JPS6086552A - 光導電性材料 - Google Patents

光導電性材料

Info

Publication number
JPS6086552A
JPS6086552A JP58194361A JP19436183A JPS6086552A JP S6086552 A JPS6086552 A JP S6086552A JP 58194361 A JP58194361 A JP 58194361A JP 19436183 A JP19436183 A JP 19436183A JP S6086552 A JPS6086552 A JP S6086552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
type
phthalocyanine
photoconductive
modified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58194361A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0376594B2 (ja
Inventor
Shigemasa Takano
高野 繁正
Toshio Enokida
年男 榎田
Manabu Sawada
学 澤田
Isao Kumano
熊野 勇夫
Atsushi Tsunoda
敦 角田
Hiroyuki Oka
弘幸 岡
Yasuki Mori
森 靖樹
Toshikazu Narahara
奈良原 俊和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Artience Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Toyo Ink SC Holdings Co Ltd, Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58194361A priority Critical patent/JPS6086552A/ja
Publication of JPS6086552A publication Critical patent/JPS6086552A/ja
Publication of JPH0376594B2 publication Critical patent/JPH0376594B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0696Phthalocyanines

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特定結晶形を有する無金属フタロシアニンから
なる光導電性材料に関する。
一般に光導電性物質は、単独あるいは他の物質と組合せ
て光起電力素子、光電セル、電子写真感光板、電気化学
光電池などの素子に用いられている。しかしながら、こ
れらはそれぞれに適する特性、すなわち、固有抵抗値、
光電変換量子効率。
粒子形状などが要求され、1種類の光導電性物質でどの
素子にも使用できるわけではなく、各々に適した素材が
別個に作製され、また、その製造には難しい制御を必要
とし一般に高価であるという問題がある。例えば代表的
な光導電性物質であるシリコンの場合、起電力素子とし
てはP−N接合の単結晶あるいは無定形のものが用いら
れるが。
いずれも数百℃以上の温度下で離しい制御を必要とする
製造法によらねばならない。また、同じ無定形でも電子
写真感光体を作製する際には、起電力素子に用いるもの
とは全く異なる方法により所望の特性を得なければなら
ない。また、これらの光電変換材料としては、硫化カド
ミニウム、硫化鉛、セレンなどの毒性を有するものが多
く、また。
無定形材質のものは結晶化を防ぐために保管および使用
時の温度管理などをしなければならないなどといった幾
つかの問題点がある。
一方、有機光導電体に関しては、無機材料と異なり低価
格が望めること、塗料などとして分散し。
塗布することによって可撓性フィルム、シートの作製が
できること、および無公害であるといった点から注目さ
れクロロフィル、メロシアニン染料などの染料、アゾ、
ペリレン、フタロシアニンなどの顔料などに関し、数多
くの検討、提案がな8されている。その中でもフタロシ
アニン類は耐光性。
光電変換量子効率において優れ、安価なこともあって注
目され、特にX型の金属もしくは無金属フタロシアニン
を光導電性材料として用い、光起電力素子、光電セルお
よび電子写真板用に用いることが提案されている(特公
昭44−14106号公報、特公昭4B−34189号
公報、特公昭49−4338R号公報。
特開昭55−9497号公報、特開昭55−11398
号公報など。)。しかしながら、これらXWフタロシア
ニンはX線回折図を見れば理解されるように結晶性が悪
く、高い温度、溶剤などに対する安定性に欠け、また、
その電気的特性を自由に制御することができない。さら
に、特公昭44−14106号公報などには各種製造法
が提起されているにも拘わらず。
ボットミルで3週間ミリングした物が実験に使用されて
いることから明らかなように、光導電特性のよいX型フ
タロシアニンの製造は必ずしも工業的に効率よく得られ
るものではなかった。
本発明は上記のような問題点を解決するものであり、τ
型、変形τ型、η型もしくは変形η型態金属フタロシア
ニンからなる光導電性材料を提供するものである。
本発明におけるτ型、変形τ型、η型もしくは変形η型
態金属フタロシアニンは、結晶性に優れているために高
い温度、溶剤などに対する安定性が良好であり、また、
製造条件を若干変えることによって各種の用途に適する
所望の物性の光導電性材料を得ることができ、しかも短
時間で製造することができるという工業上のメリットが
ある。
本発明において用いるτ、変形τ、Iおよび変形η型態
金属フタロシアニンは、特願昭57−66963号およ
び特願昭58− 号に詳細に記載されている。
τ型無金属フタロシアニンは、CuKσ+/Niの1.
541人のX線を使用した際、ブラッグ角度(2θ±0
.2度)が7.6,9.2.16.8.1?、4゜20
.4および20.9に強い線を示すX*回折図形を有す
るものである。特に、赤外線吸収スペクトルが700〜
760(111−’の間に751±2(Jl−’が最も
強い4本の吸収帯を、132(1−1340(!ll−
1の間に2本のほぼ同じ強さの吸収帯を、3288±3
憶司に特徴的な吸収を有するものが望ましい。
τ型無金属フタロシアニンの代表的な製造方法はα型無
金属フタロシアニンを50〜180℃。
好ましくは60〜130℃においてτ型を示すに足りる
十分な時間攪拌あるいは機械的歪力をもってミリングす
るところに特徴がある。なお、X線回折および赤外線吸
収スペクトルは、Ill待時おける条件の相違によって
結晶中の格子欠陥あるいは転移のでき方等によって多少
のズレがでるために範囲をもって示したものである。
τ型無金属フタロシアニンの原料となるα型無金属フタ
ロシアニンは、モーザーおよびトーツスの「フタロシア
ニン化合物J (Moser and Thomas″
Phthalocyanine Compounds”
 )などの公知の方法および他の適当な方法によって得
られるものが使用できる0例えば、無金属フタロシアニ
ンは硫酸などの酸によって脱金属ができる金属フタロシ
アニン、例えばリチウムフタロシアニン、ナトリウムフ
タロシアニン、カルシウムフタロシアニン。
マグネシウムフタロシアニンなどの酸処理によって、ま
た、フタロジニトリル、アミノイミノイソインドレニン
もしくはアルコキシイミノイソインドレニンなどから直
接合成したものが使用できる。
、 この無金属フタロシアニンを望ましくは5℃以下で
硫酸などの酸に溶解もしくは酸塩にしたものを水、好ま
しくは氷水中に注ぎ再析出、もしくは加水分解すること
によってα型の無金属フタロシアニンが得られる。α型
無金属フタロシアニンは乾燥状態もしくは水ペースト状
態で攪拌もしくはミリングされる。このときの分散メデ
ィアとしては通常顔料の分散、乳化、混合などに用いら
れるものでよく2例えばガラスピーズ、スチールビーズ
アルミナボール、フリント石などを挙げることができる
。しかし1分散メディアは必ずしも必要ではない、磨砕
助剤としては1通常顔料分散の磨砕助剤として用いられ
るもの2例えば食塩9石炭酸ソーダ、ぼう硝などを挙げ
ることができる。攪拌。
ミリング時分散媒を必要とする場合には攪拌、ミリング
時の温度において液状のもの1例えば、グリセリン、エ
チレングリコール、ジエチレングリコールなどのアルコ
ール系溶剤、ポリエチレングリコール系分散媒、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテルなどのセロソルブ系分散媒、ケトン
系分散媒。
エステルケトン系などの分散媒を使用することができる
結晶転移工程において使用される攪拌、ミリング装置と
しては1例えばサンドミル、ニーダー。
ホモミキサー、アジター、スターラー、バンバリーミキ
サ−、ボールミル、アトライターなどを挙げることがで
きる。
結晶転移工程における温度範囲は50〜180℃、好ま
しくは60〜130℃で行う、また2通常の結晶転移工
程におけると同様に結晶核を用いるのも有効な方法であ
る。
τ型への結晶転移速度は攪拌、ミリングの効率。
歪力、原料の粒子径、温度などの種々の条件に依存する
。結晶転移工程終了後1通常の精製法で磨砕助剤および
分散媒などを除去し、乾燥することによって目的とする
τ型無金属フタロシアニンを得ることができる。
変形τ型無金属フタロシアニンは、ブラッグ角度(2θ
±0.2度)が7.5.9.1.16.8.17゜3.
20.3.20.8,21.4および21.7に強い線
を示すX線回折図形を有するものである。特に赤外線吸
収スペクトルが700〜760a++−’の間に753
±’1cs−’が最も強い4本の吸収帯を、1320〜
1340cm−’の間に2本のほぼ同じ強さの吸収帯を
、3297±3cm−’に特徴的な吸収を有するものが
望ましい。
変形τ型無金属フタロシアニンは、τ型無金属フタロシ
アニンとほぼ同様な製造方法によって得ることができる
η型態金属7タロシアニンは、赤外線吸収スペクトルが
700〜760CI11−’の間に753±1cs−1
が最も強い4本の吸収帯を、、1320〜134Qcn
−’の間に2本のほぼ同じ強さの吸収帯を、3285±
5011−’に特徴的な吸収を有するものであり2本発
明者等の研究によると、η型態金属フタロシアニンは、
ブラッグ角度が7.6. 9.2. 16゜8.17.
4および28.5に強いピークを示すX線回折図形を有
するものと、7.6.9.2.16.8゜1?、4,2
1.5および27.5に強いピークを示すX線回折図形
を有するものとがある。η型態金属フタロシアニンの代
表的な製造法としては、無金属フタロシアニン、特にα
型無金属フタロシアニン100重量部と、ベンゼン核に
置換基を有する無金属フタロシアニン、またはベンゼン
核に置換基を有してもよいフタロシアニン窒素同構体も
しくは金属フタロシアニンの1種もしくは2種以上50
重量部以下との混合物を、30〜220℃。
好ましくは60〜130℃においてτ型無金属フタロシ
アニンを得ると同様の攪拌もしくはミリングすることに
よって製造する方法であり、純粋な無金属フタロシアニ
ンに限らず、他のフタロシア。
エン類との混合物をも指称するものである。
変形η無金属フタロシアニンは、η型態金属フタロシア
ニンとほぼ同様にして得ることができ。
赤外線吸収スペクトルが700〜760c111−’の
間に753±lc+a−’が最も強い4本の吸収帯を、
1320〜1340cm−’の間に2本のほぼ同じ強さ
の吸収帯を、3297±5cm−’に特徴的な吸収を有
するものである。本発明者等の研究によると。
変形η型態金属フタロシアニンは、ブラッグ角度が7.
5.9.1. 16.8.1?、3.20.3.20.
8゜21.4および27.5に強いピークを示すX線回
折図形を有するものと、?、5,9.1,16.8.1
7゜3、20.3.20.8.21.4.22.1.2
7.4および28.5に強いピークを示すX線回折図形
を有するものとがある。
以下参考例によって1本発明におけるτ、変形τ、η型
もしくは変形η型態金属フタロシアニンの製造法を例示
する。例中部は重量部を示す。
参考例1 α型無金属フタロシアニン10部に9表1に示す磨砕助
剤20部、溶媒8部をニーダーに入れ。
それぞれ80℃で7〜′15時間ニーディングし。
サンプリングして、X線回折図でη型に転移したことを
確認の後、ニーダ−より取り出し、水およびメタノール
で磨砕助剤、溶媒を洗浄除去後、2%の希硫酸水溶液中
で攪拌、精製し、ろ過、水洗、乾燥して鮮明な色相の青
色結晶を得た。これらの結晶は赤外線吸収スペクトルの
測定によってもτ型無金属フタロシアニンであることが
確認された。
以下余白 表 1 参考例2 α型態金属フタロシアニン10部1食塩200部および
溶媒としてエチレングリコール300部をサンドミルに
入れ、100℃で20時間ミリングした。サンプリング
して、X線回折図で変形τ型に転移したことを確認の後
、ニーダ−より取り出し、参考例1と同様にして青色結
晶を得た。この結晶は赤外線吸収スペクトルの測定によ
っても変形τ型無金属フタロシアニンであることが確認
された。
参考例3 無金属フタロシアニン100部1表2に示す各種フタロ
シアニンの誘導体各々10部を氷冷した98%硫酸に溶
解し、この溶液を水中に投入し。
沈でん物をろ過、水洗、乾燥することによって均一な混
合物を得た。この混合物100部、粉砕食塩200部お
よびポリエチレングリコール80部をニーダーに入れ、
それぞれ90℃で7〜20時間ニーディングした。サン
プリングして、X線回折図でτ型に転移したことを確認
の後、ニーダ−より取り出し、参考例1と同様にして青
色結晶を得た。この結晶は赤外線吸収スペクトルの測定
によってもη型態金属フタロシアニンであることが確認
された。
以下余白 表 2 表2中、 CuPcは銅フタロシアニン残基を、 Pc
はフタロシアニン残基を表わす。また、ジエチルアミノ
メチル基は平均1.1個、ピペリジノメチル基は平均2
.2個導入されたものである。
参考例4 α型無金属フタロシアニン100部、下記フタロシアニ
ン誘導体をそれぞれ15部、粉砕食塩200部およびポ
リエチレングリコール80部をニーダ−に入れ、100
℃で8時間ニーディングした。サンプリングして、X線
回折図で変形η型に転移したことを確認の後5 ニーダ
−より取り出し。
参考例1と同様にして青色結晶を得た。この結晶は赤外
線吸収スペクトルの測定によっても変形η型態金属フタ
ロシアニンであることが確認された。
4 A’ Pc−+−COCHLNHCt H+7)2
.14−BPc→B r ) v 以上の参考例に示し′たように、これら無金属フタロシ
アニンは溶媒、磨砕助剤、温度、攪拌条件。
およびα型および変形η型の製造に使用されるフタロシ
アニン誘導体の種類および量などの種々の条件を挙げる
ことができる。これらの製造条件を変更することによっ
て、X線回折図、赤外線吸収スペクトルなどが同様であ
りながら、光導電性材料としての緒特性1例えば固有抵
抗、光電変換量子効率あるいは粒子径などの異なるもの
をかなり自由に得ることかで゛き、かつその光電変換量
子効率が一般のものより優れている。
この特性差は、各条件の相違によって結晶粒子の径、各
結晶面の成長度あるいはその比率の異なるものができ、
各結晶面毎の特性が異なることによって生ずるものと考
えられる。さらに、それらの製造法はとんど同一の装置
によって可能であり、しかもその製造には1〜50時間
2通常は10時間以内でも十分結晶形の良好であり、安
定で、優れた光電変換特性の材料を得ることができるた
め1安価で種々の特性を有する光導電性材料として多方
面への応用が可能である。例えば、τ型無金属フタロシ
アニンの場合の特性の変化を例にすると、溶媒としてグ
リセリンを使用して得たものの固有抵抗値は102であ
り、溶媒をポリエチレングリコール(分子量約400)
として得たものの固41 有抵抗値は10 であり、10 倍もの相違がある。ま
た、磨砕剤としてぼう硝を用いた場合の平均粒径は0.
01μmであり、2Nφのガラスピーズを用いた場合の
それは2μmのものが得られ。
前者の光電流は後者の102倍程度も大きくなる。
さらに、磨砕装置としてニーダ−とアトライターとでは
平均粒径が、それぞれ0.01μm、0.5μmのもの
が得られ、光電流もニーダ−×を用いたものの方が約5
0倍も大きい。
また、η型もしくは変形η型態金属フタロシアニンのよ
うに、金属もしくは無金属フタロシアニンなどの誘導体
を含有する場合には、それらの誘導体の種類によっても
得られたものの特性が変化する。例えば、抵抗値の低い
ハロゲン化フタロシアニン、テトラピリジンポルフィン
などの窒素同構体、あるいは正孔移動型のニトロ化フタ
ロシアニンなどの誘導体を5〜40重量%程度用いると
固有抵抗値が10 Ω(1)程度となり、上記のような
置換基を有しないものと比較して10 倍程度も大きい
ものが得られる。
本発明に係る光導電性材料はそのままでもよいが、さら
に各種の色素、一般に電子写真感光体に用いられている
電荷輸送剤、あるいは顔料用途で用いられている各種の
分散剤3表面処理剤などを添加したものとして使用する
ことができる。これらの処理、あるいは添加により、光
電流、抵抗などの制御1分散安定性などの所望の適性を
付与することができる。添加方法としては、フタロシア
ニンの合成時、生成時、あるいは後添加、後処理などの
適宜の時期に自体公知の方法によって行うことができる
上記色素としては、各種有機顔料、染料などがあり1例
えばペリレン類、インダスレン類、キナクリドン頬、ア
ゾ類、フタロシアニン類などの顔料、およびブリリアン
トグリーン、ビクトリアブルーB、メチルバイオレット
、クリスタルバイオレット、アシッドバイオレット6B
のようなトリアリルメタン系染料、ローダミン6G、ロ
ーダミンB、ローダミン6Gエクストラ、エオシンS。
エリトロシン、ローズベンガル、フルオレセインのよう
なキサンチン染料、メチレンブルーのようなチアジン染
料、シアニンのようなシアニン染料2−6−ジフェニル
−4−(N、N−ジメチルアミノフェニル)チアピリリ
ウムバークロレート、ベンゾビ、リリウム塩などのビリ
リウム染料、メロシアン染料などを挙げることができる
本発明に用いられる電荷輸送剤としては、・・オキサソ
ール誘導体、スチリル色素ベース、シアニン色素ベース
、オキサジアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ヒドラ
ゾン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、トリフェニル
メタン誘導体、ニトロフルオレノン誘導体などの各種の
光導電性化合物を挙げることができ、また、ポリ−N−
ビニルカルバゾール、ポリ−9−P−ビニルフェニルア
ントラセンなどのカルバゾール環、アントラセン環ヲ側
鎖に有する高分子、あるいはピラゾリン環、ジベンゾチ
オフェン環を側鎖に有する高分子も用いることができ、
これら高分子は結着剤樹脂としても作用する。さらに具
体的には2例えば0−クロルアニル、0−ブロムアニル
、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、
2,4.7.− )ジニトロ−9−フルオレノン、 2
.4.5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン、 2
.4,5.7−テトラニトロキサントン、 2,4.8
−)リニトロチオキサントン、ピレン。
N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカルバゾー
ル、2.5−ビス(4−N、N−ジエチルアミノフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール、 1−フェニル
−3−(4−N、N−ジエチルアミノスチリル’I −
5−(4−N、、N−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ビリジルー (2) ) −3−(4−N
、N−ジエチルアミノスチリル”) −5−(4−N、
N−ジエチルアミノスチリルν)ピラゾリン、1−[キ
ノリノ−(4) ] −3−(4−N、N−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(4−N、N−ジエチルアミノフ
ェニル)ピラゾリン、トリフェニルアミン、N−エチル
カルバゾール−3−カルボアルデヒドフェニルメチルヒ
ドラゾン、 N−エチルカルバゾール−3−カルボアル
デヒドジフェニルヒドラゾン、P−ジエチルアミノベン
ズアルデヒドジフェニルヒドラゾン、α−アントリル−
β−(4−N、N、−ジエチルアミノフェニル)エチレ
ン、ポリードービニルカルパゾール、ハロゲン化ポリ−
トビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリ
ビニルアクリジン。ポリ−9−P−ビニルフェニルアン
トラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂。
エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアセ
チレンなどを挙げることができる。
また1分散剤1表面処理剤としては、各種フタロシアニ
ン誘導体、無機顔料、樹脂などがあり。
例えば酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、エステル
ガム、ロジン系樹脂類などを挙げることができる。
以上のようにして得られた本発明に係る光導電性材料は
、必要ならば他のフタロシアニン類、ベベリレン、アゾ
などの有機光導電性材料、あるいは酸化亜鉛、酸化チタ
ン、硫化カドミ丼つム、硫化鉛などの無機光導電性材料
を併用し、結着剤樹脂および必要に応じて溶媒を用い、
必要ならば所望の添加剤を添加して、各種基板上に塗布
したり。
キャストフィルムとしたりして1周知のような各種の光
電変換素子に適用される。結着剤樹脂としては1例えば
ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂。
ユリア樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ケイ素樹
脂、ポリニス、チル樹脂、アルキッド樹脂。
アクリル樹脂、キシレン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体樹脂、酢酸ビニル−メタクリル酸エステル共重
合体樹脂、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、繊維素誘導体などの結着剤、ある
いはポリビニルカルバゾールなどの光導電性を有する結
着剤などを挙げることができる。
本発明に係る光導電性材料を適用することができる光電
変換素子としては、一般に光導電体が使用されている用
途であればよく1例えば光起電力素子、光導電セル、電
子写真感光板、電気化学光電池などを挙げることができ
る。
このうち光起電力素子としては、整流接触(Shott
ky−Barrier )を利用するものと、P−N接
合を利用するものとがあり、太陽電池、ホトダイオード
、ホトトランジスタなどに適用される。また。
光導電セルは主として光の検出器として用いられる。電
子写真感光板は、複写、プリンター、マイクロフィルム
、印刷版などに用いられる。電気化学光電池としては、
電解質−液中で各種電極と組合せて、膜として、あるい
は分散系として用いられる。
以上のように1本発明に係る光導電体材料は。
光電変換材料としての各種の特性を製造条件を変えるこ
とによって、比較的容易に制御することができるという
特長があり、また、光、熱、溶媒などに対する安定性に
優れ、可視性のある膜とすることもできるため、各種光
電変換素子に応用が可能である。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
例中部は重量部を示す。
実施例1 前記参考例1−A、参考例2.参考例3−Aおよび参考
例4−Aにより得られたτ型、変形τかた。η型および
変形η型態金属フタロシアニン。
および表3に示す処理剤によって予め処理された無金属
フタロシアニン50部1表3に示す電荷輸送剤40部、
溶媒200部を往復型振とう機にて2時間分散し、第1
図に示すように厚さ1龍の透明導電ガラス(ネサガラス
)1上にアプリケータで乾燥膜厚が1.58部゛となる
ように塗布し、乾燥させて光電変換材料膜2を形成し、
さらにその上にアルミニウム蒸着層3を対電極として形
成し。
光起電力素子4を得ることができる。この光起電力素子
4の特性は、750部m、10.EIW/−の光に対し
てVocは0.85〜0.95V、Jscは10〜10
 Aであり、下記で定義する効率(n)を表3に示す。
JscoVoc n= XffXIQQ ■・Tl11 (式中Tmは金属電極を通る光の透過量であり。
■は特定波長における入射光強度をワットて示すもので
あり、Jscは適用電位ゼロにおける外部負荷を通過す
る光電流であり、そしてVocは電流ゼロにおいて電池
の両端面に発生する電位差であり。
記号ffは補助ファクターを表わし2本発明の素子では
0.33である。) 無金属フタロシアニンを予め処理する方法は。
無金属フタロシアニン100部、処理剤30部および処
理剤を溶解する有機溶媒100部をビーカーに入れ5時
間攪拌し、ろ過、乾燥した。
また1表3におけるオキサジアゾール、ピラゾリンおよ
びヒドラゾンとしては。
・オキサジアゾールは、2.5−ビス(4−N、N−ジ
エチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル・ピラゾリンは、l−〔キノリノ−(4) ) −3
−(4−N、N−ジエチルアミノスチリル) −5−(
4−N。
N−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン・ヒドラゾン
は、 P−ジエチルアミノベンズアルデヒドジフェニル
ヒドラゾン を用いた。
また、樹脂としては。
・ポリエステルは、東洋紡績1!mMバイロン200・
ポリカーボネートは、奇人elllパンライトL−25
0W ・ポリビニルカルバゾールは、亜南産業■製ツビコール
210 ・シリコン樹脂は、信越シリコーン■製KR20を用い
た。
以下余白 実施例2 実施例1と同様にして1表4に示す処方(ただし溶媒と
してはトルエン/THFの同量混合物200部を用いた
。)で1分散塗液を作製し、第2図に示すように、金蒸
着層5を有する銅板6上にアプリケータで乾燥膜厚カ月
、5μmとなるように塗布し、乾燥させて光電変換材料
膜2を形成し。
その上に厚さ300人の光透過性の金蒸着薄層7を被覆
して光導電セル(A)8を作製した。また。
同塗液を第1図に示すと同じようにネサガラス上にアプ
リケータで乾燥膜厚が1.0μmとなるように塗布し、
乾燥させて光電変換材料膜を形成し。
その上に対電極として銅を蒸着し、光導電セル(B)を
作製した(図示していない。)。また、さらに第3図に
示すように石英ガラス板9上にくし形に銀の蒸着層9を
形成し、その上に上記塗液を乾燥膜厚が1.0μmとな
るように塗布、乾燥して光導電セル(C)8を作製した
また、一方表4に示すような無金属フタロシアニンもし
くは処理無金属フタロシアニンを200Kg/cJで加
圧して10龍φ、厚さ211の錠剤を成形し、第4図に
示すように、この錠剤11の表面に白金蒸着1112を
形成し、光導電セル(D)8を作製した。
これらの光導電セルに10Vを印加し、400〜800
nmの光を照射した時の光電流/暗電流の比を表4に、
実施例2−2および実施例2−10の光電流/スペクト
ル依存性を第5図および第6@に示し、また、実施例2
−10の光電流/光強度依存性を第7図に示す。これら
の光導電セルは光強度に対して極めてリニアであり、ま
た、樹脂のないほうが特性が良いことがわかる。また。
これらのセルは密閉型にすることにより、不活性ガス中
で安定化、あるいは酸化性ガス中で抵抗の調節をするこ
とができる。
表4中のヒドラゾン、ポリカーボネート、PvKは、実
施例1と同じものを使用し、また、スチリル色素ベース
は下記のものを使用した。
実施例3 参考例2で得られた変形τ型無金属フタロシアニン10
部を水添加ロジングリセリンエステル(荒用化学fll
製エステルガムH)50部、トルエン100部とをボー
ルミルで24時間練肉して塗液とした。この塗液を親水
化処理したアルミニウム板上に2.5μm厚の熱軟化性
樹脂層を形成し、コロナ放電によって正帯電させた後、
像露光し50〜100℃に加熱すると、潜像状にフタロ
シアニン粒子がアルミニウム板上に電着された。残りの
粒子およびバインダーは、キシレン中に静かに浸漬する
ことによって洗い流し、さらに、この後良好な画像にす
るためにケロシンを用いたリンス液中でリンスを行い、
さらに120℃で1時間の加熱によって定着した。
次に、このアルミニウム板に電着したフタロシアニン粒
子濃度を測定し、この結果を第8図に示す。この結果か
ら、フタロシアニンを用いた熱軟化性樹脂層は、極めて
感度の良い光泳動感剤であることが理解されよう。上記
のようにして得たフタロシアニンが電着したアルミニウ
ム板はオフセット印刷板として使用することができる。
実施例4 参考例1−Bの平均粒径0.01μmのτ型、参考例2
の変形τ型、参考例3−Dのη型および参考例4−Bの
変形τ型の各無金属フタロシアニン。
および表5に示す処理剤によって処理した無金属フタロ
シアニン50部、溶媒200部をボールミルで24時間
分散して′塗液を作製し、これを表5と に示すような基板電極上に乾燥膜厚が1μm3なるよう
バーコータで塗布し、乾燥して光導電性材料層を形成し
た。これを表5の電解質0.1モル溶液中で対電極と組
合せ100 m W / cJの光をフタロシアニン電
極側から照射し、起電力Vocと光電流Vscを測定し
た結果を表5に示す。この結果からこれらの光起電力素
子が優れた特性を有することが理解される。
なお9表5巾のヒドラゾンおよびオキサジアゾールは実
施例1と同じものを用いた。
以下余白 実施例5 実施例4と同様に、参考例1−Bの平均粒径0゜01μ
mのτ型、参考例2の変形τ型、参考例3−Dのη型お
よび参考例4−Bの変形τ型の各無金属フタロシアニン
、および表6に示す処理剤によって処理した無金属フタ
ロシアニン50部、酸化チタン50部、溶媒300部を
ボールミルで2バーコータで塗布し、乾燥して光導電性
材料層を形成した。これを表6の電解質0.1モル溶液
中で対電極と組合せ100mW/aJの光をフタロシア
ニン電極側から照射し、起電力Vocと光電流Vscを
測定した結果を表5に示す。この結果からこれらの光起
電力素子が優れた特性を有することが理解される。
以下余白
【図面の簡単な説明】
第1図から第4図は1本発明に係る光導電性材料を用い
た光電変換素子を説明するものであり。 第1図および第2図は断面図、第3図は斜面図。 第4図は平面図である。第5図および第6図はそれぞれ
実施例2−2および実施例2−10の光導電セルの光電
流/スペクトル依存性を、また、第7図は実施例2−1
0の光導電セルの光電流/光強度依存性をグラフを示し
、第8図は実施例3のフタロシアニン粒子濃度を示すグ
ラフである。 特許出願人 東洋インキ製造株式会社 株式会社 日立製作所 関 市 11 図 ネf L @ 主魂纂(− 千g 嘱 11 )【、 ぜE (L、順・5ン

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、τ型、変形τ型、η型もしくは変形η型態金属フタ
    ロシアニンからなる光導電性材料。
JP58194361A 1983-10-19 1983-10-19 光導電性材料 Granted JPS6086552A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58194361A JPS6086552A (ja) 1983-10-19 1983-10-19 光導電性材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58194361A JPS6086552A (ja) 1983-10-19 1983-10-19 光導電性材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6086552A true JPS6086552A (ja) 1985-05-16
JPH0376594B2 JPH0376594B2 (ja) 1991-12-05

Family

ID=16323296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58194361A Granted JPS6086552A (ja) 1983-10-19 1983-10-19 光導電性材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6086552A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62103651A (ja) * 1985-10-31 1987-05-14 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 電子写真感光体
JPS6313381A (ja) * 1986-07-03 1988-01-20 Nok Corp 光電センサ
JPS63103262A (ja) * 1986-10-20 1988-05-07 Konica Corp 感光体
JPS63148269A (ja) * 1986-12-12 1988-06-21 Konica Corp 感光体
JPS63149652A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPS63149654A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPS63149653A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPS63151959A (ja) * 1986-12-15 1988-06-24 Konica Corp 感光体
JPS63303362A (ja) * 1987-06-03 1988-12-09 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
JP2008202091A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Atsuta Seiki Kk 火炎焼入れ装置およびこの火炎焼入れ装置を使用した焼入れ方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58194360A (ja) * 1982-05-08 1983-11-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電極形成方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58194360A (ja) * 1982-05-08 1983-11-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電極形成方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0477906B2 (ja) * 1985-10-31 1992-12-09 Konishiroku Photo Ind
JPS62103651A (ja) * 1985-10-31 1987-05-14 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 電子写真感光体
JPS6313381A (ja) * 1986-07-03 1988-01-20 Nok Corp 光電センサ
JPS63103262A (ja) * 1986-10-20 1988-05-07 Konica Corp 感光体
JPH0518423B2 (ja) * 1986-10-20 1993-03-11 Konishiroku Photo Ind
JPS63148269A (ja) * 1986-12-12 1988-06-21 Konica Corp 感光体
JPS63149653A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPS63151959A (ja) * 1986-12-15 1988-06-24 Konica Corp 感光体
JPS63149654A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPH0518425B2 (ja) * 1986-12-15 1993-03-11 Konishiroku Photo Ind
JPS63149652A (ja) * 1986-12-15 1988-06-22 Konica Corp 感光体
JPH0518424B2 (ja) * 1986-12-15 1993-03-11 Konishiroku Photo Ind
JPH0518426B2 (ja) * 1986-12-15 1993-03-11 Konishiroku Photo Ind
JPS63303362A (ja) * 1987-06-03 1988-12-09 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体
JP2008202091A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Atsuta Seiki Kk 火炎焼入れ装置およびこの火炎焼入れ装置を使用した焼入れ方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0376594B2 (ja) 1991-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0356470B2 (ja)
JPH03128973A (ja) オキシチタニウムフタロシアニン,その製造方法,それを用いた電子写真感光体,該電子写真感光体を有する装置ユニットおよび電子写真装置
JP2657836B2 (ja) 電子写真感光体
JPH0326382B2 (ja)
JPS6086552A (ja) 光導電性材料
JPH0753892A (ja) ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
JPH0560863B2 (ja)
JPH0246939B2 (ja)
JPS6086551A (ja) 電子写真感光体
JPS6019152A (ja) 電子写真用感光体
JP2000105479A (ja) 電子写真感光体、プロセスカ―トリッジ及び電子写真装置
JP3343275B2 (ja) フタロシアニン組成物、その製造法、これを用いた電子写真感光体および電荷発生層用塗液
JPH0530263B2 (ja)
JP4144932B2 (ja) ジクロロスズフタロシアニン結晶および、その製造法とそれを用いた電子写真感光体
JPH01123868A (ja) 準非結晶性チタニウムフタロシアニン化合物,その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体
JPS6019154A (ja) 電子写真用感光体
JP2690068B2 (ja) 電子写真感光体
JPS6337162A (ja) 新しい結晶構造を有するジスアゾ顔料
JPS6087332A (ja) 複合型の電子写真用感光体
JPS6337161A (ja) 新しい結晶構造を有するジスアゾ顔料
JPH0823705B2 (ja) 感光体
JPH0198266A (ja) 光電変換素子
JP2563810B2 (ja) 感光体
JPH0477906B2 (ja)
JPS61252671A (ja) 光電変換素子