選定すればよい。 なお、本発明の光学機器用素材を用いてデイス
ク等を成形するにあたつては、酸化防止剤、紫外
線吸収剤などの通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる本発明の第１のポリホ
ルマール系重合体は従来のポリカーボネート樹脂
に比し光弾性定数が小さく、光の複屈折率の小さ
い成形品を得ることができる。また、この重合体
は耐熱性に関し、従来のポリカーボネート樹脂と
同等乃至やや劣るものの、メタクリル樹脂（ガラ
ス転移温度：105℃）に比し十分に高い耐熱性を
有しいてる。 さらに、本発明の第２のポリホルマール系重合
体は従来のポリカーボネート樹脂に比し光弾性定
数および耐熱性のどちらについても格段にすぐれ
たものである。 したがつて、本発明のポリホルマール系重合体
或いは共重合体を各種光学機器の素材として用い
れば、光学的性質が改良されているためにデイス
クに記録された情報の読み取り感度が高く、エラ
ーの発生の少ない光学機器が得られると同時に、
熱的にも強度的にも良好な素材であるため、これ
を用いて作られた光学機器は様々な条件下で安定
して作動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスク、光メモリーデイスクなどの光学機器用
素材として有効に利用することができる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 １ ４，4′―ジヒドロキシテトラフエニルメタン
35.2ｇ（0.1モル）、塩化メチレン40ｇ（0.47モ
ル）、水酸化ナトリウム16.0ｇ（0.4モル）および
Ｎ―メチルピロリドン80mlの混合液を撹拌しなが
ら80℃において、５時間反応を行なつた。反応終
了後、生成物を塩化メチレン200mlで希釈して、
稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメタノール中に
投入して重合体を析出回収した。 得られた重合体は、溶媒として塩化メチレンを
用い濃度0.5ｇ/dlの溶液につき20℃で測定した還
元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.46dl/ｇであつた。また、
この重合体のガラス転移温度は160℃であつた。
さらに、この重合体を300℃においてプレス成形
し、肉厚0.3mmのシートとし、波長633mmにおいて
光弾性定数を測定したところ、26.6×10-13cm2/dy
ｎｅであつた。 実施例 ２ 実施例１において、４，4′―ジヒドロキシテト
ラフエニルメタンに代えてビス（４―ヒドロキシ
フエニル）シクロヘキサン26.8ｇ（0.1モル）を
用いたこと以外は実施例１と同様にして重合体を
得た。 得られた重合体の濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は0.45
dl／ｇであつた。また、この重合体のガラス転移
温度は116℃であつた。さらに、実施例１と同様
にして光弾性定数を測定したところ50.0×10-13
cm2／ｄｙｎｅであつた。 実施例 ３ ４，4′―ジヒドロキシテトラフエニルメタン
35.2ｇ（0.1モル）、塩化メチレン25ｇ（0.3モル）
およびＮ―メチルピロリドン40mlの混合液を撹拌
しながら加熱し、還流下に１時間反応を行なつ
た。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン100
mlで希釈し、稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメ
タノール中に投入してポリホルマールの低重合体
を析出回収した。 得られたポリホルマール低重合体を塩化メチレ
ン150mlとピリジン50mlの混合溶媒に溶解し、こ
れにホスゲンガス200mlを室温で吹込み、１時間
反応させた。反応終了後、生成物を濃度１規定の
塩酸および水で順次洗浄し、次いでメタノール中
に投入してポリホルマール・ポリカーボネート樹
脂を析出させ回収した。 得られた樹脂の濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は0.56dl/
ｇであり、またガラス転移温度は189℃であつた。
さらに、実施例１と同様にして光弾性定数を測定
したところ、24.5×10-13cm2/dyneであつた。 比較例 １ ２，2′―ビス（４―ヒドロキシフエニル）プロ
パンを用いて、通常のホスゲン法によりポリカー
ボネート樹脂を製造した。このものの濃度0.5ｇ/
dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp／Ｃ〕は0.51dl/ｇであり、またガラス転移
温度は148℃であつた。さらに、実施例１と同様
にして光弾性定数を測定したところ、71.9×
10-13cm2/dyneであつた。
ルキル基を示す。） などが挙げられる。また、このように分子量調節
剤を用いずに、ハロゲン化メチレン等の使用量を
適宜選択することにより、上記繰返し単位〔〕
を有するポリホルマール系重合体の重合度を上記
の如くにせしめることもできる。 また、上記一般式〔〕で表わされる化合物と
しては様々なものがあるが、例えば 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロペンタン、 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロヘキサン、 式 で表わされる１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）シクロヘプタンなどを挙げることができ
る。 さらに、上述の繰返し単位〔〕を有する重合
体も様々な方法により製造することができるが、
例えば前記式〔〕で表わされる４，4′―ジヒド
ロキシテトラフエニルメタン、式〔〕で表わさ
れる１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフエニル）エタンおよび一般式〔〕で表わさ
れる化合物のいずれかを、ホスゲンを用いて重縮
合させて製造することができる。また、このよう
なホスゲン法ポリカーボネートの製法に従う方法
の他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエステル交
換法ポリカーボネートの製法に従つて行なうこと
もできる。 したがつて、上記繰返し単位〔〕とともに繰
返し単位〔〕を有する本発明の第２のポリホル
マール系重合体を製造するには、例えば上述の如
く、式〔〕で表わされる４，4′―ジヒドロキシ
テトラフエニルメタン、式〔〕で表わされる１
―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキシフエ
ニル）エタンおよび一般式〔〕で表わされる化
合物のいずれかを、単独で或いはこれらの混合物
をハロゲン化メチレン等と反応させて繰返し単位
〔〕を有するポリホルマール系低重合体を製造
し、その末端のフエノール性水酸基をホスゲン等
を用いて重縮合させればよい。 なお、この重合の際の条件は所望する共重合体
の重合度などにより一義的に定めることはできな
いが、通常適当な触媒、分子量調節剤などを用い
ればよい。ここで分子量調節剤としては前記した
ものなどが挙げられる。 本発明の第２のポリホルマール系共重合体を構
成する繰返し単位〔〕は式〔〕で表わされる
４，４―ジヒドロキシテトラフエニルメタン、式
〔〕で表わされる１―フエニル―１，１―ビス
（４―ヒドロキシフエニル）エタンおよび一般式
〔〕で表わされる化合物のいずれかと、ハロゲ
ン化メチレン等との反応により形成され、また繰
返し単位〔〕は式〔〕で表わされる４，4′―
ジヒドロキシテトラフエニルメタン、式〔〕で
表わされる１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒ
ドロキシフエニル）エタンおよび一般式〔〕で
表わされる化合物のいずれかと、ホスゲン等との
反応により形成される。従つて、共重合体におけ
る繰返し単位〔〕、〔〕の所望するモル分率に
応じて式〔〕で表わされる４，4′―ジヒドロキ
シテトラフエニルメタン、式〔〕で表わされる
１―フエニル―１，１―ビス（４―ヒドロキシフ
エニル）エタンおよび一般式〔〕で表わされる
化合物の使用量を適宜選定すればよく、また上記
の一般式〔〕で表わされる化合物の種類も、所
望する繰返し単位〔〕或いは繰返し単位〔〕
の種類により、上述した具体例の中あるいはそれ
以外から選定すればよい。 なお、本発明の光学機器用素材を用いてデイス
ク等を成形するにあたつては、酸化防止剤、紫外
線吸収剤などの通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる本発明の第１のポリホ
ルマール系重合体は従来のポリカーボネート樹脂
に比し光弾性定数が小さく、光の複屈折率の小さ
い成形品を得ることができる。また、この重合体
は耐熱性に関し、従来のポリカーボネート樹脂と
同等乃至やや劣るものの、メタクリル樹脂（ガラ
ス転移温度：105℃）に比し十分に高い耐熱性を
有しいてる。 さらに、本発明の第２のポリホルマール系重合
体は従来のポリカーボネート樹脂に比し光弾性定
数および耐熱性のどちらについても格段にすぐれ
たものである。 したがつて、本発明のポリホルマール系重合体
或いは共重合体を各種光学機器の素材として用い
れば、光学的性質が改良されているためにデイス
クに記録された情報の読み取り感度が高く、エラ
ーの発生の少ない光学機器が得られると同時に、
熱的にも強度的にも良好な素材であるため、これ
を用いて作られた光学機器は様々な条件下で安定
して作動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスク、光メモリーデイスクなどの光学機器用
素材として有効に利用することができる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 １ ４，4′―ジヒドロキシテトラフエニルメタン
35.2ｇ（0.1モル）、塩化メチレン40ｇ（0.47モ
ル）、水酸化ナトリウム16.0ｇ（0.4モル）および
Ｎ―メチルピロリドン80mlの混合液を撹拌しなが
ら80℃において、５時間反応を行なつた。反応終
了後、生成物を塩化メチレン200mlで希釈して、
稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメタノール中に
投入して重合体を析出回収した。 得られた重合体は、溶媒として塩化メチレンを
用い濃度0.5ｇ/dlの溶液につき20℃で測定した還
元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.46dl/ｇであつた。また、
この重合体のガラス転移温度は160℃であつた。
さらに、この重合体を300℃においてプレス成形
し、肉厚0.3mmのシートとし、波長633mmにおいて
光弾性定数を測定したところ、26.6×10-13cm2/dy
ｎｅであつた。 実施例 ２ 実施例１において、４，4′―ジヒドロキシテト
ラフエニルメタンに代えてビス（４―ヒドロキシ
フエニル）シクロヘキサン26.8ｇ（0.1モル）を
用いたこと以外は実施例１と同様にして重合体を
得た。 得られた重合体の濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は0.45
dl／ｇであつた。また、この重合体のガラス転移
温度は116℃であつた。さらに、実施例１と同様
にして光弾性定数を測定したところ50.0×10-13
cm2／ｄｙｎｅであつた。 実施例 ３ ４，4′―ジヒドロキシテトラフエニルメタン
35.2ｇ（0.1モル）、塩化メチレン25ｇ（0.3モル）
およびＮ―メチルピロリドン40mlの混合液を撹拌
しながら加熱し、還流下に１時間反応を行なつ
た。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン100
mlで希釈し、稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメ
タノール中に投入してポリホルマールの低重合体
を析出回収した。 得られたポリホルマール低重合体を塩化メチレ
ン150mlとピリジン50mlの混合溶媒に溶解し、こ
れにホスゲンガス200mlを室温で吹込み、１時間
反応させた。反応終了後、生成物を濃度１規定の
塩酸および水で順次洗浄し、次いでメタノール中
に投入してポリホルマール・ポリカーボネート樹
脂を析出させ回収した。 得られた樹脂の濃度0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は0.56dl/
ｇであり、またガラス転移温度は189℃であつた。
さらに、実施例１と同様にして光弾性定数を測定
したところ、24.5×10-13cm2/dyneであつた。 比較例 １ ２，2′―ビス（４―ヒドロキシフエニル）プロ
パンを用いて、通常のホスゲン法によりポリカー
ボネート樹脂を製造した。このものの濃度0.5ｇ/
dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp／Ｃ〕は0.51dl/ｇであり、またガラス転移
温度は148℃であつた。さらに、実施例１と同様
にして光弾性定数を測定したところ、71.9×
10-13cm2/dyneであつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1は【式】【式】および 【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜 10を示す。） で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ濃度
0.5ｇ/dlの塩化メチレン溶液の20℃における還元
粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマー
ル系重合体からなる光学機器用の素材。 ２ 一般式 （式中、R1は【式】【式】および 【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜 10を示す。〕 で表わされる繰返し単位〔〕および 一般式 （式中、R2は【式】【式】および 【式】のいずれかを示す。但し、ｍは４〜 10を示す。） で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｋおよびｌとしたときのｋ／ｋ＋ｌの値が
0.5を超えるものであると共に、濃度0.5ｇ/dlの
塩化メチレン溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp／Ｃ〕が0.2dl/ｇ以上のポリホルマール系共
重合体からなる光学機器用の素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044068A JPS60188426A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用の素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044068A JPS60188426A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用の素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60188426A JPS60188426A (ja) | 1985-09-25 |
| JPS6362528B2 true JPS6362528B2 (ja) | 1988-12-02 |
Family
ID=12681309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59044068A Granted JPS60188426A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 光学機器用の素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60188426A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2525840B2 (ja) * | 1987-12-14 | 1996-08-21 | 出光興産株式会社 | １，１―ビス（３―フェニル―４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン |
| DE10333928A1 (de) | 2003-07-25 | 2005-02-24 | Bayer Materialscience Ag | Polyformale und Copolyformale mit reduzierter Wasseraufnahme, ihre Herstellung und Verwendung |
| WO2014073559A1 (ja) | 2012-11-07 | 2014-05-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリホルマール樹脂共重合体及び製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3069386A (en) * | 1959-02-04 | 1962-12-18 | Union Carbide Corp | Thermoplastic aromatic polyformal resins and process for preparing same |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59044068A patent/JPS60188426A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3069386A (en) * | 1959-02-04 | 1962-12-18 | Union Carbide Corp | Thermoplastic aromatic polyformal resins and process for preparing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60188426A (ja) | 1985-09-25 |
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