JPS61239646A - 多層配線の形成方法 - Google Patents
多層配線の形成方法Info
- Publication number
- JPS61239646A JPS61239646A JP60080809A JP8080985A JPS61239646A JP S61239646 A JPS61239646 A JP S61239646A JP 60080809 A JP60080809 A JP 60080809A JP 8080985 A JP8080985 A JP 8080985A JP S61239646 A JPS61239646 A JP S61239646A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- forming
- layer
- insulating film
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60080809A JPS61239646A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 多層配線の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60080809A JPS61239646A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 多層配線の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61239646A true JPS61239646A (ja) | 1986-10-24 |
| JPH0587973B2 JPH0587973B2 (enExample) | 1993-12-20 |
Family
ID=13728792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60080809A Granted JPS61239646A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 多層配線の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61239646A (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140634U (enExample) * | 1987-03-05 | 1988-09-16 | ||
| JPS6411346A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JP2007194663A (ja) * | 1998-12-28 | 2007-08-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体素子のボンディングパッド構造 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50123284A (enExample) * | 1974-03-18 | 1975-09-27 | ||
| JPS5828735A (ja) * | 1981-08-13 | 1983-02-19 | Toshiba Corp | X線撮影装置におけるフイルム搬送装置 |
| JPS5967649A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-17 | Hitachi Ltd | 多層配線の製造方法 |
| JPS60100452A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
1985
- 1985-04-16 JP JP60080809A patent/JPS61239646A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50123284A (enExample) * | 1974-03-18 | 1975-09-27 | ||
| JPS5828735A (ja) * | 1981-08-13 | 1983-02-19 | Toshiba Corp | X線撮影装置におけるフイルム搬送装置 |
| JPS5967649A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-17 | Hitachi Ltd | 多層配線の製造方法 |
| JPS60100452A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63140634U (enExample) * | 1987-03-05 | 1988-09-16 | ||
| JPS6411346A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JP2007194663A (ja) * | 1998-12-28 | 2007-08-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体素子のボンディングパッド構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0587973B2 (enExample) | 1993-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6297145B1 (en) | Method of forming a wiring layer having an air bridge construction | |
| JPS62118543A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH0669351A (ja) | 多層金属配線構造のコンタクトの製造方法 | |
| JPH0228923A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0587973B2 (enExample) | ||
| JPH0856024A (ja) | 集積回路の製造方法 | |
| JPH05226475A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS5833854A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS6132555A (ja) | 多層配線構造の形成方法 | |
| JPH02156537A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH01140645A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JPS59175124A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS62118539A (ja) | 多層配線の形成方法 | |
| JP2787903B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH06140397A (ja) | 多層配線の形成方法 | |
| JPH05160126A (ja) | 多層配線形成法 | |
| JPH04348054A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS60234344A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPS6235537A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| JPS63226041A (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JPH0624196B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH03155627A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS60192348A (ja) | 半導体集積回路の多層配線の形成方法 | |
| JPS6237945A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH05136277A (ja) | 金属配線コンタクト形成方法 |