JPS60101119A - 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法Info
- Publication number
- JPS60101119A JPS60101119A JP20972783A JP20972783A JPS60101119A JP S60101119 A JPS60101119 A JP S60101119A JP 20972783 A JP20972783 A JP 20972783A JP 20972783 A JP20972783 A JP 20972783A JP S60101119 A JPS60101119 A JP S60101119A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族ポリエーテルケトンの製造方法に関する
。芳香族ポリエーテルケトンは耐熱性機械的性質、電気
的性質、寸法安定性に優れ、吸水率が低く、物性的に非
常に良好なポリマーであることが知られている。またそ
の製造法としては+、lI’−ジフルオロベンゾフェノ
ンと無水のハイドロキノンアルカリ金属塩をジンエール
スルホン中で反応させる方法が知られているが無水のハ
イドロキノンアルカリ金属塩を製造することが予め必要
なことおよび反応温度も300C以上にする必要がある
こと、り、q′−ジフルオロベンゾフェノンが高価なこ
と々ど、その製造法は欠点が多い。
。芳香族ポリエーテルケトンは耐熱性機械的性質、電気
的性質、寸法安定性に優れ、吸水率が低く、物性的に非
常に良好なポリマーであることが知られている。またそ
の製造法としては+、lI’−ジフルオロベンゾフェノ
ンと無水のハイドロキノンアルカリ金属塩をジンエール
スルホン中で反応させる方法が知られているが無水のハ
イドロキノンアルカリ金属塩を製造することが予め必要
なことおよび反応温度も300C以上にする必要がある
こと、り、q′−ジフルオロベンゾフェノンが高価なこ
と々ど、その製造法は欠点が多い。
本発明等は上記の点を鑑み、鋭意検討を行なった結果、
原料として後記する。一般式mで表わされる芳香族エー
テル類とホスゲンを用い、かつ溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて、ルイス酸の存在下で反応させれば容
易に優れた芳香族ポリエーテルケトンが得られることを
見い出し、本発明は達成された。
原料として後記する。一般式mで表わされる芳香族エー
テル類とホスゲンを用い、かつ溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて、ルイス酸の存在下で反応させれば容
易に優れた芳香族ポリエーテルケトンが得られることを
見い出し、本発明は達成された。
本発明の要旨は、一般式〔I〕
(〔13式中 R1〜R”は水素原子、ノ・ロゲン原子
、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、nは/〜5の
整数である)で表わされる芳香族エーテル類とホスゲン
とをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性有機
溶剤を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ーテルケトンの製造方法に存する。
、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、nは/〜5の
整数である)で表わされる芳香族エーテル類とホスゲン
とをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性有機
溶剤を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ーテルケトンの製造方法に存する。
本発明の方法によれば、反応温度を300℃以上にする
必要もなく、0〜100℃という通常の温和な条件下、
すなわち室温でも十分反応が進行し、高重合度の優れた
物性を有する芳香族ポリエーテルケトンを得ることがで
きる。また本発明方法によれば、ポリマーはスラリーと
して得られるのでポリマーの回収および溶媒の回収も容
易である。
必要もなく、0〜100℃という通常の温和な条件下、
すなわち室温でも十分反応が進行し、高重合度の優れた
物性を有する芳香族ポリエーテルケトンを得ることがで
きる。また本発明方法によれば、ポリマーはスラリーと
して得られるのでポリマーの回収および溶媒の回収も容
易である。
本発明をさらに詳細に説明するに、本発明に用いられる
前示一般式〔■〕で表わされる芳香族エーテル類として
は/、4’−シフエノキ7ベンゼン、ビス(ダーツエノ
キシフェニル)エーテル、/3−ジフェノキシベンゼン
、ビス(3−フェノキシフェニル)エーテル、 +、+
’−ビス(lI−7x / キ’/ フェニル)ジフェ
ニルX −テ#、(ll−フェノキシフェニル) pl
−フェノキシジフェニルエーテル、/、’!’−ビス(
3−メチルフェノキシ)ベンゼン、/、クービス(3−
クロロフェノキシ)ベンゼン、/、4’−ビス(3−メ
トキシフェノヤシ)ベンゼン、 /、4’−ヒ゛ス(3
゜tジメチルフェノキシ)ベンゼン、/、クービス(3
−ブロモフェノキシ)ベンゼン、/、4’−ビス(3+
’−ジフルオロフェノキシ)ベンセンなどが挙げられる
が一般式[1)で示′されるものはいずれも使用可能で
あり、これらに限定されるものではない。これらは単独
もしくは混合して使用してもよく、/、り又は/+j構
造のものが好ましい。またこれらの中でコストの点から
/、ll−ジフェノキシベンゼンを用いることが最も好
ましい。
前示一般式〔■〕で表わされる芳香族エーテル類として
は/、4’−シフエノキ7ベンゼン、ビス(ダーツエノ
キシフェニル)エーテル、/3−ジフェノキシベンゼン
、ビス(3−フェノキシフェニル)エーテル、 +、+
’−ビス(lI−7x / キ’/ フェニル)ジフェ
ニルX −テ#、(ll−フェノキシフェニル) pl
−フェノキシジフェニルエーテル、/、’!’−ビス(
3−メチルフェノキシ)ベンゼン、/、クービス(3−
クロロフェノキシ)ベンゼン、/、4’−ビス(3−メ
トキシフェノヤシ)ベンゼン、 /、4’−ヒ゛ス(3
゜tジメチルフェノキシ)ベンゼン、/、クービス(3
−ブロモフェノキシ)ベンゼン、/、4’−ビス(3+
’−ジフルオロフェノキシ)ベンセンなどが挙げられる
が一般式[1)で示′されるものはいずれも使用可能で
あり、これらに限定されるものではない。これらは単独
もしくは混合して使用してもよく、/、り又は/+j構
造のものが好ましい。またこれらの中でコストの点から
/、ll−ジフェノキシベンゼンを用いることが最も好
ましい。
本発明では前記一般式[1)で表わされる芳香族エーテ
ル類にホスゲンを反応させるが、ホスゲンの使用量は核
芳香族エーテル類1モルに対して通常O,Sモル以上、
好ましくは1モル以上の割合で使用される。
ル類にホスゲンを反応させるが、ホスゲンの使用量は核
芳香族エーテル類1モルに対して通常O,Sモル以上、
好ましくは1モル以上の割合で使用される。
本発明で用いられる非プロトン性有機溶媒としては、塩
化メチレン、塩化エチレン、/、l、2゜コーチトラク
ロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ニトロベンゼ
ン、ニトロメタン、二硫化R1f、、tルエン、キシレ
ン、ベンゼン、テトラジン、デカリン、ヘキサン、エチ
ルエーテル。
化メチレン、塩化エチレン、/、l、2゜コーチトラク
ロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ニトロベンゼ
ン、ニトロメタン、二硫化R1f、、tルエン、キシレ
ン、ベンゼン、テトラジン、デカリン、ヘキサン、エチ
ルエーテル。
シフチルエーテル、ヘプタン、ペンタン、オルトジクロ
ルベンゼンなどが用いられるが必ずしもこれ等に限定さ
れるものではない。
ルベンゼンなどが用いられるが必ずしもこれ等に限定さ
れるものではない。
溶媒の使用量は一般式CI)で表わされる芳香族エーテ
ルの/〜SOO倍量(重量比)好ましくはS〜ioo倍
量(重量比)である。
ルの/〜SOO倍量(重量比)好ましくはS〜ioo倍
量(重量比)である。
また本発明に用込られるルイス酸としては三塩化アルミ
ニウム、三臭化アルミニウム、三弗化硼素、塩化第二鉄
、塩化第二錫、塩化第一錫、四塩化チタン、三塩化硼素
、五塩化アンチモン、塩化亜鉛、三塩化ガリウム、大塩
化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、五塩化テルル
、三弗化硼素エチルエーテル錯化物、五塩化ニオブ、六
塩化タングステンなどが挙げられるが必ずしもこれらに
限定されるものではない。これらの中で三塩化アルミニ
ウム、四塩化スズがコストの点で最も好ましい。これら
のルイス酸の使用量は酸シバライドに対して重量比でO
9夕〜L(7好ましくはθ、q−2,Oである。
ニウム、三臭化アルミニウム、三弗化硼素、塩化第二鉄
、塩化第二錫、塩化第一錫、四塩化チタン、三塩化硼素
、五塩化アンチモン、塩化亜鉛、三塩化ガリウム、大塩
化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、五塩化テルル
、三弗化硼素エチルエーテル錯化物、五塩化ニオブ、六
塩化タングステンなどが挙げられるが必ずしもこれらに
限定されるものではない。これらの中で三塩化アルミニ
ウム、四塩化スズがコストの点で最も好ましい。これら
のルイス酸の使用量は酸シバライドに対して重量比でO
9夕〜L(7好ましくはθ、q−2,Oである。
また本発明は一般式〔1〕で表わされるエーテル類とホ
スゲンとを含む溶液にルイス酸を添加してもよいし、溶
媒とルイス酸の存在下でホスゲンと一般式CI)で表わ
されるエーテル類ヲ添加してもよい。本発明方法におい
ては反応温度は特に制限はないが−IOC以上(通常/
θθC以下)という温度でも直重合物が得られる。
スゲンとを含む溶液にルイス酸を添加してもよいし、溶
媒とルイス酸の存在下でホスゲンと一般式CI)で表わ
されるエーテル類ヲ添加してもよい。本発明方法におい
ては反応温度は特に制限はないが−IOC以上(通常/
θθC以下)という温度でも直重合物が得られる。
また加圧下で反応を行なってもよい。
本発明で得た芳香族ポリエーテルケトンは多〈の利点を
有している。すなわち引張り強度、曲げ強度、引張り弾
性率、曲げ弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開
始温度、電気的性質、寸法安定性に優れ、吸湿、吸水率
が低い。
有している。すなわち引張り強度、曲げ強度、引張り弾
性率、曲げ弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開
始温度、電気的性質、寸法安定性に優れ、吸湿、吸水率
が低い。
以下、本発明を実施例によシさらに詳細に説明する。
実施例/
ホスゲン、219g ?と/、4t−ジンエノキシベン
ゼンiiyの二硫化炭素溶液/!rOynlに塩化アル
ミニウムク&、、? P ’i加える。この際、水冷に
より反応温度全夕C以上に保つ。塩化アルミニウム添加
終了後、攪拌水冷下でダ時間、さらに室温で75時間反
応させる。反応終了後、反応混合物をメタノールsoo
mi;に注ぐと白色粉末状重合物が得られる。重合物は
炉別後メタノール300m1%、2チ塩酸水溶液roo
yで2回、さらに脱塩水でコ回洗浄後、/20Cで一昼
夜真空乾燥する。得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トル(KBrディスク)は/ 22 、lt !−”に
芳香族エーテルの吸収が、/ 6 左Oc’s−”に芳
香族ケトンの吸収がみられた。47nポリマーの粘度(
濃硫酸中30C1濃度−i、o y7dtで測定)はη
inh = 0. A ’7’ at/ ? であり、
元素分析の結果は実測値: C,79,/A%;H,グ
、20係。計算値(c、。HSt Ox ) ” C+
7 g 、 qg饅; H,41,16%であった。
ゼンiiyの二硫化炭素溶液/!rOynlに塩化アル
ミニウムク&、、? P ’i加える。この際、水冷に
より反応温度全夕C以上に保つ。塩化アルミニウム添加
終了後、攪拌水冷下でダ時間、さらに室温で75時間反
応させる。反応終了後、反応混合物をメタノールsoo
mi;に注ぐと白色粉末状重合物が得られる。重合物は
炉別後メタノール300m1%、2チ塩酸水溶液roo
yで2回、さらに脱塩水でコ回洗浄後、/20Cで一昼
夜真空乾燥する。得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トル(KBrディスク)は/ 22 、lt !−”に
芳香族エーテルの吸収が、/ 6 左Oc’s−”に芳
香族ケトンの吸収がみられた。47nポリマーの粘度(
濃硫酸中30C1濃度−i、o y7dtで測定)はη
inh = 0. A ’7’ at/ ? であり、
元素分析の結果は実測値: C,79,/A%;H,グ
、20係。計算値(c、。HSt Ox ) ” C+
7 g 、 qg饅; H,41,16%であった。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
ほか/名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (〔I〕式中BI、、−B12 は水素原子、ハロゲン
原子、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、nは7〜
Sの整数である)で聚わされる芳香族エーテル類とホス
ゲンとをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポ
リエーテルケトンの製造方法
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20972783A JPS60101119A (ja) | 1983-11-08 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
DE8484111574T DE3472262D1 (en) | 1983-09-29 | 1984-09-27 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
EP84111574A EP0135938B1 (en) | 1983-09-29 | 1984-09-27 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
US06/656,325 US4661581A (en) | 1983-09-29 | 1984-10-01 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20972783A JPS60101119A (ja) | 1983-11-08 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60101119A true JPS60101119A (ja) | 1985-06-05 |
JPH0460136B2 JPH0460136B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=16577637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20972783A Granted JPS60101119A (ja) | 1983-09-29 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60101119A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6183226A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-26 | レイケム・コーポレイシヨン | ポリ(アリーレンエーテルケトン)の製造方法 |
JPS61138627A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリケトンの製造法 |
JPS62119230A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリ(チオ)エ−テルケトンの製造法 |
JPS62241922A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香属ポリ(チオ)エ−テルケトンの製造法 |
-
1983
- 1983-11-08 JP JP20972783A patent/JPS60101119A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6183226A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-26 | レイケム・コーポレイシヨン | ポリ(アリーレンエーテルケトン)の製造方法 |
JPS61138627A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリケトンの製造法 |
JPS62119230A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリ(チオ)エ−テルケトンの製造法 |
JPS62241922A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香属ポリ(チオ)エ−テルケトンの製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0460136B2 (ja) | 1992-09-25 |
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