JPH0570651B2 - - Google Patents
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- JPH0570651B2 JPH0570651B2 JP6369585A JP6369585A JPH0570651B2 JP H0570651 B2 JPH0570651 B2 JP H0570651B2 JP 6369585 A JP6369585 A JP 6369585A JP 6369585 A JP6369585 A JP 6369585A JP H0570651 B2 JPH0570651 B2 JP H0570651B2
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は光デイスク用素材に関し、特にデジタ
ルオーデイオデイスクや光メモリーデイスクなど
に適した素材に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 一般に、上述したような光デイスク用の素材に
は様々な性能が要求されている。例えば、透明
性、耐熱性、低透湿性、機械的強度等に優れてい
ると共に光学的性質に優れていることが必要であ
る。従来、このような性質を有するものの一つと
して、メタクリル樹脂が知られているが、このも
のは耐熱性や低透湿性、耐衝撃性などの点におい
て未だ充分なものは言い難いという欠点がある。 また、ビスフエノールＡ（２，２−ビス（4′−
ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲンや炭
酸ジフエニル等と反応させて得られるポリカーボ
ネート樹脂が光学機器用素材として使用しうるこ
とも知られているが、このものは耐熱性、低透湿
性、耐衝撃性などにおいて優れているものの、光
弾性係数が比較的大きく、しかも成形加工時の流
動性を満足すべきものではない。そのため成形加
工後の残留歪による成形品の歪みが大きくなり、
これらに基因して成形品の複屈折が大きくなり、
デイスクに記録された情報の読み取り感度が低下
するという難点がある。このように、未だ光デイ
スク用素材として充分に満足すべきものは得られ
ていない。 そこで本発明者らは耐熱性、機械的強度などポ
リカーボネート樹脂の有する優れた特性を維持す
るとともに、特にポリカーボネート樹脂の欠点で
ある流動性、光弾性係数などを改善することによ
つて、光学的性質の向上した素材を開発するため
に鋭意研究を重ねた。 〔問題点を解決するための手段〕 その結果、特定の共重合体が上記目的を達成し
うるものであることを見い出し、この知見に基づ
いて本発明を完成した。 すなわち本発明は式
ルオーデイオデイスクや光メモリーデイスクなど
に適した素材に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 一般に、上述したような光デイスク用の素材に
は様々な性能が要求されている。例えば、透明
性、耐熱性、低透湿性、機械的強度等に優れてい
ると共に光学的性質に優れていることが必要であ
る。従来、このような性質を有するものの一つと
して、メタクリル樹脂が知られているが、このも
のは耐熱性や低透湿性、耐衝撃性などの点におい
て未だ充分なものは言い難いという欠点がある。 また、ビスフエノールＡ（２，２−ビス（4′−
ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲンや炭
酸ジフエニル等と反応させて得られるポリカーボ
ネート樹脂が光学機器用素材として使用しうるこ
とも知られているが、このものは耐熱性、低透湿
性、耐衝撃性などにおいて優れているものの、光
弾性係数が比較的大きく、しかも成形加工時の流
動性を満足すべきものではない。そのため成形加
工後の残留歪による成形品の歪みが大きくなり、
これらに基因して成形品の複屈折が大きくなり、
デイスクに記録された情報の読み取り感度が低下
するという難点がある。このように、未だ光デイ
スク用素材として充分に満足すべきものは得られ
ていない。 そこで本発明者らは耐熱性、機械的強度などポ
リカーボネート樹脂の有する優れた特性を維持す
るとともに、特にポリカーボネート樹脂の欠点で
ある流動性、光弾性係数などを改善することによ
つて、光学的性質の向上した素材を開発するため
に鋭意研究を重ねた。 〔問題点を解決するための手段〕 その結果、特定の共重合体が上記目的を達成し
うるものであることを見い出し、この知見に基づ
いて本発明を完成した。 すなわち本発明は式
【化】
で表わされる繰返し単位〔〕および
式
【化】
で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕のモル分率が50〜95％であると
共に、メチレンクロライドを溶媒とする0.5ｇ／
dl濃度の溶液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が
0.3〜1.0dl／ｇの共重合体からなる光デイスク用
素材を提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度はメチレンクロライドを溶媒とす
る0.5ｇ／dl濃度の溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp/c〕が0.3〜1.0dl／ｇ、好ましくは0.3〜0.8
dl／ｇの共重合体となるように重合させるべきで
ある。ここで還元粘度が0.3dl／ｇ未満であると、
耐熱性や機械的強度が劣るものとなり、また1.0
dl／ｇを超えると成形性が低下し、残留歪が大き
く光学的性質の低いものとなる。 また、共重合体中、繰返し単位〔〕のモル分
率が50〜95％、好ましくは55〜70％とすべきであ
る。この値が50％未満では機械的強度の低下を招
くため好ましくない。また95％を超えると光弾性
係数が高くなり、成形後の残留歪も大きくなるた
め好ましくない。 本発明における共重合体は、上記繰返し単位
〔〕と繰返し単位〔〕を有するものであり、
これらのランダム共重合体、ブロツク共重合体、
交互共重合体など様々なものがある。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式
繰返し単位〔〕のモル分率が50〜95％であると
共に、メチレンクロライドを溶媒とする0.5ｇ／
dl濃度の溶液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が
0.3〜1.0dl／ｇの共重合体からなる光デイスク用
素材を提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度はメチレンクロライドを溶媒とす
る0.5ｇ／dl濃度の溶液の20℃における還元粘度
〔ηsp/c〕が0.3〜1.0dl／ｇ、好ましくは0.3〜0.8
dl／ｇの共重合体となるように重合させるべきで
ある。ここで還元粘度が0.3dl／ｇ未満であると、
耐熱性や機械的強度が劣るものとなり、また1.0
dl／ｇを超えると成形性が低下し、残留歪が大き
く光学的性質の低いものとなる。 また、共重合体中、繰返し単位〔〕のモル分
率が50〜95％、好ましくは55〜70％とすべきであ
る。この値が50％未満では機械的強度の低下を招
くため好ましくない。また95％を超えると光弾性
係数が高くなり、成形後の残留歪も大きくなるた
め好ましくない。 本発明における共重合体は、上記繰返し単位
〔〕と繰返し単位〔〕を有するものであり、
これらのランダム共重合体、ブロツク共重合体、
交互共重合体など様々なものがある。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式
【化】
で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン〔ビスフエノールＡ〕と 式
ニル）プロパン〔ビスフエノールＡ〕と 式
【化】
で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシシク
ロヘキシル）プロパンを原料とし、一般のポリカ
ーボネートの製造法に従つて製造することができ
る。具体的には上記式〔〕で表わされるビスフ
エノールＡと式〔〕で表わされる２，２−ビス
（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンを反
応系に加え、さらにホスゲンなどを加えて縮合重
合させることにより製造することができる。 この縮合重合の際の条件は、所望する共重合体
の重合度などにより一義的に定めることはできな
いが、通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で適
当な触媒、アルカリ、分子量調節剤などを用いれ
ばよい。ここで分子量調節剤として様々な一価フ
エノールを挙げることができるが、好ましいもの
としては、
ロヘキシル）プロパンを原料とし、一般のポリカ
ーボネートの製造法に従つて製造することができ
る。具体的には上記式〔〕で表わされるビスフ
エノールＡと式〔〕で表わされる２，２−ビス
（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンを反
応系に加え、さらにホスゲンなどを加えて縮合重
合させることにより製造することができる。 この縮合重合の際の条件は、所望する共重合体
の重合度などにより一義的に定めることはできな
いが、通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で適
当な触媒、アルカリ、分子量調節剤などを用いれ
ばよい。ここで分子量調節剤として様々な一価フ
エノールを挙げることができるが、好ましいもの
としては、
【式】
【式】
【式】
このようにして得られる本発明の共重合体は、
成形加工時の流動性が、従来のポリカーボネート
樹脂に比べ格段に良く、成形加工後の残留応力が
少なくて成形歪が少ないため複屈折がさらに小さ
い。また、同様に光弾性係数が小さいため複屈折
がさらに小さくなり光学的性質が極めて、改善さ
れたものである。しかも、耐熱性にもすぐれたも
のである。したがつて、本発明の共重合体を光デ
イスク用素材として用いれば光学的性質が改良さ
れているためデイスクに記録された情報の読取り
感度が高く、エラーの発生の少ない光デイスクが
得られる。また、熱的にも機械的にも良好な素材
であるため、これを用いて作られた光デイスクは
様々な条件下で安定して作動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスクや光メモリーデイスクなどの光デイスク
用素材として有効に利用することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇを、水酸化ナトリウムの６％濃度の水溶
液450mlに溶解させた溶液に、塩化メチレン200ml
を加えて、激しく撹拌しながら、室温においてホ
スゲンガスを800ml／分の供給割合で吹込み、反
応系のPHが９に低下した時点で、ホスゲンガスの
吹き込みを停止した。次いで、得られた反応生成
物を静置分離し、有機層に重合度２〜３であり、
分子末端にクロロホーメート基を有するポリカー
ボネートオリゴマーを得た。 得られたポリカーボネートオリゴマーは、無水
硫酸ナトリウムにより脱水処理した後、60mlを取
出し、これに塩化メチレンを加えて100mlに希釈
した。次いでこの溶液に分子量調節剤としてパラ
ターシヤリーブチルフエノール110mgを加え、引
続き２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）プロパン4.5ｇを触媒のピリジン30ml中に溶
解させて滴下し、撹拌下に１時間反応させた。反
応終了後に、生成物に塩化メチレン100mlを加え、
希塩酸および水で順次洗浄し、得られた有機層を
メタノール２中に投入した白色の共重合体を得
た。 ここで得られた共重合体は、塩化メチレンを溶
媒とする0.5ｇ／dl濃度の溶液の20℃における還
元粘度〔ηsp/c〕が0.47dl／ｇであつた。また、こ
の共重合体の繰返し単位〔〕のモル分率は核磁
気共鳴（NMR）による測定の結果、85％であつ
た。耐熱性についてはガラス転移温度が150℃で
あり、成形性についてはメルトインデツクス
（230℃、荷重2160ｇ）が6.1ｇ／10分であつた。
さらに、この共重合体を260℃において熱プレス
して得た肉厚0.3mmの透明シートを用いて波長
633nｍにおいて光弾性係数を測定したところ64.4
×10-13cm2／dyneであつた。これら結果をまとめ
て第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシシクロヘキシル）プロパンの使用量を7.5ｇ
に代えたこと以外は実施例１と同様にした。結果
を第１表に示す。 実施例 ３ ２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）プロパン12.5ｇを、ピリジン30mlと塩化メチ
レン80mlの混合液に溶解させ、撹拌下にホスゲン
ガスを200ml／分の供給割合を吹き込みながら、
ここに実施例１で得たポリカーボネートオリゴマ
ー60mlを滴下し、さらにホスゲンガスを５分間吹
き込んだ後、１時間反応を行なつた。反応終了
後、生成物を希塩酸および水で順次洗浄し、得ら
れた有機層をメタノール２中に投入して白色の
共重合体を得た。 得られた共重合体の各種物性を実施例１と同様
にして測定した。結果を第１表に示す。 比較例 １ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシシクロヘキシル）プロパンの代わりに、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパンを
用いたこと以外は実施例１と同様の操作を行なつ
た。これにより得られたポリカーボネートについ
ても実施例１と同様にして各種物性を測定した。
結果も第１表に示す。
成形加工時の流動性が、従来のポリカーボネート
樹脂に比べ格段に良く、成形加工後の残留応力が
少なくて成形歪が少ないため複屈折がさらに小さ
い。また、同様に光弾性係数が小さいため複屈折
がさらに小さくなり光学的性質が極めて、改善さ
れたものである。しかも、耐熱性にもすぐれたも
のである。したがつて、本発明の共重合体を光デ
イスク用素材として用いれば光学的性質が改良さ
れているためデイスクに記録された情報の読取り
感度が高く、エラーの発生の少ない光デイスクが
得られる。また、熱的にも機械的にも良好な素材
であるため、これを用いて作られた光デイスクは
様々な条件下で安定して作動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスクや光メモリーデイスクなどの光デイスク
用素材として有効に利用することができる。 〔実施例〕 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇを、水酸化ナトリウムの６％濃度の水溶
液450mlに溶解させた溶液に、塩化メチレン200ml
を加えて、激しく撹拌しながら、室温においてホ
スゲンガスを800ml／分の供給割合で吹込み、反
応系のPHが９に低下した時点で、ホスゲンガスの
吹き込みを停止した。次いで、得られた反応生成
物を静置分離し、有機層に重合度２〜３であり、
分子末端にクロロホーメート基を有するポリカー
ボネートオリゴマーを得た。 得られたポリカーボネートオリゴマーは、無水
硫酸ナトリウムにより脱水処理した後、60mlを取
出し、これに塩化メチレンを加えて100mlに希釈
した。次いでこの溶液に分子量調節剤としてパラ
ターシヤリーブチルフエノール110mgを加え、引
続き２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）プロパン4.5ｇを触媒のピリジン30ml中に溶
解させて滴下し、撹拌下に１時間反応させた。反
応終了後に、生成物に塩化メチレン100mlを加え、
希塩酸および水で順次洗浄し、得られた有機層を
メタノール２中に投入した白色の共重合体を得
た。 ここで得られた共重合体は、塩化メチレンを溶
媒とする0.5ｇ／dl濃度の溶液の20℃における還
元粘度〔ηsp/c〕が0.47dl／ｇであつた。また、こ
の共重合体の繰返し単位〔〕のモル分率は核磁
気共鳴（NMR）による測定の結果、85％であつ
た。耐熱性についてはガラス転移温度が150℃で
あり、成形性についてはメルトインデツクス
（230℃、荷重2160ｇ）が6.1ｇ／10分であつた。
さらに、この共重合体を260℃において熱プレス
して得た肉厚0.3mmの透明シートを用いて波長
633nｍにおいて光弾性係数を測定したところ64.4
×10-13cm2／dyneであつた。これら結果をまとめ
て第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシシクロヘキシル）プロパンの使用量を7.5ｇ
に代えたこと以外は実施例１と同様にした。結果
を第１表に示す。 実施例 ３ ２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）プロパン12.5ｇを、ピリジン30mlと塩化メチ
レン80mlの混合液に溶解させ、撹拌下にホスゲン
ガスを200ml／分の供給割合を吹き込みながら、
ここに実施例１で得たポリカーボネートオリゴマ
ー60mlを滴下し、さらにホスゲンガスを５分間吹
き込んだ後、１時間反応を行なつた。反応終了
後、生成物を希塩酸および水で順次洗浄し、得ら
れた有機層をメタノール２中に投入して白色の
共重合体を得た。 得られた共重合体の各種物性を実施例１と同様
にして測定した。結果を第１表に示す。 比較例 １ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシシクロヘキシル）プロパンの代わりに、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパンを
用いたこと以外は実施例１と同様の操作を行なつ
た。これにより得られたポリカーボネートについ
ても実施例１と同様にして各種物性を測定した。
結果も第１表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 【化】 で表わされる繰返し単位〔〕および 式 【化】 で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕のモル分率が50〜95％であると
共に、メチレンクロライドを溶媒とする0.5ｇ／
dl濃度の溶液の20℃における還元粘度〔ηsp/c〕が
0.3〜1.0dl／ｇの共重合体からなる光デイスク用
素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6369585A JPS61223025A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 光ディスク用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6369585A JPS61223025A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 光ディスク用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61223025A JPS61223025A (ja) | 1986-10-03 |
| JPH0570651B2 true JPH0570651B2 (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=13236765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6369585A Granted JPS61223025A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 光ディスク用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61223025A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63122729A (ja) * | 1986-11-11 | 1988-05-26 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリカ−ボネ−ト樹脂 |
| JPS6466236A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-13 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Aliphatic polycarbonate and production thereof |
| US5959065A (en) * | 1988-08-05 | 1999-09-28 | General Electric Co. | Composition and article |
| US4939230A (en) * | 1988-11-16 | 1990-07-03 | The Dow Chemical Company | Elimination of monocarbonate from polycarbonate |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP6369585A patent/JPS61223025A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61223025A (ja) | 1986-10-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |