JP2002522584A - ポリオキシアルキレンカーボネート単位を含む光学品質のコポリカーボネート - Google Patents

ポリオキシアルキレンカーボネート単位を含む光学品質のコポリカーボネート

Info

Publication number
JP2002522584A
JP2002522584A JP2000563719A JP2000563719A JP2002522584A JP 2002522584 A JP2002522584 A JP 2002522584A JP 2000563719 A JP2000563719 A JP 2000563719A JP 2000563719 A JP2000563719 A JP 2000563719A JP 2002522584 A JP2002522584 A JP 2002522584A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
copolycarbonate
units
bisphenol
structural unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000563719A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002522584A5 (ja
Inventor
チャッタージー，ゴータム
キング，ジョセフ・アンソニー，ジュニア
レグランド，ドナルド・ジョージ
バラダラジャン，ゴダバルシ・サトヤナラヤナ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JP2002522584A publication Critical patent/JP2002522584A/ja
Publication of JP2002522584A5 publication Critical patent/JP2002522584A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/18—Block or graft polymers
    • C08G64/183—Block or graft polymers containing polyether sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/20—General preparatory processes
    • C08G64/30—General preparatory processes using carbonates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/913—Material designed to be responsive to temperature, light, moisture
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/21—Circular sheet or circular blank
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31507—Of polycarbonate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 コポリカーボネートは、ビスフェノールＡのようなビスフェノールから誘導される構造単位と、６，６′−ジヒドロキシ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロ（ビス）インダンのようなスピロ（ビス）インダンビスフェノールから誘導される構造単位と、ポリエチレングリコールのようなポリオキシアルキレングリコールから誘導される構造単位とを含んでいる。かかるコポリカーボネートは加工性が高く、複屈折性が低いと予想される。これらは光ディスクの製造に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリカーボネート技術に関するものであり、さらに具体的には光学
品質のポリカーボネートの開発に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えばオーディオコンパクトディスクやコンピューター用ＣＤ−ＲＯＭのよう
な光ディスクを始めとする光データ記録媒体はデータを記録し、それを利用可能
にする主要な手段となっている。光ディスクに記録されたデータは平面偏光レー
ザービームと偏光感受性検出方式によって読取られる。そのため、ディスクを通
過する際のレーザービームに対する偏光依存性効果を最小限に抑制する必要があ
る。
【０００３】 これまで光ディスクに最も多用されてきたポリマーはポリカーボネートである
。ポリカーボネートはその透明性と好ましい物性によりかかる目的に特に適して
いる。
【０００４】 光ディスク、特に再生−記録型ディスク及び情報記録量の大きいディスクの開
発を進めるには、様々な物理的因子が重要となる。かかる要因の一つでディスク
の記録容量に密接に関係するのが、複屈折、すなわち偏光の直交方向における屈
折率の差である。複屈折はレーザービームの異なる偏光成分間で位相リターデー
ションを生じ、読取性を低下させる。
【０００５】 複屈折は、ディスクの製造原料の化学的性質、その分子配向度及び製造された
プラスチック光ディスク内の応力を始めとする幾つかの原因によって起こる。し
たがって、ディスクで観察される複屈折は分子構造（これによって固有複屈折度
が決まる。）と加工条件（条件によっては熱応力及びポリマー鎖の配向を生じか
ねない。）とで決まる。
【０００６】 現在生産されている主なビスフェノールＡポリカーボネートは非常に高い正の
固有複屈折度で特徴付けられることが知られている。なお、「ビスフェノールＡ
」は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの慣用名である。また、
スピロ（ビス）インダン、特に６，６′−ジヒドロキシ−３，３，３′，３′−
テトラメチル−１，１′−スピロ（ビス）インダン（以下、「ＳＢＩ」という。
）から誘導された単位からなるホモポリカーボネートは、当該ホモポリマー中の
ＳＢＩ単位の分子構造及びコンホメーションのため負の固有複屈折度を有するこ
とも知られている。
【０００７】 固有複屈折度の低い一群のコポリカーボネートが、例えば米国特許第４５５２
９４９号に開示されている。これらのコポリカーボネートはビスフェノールＡと
ＳＢＩから誘導された構造単位を含んでいる。
【０００８】 しかし、ＳＢＩポリカーボネートは、例えばガラス転移温度（Ｔｇ）が非常に
高いことで明らかな通り加工性及び延性などの点で劣ることも知られている。そ
の結果、ホモポリカーボネートのみならず、ビスフェノールＡ単位をも含むコポ
リカーボネートも含めて、ＳＢＩポリカーボネートの成形は甚だしい応力を誘起
する。特に光ディスクの射出成形ではこうした応力が大きくなる。かかる条件下
では、ＳＢＩ含有ポリカーボネートの低い固有複屈折度にもかかわらず、こうし
た応力でディスクに大きな複屈折を生じるおそれがある。
【０００９】 光ディスクの性能に決定的重要性をもつパラメーターは「垂直」複屈折（以後
「ＶＢＲ」という。）と呼ばれ、ディスク平面と垂直に偏光した光の屈折率とデ
ィスク平面内に偏光した光の屈折率との差として定義される。ＶＢＲが高いこと
は、加工の難しさに加えて、ＳＢＩポリカーボネートから成形したディスクでよ
く見受けられる問題である。こうした加工の難しさを伴う物性として、２００℃
を超えるガラス転移温度及び高い溶融粘度がある。
【００１０】 垂直複屈折パラメーターは特に光ディスクの特性であり、バルクなポリカーボ
ネートと直接関連付けることはできない。ただし、バルクなポリカーボネートに
ついて求めることのできる関連パラメーターとしてガラス相での応力光係数Ｃｇ
がある。ビスフェノールＡポリカーボネートのＣｇ値は７２であるが、ＳＢＩ単
位を７２モル％含むビスフェノールＡ−ＳＢＩコポリカーボネートのＣｇ値は２
６である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、Ｃｇ値が低く、高い加工性と延性を有するポリカーボネートを開発す
ることが重要である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、望ましい物性を有するとともに望ましい光学的性質を有すると期待
される一群のコポリカーボネートの発見に基づくものである。当該コポリカーボ
ネートは、ビスフェノールから誘導される構造単位と、スピロ（ビス）インダン
から誘導される構造単位と、ポリオキシアルキレングリコールから誘導される構
造単位とを含んでいる。また、モノマーの段階的添加による溶融反応を伴う当該
コポリカーボネートの製造方法並びに当該コポリカーボネートから製造された製
品も提供される。
【００１３】 したがって、本発明の一つの態様は、下記の式Ｉのビスフェノールカーボネー
ト構造単位、下記の式IIのポリオキシアルキレンカーボネート構造単位、及び下
記の式IIIのスピロ（ビス）インダンカーボネート構造単位を含んでなり、式II
の単位を４重量％以上及び式IIIの単位を１０％以上含むコポリカーボネートで
ある。
【００１４】
【化４】
【００１５】 式中、Ａ1及びＡ2は各々二価芳香族基であり、Ｙは単結合又はＡ1とＡ2を原子１
個又は２個で隔てる橋かけ基である。
【００１６】
【化５】
【００１７】 式中、Ｒ1は各々独立にＣ2-6二価脂肪族基であり、ｘは約２〜５０である。
【００１８】
【化６】
【００１９】 式中、Ｒ2はＣ1-4アルキルであり、ｎは０又は１である。 式中、Ａ1及びＡ2は各々二価芳香族基であり、Ｙは単結合又はＡ1とＡ2を原子１
個又は２個で隔てる橋かけ基である。
【００２０】 本発明のもう一つの態様は、上記コポリカーボネートの製造方法であって、 （Ａ）約１７０〜２３０℃の範囲内の温度を含む溶融重合条件下で、１種類以
上の炭酸ジアリールを式Ｉの単位に対応する１種類以上の第一のビスフェノール
及び式IIIの単位に対応する１種類以上の第二のビスフェノールと接触させる段
階、及び （Ｂ）式IIの単位に対応する１種類以上のポリオキシアルキレングリコールを
導入して、得られた混合物を約１８０〜３２５℃の範囲内の温度に加熱する段階
を含んでなる方法である。
【００２１】 本発明のさらにもう一つの態様は、上記コポリカーボネートを含んでなる光情
報記録媒体である。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明のコポリカーボネート中の式Ｉのビスフェノールカーボネート構造単位
は式ＨＯ−Ａ1−Ｙ−Ａ2−ＯＨのビスフェノールから誘導されていると考えられ
る。例えば、通例Ａ1とＡ2は非置換フェニレン又はその置換誘導体を表す。Ｙと
して好適な橋かけ基は、大抵は、炭化水素基、特にメチレン、シクロヘキシリデ
ン又はイソプロピリデンのような飽和基であるが、酸素、イオウ、スルホキシ又
はスルホンのような非炭化水素基が存在していてもよい。最も好ましいビスフェ
ノールカーボネート単位は、Ａ1とＡ2が各々ｐ−フェニレンでありＹがイソプロ
ピリデンであるビスフェノールＡから誘導される。
【００２３】 式IIのポリオキシアルキレンカーボネート単位は、通例、アルキレン基の炭素
原子数が２〜６（好ましくは２〜４）のポリオキシアルキレングリコール、例え
ばポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールから誘導される。ｘの値
は約２〜５０の範囲内であり、大抵は、式IIの構造単位の分子量が約１００〜５
０００の範囲に収まるような値である。当業者には自明であろうが、分子量の高
いポリオキシアルキレングリコールを用いるとその重量百分率を低くしても、実
質的に同じ効果を特性にもたらすことができる。
【００２４】 式IIIのスピロ（ビス）インダンカーボネート単位において、Ｒ2基はメチル、
エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルのような低級アルキル基でよい。ただし
、好ましい単位は各ｎが０であるＳＢＩ単位である。
【００２５】 本発明のコポリカーボネートは、式IIの単位を４重量％以上、好ましくは約５
〜２０重量％、式IIIの単位を１０％以上、好ましくは約１５〜４０％含む。か
かる好ましい範囲で最も望ましい光学的性質が得られると思料される。
【００２６】 このコポリカーボネートは界面法（すなわち、塩基性条件下の水−有機混合系
でのホスゲンとジヒドロキシ反応体との反応）で製造することはできない。かか
る条件ではポリオキシアルキレングリコールの反応性が比較的乏しいからである
。しかし、対応するビスフェノールとポリオキシアルキレングリコールと炭酸ジ
アリール（大抵は炭酸ジフェニル）の溶融重合反応によって製造できる。本発明
の第二の態様は、ビスフェノール類の溶融重合により式Ｉの単位とIIIの単位を
含むオリゴマーを形成した後でポリオキシアルキレングリコールを導入するとい
う好ましい溶融重合法である。この逐次重合法は、式IIの単位を複数の単位から
なるブロックとしてではなく単一の単位として取り込むのを促進すると考えられ
る。
【００２７】 この製造方法では、１種類以上のエステル交換触媒を使用してもよい。好適な
触媒としては、かかる目的に有用であることが当技術分野で知られている多数の
塩基性物質、特に、アルカリ金属水酸化物、水酸化テトラアルキルアンモニウム
、水酸化テトラアルキルホスホニウム及び米国特許第５７５６８４３号（その開
示内容は援用によって本明細書の内容の一部をなす。）に開示されているタイプ
のヘキサアルキルグアニジニウムビスフェノラートがある。この最後のものの例
として、ヘキサエチルグアニジニウムカチオンを１つ、プロトンを３つ、そして
ビスフェノールＡジアニオンを２つ含有する化合物が挙げられる。水酸化ナトリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物を水酸化テトラアルキルアンモニウム、水酸
化テトラアルキルホスホニウム又はヘキサアルキルグアニジニウムビスフェノラ
ートと組み合わせて用いるのが好ましいことが多い。
【００２８】 本発明方法の段階Ａでは、炭酸ジアリールとビスフェノール類と通常は触媒を
含む反応混合物を攪拌などで効果的に掻き混ぜながら窒素のような不活性雰囲気
中で約１７０℃を超える温度に加熱し、温度は約１７０〜２３０℃の範囲内の１
つ以上の値に達するまで徐々に上昇させる。反応圧力は通例温度上昇と共に低下
する。
【００２９】 段階Ｂでは、ポリオキシアルキレングリコールを導入し、約１８０〜３５０℃
の範囲内の温度で加熱を続ける。こうして得られるポリカーボネートは慣用手順
で単離し得る。
【００３０】 本発明のコポリカーボネートの予想される重要な特性は、その予想Ｃｇ値が低
いことである。既に述べた通り、ビスフェノールＡポリカーボネート及びＳＢＩ
単位含有量７２モル％のＳＢＩ−ビスフェノールＡコポリカーボネートのＣｇ値
はそれぞれ７２及び２６である。ポリエチレングリコール単位を５モル％含有す
るビスフェノールＡ−ポリエチレングリコール（分子量４００）コポリカーボネ
ートの値は４２である。本発明のコポリカーボネートは４２よりもさらに低いと
予想され、おそらくは２６よりも低い値をもつ。
【００３１】 本発明のコポリカーボネートはその低いＣｇ値に伴ってＶＢＲの低い光ディス
クに成形可能である。同程度の分子量のビスフェノールＡホモポリカーボネート
から成形したディスクは通例ＶＢＲが高い。
【００３２】 複屈折は、直線偏光レーザーと光弾性変調器を用いて測定されるリターデーシ
ョンから求められる。光ディスクで生じた偏光のリターデーションは、直線偏光
子とロックイン増幅器からなる検出系を用いて分析される。ディスクと垂直な入
射光でのリターデーションと（垂直以外の）所与の角度でレーザーを入射したと
きのリターデーションとを用いてＶＢＲを求める。
【００３３】 本発明の光学情報記録媒体としては、オーディオディスク、レーザーディスク
（登録商標）、光ディスクメモリー、及びレーザーによる情報の書込と読取がで きる光磁気ディスクのような製品がある。かかる媒体は、本発明のコポリカーボ ネートから当技術分野で周知の手段によって製造できる。
【００３４】
【実施例】
以下の実施例で本発明のコポリカーボネートの製造を例示する。部とあるのは
すべて重量部である。分子量はポリスチレンを標準とするゲルパーミエーション
クロマトグラフィーで決定した。
【００３５】 実施例１〜４ ガラス製溶融重合反応器（１ｌ）を、酸洗浄して濯ぎ、７０℃で一晩乾燥させ
ることで不動態化し、様々な量比のビスフェノールＡとＳＢＩを炭酸ジフェニル
と共に投入した。この際、炭酸ジフェニルは全ヒドロキシ試薬に対して２．４：
１のモル比とした。中実ニッケル螺旋攪拌器を固体混合物中に懸架して、反応器
を脱気し、窒素で３回パージした。
【００３６】 反応器を攪拌しながら１８０℃に加熱し、５〜１０分間平衡化させた。次いで
、攪拌を続けながら、０．２２１Ｍ水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液６０
０μｌと０．００１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液５００μｌを加えた。１８０℃で
５分間加熱を続けた後、温度を２１０℃に上げて圧力を１８０ｔｏｒｒに下げた
が、その際フェノールが混合物から留出し始めた。
【００３７】 ２５分後、窒素ガスを導入して反応器を大気圧に戻し、次いで大気に開放した
。これらはすべて２１０℃で行った。様々な量のポリエチレングリコール（ＰＥ
Ｇ）をシリンジで反応混合物に加えた。反応器を再び密封し、２１０℃で１０分
間平衡化させた。圧力を１００ｔｏｒｒに下げ、２１０℃での加熱を４５分間続
けた。重合は、２４０℃／１５ｔｏｒｒで４５分間、２７０℃／２ｔｏｒｒで１
００分間、そして３００℃／０．２ｔｏｒｒで１０分間続けた。次に、ポリマー
を反応器から取り出して、冷却し、塩化メチレン／メタノール中の亜リン酸でク
エンチし、乾燥した。結果を次の表に示す。
【００３８】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キング，ジョセフ・アンソニー，ジュニア アメリカ合衆国、23113、バージニア州、 ミドロシアン、ケントフォード・ロード、 2531番 (72)発明者 レグランド，ドナルド・ジョージ アメリカ合衆国、12027、ニューヨーク州、 バーント・ヒルズ、ケビン・ドライブ、５ 番 (72)発明者 バラダラジャン，ゴダバルシ・サトヤナラ ヤナ アメリカ合衆国、75248、テキサス州、ダ ラス、クノール・トレイル、17250番 Ｆターム(参考） 4J029 AA09 AB01 AB04 AC02 AD01 AE05 BB10A BB10B BB12A BB12B BB13A BB13B BD10 BF14A BF14B BF25 BH02 DB07 DB11 DB13 HC05 JA091 JC091 JC631 JE18 KB02 KD01 KE05 5D029 KA07

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式Ｉのビスフェノールカーボネート構造単位、式IIのポリオ
    キシアルキレンカーボネート構造単位、及び式IIIのスピロ（ビス）インダンカ
    ーボネート構造単位を含んでなり、式IIの単位を４重量％以上及び式IIIの単位
    を１０％以上含むコポリカーボネート。 【化１】 （式中、Ａ1及びＡ2は各々二価芳香族基であり、Ｙは単結合又はＡ1とＡ2を原子
    １個又は２個で隔てる橋かけ基である。） 【化２】 （式中、Ｒ1は各々独立にＣ2-6二価脂肪族基であり、ｘは約２〜５０である。） 【化３】 （式中、Ｒ2はＣ1-4アルキルであり、ｎは０又は１である。）
  2. 【請求項２】 Ａ1及びＡ2が各々ｐ−フェニレンであり、Ｙがイソプロピリ
    デンである、請求項１記載のコポリカーボネート。
  3. 【請求項３】 ｎが０である、請求項１記載のコポリカーボネート。
  4. 【請求項４】 各Ｒ1がエチレンである、請求項１記載のコポリカーボネー
    ト。
  5. 【請求項５】 ｘの値が、式IIの構造単位の分子量が約１００〜５０００の
    範囲に収まる値である、請求項４記載のコポリカーボネート。
  6. 【請求項６】 式IIの単位を約５〜２０モル％及び式IIIの単位を少なくと
    も約１５〜４０モル％含む、請求項１記載のコポリカーボネート。
  7. 【請求項７】 請求項１記載のコポリカーボネートの製造方法であって、 （Ａ）約１７０〜２３０℃の範囲内の温度を含む溶融重合条件下で、１種類以
    上の炭酸ジアリールを式Ｉの単位に対応する１種類以上の第一のビスフェノール
    及び式IIIの単位に対応する１種類以上の第二のビスフェノールと接触させる段
    階、及び （Ｂ）式IIの単位に対応する１種類以上のポリオキシアルキレングリコールを
    導入して、得られた混合物を約１８０〜３２５℃の範囲内の温度に加熱する段階
    を含んでなる方法。
  8. 【請求項８】 前記炭酸ジアリールがジフェニルカーボネートである、請求
    項７記載の方法。
  9. 【請求項９】 第一のビスフェノールがビスフェノールＡである、請求項８
    記載の方法。
  10. 【請求項１０】 第二のビスフェノールが６，６′−ジヒドロキシ−３，３
    ，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロ（ビス）インダンである、請求
    項８記載の方法。
  11. 【請求項１１】 ポリオキシアルキレングリコールがポリエチレングリコー
    ルである、請求項８記載の方法。
  12. 【請求項１２】 １種類以上のエステル交換触媒が存在する、請求項８記載
    の方法。
  13. 【請求項１３】 前記エステル交換触媒が、アルカリ金属水酸化物と、水酸
    化テトラアルキルアンモニウム、水酸化テトラアルキルホスホニウム又はヘキサ
    アルキルグアニジニウムビスフェノラートとの組合せである、請求項１２記載の
    方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１記載のコポリカーボネートを含んでなる光情報記
    録媒体。
JP2000563719A 1998-08-07 1999-06-10 ポリオキシアルキレンカーボネート単位を含む光学品質のコポリカーボネート Withdrawn JP2002522584A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/131,218 US6042920A (en) 1998-08-07 1998-08-07 Optical quality copolycarbonates containing polyoxyalkylene carbonate units
US09/131,218 1998-08-07
PCT/US1999/013239 WO2000008089A1 (en) 1998-08-07 1999-06-10 Optical quality copolycarbonates containing polyoxyalkylene carbonate units

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002522584A true JP2002522584A (ja) 2002-07-23
JP2002522584A5 JP2002522584A5 (ja) 2006-08-10

Family

ID=22448458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000563719A Withdrawn JP2002522584A (ja) 1998-08-07 1999-06-10 ポリオキシアルキレンカーボネート単位を含む光学品質のコポリカーボネート

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6042920A (ja)
EP (1) EP1100841B1 (ja)
JP (1) JP2002522584A (ja)
AR (1) AR021458A1 (ja)
DE (1) DE69924996T2 (ja)
WO (1) WO2000008089A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011241277A (ja) * 2010-05-17 2011-12-01 Mitsubishi Chemicals Corp 共重合ポリカーボネート

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040027981A1 (en) * 2000-10-24 2004-02-12 Schoeppel Wolfgang G Optical storage medium
US7642315B2 (en) * 2007-06-15 2010-01-05 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-poly(alkylene oxide) copolymer compositions and articles formed therefrom
US7649073B2 (en) * 2007-06-15 2010-01-19 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Polycarbonate-poly(alkylene oxide) copolymer compositions and articles formed therefrom
SG192790A1 (en) 2011-02-14 2013-09-30 Bombardier Transp Gmbh Longitudinal support for the transition region from a coach body side wall to the coach body roof of a rail vehicle coach body
WO2013056841A1 (en) 2011-10-19 2013-04-25 Inra (Institut National De La Recherche Agronomique) A method for diagnosing tse

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US34431A (en) * 1862-02-18 Improved match-safe
JPS6153544A (ja) * 1984-08-22 1986-03-17 Toyota Motor Corp 横風試験用時限設定装置
US4789725A (en) * 1987-03-17 1988-12-06 General Electric Company Phenylene ether-carbonate copolymer containing spiroindane group
USRE34431E (en) 1986-07-21 1993-11-02 General Electric Company Macrocyclic oligomers containing spiro(bis)indane moieties
US4950731A (en) * 1987-04-20 1990-08-21 General Electric Company Method for preparing spirobiindane polycarbonates
EP0621297B1 (en) * 1993-04-23 1998-01-14 Koninklijke Philips Electronics N.V. Polycarbonate copolymer of spirobisindan and bisphenol-A, method of preparing such a copolymer and optical components of such a copolymer
JPH07149888A (ja) * 1993-12-02 1995-06-13 Teijin Ltd 共重合ポリカーボネートの製造方法
US5859833A (en) * 1997-09-02 1999-01-12 General Electric Company Optical disk grade copolyestercarbonates derived from hydroxyphenylindanols
US5883218A (en) * 1997-10-24 1999-03-16 Molecular Optoelectronics Corporation Optically active spirobiindane polymers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011241277A (ja) * 2010-05-17 2011-12-01 Mitsubishi Chemicals Corp 共重合ポリカーボネート

Also Published As

Publication number Publication date
AR021458A1 (es) 2002-07-24
DE69924996D1 (de) 2005-06-02
EP1100841B1 (en) 2005-04-27
DE69924996T2 (de) 2006-02-23
EP1100841A1 (en) 2001-05-23
WO2000008089A1 (en) 2000-02-17
US6042920A (en) 2000-03-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6001953A (en) Polycarbonates suitable for use in optical articles
CN1325535C (zh) 芳香族聚碳酸酯树脂及其制造方法、光学零件成型材料及光学零件
US6060577A (en) Polycarbonates derived from alicyclic bisphenols
EP0175905B1 (en) Polycarbonate and its use as optical disc substrate
JPH0827370A (ja) 芳香族ポリカーボネート組成物
US4831110A (en) Co-polycarbonate copolymer from 2,2-bis(4-hydroxy-3-tertiary butyl phenyl)propane and optical disk
JP2002522584A (ja) ポリオキシアルキレンカーボネート単位を含む光学品質のコポリカーボネート
US20030060575A1 (en) Polycarbonates suitable for use in optical articles
US5859833A (en) Optical disk grade copolyestercarbonates derived from hydroxyphenylindanols
EP0846711B1 (en) Optical disk grade copolyestercarbonates derived from hydroxyphenylindanols
GB2197345A (en) Optical information record media
US6022942A (en) Optical data storage media
US6177537B1 (en) Polycarbonates suitable for use in optical articles
EP0362792A2 (en) Aromatic polycarbonate copolymer and optical disk having a substrate of the same
US4978578A (en) Optical disk of polycarbonate
JPS60166322A (ja) 光学機器用素材
JPH0662755B2 (ja) スピロビインダン共ポリシロキサンカーボネート及びそれらの製造法
JPH0299521A (ja) 芳香族ポリカーボネート共重合体
JPH0570651B2 (ja)
US4923962A (en) Optical disk substrate comprising aromatic polycarbonate
JP2556864B2 (ja) 光学材料
TW561166B (en) Copolycarbonates based on indanebisphenols
JPS60166321A (ja) 光学機器用素材
JPH01217401A (ja) 光学材料用樹脂組成物
JPS63207820A (ja) 芳香族ポリカ−ボネ−ト三元共重合体

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060608

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060608

RD12 Notification of acceptance of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7432

Effective date: 20071030

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20081225