JPS60101119A - 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法Info
- Publication number
- JPS60101119A JPS60101119A JP20972783A JP20972783A JPS60101119A JP S60101119 A JPS60101119 A JP S60101119A JP 20972783 A JP20972783 A JP 20972783A JP 20972783 A JP20972783 A JP 20972783A JP S60101119 A JPS60101119 A JP S60101119A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- phosgene
- aromatic
- lewis acid
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Polyethers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族ポリエーテルケトンの製造方法に関する
。芳香族ポリエーテルケトンは耐熱性機械的性質、電気
的性質、寸法安定性に優れ、吸水率が低く、物性的に非
常に良好なポリマーであることが知られている。またそ
の製造法としては＋、ｌＩ’−ジフルオロベンゾフェノ
ンと無水のハイドロキノンアルカリ金属塩をジンエール
スルホン中で反応させる方法が知られているが無水のハ
イドロキノンアルカリ金属塩を製造することが予め必要
なことおよび反応温度も３００Ｃ以上にする必要がある
こと、り、ｑ′−ジフルオロベンゾフェノンが高価なこ
と々ど、その製造法は欠点が多い。
。芳香族ポリエーテルケトンは耐熱性機械的性質、電気
的性質、寸法安定性に優れ、吸水率が低く、物性的に非
常に良好なポリマーであることが知られている。またそ
の製造法としては＋、ｌＩ’−ジフルオロベンゾフェノ
ンと無水のハイドロキノンアルカリ金属塩をジンエール
スルホン中で反応させる方法が知られているが無水のハ
イドロキノンアルカリ金属塩を製造することが予め必要
なことおよび反応温度も３００Ｃ以上にする必要がある
こと、り、ｑ′−ジフルオロベンゾフェノンが高価なこ
と々ど、その製造法は欠点が多い。
本発明等は上記の点を鑑み、鋭意検討を行なった結果、
原料として後記する。一般式ｍで表わされる芳香族エー
テル類とホスゲンを用い、かつ溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて、ルイス酸の存在下で反応させれば容
易に優れた芳香族ポリエーテルケトンが得られることを
見い出し、本発明は達成された。
原料として後記する。一般式ｍで表わされる芳香族エー
テル類とホスゲンを用い、かつ溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて、ルイス酸の存在下で反応させれば容
易に優れた芳香族ポリエーテルケトンが得られることを
見い出し、本発明は達成された。
本発明の要旨は、一般式〔Ｉ〕
（〔１３式中 Ｒ１〜Ｒ”は水素原子、ノ・ロゲン原子
、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、ｎは／〜５の
整数である）で表わされる芳香族エーテル類とホスゲン
とをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性有機
溶剤を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ーテルケトンの製造方法に存する。
、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、ｎは／〜５の
整数である）で表わされる芳香族エーテル類とホスゲン
とをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性有機
溶剤を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポリエ
ーテルケトンの製造方法に存する。
本発明の方法によれば、反応温度を３００℃以上にする
必要もなく、０〜１００℃という通常の温和な条件下、
すなわち室温でも十分反応が進行し、高重合度の優れた
物性を有する芳香族ポリエーテルケトンを得ることがで
きる。また本発明方法によれば、ポリマーはスラリーと
して得られるのでポリマーの回収および溶媒の回収も容
易である。
必要もなく、０〜１００℃という通常の温和な条件下、
すなわち室温でも十分反応が進行し、高重合度の優れた
物性を有する芳香族ポリエーテルケトンを得ることがで
きる。また本発明方法によれば、ポリマーはスラリーと
して得られるのでポリマーの回収および溶媒の回収も容
易である。
本発明をさらに詳細に説明するに、本発明に用いられる
前示一般式〔■〕で表わされる芳香族エーテル類として
は／、４’−シフエノキ７ベンゼン、ビス（ダーツエノ
キシフェニル）エーテル、／３−ジフェノキシベンゼン
、ビス（３−フェノキシフェニル）エーテル、 ＋、＋
’−ビス（ｌＩ−７ｘ ／ キ’／ フェニル）ジフェ
ニルＸ −テ＃、（ｌｌ−フェノキシフェニル） ｐｌ
−フェノキシジフェニルエーテル、／、’！’−ビス（
３−メチルフェノキシ）ベンゼン、／、クービス（３−
クロロフェノキシ）ベンゼン、／、４’−ビス（３−メ
トキシフェノヤシ）ベンゼン、 ／、４’−ヒ゛ス（３
゜ｔジメチルフェノキシ）ベンゼン、／、クービス（３
−ブロモフェノキシ）ベンゼン、／、４’−ビス（３＋
’−ジフルオロフェノキシ）ベンセンなどが挙げられる
が一般式［１）で示′されるものはいずれも使用可能で
あり、これらに限定されるものではない。これらは単独
もしくは混合して使用してもよく、／、り又は／＋ｊ構
造のものが好ましい。またこれらの中でコストの点から
／、ｌｌ−ジフェノキシベンゼンを用いることが最も好
ましい。
前示一般式〔■〕で表わされる芳香族エーテル類として
は／、４’−シフエノキ７ベンゼン、ビス（ダーツエノ
キシフェニル）エーテル、／３−ジフェノキシベンゼン
、ビス（３−フェノキシフェニル）エーテル、 ＋、＋
’−ビス（ｌＩ−７ｘ ／ キ’／ フェニル）ジフェ
ニルＸ −テ＃、（ｌｌ−フェノキシフェニル） ｐｌ
−フェノキシジフェニルエーテル、／、’！’−ビス（
３−メチルフェノキシ）ベンゼン、／、クービス（３−
クロロフェノキシ）ベンゼン、／、４’−ビス（３−メ
トキシフェノヤシ）ベンゼン、 ／、４’−ヒ゛ス（３
゜ｔジメチルフェノキシ）ベンゼン、／、クービス（３
−ブロモフェノキシ）ベンゼン、／、４’−ビス（３＋
’−ジフルオロフェノキシ）ベンセンなどが挙げられる
が一般式［１）で示′されるものはいずれも使用可能で
あり、これらに限定されるものではない。これらは単独
もしくは混合して使用してもよく、／、り又は／＋ｊ構
造のものが好ましい。またこれらの中でコストの点から
／、ｌｌ−ジフェノキシベンゼンを用いることが最も好
ましい。
本発明では前記一般式［１）で表わされる芳香族エーテ
ル類にホスゲンを反応させるが、ホスゲンの使用量は核
芳香族エーテル類１モルに対して通常Ｏ，Ｓモル以上、
好ましくは１モル以上の割合で使用される。
ル類にホスゲンを反応させるが、ホスゲンの使用量は核
芳香族エーテル類１モルに対して通常Ｏ，Ｓモル以上、
好ましくは１モル以上の割合で使用される。
本発明で用いられる非プロトン性有機溶媒としては、塩
化メチレン、塩化エチレン、／、ｌ、２゜コーチトラク
ロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ニトロベンゼ
ン、ニトロメタン、二硫化Ｒ１ｆ、、ｔルエン、キシレ
ン、ベンゼン、テトラジン、デカリン、ヘキサン、エチ
ルエーテル。
化メチレン、塩化エチレン、／、ｌ、２゜コーチトラク
ロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ニトロベンゼ
ン、ニトロメタン、二硫化Ｒ１ｆ、、ｔルエン、キシレ
ン、ベンゼン、テトラジン、デカリン、ヘキサン、エチ
ルエーテル。
シフチルエーテル、ヘプタン、ペンタン、オルトジクロ
ルベンゼンなどが用いられるが必ずしもこれ等に限定さ
れるものではない。
ルベンゼンなどが用いられるが必ずしもこれ等に限定さ
れるものではない。
溶媒の使用量は一般式ＣＩ）で表わされる芳香族エーテ
ルの／〜ＳＯＯ倍量（重量比）好ましくはＳ〜ｉｏｏ倍
量（重量比）である。
ルの／〜ＳＯＯ倍量（重量比）好ましくはＳ〜ｉｏｏ倍
量（重量比）である。
また本発明に用込られるルイス酸としては三塩化アルミ
ニウム、三臭化アルミニウム、三弗化硼素、塩化第二鉄
、塩化第二錫、塩化第一錫、四塩化チタン、三塩化硼素
、五塩化アンチモン、塩化亜鉛、三塩化ガリウム、大塩
化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、五塩化テルル
、三弗化硼素エチルエーテル錯化物、五塩化ニオブ、六
塩化タングステンなどが挙げられるが必ずしもこれらに
限定されるものではない。これらの中で三塩化アルミニ
ウム、四塩化スズがコストの点で最も好ましい。これら
のルイス酸の使用量は酸シバライドに対して重量比でＯ
９夕〜Ｌ（７好ましくはθ、ｑ−２，Ｏである。
ニウム、三臭化アルミニウム、三弗化硼素、塩化第二鉄
、塩化第二錫、塩化第一錫、四塩化チタン、三塩化硼素
、五塩化アンチモン、塩化亜鉛、三塩化ガリウム、大塩
化アンチモン、三塩化リン、五塩化リン、五塩化テルル
、三弗化硼素エチルエーテル錯化物、五塩化ニオブ、六
塩化タングステンなどが挙げられるが必ずしもこれらに
限定されるものではない。これらの中で三塩化アルミニ
ウム、四塩化スズがコストの点で最も好ましい。これら
のルイス酸の使用量は酸シバライドに対して重量比でＯ
９夕〜Ｌ（７好ましくはθ、ｑ−２，Ｏである。
また本発明は一般式〔１〕で表わされるエーテル類とホ
スゲンとを含む溶液にルイス酸を添加してもよいし、溶
媒とルイス酸の存在下でホスゲンと一般式ＣＩ）で表わ
されるエーテル類ヲ添加してもよい。本発明方法におい
ては反応温度は特に制限はないが−ＩＯＣ以上（通常／
θθＣ以下）という温度でも直重合物が得られる。
スゲンとを含む溶液にルイス酸を添加してもよいし、溶
媒とルイス酸の存在下でホスゲンと一般式ＣＩ）で表わ
されるエーテル類ヲ添加してもよい。本発明方法におい
ては反応温度は特に制限はないが−ＩＯＣ以上（通常／
θθＣ以下）という温度でも直重合物が得られる。
また加圧下で反応を行なってもよい。
本発明で得た芳香族ポリエーテルケトンは多〈の利点を
有している。すなわち引張り強度、曲げ強度、引張り弾
性率、曲げ弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開
始温度、電気的性質、寸法安定性に優れ、吸湿、吸水率
が低い。
有している。すなわち引張り強度、曲げ強度、引張り弾
性率、曲げ弾性率などの機械的性質、耐熱性、熱分解開
始温度、電気的性質、寸法安定性に優れ、吸湿、吸水率
が低い。
以下、本発明を実施例によシさらに詳細に説明する。
実施例／
ホスゲン、２１９ｇ ？と／、４ｔ−ジンエノキシベン
ゼンｉｉｙの二硫化炭素溶液／！ｒＯｙｎｌに塩化アル
ミニウムク＆、、？ Ｐ ’ｉ加える。この際、水冷に
より反応温度全夕Ｃ以上に保つ。塩化アルミニウム添加
終了後、攪拌水冷下でダ時間、さらに室温で７５時間反
応させる。反応終了後、反応混合物をメタノールｓｏｏ
ｍｉ；に注ぐと白色粉末状重合物が得られる。重合物は
炉別後メタノール３００ｍ１％、２チ塩酸水溶液ｒｏｏ
ｙで２回、さらに脱塩水でコ回洗浄後、／２０Ｃで一昼
夜真空乾燥する。得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トル（ＫＢｒディスク）は／ ２２ 、ｌｔ ！−”に
芳香族エーテルの吸収が、／ ６ 左Ｏｃ’ｓ−”に芳
香族ケトンの吸収がみられた。４７ｎポリマーの粘度（
濃硫酸中３０Ｃ１濃度−ｉ、ｏ ｙ７ｄｔで測定）はη
ｉｎｈ ＝ ０． Ａ ’７’ ａｔ／ ？ であり、
元素分析の結果は実測値： Ｃ，７９，／Ａ％；Ｈ，グ
、２０係。計算値（ｃ、。ＨＳｔ Ｏｘ ） ” Ｃ＋
７ ｇ 、 ｑｇ饅； Ｈ，４１，１６％であった。
ゼンｉｉｙの二硫化炭素溶液／！ｒＯｙｎｌに塩化アル
ミニウムク＆、、？ Ｐ ’ｉ加える。この際、水冷に
より反応温度全夕Ｃ以上に保つ。塩化アルミニウム添加
終了後、攪拌水冷下でダ時間、さらに室温で７５時間反
応させる。反応終了後、反応混合物をメタノールｓｏｏ
ｍｉ；に注ぐと白色粉末状重合物が得られる。重合物は
炉別後メタノール３００ｍ１％、２チ塩酸水溶液ｒｏｏ
ｙで２回、さらに脱塩水でコ回洗浄後、／２０Ｃで一昼
夜真空乾燥する。得られたポリマーの赤外線吸収スペク
トル（ＫＢｒディスク）は／ ２２ 、ｌｔ ！−”に
芳香族エーテルの吸収が、／ ６ 左Ｏｃ’ｓ−”に芳
香族ケトンの吸収がみられた。４７ｎポリマーの粘度（
濃硫酸中３０Ｃ１濃度−ｉ、ｏ ｙ７ｄｔで測定）はη
ｉｎｈ ＝ ０． Ａ ’７’ ａｔ／ ？ であり、
元素分析の結果は実測値： Ｃ，７９，／Ａ％；Ｈ，グ
、２０係。計算値（ｃ、。ＨＳｔ Ｏｘ ） ” Ｃ＋
７ ｇ 、 ｑｇ饅； Ｈ，４１，１６％であった。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
ほか／名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （〔Ｉ〕式中ＢＩ、、−Ｂ１２ は水素原子、ハロゲン
原子、炭化水素基またはアルコキシ基を示し、ｎは７〜
Ｓの整数である）で聚わされる芳香族エーテル類とホス
ゲンとをルイス酸の存在下で、溶媒として非プロトン性
有機溶媒を用いて反応させることを特徴とする芳香族ポ
リエーテルケトンの製造方法
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20972783A JPS60101119A (ja) | 1983-11-08 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
| DE8484111574T DE3472262D1 (en) | 1983-09-29 | 1984-09-27 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
| EP84111574A EP0135938B1 (en) | 1983-09-29 | 1984-09-27 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
| US06/656,325 US4661581A (en) | 1983-09-29 | 1984-10-01 | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20972783A JPS60101119A (ja) | 1983-11-08 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60101119A true JPS60101119A (ja) | 1985-06-05 |
| JPH0460136B2 JPH0460136B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=16577637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20972783A Granted JPS60101119A (ja) | 1983-09-29 | 1983-11-08 | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60101119A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183226A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-26 | レイケム・コーポレイシヨン | ポリ（アリーレンエーテルケトン）の製造方法 |
| JPS61138627A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリケトンの製造法 |
| JPS62119230A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 |
| JPS62241922A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香属ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 |
-
1983
- 1983-11-08 JP JP20972783A patent/JPS60101119A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6183226A (ja) * | 1984-09-06 | 1986-04-26 | レイケム・コーポレイシヨン | ポリ（アリーレンエーテルケトン）の製造方法 |
| JPS61138627A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリケトンの製造法 |
| JPS62119230A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-05-30 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香族ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 |
| JPS62241922A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 芳香属ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460136B2 (ja) | 1992-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0460137B2 (ja) | ||
| JPS61221229A (ja) | 芳香族ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 | |
| EP0135938A2 (en) | Process for producing aromatic polyether ketones and polythioether ketones | |
| JPS60101119A (ja) | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 | |
| JPS6072923A (ja) | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造方法 | |
| JPS6016947A (ja) | ４−ヒドロキシベンゾフエノン類の製造法 | |
| US4404354A (en) | Polyphenylene-type polymeric compound and process for production thereof | |
| JPH04272924A (ja) | 芳香族ポリエーテルケトンおよびその製造方法 | |
| JPH07116288B2 (ja) | 新規芳香族ポリエーテルスルホン共重合体及びその製造方法 | |
| JPS59159826A (ja) | 芳香族ポリケトンの製造法 | |
| JPS59159825A (ja) | 芳香族ポリケトンの製造方法 | |
| JPS6079040A (ja) | 芳香族ポリエ−テルケトンの製造法 | |
| JP3442087B2 (ja) | 新規ジスルフィド化合物 | |
| US4434285A (en) | Polyphenylene-type polymeric compound and process for production thereof | |
| JPH0517458A (ja) | 芳香族化合物とその製造方法 | |
| JPS6364451B2 (ja) | ||
| JPH0198625A (ja) | 芳香族ポリ（チオ）エーテルケトンの製造方法 | |
| JPH0533931B2 (ja) | ||
| JPH03265629A (ja) | 芳香族ポリ（チオ）エーテルケトンの製造方法 | |
| JPH04363322A (ja) | 芳香族ポリ（チオ）エーテルケトンの製造法 | |
| JPS62146923A (ja) | 芳香族ポリ（チオ）エ−テルケトンの製造法 | |
| JPH0533932B2 (ja) | ||
| JPH05140312A (ja) | 芳香族ポリエーテルケトンスルホンとその製造法 | |
| JPH05125180A (ja) | 芳香族ポリオルトカーボナート及びその製造方法 | |
| JPH07116287B2 (ja) | 結晶性新規芳香族ポリスルホン及びその製造方法 |