JPS63156825A - 光記録媒体用基体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野コ 本発明は吸水率が低く吸水反りが極めて少なく、かつ光
透過性に優れ機械的特性および耐熱性の良好な光記録媒
体用基体に関する。

［従来の技術］ 従来ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）は極めて高
い透明性や抜群の耐候性等の優れた特性のため照明用、
建築用を始めとして様々な用途に用いられている。近年
は特にその低複屈折性が注目され、レーザ光により情報
を書き込みおよび／または読み出しできる記録体層を有
する光記録媒体用の基体材料として利用されている。し
かしＰＭＭＡには光記録媒体として使用した場合吸水あ
るいは吸湿によって反りが生じるという問題点がある。

基体が反ると情報の忠実な再生や正確な書き込みが不可
能となるため、これはデジタルオーディオディスクのよ
うな１枚の基体からなる光記録媒体においては致命的な
欠点であり、この分野へのＰＭＭＡの進出を妨げている
。また、ビデオディスク等のような基体を２枚貼り合わ
せて用いる積層型光記録媒体においては、反りは比較的
相殺されるなめデジタルオーディオディスクはど大きく
はないが、それでも読み出し特性や商品価値上吸水によ
る反りを改善することが切望されている。

ＰＭＭＡの吸水反りを改善する方法としては例えばシク
ロへキシルメタクリレート等を共重合するものく特開昭
５８−１２７７５４）やボルニルメタクリレートを共重
合するもの（特開昭５８−１６２６５１）が知られてい
るが、これらはいずれも吸水反りは改善されるものの機
械的強度が低下するという欠点を有しており実用的では
ない↓まな、ベンジルメタクリレートを共重合するもの
く特開昭５８−１１５１５）においては、吸水反りを低
下させるためにベンジルメタクリレートの共重合比を高
くすると耐熱性が低下し好ましくない。アクリル系以外
の樹脂を用いることも種々検討されているが、例えばス
チレン系樹脂（特開昭５８−８３００９）では表面硬度
が低く傷が付きやすく従って情報の記録／読み出しの信
頼性が低下しやすいという問題点があり、またポリエス
テル系樹脂（特開昭５８−１５０１４７）では耐熱性や
透明性に関して難点がある。

［発明の解決しようとする問題点］ 上述したように、ＰＭＭＡは吸水反りの問題があり、こ
れを改善するための種々の公知の手法においては吸水反
りは改善されても他の特性の低下が見られ、結局光記録
媒体用基体として適切なものは得られない。本発明の目
的は吸水反りが極めて低くカリ耐熱性、機械的強度、透
明性の良好な光記録媒体用基体を提供することにある。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らは上記の目的に鑑み鋭意検討した結果、特定
の繰り返し単位を有するポリエーテル樹脂においては吸
水率が低くまた吸水時の反りが極めて少なく、かつ耐熱
性・機械的強度および透明性が良好であることを見出し
本発明に至った。すなわち本発明は特定の繰り返し単位
を有するポリエーテル樹脂を用いることを特徴とする光
記録媒　４一 体用基体である。

特定の繰り返し単位とは式（Ｉ＞もしくは（Ｉ［）で示
されるものである。

しれる基である。　　　　　　　　　　　　　」式（Ｉ
）の繰り返し単位は、対応するビスフェノール誘導体と
エピハロヒドリンとから縮合反応により得られるポリマ
ーの繰り返し単位（■）′そのままかもしくは通常の方
法により側鎖の水酸基を置換して得られるものである。

式（Ｉ）に該当するものとして特に好ましい構造を以下
に示す。

また、式（ｎ）の繰り返し単位を有するものも式（Ｉ）
の繰り返し単位を有するポリマーと同様にその水酸基側
鎖はそのままかもしくは通常の方法により置換して得ら
れるものである。式（ｎ）の構造として特に好ましいも
のは次の通りである。

〇 ＣＩ（３ 餠・ ＣＦ［３ 本発明において用いられるポリマーは式（Ｉ）の繰り返
し単位と式（ｎ）の繰り返し単位のいずれかもしくは両
者を１種またはそれ以上含むものであり、複数の繰り返
し単位からなる場合は共重合物であっても組成物であっ
てもよい。また、少割合で他の任意の構造単位を有して
いてもよい。

これらのポリマーは例えばフェノール性ジヒドロキシ化
合物とエビクロロヒドリン、エビブロモヒドリンといっ
たエビハロヒドリンとを水酸化ナトリウムのような強ア
ルカリ触媒の存在下で縮重合させることによって得るこ
とができる。共重合体を得るためには複数種のフェノー
ル性ジヒドロキシ化合物を用いればよい。また、得られ
たポリマーの側鎖にある水酸基は、例えばポリマーを適
当な溶媒に溶解させて酸触媒の存在下にカルボン酸を反
応させることによりエステル化できる。あるいは溶液中
で塩基の存在下にヨウ化アルキル等のハロゲン化アルキ
ルを反応させる等の方法によりアルコキシ化することが
できる。

本発明のポリマーの構造と物性との関連において最大の
特徴は、本発明のポリマーが繰り返し単位あたり１個の
水酸基を有しており親水性が高いと予想されるにもかか
わらず、ＡＳＴＭ　　Ｄ５７０に準拠した吸水率は０．
１５％程度以下でデジタルオーディオディスク用基体材
料として用いられているポリカーボネートのそれと同程
度であり、ＰＭＭＡの半分以下と低く光記録媒体用基体
として十分に低いレベルにあることである。従って吸水
率をより低下させる目的で水酸基の水素原子を他の官能
器に置換する必要性は全くない。置換反応はむしろ成型
性を上げる目的で行なわれるが、水酸基のままでも本発
明のポリマーは十分な成型性を有しており実用上何ら問
題はない。　　　゛本発明において用いられるポリマー
の分子量については、ゲルパーミエイションクロマトグ
ラフィーによって測定した重量平均分子量（ポリスチレ
ン換算）が好ましくは５．’０００〜２００．０００の
範囲であるのがよく、特に好ましくは１０．０００〜１
００．０００の範囲がよい。分子量が５．０００以下で
あると機械的強度が低く、一方２００．０００以上では
合成が困難となり、また例えば光ディスク等を射出成形
する際の流動性が低下し成形の実施が困難となることが
ある。

本発明の基体は本発明の樹脂を加熱溶融させ、射出成形
やプレス成形等の通常の成形法により得−１２＝ ることができる。この際金型には必要に応じてグループ
や信号等を記録しておくことができる。レーザービジョ
ンやデジタルオーディオディスク等の読み出し専用記録
媒体の場合は情報の刻まれた金型を用いて成型し、次い
でアルミニウム等の金属を真空蒸着等の方法により情報
面上に成膜し、さらに保護ポリマ一層を形成するかもし
くは２枚貼り合わせる。情報記録層は平坦な本発明の基
体の上に光硬化性の樹脂を用いていわゆる２Ｐ法によっ
て設けてもよい。また、その他公知の任意の方式によっ
て情報記録部を構成することができる。例えば成型した
基体の表面に酸化テルルやテルビウム−鉄−コバルト系
合金等の無機物あるいはシアニン系色素等の有機物の薄
膜を設ける等である。

［実施例］ 以下、実施例により本発明の詳細な説明する。

ざザヱニの何住 本発明の繰り返し単位を有する種々のポリマーを、相当
するフェノール性ジヒドロキシ化合物とエビクロロヒド
リンを出発原料に用い、水酸化ナトリウムを触媒とする
常法に従い製造しその諸物性を測定した。分子量はゲル
パーミエイションクロマトグラフィーにより、またガラ
ス転寝点は示差熱分析法により測定した。光透過率は熱
プレスにより２ｍｍ厚に成形した試料の波長７８０　ｎ
ｍの光の透過率である。Ｉｚｏｄ衝撃強度（ノツチ付）
はＡＳＴＭ　　Ｄ２５６に、吸水率はＡ３７７Ｍ　　Ｄ
５７０にそれぞれ準拠して求めた。吸水反りの測定は、
１　ｃｍＸ　１５　ｃｍＸ　２ｍｍ厚の板状試料の片面
にアルミニウムを６００人厚に蒸着し、これを２３°Ｃ
の蒸留水に１２０時間浸漬した後の反り（中央部の浮き
）を測ることによって行なった。これらの結果を表１に
示す。比較例としてＰＭＭＡの測定結果も併記しな。本
発明の繰り返し単位を有するポリマーはいずれも良好な
特性を示している。

以下余白。

゛′テ、・　、とじ　の、 本発明の構造を有する基体を用い、記録部層として酸化
テルルを用いた光ディスクの書き込み／読み出し／消去
特性を評価した結果、基体にＰＭＭＡを用いた場合と全
く同等の性能を示したのみならず、吸湿反りに基づく特
性の経時的低下は認められなかった。

［発明の効果］ 以上説明した通り、本発明の基体を用いることにより、
光透過性・機械的強度および耐熱性が良好でかつ吸水に
よる反りの極めて少ない光情報記録媒体を提供すること
が可能である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式（ I ）で表わされる繰り返し単位および／もしくは
   式（II）で表わされる繰り返し単位を有するポリエーテ
   ル樹脂からなることを特徴とする光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔Ｒ＿１は結合、▲数式、化学式、表等があります▼か
   ら 選ばれる基であり、ここでＲ＿３、Ｒ＿４はそれぞれ炭
   素数１２以下のアルキル、シクロア ルキル、アリール、アラルキル基もしくは 水素であり、Ｒ＿５は炭素数１２以下のアルキレンもし
   くはアルキリデン基である。 Ｒ＿２は炭素数１２以下のアルキル、シク ロアルキル、アリール、アラルキル、アル キルカルボニル、アリールカルボニル、ア ラルキルカルボニル基もしくは水素である Ｘ＿１〜Ｘ＿４は水素、フッ素、塩素、臭素もしくは炭
   素数４以下のアルキル基から選ば れる基である。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） Ｒ＿２は上記に同じ。Ｘ＿１〜Ｘ＿４は水素、フッ素、
   塩素、臭素もしくは炭素数４以下のア ルキル基から選ばれる基。