JPS5951286A - カルバペネム誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（１）の化合物に一般式（ＩＩ）の化合
物を反応させ、一般式（２）の化合物とし、化合物（Ｉ
ＩＤを閉環させ一般弐勤の化合物に導くことを特徴とす
るカルバペネム誘２！°ネ体■の製造法である。

一般式（１）　、　（ＩＩ）　、（ト）、ω式中のＲ１
は水素原子またけ水酸基の保護基を、Ｒ２およびＲ３は
同一または異なる水素原子、アルキル基またはアリール
基を、ＸまたはＹは酸素原子または硫黄原子を、Ｒ４は
アルキル基、置換アルキル基、アラルキル基、脂環式核
素環基、脂環式複素環置換アルキル基、アリールハエた
は芳香族複素環基を、Ｒ５は水素原子、カルボキシ基の
保護基を、Ｒ６はアルコキシ基、アリールオキシ基ま、
たけシアルキ一般式（１）　、　（Ｉｔ）　、（２）、
卸におけるＲ、Ｒ，Ｒ。

Ｒ，Ｒ，Ｒ，ＸおよびＹについて以下に具体的に説明す
る。Ｒ１は水素原子または水酸基の保＝１を基でおり、
水酸基の保護基として特に限定されるものではなく一般
的なアルコール性水酸基保護基を用いｂことができる、
好ましくはトリメチルシリル、ｔ−プチルジメチルンリ
ル、トリフェニルシリルなどのシリル基：ベンジル−ｐ
−ニトロベンジル、０−ニトロベンジル、ｍ−メトキノ
ベンシルなどのアラルギル基、ベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロペンジルオギシ力ルボニル、０−ニトロ
ペンジルオキシ力ルホニル、アリルオキシカルボニル、
２−クロルアリルオキ７カルボニル、２−メチルアリル
オキシカルボニル、２．２１．２−トリクロルエチルオ
キシカルボニル、２．２．２−）リブロムエチルオキシ
カルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、キシカルボ
ニル基、テトラヒドロピラニル、メトキンメチル、１−
エトキンエチル、２−）！Ｊメチルンリルエテルオキン
メチルなどのエーテル７１Ｎまたはクロルアセチル是を
示し、Ｒ２およびＲ５は同一または異なる水素原子、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピルなどの低級アル
キル基互たはフェニル基を示し、ＸおよびＹは酸素Ｉ原
子よたは偏り黄原子を示し、Ｒ’＆！メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、またはｔ−ブチルなどのアル
キル基を、２−ヒドロキンエチル、３−ヒドロキンプロ
ピル、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルまたけ３−ヒ
ドロギン−１−メチルプロピルなどの水ｔ２　ａＷが保
護された（水酸基の保５）基としては特に限定はなく一
般的アルコール１イ１：水Ｉ父基の保護ノルを用いるこ
とができる。好互しくはメチル、エチル、プロピルなど
のアルキル基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、０−ニ
トロベンジルなどのアラルキル基、ホルミル、アセチル
、フロピオニル、クロルアセチル、ベンゾイルなどのア
シル基、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジ
ルぢ−キシカルボニル、０−ニトロベンジルオニヤシカ
ルボニル リルオキ７カルボニル、２−メチルア１ノルオキシカル
ボニル、２，２．２−ト’）フロムエブールメーキシ力
ルボニル、ｔ−ブチルオキシカル７］シニル、ジフェニ
ルメチルオキシカルボニル、２−トリノチルンリルエチ
ルオキンカルボニルなどのオキシカルボニルＪ払テトラ
ヒト（コピラニル、メトキシメチル、１−エトキシエチ
ル、２−）リメチルンリルエチルオキシメチルなどのエ
ーテル基、である）直釧もしくは分枝鎖部４９１ーフル
キル基を、２−アミノエテル、２−アミ／−１−メチル
エチル、２−アミノ−１−エチルエチル、３−アミ／プ
ロピル、３−アミノ−１−メチルフロヒル、２−１’ミ
／−２−メチルエチル、２−Ｎ−メチルアミノエチル１
には２　−　Ｎ−メチルアミノ−１−メチルエチルなど
のアミ／ノ古力よ保護された（アミノ基の保Ｉす；とじ
て（まｌｔ！に限定はなく一般的なアミ７基の煉７１基
をＪ目Ｇ）ろことができる。好ましくはホルミル、アセ
チル、クロルアセチル、プロピオニル、ベンゾイルなと
のアシル基、ｔ−ブチルオキシノノルボニル、２、２．
２　　）　’）　ブロムエチルオキシカルボニル、２−
トリメチルノリルエチルオキシカルボニル、ベンジルオ
キシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
、０−ニトロベンジルオキシカルボニルなどのオキシカ
ルボ；、ル基である）直鎖もしくは分枝＠ｊｉ置援１ア
ルキル基を、２−（２−アミノエチル）オキシエチル、
２−（：２−アミノエチル）オキシ−１−メチルエチル
、２−（３−アミノプロピル）オキシエチル、３−（２
−アミノエチル）オキンブロビルまたは３−（２−アミ
／エチル）オキシ−１−メチルプロピルなどのアミノア
ルキル基ご待４　＋；□−■されそのアミノ基（、［、
前述のアミ／力；の１１ビシ基で作品されていてもよい
町（１１１または分枝鎖置暎アルキル基Ｒ８Ｒ９ よびＲは水素原子、先に置換アルキルアミ７基のところ
で述べたアミ７基の保護基、メチル、エチルなどのアル
キル基、ＲとＲが一緒になって環を形成する基たとえば
ＲｌＲが−（ＣＨ２）　２　　＃（ＣＨ２）３　　＃　
　（ＣＨ２）、ｖ（ＣＨ２）５もしくは−（ＣＨ２）６
−などのアルキレン基、又はＲとＲが一緒になって環を
形成する基たとえばＲＲが−（ＣＨ２）２　　ｒ−（Ｃ
Ｈ２）３−　などのアルキレン基である。これらの基か
ら選ばれたものを示す。）を有するメチル、エチル、プ
ロピル基などの（，３４ｇアルキル基を一ベンジル、ｐ
−メトキシベンジル、ｍ−ニド０ベンジル１　ｏ−メチ
ルベンジル、ｐ−７０ムベンジル、ｐ−アミノベンジル
、２−テニル、３−テニル、またはフルフリルなどのア
ラルキル；ｌ！ＩＦ乞、フェニル、ｐ−ニトロフェニル
、ｍ−カルボキシフェニル、０−ヒドロキシフェニル、
ｐ−メトキシフェニル、ｍ−工トキンカルボニルメチル
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどのアリール
基を示し、脂項式復素汀（〃：としては環炭素鎖に窒素
原子、酸求原子、硫黄原子、スルフィニル基、スルホニ
ル基またはカルボニル基が介在していてもよい置換若し
くけ非置換の４員環乃至８員環を形成する環状脂肪族ア
ミン残基な表わし、その現炭素原子に結合するｌ！９４
ｃＫ基はアルキル基、アルコキシアルキル基、シアノア
ルキル基、ハロゲノアルキル屓、アルコキン基、水酸基
、アミＺ〕１−、ハロゲン原子、アルキニ基、アシルア
ミ／基、シア／基、アジド基、カルホヤシル基、アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、
アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基または
ニトロ基からなる群から１１択されたものであり、その
環窒素原子に結合する置換基はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルキル
アルキルノ１（、アリール基、アラルキル八、アシル基
、フエナンル基、スルフオ基：アル：Ｊキシスルホニル
基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、
アルキニルスルホニル基、シクロアルキルスルボニル基
、シクロアルキルアルキルスルホニル苓、アリールスル
ホニル；表；アラルキルスルホニル基、ヘテロアリール
スルホニル基、ヘテロアラルキルスルホニル基、 は低級アルキル基を、Ｒは水素原子又はイミノ基の保護
基を示す） −または異なって水素原子ぼたは低級アルキル基な示し
、２は酸素原子、硫黄原子または低級アルキル基で置換
されていてもよいイミノ基を示す。）、アルコキシカル
ボニル基なたけアラルキルオキシカルボニル基からなる
群から選択されたものであって、上記の窒素原子に結合
する置換基は更に低級アルキル基、低級アルコキン基、
水酸基、アミノ基、ハロゲン原子、１戊級脂肪族アシル
オキシ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基、アジ
ド基、カルボニル基ｊ；、低級アルコキシカルボニル基
、カルバモイル２１１１、低級アルキルチオ基、低級ア
ルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル、堪、
ニトロ基マたは 同一または異なって水素原子ｌたは低級アルキル基を示
す。）からなる群から選択されたもので置換されていて
もよい。脂環式複素環基として好適には置換、１１１ζ
乞有してもよいアゼチジニル、ピロリジニル、ヒペリジ
ニル、モルホリニル、テトラヒドロピリミジニル、チア
ゾリジニル、オキサゾリジニル、ヘキサヒドロピリミジ
ニル、イミダゾリジニルまたけオクタヒドロアゾシニル
などであってその〕λ炭素原子に結合する置換基は好適
には例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、θｅＣ−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、インペンチルのような直鎖状若しくは分枝鎖状
の低級アルキル基、例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルのようなシクロア
ルキル基、例えばメトキシメチル、エトキシメチル、プ
ロポキシメチル、インプロポキシメチル、ブトキシメチ
ル、メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−メト
キンプロピル、４−エトキシブチルのような低級アルコ
キンアルキル基、例えばメトキシカルボニルメチル、エ
トキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル、ペンジルオキン力ルポニルエチル、メトキシカルボ
ニルプロピルなどのアルコキンカルボニルアルキル基、
例えばシアノメチル、７ア／エチル、３−シアノプロピ
ル、２−シアノプロピル、４−シアノブチルのようなシ
アノ低級アルキル基、例えばトリフルオロメチル、２−
フルオロエチル、２，２．２−）リフルオロエチル、２
−クロロエチル、２−７−ｏモｊ−チ＃、３−フルオロ
プロピル、２−フルオロプロピル、４−クロロブチル、
３−フルオロブチルのようなハロゲノ低級アルキル基、
例えばメトキシ、エトキシ、プロポキン、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、５ｅＣ−ブトキシ、ｔ−
ブトキシのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルコ
キシ基、水酸基、アミノ基、例えば弗素、塩素、臭素、
沃素のようなハロゲン原子、例えばアセトキシ、プロピ
オニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシの
ような低級脂肪族アシルオキシ基、例えばアセチルアミ
ノ、プロピオニルアミ／、ブチリルアミノ、インブチリ
ルアミノのような低級脂肪族アンルアミノ基、シアノ基
、アジド基、カルボキシル基、例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、インブト
キンカルボニル、５ｅＣ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基
、カルバモイル基、例えばメチルチ第１エチルチオ、ｎ
−プロピルチオ１．イソプロピルチオ、ブチルチオ、イ
ンブチルチオのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級ア
ルキルチオ基、例えばメチルスルフィニル、エチルスル
フィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフ
ィニル、ブチルスルフィニル、イソブチルスルフィニル
のような直鎖状若しくけ分枝鎖状の低級アルキルスルフ
ィニル基、例えはメチルスルホニル、エチルスルホニル
、フロビルスルボニル、イソプロピルスルホニル、ブチ
ルスルホニル、イソブチルスルホニルのような直鎖状若
しくけ分枝鎖状の低級アルキルスルホニル基またけニト
ロ基からなる群から選択されたものであシ、その環望素
原子に結合する置換基は好適には例えばメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル１＝＝ブチル、イソブチル、
５ｅｃ−ブチル、を−ブチル、ペンチル、イソペンチル
のようｆＪ、直鎖状若Ｌ　＜は分枝鎖状の低級アルキル
基、例えばビニル、アリル、１−プロペニル、インプロ
ペニル、２−ブテニル、２−ペンテニルのような低級ア
ルケニル基、例えばエチニル、２−プロピニル、２−ブ
チニル、４−ペンチニルのような低級アルキニル基、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチルのようなシクロ低級ア
ルキル基、例えばシクロプロピルメチル、シクロブチル
メチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルエチル
、シクロへブチルメチル、２−シクロペンチルエチル、
２−シクロヘキシルエチル、３−シクロヘプチルブ［１
ビル、２−７クロペンチルプロピル、３−シクロへキシ
ルプロピル、２−シクロへキシルプロビル、４−シクロ
ペンチルブチル、３−シクロへ４シルブチルのような低
級シクロアルキルアルキル基、例えばフェニル、ナフチ
ルのようなアリール基、例えハヘンジル、フェネチル、
３−フェニルプロピルのようなアラルキル基、例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブチ
リル、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノイル
、インクロト／イル、プロピオロイル、メチルプロピオ
ロイルのような１氏級脂肪族アシル基、例エバシクロプ
ロパンカルボニル、シクロブタンカルボニル、シクロペ
ンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニルのような
低級シクロアルカンカルボニル基、例えばシクロプロピ
ルアセチル、シクロブチルアセチル、シクロペンチルア
セチル、シクロへキシルアセチル、３−シクロペンチル
プロピオニル、３−シクロへキシルプロピオニル、４−
シクロペンチルブチリル、４−シクロへキシルブチリル
のような［氏級シクロアルギルアルカノイル基、例えば
ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイルのような
芳香族アシル基、例えばフェニルアセチル、ｌ　−す７
　チルアセチル、３−フェニルスルホニル、ヒドラトロ
ボイル、ンンナモイル、フェニルジ１コピオ「コイルの
よ″）な芳香脂肪族アシル基、例えばフロイル、テノイ
ル、ニコチノイル、インニコチノイル、４−チアゾール
カルボニル、５−ピリミジンカルボニル、２−ピラジン
カルボニルのような複素環アシルノ古、例えハ２−　チ
ェニルアセチル、３−Ｃ２−ｒ−エニル）プロピオニル
、４−チアゾリルアセチル、２−ピリジルアセチル、４
−ピリジルアセチル、５−ピリミジルアセチルのような
複素％ｑ　１ｌｊｌ肋族アシル基、例えば１−アジリジ
ンカルボニル、１−アゼチジンカルボニル、３−アゼチ
ジンカルボニル、１−ピロリジンカルボニル、２−ピロ
リジンカルボニル、３−ピロリジンカルボニル、１−ピ
ペリジンカルボニル、２−ピペリジンカルボニル、４−
ピペリジンカルボニル、４−モルホリンカルボニルのよ
うなヘデロシクリルカルボニル基若しくは例えば１−ア
ジリジニルアセチル、１−アゼチジニルアセチル、３−
アゼチジニルアセチル、１−ピロリジニルアセチル、２
−ピロリジニルアセクール、３−ピロリジニルアセナル
、３−（２−ピロリジニル）プロピオニル、ピペリジノ
アセチル、２−ピペリジニルアセチル、４−ピペリジニ
ルアセチル、モルホリノアセチルの工９なヘテロシクリ
ル脂肪族アンル基等のアシル基、フェナシル基、スルフ
オ基、例えばメトキシスルボニル、エトキシスルホニル
、プロポキシスルホニル、イソプロポキシスルホニルの
よりな１氏級アルコキシスルホニル基、例えばメチルス
ルボニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イ
ソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、インブチル
スルホニルのような直（！°１状若しくけ分校鎖状の低
級アルキルスルホニル基、例えばアリールスルホニル、
イソゾし］ベニルスルホニル、２−ブテニルスルホニル
のような低級アルケニルスルホ−ニル基、例エバエチニ
ルスルホニル、２−フｌコピニルスルホニル１，２−ブ
グ・ニルスルホニルのような低級アルギニルスルホニル
基、例えばシクロプロピルスルホニル、シクロブチルス
ルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロへキシル
スルホニル ル病、例えばシクロプロピルメチルスルホニル、シクロ
ブチルメチルスルホニル、シクロペンチルメチルスルホ
ニル、シクロヘキシルメチルスルホニル、２−シクロペ
ンチルエチルスルホニル、２−シクロヘキシルエチルス
ルホニル、３−シクロペンチルプロピル、２−シクロペ
ンチルプロピルのような低級シクロアルキルアルキル基
、例えばフェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル
、２−ナフチルスルホニルのようなアリールスルホニル
基、例えばベンジルスルホニル、フェネチルスルホニル
、３−フェニルプロピルスルホニル、２−フェニルプロ
ピルスルホニルのようなアラルキルスルホニル基、例え
ば２−チェニルスルホニル、４−チェニルスルホニル、
２−ピリジルスルホニル、４−ピリジルスルホニルのよ
うなヘテロアリールスルホニル、Ｍ　、例エバ２−チェ
ニルメチルスルホニル、３−（２−チェニル）プロピル
スルホニル、４−チアゾリルメチルスルホニル、２−ピ
リジルメチルスルホニル、４−ピリジルメチルスル、ｔ
　＝ルのようなヘテロアラルキルスルホニル基、１０ け例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルのよ
うな低級アルキル基を、Ｒは水素原子葦たは例えばアリ
ルオキシカルボニル、２−メチルアリルオキシカルボニ
ル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２，２．２−
ト’）クロルエトキシカルボニル、２，２．２−）！Ｊ
ブロムエトキシカルボニルのようなアルコキシカルボニ
ル基ｌたけ例えばｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
、０−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラル
オキシカルボニル基を示す。）ぼたは異なって水素原子
または例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
のような低級アルキル基を示し、２は酸素原子、硫黄原
子または例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ルのような低級アルキル基で置換されていてもよいイミ
ノ基を示す。）、例えばメトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、２．２．２−）
リクロルエトキン力ルボニル、２，２．２−）リブロム
エトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル
基よたは例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチル
オキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、０−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラ
ルキルオキシカルボニル基からなる群から選択されたも
のであって、上記の窒素原子に結合する置換基は好適に
は例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルのよ
うな低級アルキル基、例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシのような低級アルコキシ基、水
酸基、アミノ基、例えば弗素、塩素、臭素のようなハロ
ゲン原子、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブ
チリルオキシ、インブチリルオキシのような低級脂肪族
アシルオキシ基、例えばアセチルアミノ、プロピオニル
アミ／、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノのような
低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基、アジド基、カル
ボキシル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロピルスルホニ
ルのような低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル
基、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオのような低級アルキルチオ基、例えばメ
チルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスル
フィニル、イソプロピルスルフィニルの工うな低級アル
キルスルフィニル琵、例えばメチルスルホニル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホ
ニルのような低級アルキルスルホニル基、ニトロ基また
は 同一なたは異なって水素原子互たけ例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基を
示す。）からなる群から選択されたものでさらに置換さ
れていてもよい。

脂環式複素環置換アルキル基として複素環は前述した脂
環式複素環であってその環炭素原子、窒素原子に結合す
る置換基は前述したものと同意義を示しアルキル基はメ
チル、１置換エチル、２置換エチル、１−置換プロビル
などの低級アルキル基である。

芳香族複素環基としては置換基を有してもよいピリジル
、ピリミジニル、トリアジニル、チェニル、フリル、チ
アゾリルまたはイミダゾリルなどであり、その置換基と
してはメチル、・エチル、プロピルなどのアルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシなどのアルコキシ基、
アミ７基、メチルアミノ、エチルアミ／、プロピルアミ
ノなどのアルキルアミ７基、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノなどのジアルキルアミノ基、水酸基、アセトキシ
、プロピオニルオキシなどの低級アルカノイルオキシ基
、ニトロ基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン原子、た
とえばメトキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニルなどのアルコ
キシカルボニル基本である。

を示し、好ましくはメチル、エチル、ｔ−ブチルなどの
低級アルキル基、ベンジル、ジフェニルメチル、ｐ−ニ
トロヘンシル、０−ニトロベンジルなどのアラルキル基
、アリル、２−クロルアリル、２−メチルアリルなどの
アルケニル基、２，２．２−）リブロムエチル、２，２
．２−）リブロムエチルなどのハロゲン化アルキル基、
２−トリメチル７リルエチル基などを示し、３’ｌ−４
、Ｅ　　　　　　−：　メトキシ、エトキン、プロポキ
ン、イソプロポキン、ブトキシ、ｅｅｃ−ブトキシなど
のアルコキシ基、フェノキシ、ｐ−メチルフェニルオキ
シ、ｐ−メトキシフェニルオキシなどのアリールオキシ
基を示す。

ト 一般式印において特に好ましくはＲ１はメユリメーニト
ロベンジル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ア
リルオキシカルボニル、２．２．２−）　ｖブロムエチ
ルオキシカルボニル、１−エトキシエチルまたはクロル
アセチル基であり、Ｒ２お工びＲ３は水素原子、Ｘおよ
びＹは酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ４Ｇ！メチル
、エチル、ｔ−ブチルなどのアル−キルＪ、ｊ：、　、
水酸基の保耐ケされた２−ヒドロキシエチル、２−ヒト
τコキシー１−メチルエチル；アミ７基のｆ′！　：ｌ
”ｌされた２−アミノエチル、２−アミ／−１−メチル
エチル、２−（２−アミノエチル）オキシエチル、２−
ンジル基；フェニル、２−ナフチルなどのアリール、ｆ
４　：　１　　（ｐ−ニトロベンジルオキ７カルボニル
）ピロリジン−３−イル、１−アセチルピロリジン−３
−イル、１　　［、”　　（ｐ−ニトロベンジルオキ７
カルボニル）アセトイミドイル〕ヒロリジン−３−イル
、１−（Ｎ−メチルアセトイミドイル〕ピロリジン−３
−イル、１−ＣＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ホルムイミドイル〕ピロリジン−３−イル、１−
［Ｎ−メチルホルムイミドイル］ピロリジン−３−イル
、３，４，５．６−テトラヒドロ−２−メチル−１，３
−ピリミジン−５−イル、３．４．　Ｓ。

６−テトラヒドロ−２−メチル−３−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）Ｒ３−ピリミジン−５−イルな
どの脂環式複素環基；１−〔１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）ピロリジン−３−イル〕エチル、１
−（１−７セチルビロリシンー３−イル）エチル、１　
　（１−（Ｎ−（１）−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）ホルムイミドイル〕ピロリジン−３−イル〕エチル
、１−［１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベ、フリルオキシカル
ボニル）丁′セトイミドイル〕ピロリジン−３−イル〕
エチル、１−［４−４Ｎ−（ｐ−二トロペンジルオキシ
カルボニル）ホルムイミドイル３モルホリン−２−４ル
〕エナル、１−〔４−〔Ｎ−（ｐ−ニトロヘンシルオキ
シカルボニル）アセトイミドイル３モルホリン−２−イ
ル〕エチル、？−Ｃ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）モルホリン−２−イル〕エチル、１−（４−
アセチルモルホリン−２−イル）エチルなどの脂壊式桟
；’（ＪＪ’？基置換アルキル基； ２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−チェ
ニル、３−−、ｆ−エニル、２−フリル、３−フリル、
１，２．４−トリアゾール−３−イル、２−チアゾリル
などの芳香族複素環、”ふ；Ｒ５は水素原子、メチル、
ｔ−ブチル、ベンジル、ジフェニルメチル、ｐ−ニトロ
ベンジル、〇−ニトロベンジル、アリル、２−クロルア
リル、２、　ニア、　２−）リブロムエチル、２．２．
２−）リブロムエチル、２−トリメチルシリルエチルな
どのカルボキン基の保護基； Ｒ６はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキ／、６ｅＣ−ブトキシなどのアルコキシ基、
フェノキン、ｐ−トリルオキシ、ｐ−メトキンフェニル
オキシなどのアリールオキシ基、炭素数１〜４個の直鎖
または分枝鎖状ジアルキルアミノ貴べたとえばジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプ
ロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジー５ｅｃ−ブチルア
ミン、ジーｔｅｒｔ−ブナルアミンなどである。

一般式（ト）を有する化合物を第１表に例示する。

例　　　ＲＲ２Ｒ’ＸＹ　　　　　Ｒ’　　　　　　Ｒ
５Ｒ’ｉ　５ｉ（ＯＨρ３ＨＨＯＯ０ｆ−４３加″　　
０Ｆｉｔ２Ｓｉ（（］（、）２Ｂｕ　　ｎ　　〃ＯＳ　
　　ＯＨ，ＩＷＢ　　　　０Ｐｒ３　　珊ｒ’　　／／
　　００　　　■ｔＣ韮、ｈ２　０Ｐｒ１４　　…ｚＣ
■（ｓ　”　　０８Ｂｕ　ｃ圓ＯＲｔ５　　ＣＯ針へｎ
　　　ａ（３ＣＩ（３００Ｂｕ　　　　四ｐＣＯＺ３０
Ｐｒ５　　Ｃｏ２０Ｈ２Ｃｏｔ３ＨＨＯＯσ１２Ｐｈ　
　　　ｒｌＮＢ　　　　ＯＥｔ誌１゜ ７　ＧＩ２０Ｈ２０Ｋｔ　　ｔｔ　　ｔｔ　　ｔｔ　ｔ
ｔ　　　ａＡ２Ｐｈ　　Ｃ！Ｈ２ＯＰｒ’９　Ｃ庇、０
ＯＨＨｏ　ｓ　　　ｐＨＰＭＢ　　　ｃＩＱ　　ＩＷＢ
　　　　　ｔｔ　　ｕ　　ｔｔ　　ｔｔ　　ＣＨ２（Ｍ
、０ＦＮＺ　　　ｔｔ　　　　Ｃり ＮＺ ノｎへ賛ＩＺ ＰＮｚ Ｅ（Ｚ １ｚ ＣＣ’ｈＯＨ。

４６　　ｐ　　　ｔｔ　／／　ｔｔ　ｔｔ　　専　　ｔ
ｔ　　０Ｐｒ１４７〃〃〃〃〃　　つ　　Ｈ ４９ｔｔ　　　ｙ　ｐ　ｔｔｔｔ　　Ｑｔｔ　　ｐＮＺ 表中の略号は ＰＮＢ　：　ｐ　−ニー　ト０　ヘンシルｉｉ！；ＰＮ
Ｚ：　ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基ＯＮＺ：
　ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基一般式σ〕に
おいて特に好甘しくげＲはトリメチルシリル、ｔ−ブチ
ルジメチルシリル％Ｐ−ニトロベンジル、Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、２
，２．２−トリブロムエチルオキシカルボニル、１−エ
トキシエチルまたはクロルアセチル基でありＲ２お工び
Ｒは水素原子、ＸおよびＹは酸素原子または硫黄原子で
あすＲ４は水酸基の保護ちれた２−ヒドロキシエチル、
２−ヒドロキシ−１−メチルエチル；アミノ基の保ｎφ
爆れた２−アミノエチル、２−アミノ−１−メチルエチ
ル、２−（２−アミノエチル）オキシエチル、２−（２
リール＆；ｔ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ピロリジン−３−イル、１−アセチルピロリジン−３
−イル、？−［Ｎ−（Ｐ−二−二トロベンジルオキシ力
ルポニル〕ホルムイ　−テトラヒドロ−２−メチル−１
，３−ピリミジン−５−イル、３．４．５．６−テトロ
ヒドロ−２−メチル−３−（Ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボ＝ｘ）１．３−ピリミジン−５−イルなどの脂環
式複素環基；１−［１−（Ｐ−二トロベンジルオキシカ
ルポニル〕ピロリジン−３−イル］エチル、１−（１−
アセチルピロリジン−３−イル）エチル、１−［１−［
Ｎ−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホルムイ
ミドイル］ピロリジン−３−イル」エチル、１−［１−
［Ｎ−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセト
イミドイル」ピロリジン−３−イル］エチル、１−［４
−［Ｎ−ＣＰ−ニトロベンジルオキシカルボニル〕ホル
ムイミドイル１モルホリン−２−イル］エテル、１−［
４−［Ｎ　−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル１モルホリン−２−イル］エチル、１
−［４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）モル
ホリン−２−イル］エチル、１−（４−アセチルモルホ
リン−２−イル）エチルナトの脂璃式？ＬＪ累現Ｊ（１
＝佇１換アルキル基；２−ピリジル、３−ピリジル、４
−ピリジル、２−チェニル、３−チェニル、２−フリル
、３−フリル、１．２．４−トリアゾール−３−イル、
２−チアゾリルなどの芳香族複素糊基；Ｒｉ、ｌＴメチ
ル、℃−ブチル、ベンジル、ジフェニルメチル、Ｐ−ニ
トロベンジル、０−ニトロベンジｔ・、アリル、２−ク
ロルアリル、２．２．２−トリクロルエチル、２．２．
２−トリクロルエチルし２−トリメチルシリルエテルな
どのカルボキシ基の保護基である。

え 一般式σ）乞有すん化合物乞第千表に例示す４賀２表入 表中の略号は ＰＮＢ：　　Ｐ−ニトロベンジル基 ＰＮＺ：　　Ｐ−ニトロペンジルメキンカルポニル基Ｏ
ＮＺ：　　Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基一般
式（ＩＪ、　Ｃ組、σ）の立体配位に関しては特に限定
はないがチェナマイシンで代表される立体配位を有Ｔゐ
ものが好ましい。Ｒ４が不斉炭素原子を有する場合には
その光学活性体またはそれらの混合物であってもよい。

一般式（肩〕を有する化合物は、ウッドワードの方法に
エリＲ６がフェニル基である化合物が合成されているが
（例えば、亀谷ら、　Ｊ、Ｃ，８，Ｐｅｒｋｉｎｌ　、
　　１９８１　、　９６４　、　、Ｒ，Ｊ、　ＰｏｎＢ
ｆｏｒｄ　ａｎｄ　Ｒ。

Ｓｏｕｔｈｇａｔｅ　　、　　、Ｔ、Ｏ，Ｓ、　　ｃｈ
ｅｍ　　ｃｏｍｒｏ、、　　　１９旦０．１０８５）　
　、そのチオエステル体（ｘ＝０．　Ｙ＝Ｓ）の環化反
元。

はＲ４が電子吸引性置換基の場合のみ進行し、Ｒ４がア
ルキル基の場合にきわめて困離であ＾ことが知られてい
る。本発明者らに一般式（ＩＪ　’Ｙ有する化合物のう
ちで、従来のウッドワードの方法とにより容易にイにら
れることン見い出し７た。嘔らにこ＼に缶られた一般式
（ＩＪを有する化合物けＲ４が電子吸引性置換基である
と否と７問わずその環化反応がきわめて円滑に進行しで
、力）シバペネム化合物（ＩＶＪケ力えることン見い吊
した。一般式（Ｉ）、　（ｌｖ）を有する化合物は次に
述べる方法にＬｒ）合成孕れろ。

本発す・」に用いた出発物質である一般式（１）ゲイイ
する化合物Ｒ１次のようにして得ることができ／−）。

（明 （１） すなわち一般式（ＶＪ　Ｊ式中、Ｒ１は水素原子またに
水酸基の保饅基乞、Ｒ７）は脱力１＃基を、Ｒｅｌは水
素原子またはアミド基の保設基を示す］馨有する化合物
にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエス
テルの存在下に化合物 （ＣＨ３）３ＳｉＣＲ’Ｒ２δ−ＹＲ’　［式中、Ｆｌ
およびＲ２は同一または異なる水素原子、アルキル糸ま
たはアリール基を、Ｘお工びＹは酸素原子または硫黄原
子ン、Ｒ４はアルキル基、屓換アルキル基、アラルギル
晶　脂環式複素環基、脂環式複、Ｆ′壌置換アルキル基
、アリール基または芳香族複素環基乞示す」乞反応σせ
ると一般式（ＶＪのＲ８′がトリメチルシリル基の場合
は後処理で容易に脱シリル化がおきて、化合物（ロ）［
式中、Ｒ＋　、　Ｒ２、Ｒ５およびＲ４は前述したもの
と同意義Ｚ示す］が倚ら１１ついでアルコキシオキサリ
ルクロリドと反応させ（ｊ）［式中、Ｒ’、Ｒ２，’Ｒ
’、Ｒ’、Ｒ５，Ｘお工ひＹげ前述したものと同意義ケ
示す］χ得ゐ、（ＶＪのＲ８′Ｒ３，Ｒ’、Ｒ５，Ｘ及
びＹは前述したものと同意義Ｒ２，Ｒ’　、　Ｒ’　、
　Ｒ５，Ｘ及びＹは前述し友ものと同意義を示す」が得
られ、（■）乞塩基で処理し化合物（■）としくＸ動ケ
オゾン酸化しＣＩ）ｆＡ：イ：ｔ／）。Ｆ８’がアルコ
キシオキサリル基の場合は（１）が得られる。

なお一般式（＋３で示甥れる本発明の出発物質は以下に
述べる二つの方法によっても得ることができる。

第−法、化合物（［）Ｊとベンジル　トリメチルシリル
アセテートの反応でイけらｎ、る化合物（ＸＪのトリメ
ナルノリル基及びベンジル基乞常法に従って除去し化合
物（Ｘｌｌとする。

（幻　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ）（式中Ｒ
１６は一般的水醒基の保護基乞、Ｒ１７は一ルメルカブ
タン、ブチルメルカプタン、２−（Ｐ−二トロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エナルメルカブタン、２−［
［Ｎ−ｔｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニル〕ホルム
イミドイル」アミノコエチルメルカプクン、１−（Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリシン−３−イ
ルメルカプタン、＋−［Ｎ−（Ｐ−二トロベンジルオキ
７カルボニル）アセトイミドイル」ピロリジン−３−イ
ルメルカプタンの工うなメルカプタン類乞縮合剤、たと
えばジシクロヘキシルカルポジ１ミド、ジフェニルホス
ホリルアミド−トリエチルアミンなどの存在下に反応ζ
せ化合物（Ｘｌｌ）へ導き次いでアルコキシオキサリル
クロリドを反応場せて化合物（ＸＩ）へ婢〈方法である
。

第二法、化合物（ＸＩＶＵとベンジル　トリメチルシリ
ルアセテートの反応で＋１られる化合物（ＸＶ）のベン
ジル基を常法に従って除去し化合ｑ勿（■）とする。

（ＸＩｖ）（ＸＶ） （ｘｖｌ）（■ （ＸＶＭ） （式中、Ｒ１６は一般的水酸基の保獲基乞、Ｒ１７０ピ
ルメルカプタン、ブチルメルカプタン、２−（Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルメルカプク
ン、２［［Ｎ−ＣＰ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ホルムイミドイル］アミノコエチルメルカフ”クン、
１−ＣＰ−二トロベンジルオキシ力ルボニル〕ピロリジ
ン−３−イルメルカプタン−１−［Ｎ−（Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイルコビロリジ
ン−３−イルメルカプタンの工うなメルカプタン類を縮
合剤、たとえばジシクロへキシルカルボジイミド、ジフ
ェニルホスホリルアミド−トリエチルアミンなどの存在
下に反応場せ化合物へ導き次いでオゾン酸化し化合物（
ｘｖｌ）へ導く方法である。

一般式（１）７有する化合物と一般式（Ｉｔ）　’に有
する化合物ヶ非プロトン性溶媒、たとえばヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチ
レン、１，２−ジクロルエタン、酢酸エチル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アセトニトリルまｆ（はジメ
チルホルムアミド中で（一般式（ＩＩＪ’！ａ’有する
化合物ン加え、この混合物乞）５０〜１５０°Ｃに５時
間ないし５０時間加熱したのち、浴媒お工び低沸点物乍
４乞減圧下留−去することにエリ一般式（薯Ｊン有する
化合物が得られる。この際反応温度および時間に工っで
一般式ＩｆＶ）’ｌ有する化合物も同時に生成してくる
。

化合物（１）を孕らに上記の非プロトン性溶媒中８０〜
１５０°Ｃに１０時間から５１１間加熱することにより
一般式賀）を有する化合物がイ（）しれる、３なお化合
物（１）乞単錐することなく化合物（１）と（Ｉｔ）の
混合溶液ケ反応温度８０〜１５０℃で１０時間〜５日間
保つことにより化合物ＯＶＪ　’ｆｔ　ｌ接待ることが
できる。以下に（扉）およびｆＪＶＪの製造法ケ実施例
及び参考例によって示す。

実施例 乙イ （３Ｓ、　　４　Ｒ）−３−［（Ｒ１−ｔ−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエテル］−４−（ブチルチ
オ）カルボニルメチル−１−（Ｐ−二トロベンジル〕オ
キシオキサリル−２−アゼチジノン６１　Ｒ９（ｏ、ｉ
　１　ｍｎ＋ｏｌθ）と卯すン岐トリメチル１０７１ｔ
１９　（０，８６ｍｍｏｌｅ）の酢酸エチル７　ｍｅ　
浴液欠、窒素気流下７０〜８０℃で６５時間撹拌すゐ。

溶剤及び過剰の亜リン酸トリメチルを減圧下留去して　
Ｇ　９　Ｔｎｆ）　（収率９５係〕の粗製目的物乞油状
物質として得た。

Ｉ　ＲスペクトルｖＣ””５−’　：　１７４０．１６
７５゜ｍａｘ　　／７＋１ １６３１．１５２０．１３４３ Ｎ　Ｍ　Ｂ、スペクトル（ＣＤＣＩ、）　　δｐｐｍ　
：０．０５（６Ｈ，θ）、　０．８５（９Ｈ，８）、　
０．９０（３Ｈ。

ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．２３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）
。

〜１．５　（４Ｈ，ｍ）、　　２．５〜３．１　（５Ｌ
　　ｒｎ）、　　３．８７（９Ｈ，ｄ、Ｊ＝１２Ｈｖ　
）、　　〜４．０　（２Ｈ，ｍ　）。

５０〜５．４（２Ｈ，ｍ）、７．４８ａｎｄ？、５４（
２Ｈ，ｄ）。

８．１５　ａｎｄ　８．１９　（２Ｈ，ｄ　）実施例　
２ ０ＯＰＮＢ 実施例（１）で述べた粗製［３Ｓ、４Ｒ）３−［（Ｒ１
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエテル］
−４−（ブチルチオ〕カルボニルメチル−１−［１−（
Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリメトキシホ
スホンニリテンメチル］−２−アゼチジノン６９　Ｔｎ
ｆｌ　（０，１０ｍｍｏｌｅ　）とハイドロキノン５　
ｒｎｇｌ　（０，０５ｒｏｍｏｌｅ）のキシレン９ｍｔ
浴液袈窒素気流下１２０℃で２１時間加熱する。

溶剤を減圧上留去し、残ｌ査乞薄層クロマトグラフィー
［展開浴剤：ヘキサンー酊酸エチル（１，５：１）」で
精製し１０　ｒｎ９　（収率１Ｂ％〕の目的物７油秋物
質として得た。

工Ｒスペクトル　νＣＨＣｔ３ｃｍ　’　：　１７６８
．１６９５゜８ｘ １６０５．１５２０．１３４５ ＮＭＲスペクトル（Ｃ！Ｄｅｌ、）δｐｐｍ　：０．０
０（６Ｈ，Ｅｌ　）、　０．８０（９Ｈ，ｅ　）、　０
．８６（３Ｈ。

ｔ、Ｊ＝６Ｈ７）、１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ””６Ｈ７
）。

−１，５（４Ｈ，ｍ）、　２．７７　（２Ｈ，ｔ−１１
１ｃｅ、　Ｊ＝６Ｈ７）、３．０〜３．２（３Ｈ，ｍ）
、４．０〜４．３（２Ｈ。

ｍ）、５．１７（ＩＨ，＋１．、Ｔ”１４）１ｚ）、５
．４２（１Ｈ。

ｄ、、　Ｊ”１４Ｈ７）、　７．５９　（２Ｈ，ｄ、　
Ｊ”９Ｈ２）。

８．１６（２Ｈ，ｄ、　、Ｔ−９Ｈ７）実施例　３ ルボン酸　Ｐ−ニトロベンジルエステル（３Ｒ，４Ｒ）
−３−［Ｑ’ｔＪ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシエテル］−４−４（イソプロピルチオ）カルホ
ニルメテルｌ−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキサ
リル）　−２−７ゼテジノ７５５　ｒｎ１７（０，１０
ｍｎ１ｏ１ｐ　）、！Ｉ＋；リン酸トリニトリエチル１
００ｙ（０，６０ｍｍｏｔｏ）、バー１ドロキノン３ｒ
ｎｙｗキシレン５．５　ｍｌ、中、縁・素気ｂ１１．下
１２０℃テ１５時間加熱する。減圧下浴媒および４＄４
６（ｌ！＋物質ケ留去して得ら７’−る油状物乞ふたた
びキシレン５．５Ｎに溶かし、汐紫気流下ｔ２０’０で
１０時間加熱″ｌｊ−ゐ。反応終了後、Ｒ１媒を減圧上
留去して得られる残留物ン分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー［展開浴媒：へキツンー酢酸（３：１）］
で分鮪（精製し、目的物２６６■（収率５１％）を油状
物として得た。

工Ｒスペクトル　シ二買’　ｏｎ　’　：　ｔｒｅａ　
、　１６９ＯＮＭＲスペクトル　（ＯＤＯ／、）δｐｐ
ｍ　：０．０　Ｂ、（６Ｈ，日）、　　Ｏ，［ｌ　７　
（９Ｈ，ｅ　）、　　１．２５（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６Ｈ２）、　１．３５（６Ｈ，ｂｒ、ｄ、　
、ｒ＝７Ｈｚ）。

２．９〜３．ｌｉ　（３Ｈ，ｍ）、　３．９〜４．４（
２Ｈ，ｍ）。

５．２０（ＩＨ，Ｊ＝１４Ｈ７）、５．４５（ＩＨ，Ｊ
＝１４Ｈｖ）、７．６２（２Ｈ，ｄ）、８．１９（２’
［（、ａ）実施例　４ １）　　　（３Ｓ　、　　　４Ｒ）−３−［（Ｒ１−１
−ｔｅｒｔ、−ブチルジメチルシリルオキシエテル］−
１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−４−［
（フェニルチオ）カルボニルメチル］−２−アゼチジノ
ン５１１　ｍ９　（０，８７２ｍｍｏｌｅ　）と亜リン
酸トリメチル１．０３　ｇ（８，４６ｍｍｏｌｅ　）の
酢酸エチル５０ｍ１溶液ン窒素気流下４日間７０°Ｃで
攪拌する。溶剤乞留去してａ）られる残渣乞ローバーカ
ラム（Ｅ、メルク社製）ケ用いるクロマトグラフィー［
展開溶剤：ベンゼンー酢酸エテル（１：３）］に付し、
不純物を若干含む目的物１５８Ｉｎ２と（３６，４Ｒ）
−３−［（Ｒ１ｔ　−ｔｅｒｔ−ブテルジメチルリルオ
キシエチル］−１−［１−（ｐ−ニトロペンジルオキシ
カルホニル）トリメトキシホスホラニリデンメチル］−
４−［（フェニル１オ〕カルボニルメチル」−２−アゼ
チジノン１７６１ψ（収率２９％）を得る。目的物ケ含
む混合物はさらに、ローバーカラムを用いろクロマトグ
ラフィー［展開溶剤　ヘキサン−アセトン（３，５：１
）］で精製し、目的物１０３＋ｎ９（収率２１％）ン固
体として得た。これ７アセトン一ヘキサン混合溶剤から
再結晶を行い、融点１４４〜１４５．５°Ｃの無色針状
晶を得た。

トリエトキシホスホニウム　イリド ＣＨ（Ｍ！３−１ １Ｒスペクトル　νｒｎａＸｃｍ １７４０、　１６９５．　１６３６．　１５２０゜　３
４５ ＮＭＲスペクトル　（１ｍ！ＤＣ！、　）δｐｐｍ　：
０．００（６Ｈ，日）、０．８７（９Ｈ，日）、　　１
．２６（３Ｈ，ｄ、　　、Ｔ＝６Ｈ７）、　　２．７−
３．５　（３Ｈ，ｍ）。

３．８４　（９Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝１２Ｈ７）、　　〜４
．２　（２Ｈ。

ｍ）、　４．１１−５．５（２Ｈ，ｍ）、　７．３６（
５Ｈ，ｅ）。

７．５３（２Ｈ，（１，Ｊ：９Ｈ７）、　８．１７（２
Ｈ。

ｄ、Ｊ＝９Ｈ７） カルバペネム 元素分析値　Ｃ２８Ｈ３４１Ｊ２０６ＳＳｉとして計算
イｌ（ｊ、　：　Ｃ，６０，６２；　Ｈ，６，１８；　
Ｎ、　５．０５　；Ｂ、　　５．７８ 実測値：　０．６０．５０　；　Ｈ，６，１１；　Ｎ、
　４．７７　；Ｓ、　　５．９１ 工Ｒスペクト／Ｉ／　　ｖｎｕｊｏｌｒｙｎ　’。

ｒｌａｘ １７７７．１６９１．　１５２４ ＮＭＲスペクトル　（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　’０．０
６（６Ｈ，θ）、０．８３（９Ｈ，ｅル　１．１５（３
Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　　２．６３（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝Ｉ　ＧＨｚ　）、　　３．０５　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、
、　　Ｊ＝４．　２Ｈ７）、　　４．０　４　　（１）
１．　　ｄｄ、　　Ｊ＝１　０＊　　２　Ｈｚ　　）ｍ
４．１９　（Ｉ　Ｈ，ｄｑ、　　Ｊ＝４．　６Ｈ７）、
　　５．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　５．５
０（ＩＨ，ｄ。

Ｊ二１４Ｈ２）、７．２〜７．７　（５Ｈ，ｍ）、　７
．６４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ７）、　　８．１９（２Ｈ
，ｄ。

Ｊ＝９Ｈ２） Ｉｔ）　　（３８，４Ｒ）　　　３−［（Ｒ１−１−ｔ
ｅｒｔ　−ブチルジメチルシリルオキシエテル］−１−
［１−（Ｐ−二トロペンジルオキシ力ルボニル〕トリメ
トキシホスホラニリテンメチルー４−［（−ｙｘ＝ルチ
オ〕カルボニルメチル］−２−アゼチジノン１９　ｍ９
　（０，０２７ｍｍｏｌｅ　）と触媒量のハイドロキノ
ン７キシレン７　ｍ／、　中、窒素気流下１２０℃で４
時間攪拌する。反応終了後、溶剤乞留去し、残りをロー
バーカラム［展開溶剤　ヘキサンーア七トン（３，５：
１）］で精製し、７．５　ｒｎｑ　（収率４５％〕の目
的物ケ固体として得た。

Ｉｌ＋）　　　　（３８，４Ｒ）−３−［（Ｆυ　−１
−ｔｅｒｔ　　−ブチルジメチルシリルオキシエテル」
−１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−４−
［（フェニル１オ〕カルボニルメチル１−２−アゼチジ
ノン１１４　＋ｙ　（０，１９４ｍｍｏｌｅ　）と亜リ
ン酸トリエチル２５８１＋Ｔ９　（１，５５ｍｍｏｌ）
のトルエン１０ｍ１溶液ケ皇累気流下１００℃で１８時
間攪拌する。溶剤ン留去してイ（ｔられゐ残渣乞、１１
）と同様にして精製し、目的！吻９５　ｒｎｑ（収率８
８係）を結晶として得た。

ｌｖ）　　ｆｉｌ）の反応に於いて、亜リン酸トリエチ
ルのかワ！；ｌ　ＶＣ亜リン酸トリイソプロピル３２４
ｒｎｑ（１，５６ｍｍｏｌｅ　）　’＜用い、８３　Ｉ
ｎ？（収率Ｔ７％）の目的物を結晶として得た。

ｖ）　　１ｉｌ）の反応に於いて亜リン酸トリエチルの
かわりに、亜リン酸トリメチル１９５　ｒｎｙ　（１，
５６ｍｍｏｌｅ〕を用いて同様に反応ケおこない、３７
ｍ９　（収率３４受）の目的物を結晶とＬ７て得た。

実施例　５ Ｃｏ２ＰＮＺ （３Ｓ、　　４Ｒ）−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエテル］−４−［［２−（Ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ〕エチルチオ
」カルボニルメチル」−１−（Ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキザリル）−２−アゼチジン７１６５　ｍ９　（０
，２３ｍｍｏ１０）−亜リン酸トリエチル２２９　Ｉｎ
９　（１，３８ｒｒ＋ｍｏ７ｅ）、ハイドロキノン４　
ｍｐ乞トルエン１６．５１Ｍ中、窒素気流下９０’Ｃで
３０時間加熱すめ。減圧下トルエンを留去して得られる
残留物を、ローバーカラム−ＢｔＢ。

メルク社’ｆＱ　）　Ｙ用いる液体クロマトグラフィー
で分１１１１ｍ精製する。ベンゼン−ａｐエチ／ｌ＝　
（２’１）混＠浴媒で溶出し、目的物１０１１１Ｌ／（
収率６Ｂ％）？固体として得ｌこ。ベンセン−ヘキサン
よりＰ＋結結晶分こない、融点６５〜６１′ｃを有する
純品２得た。

工Ｒスペクトル　シ悶許ｃｍ−１：　３４５０．１７７
０゜１７１５、１６９６（ｓｈ、） ＮＭＲスペクトル　（（１！ＤＣｊ３．）δｐｐｍ　’
０．０９（６）１．θ）、　０．８８（９Ｈ，８）、　
１．２３（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、　２．７〜３．７　（６Ｈ，ｍ
、）、　３．９〜４．５（２Ｈ，ｍ）、５．１３（２Ｈ
，８）、５．１５（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝１４Ｈ２）、　５．３９（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝１４
Ｈ７）。

７．４１　（２）１．　ｄ）、　７．５６（２Ｈ，ｄ　
）、　８．１３（４Ｈ，ａ） 実施例６ （３８、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシオキサリル）　−４−［［（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−
３−イルチオ〕カルボニルメチル］−２−アゼチジノン
１９０　ｍ９　（０，２５ｍｍｏｔｅ）、亜ＩＪ　：ｙ
　Ｌ＆　）リエチ／ｌ、　２５Ｑ　ｙｇ　（１，５ｍｍ
ｏｌｅ　）、及びハイドロキノン１０　Ｉｎ９　（０，
０９ｍｍｏｔ６　）のトルエン２０　ｍｌ溶液を９５℃
で１５時間加熱する。

薄層クロマトグラフィー上で原料が消失し、（３ｓ　、
　４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル］−１−１１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）トリエトキシホスホラニリ
デンメチル］−４−１〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カ
ルボニルメチル］−２−アゼチジノンと目的とするカル
バペネム化合物が認められる。浴剤と過剰の亜すン酸ト
リエチルケ減圧下留去し、残った油状物置に再びトルエ
ン２０ｍ１”ｆ加え、９５℃で５１時間加熱し、ホスホ
ラン化合物の環化反応を７隆結させろ。浴剤留去後の残
五乞ローバーカラムを用いて４’ｉ’ｔ　Ｈする。ベン
ゼン−酢酸エチル（２：１）混合溶剤でｔｇ出される部
分を集め、目的物１５１５ｍ９　（収率８３チ）を油状
物質として得た。

ＩＲスヘクトルｖ　ＣＨＣＬ５ｃｍ−’　：　１７７０
　、１６９５ａｘ ＮＭＲスペクト／Ｉ／　（ＯＤＯｊ５）δｐｐｍ　：０
．０７　（６Ｈ、ｓ　）　、　０．８７　（９Ｈ、ｓ　
）　、　１．２４（３Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）
　、　１．６〜２．Ｆｌ　（２Ｈ、　　ｍ　　）　　、
　　２．８〜４．５　　（１０Ｈ、ｍ　　）　　、　　
５．１４　　（ＩＨ，（１，Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．１８
（２Ｈ，ｓ）。

５．４１　　（Ｉ　　Ｈ＊　　ｄ−Ｊ　＝１４　　Ｈｚ
　　）　　１７．４６　　（２Ｈ＋ｄ＋””９Ｈ２）＋
７．６１　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９　　Ｈｚ　　）　　、
８．１７’（４Ｈ、ｄ　　、　　Ｊ　＝９　　Ｈｚ　　
）参考例１ （３Ｅ！　、　４Ｒ）　−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−カルボキ
シメチル−２−アゼチジノン！Ｍ２　ｔｎ９　（１，８
９ｍｍｏｊθ）、ブチルメルカプタン２１２宜９　（２
，３６ｍｍｏｌｅ）、トリエチルアミン３８１　ｍｇ　
（３，７７ｍｍｏｔｏ　）及びジフェニルホスホリルア
ジド１．０４　、！ｉ’　（３，７８ｍｍｏｌｅ　）ノ
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＪｔｍ？ｆｆｌ’
ｆ室温で一夜放置する。反応混合液をβ■゛臓エチェチ
ル１ｊ釈して数回水洗し、乾燥した後、浴剤乞留去する
。残漬１．２５．９をシリカゲル２３＆を用いるカラム
クロマドグラフイーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（４
；１〜２：１）混合浴）１りでｒ＆出す／、）部分化集
め６４９＊ｇ　（収率９６チ）の目的物を得た。ヘキサ
ンから再結晶をおこない、融点５６５〜５７℃の無色針
状晶を得た。

元素分析値　Ｃ＋７Ｈ３５ＮＯ５ＥＩＳ１として計１７
１イ１ｔｒ　　：　　Ｃｔ　　５６７８　　；　　Ｈ、
９２５；　　Ｎ　　ｔ　　３．９０　　；　　Ｈ３、８
，９２実測値：　Ｃ，５６８８；　ｕ　、　９．１５　
；　Ｎ　、　３．８７　；　Ｓ、　９．０８工Ｒスペク
トル　シＮｕｊｏｔｃｎＬ−１　。

ｍａｚ ３１６０　、３０９０　、１７６２　、１７２２　、１
６［１３ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯ４）δｐｐｍ　：０
．０６　（６Ｈ、ｓ　）　、　０．８９　（９Ｈ、ｓ　
）　、　０．６〜１．８　（７Ｈ、ｍ　）　、　１．１
６　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６Ｈｚ　）　、　２．Ｔ
　〜３．２　（５）１　、　ｍ　）　、　３．９　（１
）ｉ　。

ｍ　）　、　４．１５　（Ｉ　Ｈ、ｑｕｉｎｔｅｔ　、
　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　。

６．４　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ　） 参考例２ ノン （３８、ＪＲ）　−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−１ブチルチオ）
カルボニルメチル−２−アゼチジノン１５０■（０，４
１８ｍｍｏｌｅ　）　　の１．２−ジクロルエタン６　
ｍｌ溶液を氷冷し、窒素気流下、攪拌しながら１．４−
ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン１４０所９　（
１，２５ｍｍｏｌｅ）とｐ−ニトロペンジルオキシオキ
リルクロリド３０５■（１，２５ｍｍｏｌｅ　）を順次
加える。２時間攪拌を続けた後、０．１　Ｍ　−リン酸
緩衝液（ｐＨ７，２）を加えて反応を終了させる。塩化
メチレンを加え、有機層を水洗し、乾燥する。浴剤留去
後の残ｉｆ（２３２１９’ｌシリカゲル６ｇＹ用いるカ
ラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル
（５：１）混合湿剤で浴出される部分な集め１３２ｍｇ
（収率５６％）の目的物を油状物質として得た。

工Ｒスペクトル　νＱ）ｌｔｊｔ５−、・ｍａｚ　　ｃ
ｍ　　。

１８０２　、１７５６　、１６８７　、１５２０　、１
３４６ＮＪＪＲスペクトル（ＯＤｃｔ５　、１００　Ｍ
Ｈｚ）δｐｐｍ　：０．０１　（３Ｈ、ｓ　）　、　０
．０８　（３）ｉ　、　ｓ　）　、　０．８０（９Ｈ、
ｓ　）　、　０．９０　（３Ｈ、ｔ、　Ｊ　＝　５　Ｈ
ｚ）　。

１．１９（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、〜１．５　（４Ｈ
、ｍ　）　、　２．９０　（２Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　６
　Ｈ２）　、　３υ０（Ｉ　Ｈ、ｄｄ、　Ｊ　＝　Ｉｓ
　、　８　Ｈ２）　、　３．３３　（ＩＨ、ｔ　、　Ｊ
　＝　３　Ｈ２）　、　３．４０　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ　、
　Ｊ＝１５，４Ｈ２）、４．３１（ＩＨ，ｑｄ、Ｊ＝６
゜３Ｈｚ）、４．６１（ＩＨ，ｄｄｄ、Ｊ＝８．４．３
Ｈｚ）　　、　　５．４０　（２Ｈ、ｓ　　）　　、　
　７．５８　　（２Ｈ、（１、Ｊ＝　９　Ｈ２）　、　
８．２３　（２’Ｈ、ｃｌ　、　Ｊ　＝　９　Ｈｚ　）
参考例３ チジノン ［３Ｓ、４Ｒ）−３［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル］−４−カルボキシメチル−
２−アゼチジノン１．ｉ５　ｊＩｙ　（４，００ｍｍｏ
ｌｅ）、イソプロピルメルカプタン３８０■（５，００
ｍｍｏｌｅ）、トリエチルアミン８０８　ｔｎｇ　（８
，００ｍｍｏｌｅ）、　ジフェニルホスホリルアジド２
．２０　ｇ（８，００ｒａ＋ｕｃｌｅ　）をジメチルホ
ルムアミド２０ｍｅ中で順次混合し、室温で１５時間放
置する。反応終了後、反応液を氷水にあけ酢酸エチルで
２回抽出し、水洗する。乾燥後溶媒を留去し得られた残
留物をシリカゲル３ｏｇｖ用いろクロマトグラフィーに
付す。ヘキサン−酢酸エチル（３：１）混合溶媒で浴出
し、目的物１．０６　、？　（収率７７％）を同体とし
て得た。ヘキサンより再結晶をおこない、融点８７−９
０℃を有する純品を得た。

元素分析値　０，６Ｈ３，Ｎｏ、ＳＳｉとして言１３″
？、値：　０　、５５ｊｌｉｌ　；　Ｈ、９Ｊ）４　；
　Ｎ　、　４０５　；　Ｓ　、　９２８災測値：　Ｕ　
、　５５．７１　；　Ｈ、８９２；　Ｎ　、　４２５　
；　Ｓ　、　１２４ＣＨＣｔ３　−＋　− ＩＲスペクトルシＩＩｌａｘｃｍ。

３４２０　　、　１７５６　　、　１６７ＯＮＭＲＸ　
ベクトル（ＣＤＣｌ２　）　δｐｐｍ　：０．０８　　
（６Ｈ、ｓ　　）　　、　　０．８８　　（９Ｈ、ｓ　
　）　　、　　１．１８（３Ｈ、ａ　　、　　Ｊ　＝　
６　　Ｈｚ　　）　　、　　１．３０　　（６Ｈ、（１
。

Ｊ　＝　７　Ｈ２）　、　〜２．８　（３Ｈ、ｍ　）　
、　３．６４　（Ｉ　Ｈ、ｍ　　）　　、　　３．８〜
４．４　　（２Ｈ、ｍ　　）　　、　　６．３　　（Ｉ
　　Ｈ。

ｂｒ　　） 参考例４ ゼチジノン ■ （３８、４Ｒ）　−３−［［Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−［（イソプロピ
Ａチオ）カルボニルメチル」−２−アゼチジノン７０８
　ｍ９（２，０５ｍｍｏｔｅ　）　Ｙ　ｋｒｌ化メチレ
ン３０−に浴かし、水冷攪拌下、１．４−ジアザビシク
ロ［２，２，２］オクタン６８９　ｍｇ（６，１５ｍｍ
ｏｌｅ　）ついでｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル
クロリド１．５０１１　（６，１５ｍｎｏｔｅ　）　Ｙ
加える。１．５時間後、反応液を０．１　Ｍ　−ＩＪン
酸緩衝液２０ｍ１にあけ、有機層乞わけ、水洗する。乾
燥後、溶媒を留去し、得られる残留物をシリカゲル２０
ｇを用いるクロマトグラフィーに・イ寸す。ヘキサン−
酢酸エチル（５：１〜４：１）混合溶媒で溶出し、目的
物１．１２　＃　（収率９９チ）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル　シ０ＨＯ７４−１゜ ｍ、Ｘｃｍ　　。

１８０４　、１７５５　、１６９５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ５）δｐｐｍ　：−ロ、０
３　　　（３Ｈ、ｓ　　　）　　　、　　　０．０５　
　　（３Ｈ、ｓ　　　）　　　、　　　０．８０（９Ｈ
，ｓ）、１．１８（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６Ｈ２）。

１−３０　（６Ｈ、ｂｒ、ｄ　、　Ｊ　＝　７　Ｈｚ　
）　、　２．９６　（ＩＨｌａｄ　、Ｊ−１５，８Ｈｚ
　）　＋　３．３２　（Ｉ　Ｈ。

ｄａ　、　Ｊ　＝　１５　、４　Ｈ２）　、　３．３３
　（Ｉ　Ｈ、ｔ　。

Ｊ　＝　３　Ｈ２）　、　３．６５　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）
　、　〜４．３　（ＩＨｌｍ）１〜４．６（ＩＨＩｍ）
、５．４Ｑ（２Ｈ。

ｓ　）　、　７．５６　（２Ｈ、ｄ　）　、　８．１７
　（２Ｈ、ｄ　）参考例５ ノン （３Ｒ、４Ｒ）　−４−アセトキシ−３−［（Ｒ１−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−１
−トリメチルシリル−２−アゼチジノン１．１０　、！
ｉ’　（３，０６ｍｍｏｌｅ　）と、トリメチルシリル
チオ［１２８−フェニルエステル９６１■（４，２９ｍ
ｍｏｌｅ　）の環化メチレン２０　ｍｌ　Ｍ　１１１　
’１−２０℃に冷却し、窒素気流下トリフルオロメタン
スルホン酸トリメチルシリルエステル０．０７　ｍｌ（
０，３２ｍｍｏｔθ）を加える。−１０°〜５ｃで４５
時間攪拌した後、水を加えて反応を終結させろ。塩化メ
チレン層を希重曹水、鯖相食塩水で洗浄する。

溶剤留去後の残ｍ４ヲエタノール１５　ｍｅに府かし、
フッ化カリウム５８■（１，００ｍｍｏｌｅ）を加え室
温で１．５時間攪拌する。反応液を用ｉ１ｆエチルで希
釈し、水、飽和食塩水で洗い、溶剤を留去する。残清な
ローバーカラム（Ｅ、メルク社製）を用いて精製する。

ヘキサン−酢酸エチル（２：１）混合溶剤で溶出される
部分ケ果め目的物９６１ｍｇ（収率８３％）を結晶とし
て得た。ヘキサンから再結晶すると融点９４〜９５℃の
針状晶か得られた。

元素分伯値　Ｃ１ｐＨ２ｐＮＯ５ＳＳ１として言十ηイ
直：　　Ｃ、６０，１２；　　）（、７，７０；　　Ｎ
　　、　　３６９　　；　　Ｓ　　、　　８．４５実測
値：　０　、６Ｇ、１１　；　Ｈ、７，７２；　Ｎ　、
　３．６７　；　８　、８５４ＩＲスペクトル　弓丑１
　ｃｍ−＋　。

３１６０　．３［１（ｌ［ｌ　　、　　１７ＢＴ　　、
　　１７２６　　、　１７０３ＮＭＲスペクト／Ｌ／　
（ＵＤＯｔ５ンδｐｐｎｕ　：０．０８　　（６Ｈ、ｓ
　　）　　、　　０．８８　　（９Ｈ、ｓ　　）　　、
　　１．２１（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　　）
　　、　　２．７〜３．２　　（３）（、ｏ　　　）　
　　１　　４．０　　　（Ｉ　　Ｈｌ　　ｍ　　　）　
　　＋　　　４．１８　　　（Ｉ　　Ｈ。

ｑｕｉｎｔｅｔ　、Ｊ　＝　６　Ｈ２）　　、　　６．
１０　　（Ｉ　　Ｈ、ｂｒ。

ｓ　　）　　、　　７．４　　（５Ｈ、ｓ　　）参考例
６ エニルチオ）カルボニルメチル］−２−アゼチジノン （３Ｓ、　ＡＲ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル；セキジエチル］−４−［（フェ
ニルチオ）カルボニルメチル］−２−アゼチジノン７４
７　ｍｊ＋　（１，９７ｍｍｏｌｅ）と）　ｊｌエチル
アミン３９８肩＆　（３，９４ｍｍｏｌｅ）の塩化メチ
レン２０πｅ俗液を氷冷し、窒素気流下ｐ−二トロベン
ジルオキシオキサリルクロリド９６（ｌ　ｍｇ　（３，
９４ｍ＋ｎｏｔｅ　）を加え、２時間攪拌する。反応液
［０，Ｉ　Ｍ　ＩＪン酸緩衝液（１）Ｈ７，２）を加え
反応を終結させ、有機ｐｆ）を水洗する。乾燥後、浴剤
ｙａ−留去し、残置をシリカゲル１５＆Ｙ用いるカラム
クロマトグラフィーに・［」す。ヘキサン−酢酸エチル
（６：１〜３：１）で浴出されろ部分嘔：集め１．０３
２　＃（収率８９饅）の目的物を油状物置として得た。

ＣＨＣｌ５　　−１　２ ＩＲＥ、ベクトル　ν［［］ａＸＣｒｎ１８０５　、１
７５７　、１６＆９　、１６Ｇ９　、１５２２　、１３
４４ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｌｓ　）δｐｐ＋ｎ　ニ
ー０．０２　（３Ｒ、ｓ　）　、　０．０４　（３Ｈ、
ｓ　）　、　０．０８（９Ｈ，ｓ）、１．１４（３Ｈ，
ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。

３．１１　（Ｉ　Ｈ、ｄａ　、　Ｊ　＝−１５、３Ｈｚ
　）　、　３．３５（Ｉ　Ｈ、ｔ　、　Ｊ’　＝　３　
Ｈｚ　）　Ｉ　３．４３　（Ｉ　ＩＩ　、　ｄａ　。

Ｊ＝１５　、４Ｈ２）　、　４．２＋１　（ｑｄ　、　
Ｊ＝６　、３Ｈ２）　、　４６４　（Ｉ　Ｈ、ｄｄａ　
、　Ｊ　＝　８．４，３　Ｈ２）　。

５．３７　　　（２Ｈ、ｓ　　　ン　　＋　　　”２　
　　（２”　　　＊　　　ｄ　　　＋　　Ｊ　””　　
８Ｈｚ　）　、　３．１６　（２Ｈ、ｄ、　Ｊ＝！１　
Ｈ２）ニー≧シ４゛１シ１１７ チジノン （３Ｓ、　４Ｒ）　−３−［（Ｒ）−１ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル」−４−カルボヤシメチ
ル−２−アゼチジノ：／　１．Ｏｔｌ　＆　（３，４ｆ
ｌ　ＬＱｎ。

ｔｅ）、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）エクンナオールｉ、０７．５’　（４，１ａ　ｍ
ｍ。

ｔｅ）をベンゼン２０１ｉに俗かし、箆温下抗拌しなが
らジシクロへ印シルジカルボーｆミド９ｉ１ｔ＋ｇ（４
，１８ｎｎｕｏｔθ）ついで４−ジメチルアミノピリジ
ン１０　ｍｇ　（０，０８２田ｒｎｏｌθ）を加える。

２時間後、生成した小石固体なｔシ去し、ｉｒＪ故から
溶媒を劉去し残ＩｆＩｉ！ｖＩをシリカケルミ０１１フ
ａ１′用いるカラムクロマトグラフィーに付す。ベンゼ
ン−酢酸エチル（１：１）混＠溶媒で浴出し、目的１勿
１．５９ｙ（収率８７％ンヲ油状物として得た。

工Ｒスペクトル　ν　　ｃｍ　　・ ａｘ ３３９０　、１７４６　、１７１５　、１６７３ＮＭＲ
スペクトル（０１）Ｃｚ５　）δｐｐｍ　：０．０７　
　（６Ｈ、ｓ　　）　　、　　０．８７　　（９Ｈ、ｓ
　　）　　、　　１．１７（３Ｈ、ｄ、　　Ｊ　＝　６
　　Ｈｚ　　）　　、　　２．７〜３．６　　（７Ｈ、
ＩＩＩ　　）　　、　　３．８〜４．４　　（２Ｈ、ｍ
　　）　　、　　５．１２　　（２Ｈ＊　　ｓ　　）　
　＊　　５．８８　　（Ｉ　　Ｈ＊　　ｂｒ、ｔ　　、
　　Ｊ　＝　６　　Ｈｚ　　）　　ｓ６．９１　　（Ｉ
　　Ｈ、ｓ　　）　　、　　７．４１　　（２Ｈ、ｄ　
　）　　、　　８．１０（２Ｈ，ａ） 参考例８ ゼチジノン （３８、ＪＲ）　−３−［（Ｒ１−ｔｅｒｔ；−プチル
ジメチルシリルオキシエグール］−４−［［２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕
カルボニルメチル］−２−アゼチジン＞　５００　ｉ１
７　（０，９５ｍｍｏｔｅ　）を塩化メチレン６１ｎｌ
に浴かし％　０℃で攪拌下、トリエチルアミン２８８　
ｍｙ　（２，８５ｍｍｏｌｅ　）ついでｐ−ニトロベン
ジルオキシオキサリルクロリド６９４　ｍｇ　（２，８
５ｍｍ。

ｔｓ）を加える。１時間後、反応敢に０．１　Ｍ　−＋
３ン酸緩価液（ｐＨ７，０）　１０ｍｌ’ｌ加え、４’
ｌ　’ｔｌ＆層をわけ乾燥後溶媒を留去する。’Ａ留物
７シリカゲル８ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン−酢散エチル（１：１）混合溶媒で溶出
して目的物６４２　ｍｇ　（収率９２％）を油状物とし
て得た。

ＣＨａｔ５　−１　。

工Ｒスペクトル　νｍａＸｃｍ　　・ ３４５０　＋’　１８０２．１７４５　（ｓｈ、）、１
７１５．１７００　（ｓｈ、）ＮＭＲスペクト／ｌ／　
（ＯＤＯ４）　ａ　ｐｌ）ｍ　’−０，０２（Ｓ　　１
（、ｓ　　）　　、　　０．０５（３Ｈ、ａ　　）　　
、　　０．８０（９Ｈ，ｓ）、１１Ｂ（３Ｈ，ａ、Ｊ＝
６Ｈ２）。

２．８−３−６　　（７ＨＩｍ　　）　　ｒ　〜４−２
５　　（Ｉ　　Ｈ０ｍ　　）　　＊〜４６　　（Ｉ　　
Ｈｅ　　ｍ　　）　　、５．１５　　（２”　　ｔ　　
８　　）　　ａ　　’３６（２Ｈ、ｓ　　）　　、　　
７．４６　　（２Ｈ、ｃｌ　　）　　、　　７．５４　
　（２Ｈ，ｄ）、８．１７（２Ｈ，ｄ）、８．１９．（
２Ｈ，ｄ）参考例９ （３Ｒ、４Ｒ）　−４−アセトキシ−３−［（Ｒ１−１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−１
−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン１８０　ｍ
ｇ　（０，５０ｍｍｏｌｅ　）、（Ｓ）−１−（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル）　−３−（）　ＩＪメ
チルシリルアセチルチオ）ピロリジン４１４ｍｇ（１，
００ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン３ｍ７！に陪かし。

ついでトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル
エステル１５　ｍ９　（０，０７ｍｍｏｌｅ　）を加え
、室温で１５時間放置する。反応終了後、反応液を■曲
水の中に攪拌しながらあける。４１機層をわり゛、水洗
、乾燥した後、俗媒を留去する。得られた残悄物を分収
用薄層クロマトグラフィーＣＢｊ４　ｉｉ４　Ｈ媒：ク
ロロホルムー酢酸エチル（６：１）〕で分離精製し、得
られる固体ｌＢ５ｍ９（収率６７％）をヘキサン−酢酸
エチルから再結晶してｉ点１０４−１０６　’Ｃを有す
る純品を得た。

工Ｒスヘク）　ｎ、　　ＶＣＨ”５ｃｍ−’　：ａｘ ３４１Ｑ　　、　　１１７５　　、　１６８５ＮＭＲス
ペクトル（にＤＯｔ５）δｐｐｍ　：０．０８　（６Ｈ
、ｓ　）　、　０．８８　（９Ｈ、ｓ　）　、　１．１
９（３Ｈ、（１、、Ｔ＝６Ｈｚ　）　、　１．７〜２．
５　（２Ｈ。

ｍ　）　＋　２．７〜３０　（２Ｈ１’Ｉ’ｌ　）　−
３−５３（２Ｈ。

ｔ、ＪニアＨ６）１３．２〜４，４（６ＨＩｍ）１５．
１９　（２Ｈ、ｓ　）　、　６．１５　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ
　）　、　７．４２（２Ｈ、（１）　、　８．２０　（
２Ｉ（、ａ　）参考例１０ （３８、４Ｒ）　−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル］−４−ＩＣ（Ｅｌｌ−
１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル）ピロリジ
ン−３−イルチオ〕カルボニルメチルコ−２−アゼチジ
ノン５７７１９　（０，１０５ｍ１ｎｏ？ｅ　）とトリ
エチ／ｌ／アミン３３　ｖ＋９　（０，３３ｍｍｏｌｅ
　）の環化メチレン３ｔｎｌ溶液を水冷し、窒素気流下
、ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル　りロリド７３
　ｗｒｙ　（０，３０ｍｍｏｊｅ　）　ｋ加えて、１時
間撹拌する。反応液を０、Ｉ　Ｍ　ＩＪン酸緩術液（ｐ
Ｈ７，２）にあげ、有機層ｗＭ和食塩水で洗う。浴剤留
去後の残ｍ欠シリゲル１．３．９　ｇ用いるカラムクロ
マトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エチル混合溶剤
（１２：１〜４：１）で溶出される部分を集め目的物６
７．８　ｎ９　（収率８３％）を油状物質として得た。

ＩＲスペクトル　νＣＡＩＣｔｓ　　：ａｘ １８００　、１７５４　、１６９５　、１６［１２ＮＭ
Ｒスペクトル（ＩＵＤＯｔ５）　１５ｐｐｍ’０．０３
　（３Ｈ、ｓ　）　、　０．１３　（３１１、ｓ　）　
、　０．８５（９Ｈ、ｓ　）　、　１．２３　（３Ｈ、
ｄ、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ）　　　、　　　１．５　〜２
．５　　　（２Ｈ、ｍ　　）　　　、　　　３．０　〜
５．０　　　（１０Ｈ、ｍ　）　、　５．２３　（２Ｈ
、ｓ　）　、　５．４３　（２Ｈ。

ｓ　）　、　７．５０　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　８１
ｉｚ）　、　７．５６（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ’　＝　８　
Ｈｚ　）　、　８．２２　（４Ｈ、ｄ、Ｊ＝＠Ｈ２） 参考例１１ ジメチルシリルオキシエチル］−５−（ｔ−メＣ０２Ｃ
ｌミ。

（３Ｒ、ＪＲ）　−４−アセトキシ−３−ＩＩ（Ｒ１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル」−１−
（１−７トキシカルボニルー２−メチル−１−ゾロベニ
ル）−２−アゼチジン＞　１．０４　ｊＪ　（２，６１
＋ｎｍｏｌｅ　）、トリメチルシリル酢酸ベンジルエス
テル１．７４１１　（７，８４ｍｍｏｔｅ　）　’ｌ塩
化メチレン１２−に后かし、ついでトリフルオロメタン
スルホン嘔トリメチルシリルエステル５０　ｍｙ　（０
，２３ｍｍｏｌｅ　）　’ｌ加え、室温で７日間放置す
る。反応液なムＶ水にあけ有機層をわけ、水洗、乾燥後
、溶媒を留去する。得られた残留物をローバーカラム−
Ｂ（Ｅ、メルク社製）を用いる成体クロマトグラフィー
で分離精製する。ヘギサンー酢酸エチル（４：１）？昆
８Ｙ谷媒”Ｃ１谷出し、出発原料アゼチジノン１０９　
ｍｇ　（８，６％）を回収して、ついで目的物［ｉ９３
　ｍｇ　（収率５５％）ｆ？：油状１グとして得た。

ＩＲスペクトｋ　　シＣＨＣｔ５ｃｔｎ−’　：　１１
４０　（ｂｒ、）ａｘ ＮＭＲスペクト、ｎ、　（ＯＤ０４５）δｐｐｍ　：０
．０９　　（６Ｈ、ｓ　　　ン　　、　　　０．８９　
　（９Ｈ、ｓ　　　）　　　、　　　１．２３（３Ｈ、
ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１．Ｂ５　（３Ｈ
、ｓ）　、　２．１（１（３五＋　ｓ　）　＋　２．６
７　（２Ｈ、ｄ　＋　Ｊ”’　７　Ｈｚ　）　、　２．
Ｂ５　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ、　Ｊ＝（ｉ、５　、２．５１４
ｚ）、３．６４（３）（、ｓ）、３．９〜４．５（２Ｈ
。

ｍ　）　、　４．９０　（１１（、（１、Ｊ　＝　１２
　Ｈｚ　）　、　５．０６（１）Ｉ　、　ｄ、　Ｊ　＝
１２Ｈｚ　）　、　７．２８　（５Ｈ，ｓ）参考例１２ （：ＩＳ　、　４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ、
−ブチルジメチルシリルオキシエチル」−１−（１−メ
トキシカルボニル−２−メチル−１−プロペニル）−４
−（ベンジルオキシカルボニルメチル）−２−アゼチジ
ノン１゜１８．９ｇ酢酸エチル２６ｍ１ＶＣＲｊかし、
１０％パラジウム−炭素５００ｍ１？’ｆ加え、常圧水
素下、１．５時間攪拌した。反応終了後、触媒なＰ去し
、ｊｊ液から溶ｌを留去して目的物９６０■（収率９９
％）を無色油状物として得た。

０ＨＯ４−＋　。

ＩＲ、ｘ　ベクトルν［ｌ］ａＸｃｍ・〜　３３００　
　、　１７３４　　、　１７１ｓＮＭＲスペクトｋ　（
ＯＤＯ１５）δｐｐｍ　：０−１０　　（６Ｈ、ｓ　　
）　　、０．９０　　（９Ｈ＊　　ｓ　　）　　、１．
２６（３Ｈ、ｅＬ　　、　　Ｊ　＝　６　　Ｈｚ　　）
　　、　　１．９４　　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．１８　　（３Ｈ、ｓ　　）　　＊　　２，７１　　
（２Ｈｌｄ　　ｌＪ　＝７Ｈ２）　　、　　２．９４　
　（Ｉ　　Ｈ、ｄａ　　、　　Ｊ　＝　６．５　　、　
２．５　Ｈ２）　　＋　　３−７６　　（３Ｈ、ｓ　　
）　　、４−０〜４．５　　（２Ｈ１ｍ　）参考例１３ Ｃｏｏ（３Ｈ。

（３Ｂ　、　ＡＲ）　−３−［（Ｒ１−１−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−カルボキシ
メチル−１−（１−メトキシカルボニル−２−メチル−
１−プロペニル）−２−アゼチジノン９６２　ｍｇ　（
２，４１ｍｍｏｔｅ　）　、　（Ｓｌ　−３−メルカプ
ト−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ
リジン７４Ｂ　’Ｒ９（２，６５ｍｍｏｌｅ　）　ｆ？
ｒ：ベンゼン１５−に浴かし、水冷下撹拌しなから、ジ
シクロへキシルジカルボイミド５９６ｍｇ（２，８９ｍ
ｍｏｌｅ）ついで４−ジメチルアミノ１ピリジンｔ　Ｏ
ＩＩｇ（０，Ｑ８２ｍｍｏｔθ）を加える。１時間後、
生成しブこ冷浴固体を１去し、Ｐ液から溶媒な貿云し残
留物化シリカゲル３０．９’ａ？用いるカラムクロマト
グラフィーに付す。ベンゼン−酢酸エチル（５：１）混
＠−溶媒で俗出し、目的化＠′物１．４１　＆　Ｌ収率
８Ｂ係）７油状物として得た。

ＮＭＲスペクトル（ａＤＣｌＢ　）δｐｐｍ　：０．０
９　（６Ｈ、ｓ　）　、　０．８８　Ｌ　９　Ｈ、ｓ　
）　、　１．２６（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．９４
（３１，ｓ）。

２．１７　（３Ｈ、ｓ　）　、　１．５〜２．４　（２
Ｈ、ｍ　）　。

２．８９　（２Ｈ、ｂｒ、ｄ　、　Ｊ　＝　７　Ｈ２）
　、　３．５２　（２ｕ、ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）＋３．７６
（３Ｈ＋ｓ）＋３．０〜４．６　（８Ｈ、ｍ　）　、　
５．１９　（２Ｈ、ｓ　）　。

７．４９　（２Ｈ、ｄ　）　、　８．２１　（２Ｈ、ｄ
　）参考例１４ （３６、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−１−（１−メトキ
シカルボニル−２−メチル−１−ゾロベニル）−４−［
〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル」−２
−アゼチジノン１．３３ｇ　（２，０１ｍｒｕｏ７ｅ　
）をアセトニトリ＃２４ｍ１に溶かし水冷攪拌して、三
弗化ホウ素エーテル錯体０．６６９　（４，６５ｍｍｏ
ｔｅ）を加える。５分後、里曽水と目′１・酸エチルを
激しく攪拌する１よかへ１反応液乞あけ、有機１−ケ分
ド融する。水促、乾燥後、溶媒を￥′；１去して目的物
１．０４　ｇ（収率９６多）を）、’ｆｉ色油色物状物
て；（（す／）。

ＩＲユペクト、、　　、ａＨＣｌ、　　−１・ｍａｘ　
　Ｃｌ１１　− ３４３０　、１７５０　、１７００　（ｂｒ、）ＮＭＲ
２ヘク）　ル（ＣＤＣ１ｖ、　）δｐｐｍ　：１．３２
　（３Ｈ、（１、Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１．９
５　（３１（＋　ｓ　）　＊　２．１９　（３）１　、
　ｓ　）　、　１．５〜２．５　（２）１、　ｍ　）　
、　２．９４　（２Ｈ、（１−１ｉｋｅ　）　、　３．
５３　（２Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　７　Ｈ２）　、　３．
７８　（３）１　、　ｓ　）　、　３．０〜４．４　（
８Ｈ、ｍ　）　、　５．２１　（２Ｈ、ｓ　）　、　７
．５２（２Ｈ、ｄ　）　１８．２６　（２Ｈ、ｃｌ　）
参考υす１５ トロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−・（
ルナ１〕カルボニルメチル］−２−アゼナジノン ｍｏｃｎ５ （３Ｓ、ＪＲ）−３−［（Ｒ１−１−ヒドロキシエチル
］−１−（１−７４トキシカルボニル−２−メチル−１
−７０ベニル）−４−［（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カ
ルボニルメチル］−２−７セチジノ７１１０　ｍ９　（
０，２０Ｌ［１ｍＯ？ｅ　）、４−ジメチルアミノピロ
リジン９７．６　ｍｇ（０，８０ｍｍｏｔｅ）を塩化メ
チレン４ｍｌに溶かし、氷冷４’ｆｔ拌下、ｐ−ニトロ
ベンジルオキ７カルボニルクロリド１７０　ｍｇ　（０
，８０ｍｍｏｔ＝＋　）の塩化メチレン１−１ｄ液を滴
下する。加え糸条ったら、反応液を室温で３時間放置ず
Ｚ）。反応終了後、反応液を氷水にあけ、有機）Ｖｔを
分離し、０．２Ｎ−塩酸、水、飽和食塩水の順で洗い、
乾ｔに彼、（ａ媒な留去−ｊる、残留物をシリカゲル４
Ｊｉ’Ｙ用いるカラムクロマトグラフィーに付し、１２
．５〜Ｇｏ係師淑エチル−ベンゼンで沁出して目的物１
２０１ｇ（収率８２％）を油状物質として得た。

工Ｒスペクトル　ν””５ｃＨＢ−’　：　１７４５　
、１６９０（ｂｒ、）ｍａｘ ＮＭＲスペクトル（ｃＤＯｌＳ）δｐｐｍ　：１．４５
　（３Ｈ、ｄ、　Ｊ−６，５Ｈｚ　）　＋　１．９４　
（３’、　ｓ　）　、　２．１８　（３Ｈ、ｓ　）　、
　１．５−２．６　（２１（、ｍ　）　、２．８８　（
２Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝　Ｔ　Ｈｚ　）　、　３．１２（Ｉ
　Ｈ、ｄｄ　、　Ｊ　＝　７．５　、２．５　Ｈｚ　）
　、　３．４７　（２Ｈ、ｔ−１ｉｋｅ　　　）　　　
、　　　３．７５　　　（３Ｈ、ｓ　　　）　　　、　
　　３．０　−　４．５（７Ｈｌ　ｍ　）　＋　ｓ、１
８　（２Ｈ、Ｓ　）　、　５．２２　（２Ｈ、ｓ　）　
、７．４６　（２Ｈ＊　ｄ　）　−ｒ、４ｓ　（２Ｈ２
ｄ）　、　８．１８　（４Ｈ、ｄ） 特許出知人　三共株式会社 代　址　人　　弁理士　樫　出　庄、治手続補正書（自
発〕 昭和５７年７月３０日 皇 將許庁長官若杉和夫殿 ２、発明の名称 カルバペネム誘辱体の製造法 ３、補正をする者 名称（１８５）三共株式会社 代表者取締役社長　　河　トｊ　薩　典口 三共株式会社内 １、　明細書第３４頁３行目と４行目の間に次の語句ケ
追加する。

２、　明細書第６３頁５行目と６行目の間に次の語句を
追加する。

実施例７ （３８，４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−ｔｏｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−１−（ｐ−二トロペン
ジルオキシオキサリル’）　−４−［：（：（Ｓ）−１
−［：Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルブニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン９９■（０，１４ｍｍｏ
ｌｅ　）、唾リン酸トリエチル１３９ｍｇ（０，８４ｍ
ｍｏｌｅ　）及びハイドロキノン４　ｒｒｕｇ　（０，
０４ｍｍｏｌｅ　）をトルエン１０ｍ１に溶かし、窒素
気流下９５℃で２４時間加熱する。溶媒を留去して得ら
れる残留物を、分取用シリカケ゛ル薄層クロマトグラフ
ィー〔展開溶媒：ベンゼンー酢酸エチル（３：１）混合
溶媒〕でｒｔ製し、目的物７１ｍノ（収率７５チ）を油
状物として得た。

ＩＲスペクトルシＣＨＣｔ３α−１：１７７３．１６９
０（ｓｈ、）。

ａＸ ６７５ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｔ、）δｐｐｍ　：０．０９
（６Ｈ，ｓ）　。

０．８８（９Ｈ，ｓ）、１．２３（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）。

２．２８（３Ｈ，ｓ）、１．５〜２．５（２１１，ｍ）
、２．９〜４．５（ＩＬＩＨ，ｍ）、５．１６（２Ｈ，
ｓ）、５．１７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．４０
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、７．４９（：２Ｈ，ｄ）
、７．５６（２Ｈ，ｄ）。

８．１５（４Ｈ，ｄ） 実施例８ （３Ｒ，４Ｒ）−４−（［２−ＣＰ−ニトロベンジルオ
キシカルがニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル
）−１−（ｐ−二トロベンジルオキシオキサリル）−３
−４（Ｒ）−１−、）リメチルシリルオキシエチル〕−
２−アゼチジノン１１４ｍｇ（０，１６ｍｍｏｌｅ　）
、亜リン酸トリエチル１６４　ｍ？（０，９９ｍｍｏｌ
ｅ　）およびハイドロキノン３　ｍ？　（０，０３ｒ１
ｍｏｌｅ　）をトルエン１５＋ｎＪに溶かし、窒素気流
下１００℃で２４時間加熱する。反応終了後、溶媒を減
圧下留去し残留物をローバーカラムを用いて精製する。

ベンゼン−酢酸エチル（２：］）混合溶媒で浴出して目
的物４３　ｒｐ、９　（収率４０係）ｖｈ体として得た
。ベンゼン−ヘキサンより再結晶をおこない、融点１０
ダー１０６℃を有する純品を得た。

ＩＲスペクトル　シＣＨＣ’５ｃｍ−’　：　１７７３
　、１７１８　。

ｎａＸ １７　（ｌ　Ｏ（ｓｈ、） Ｎ？ｌＩＲスペクトル（ＣＩ）Ｃｌ３）δｐＨｌｌｌ二
０．１４　（９Ｈ、ａ）。

１．２６（３Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝Ｇｌｌｚ　）　、　２．
８〜３．７（７１１゜ｍ）、３．９〜４．５（２Ｈ，ｍ
）、５．１５（２１１，ｓ）。

５．１８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈ７、）、５．４４（Ｉ
ＩＩ、ｄ。

Ｊ＝１４Ｈｚ　）　、　〜５．３　（ＩＩＩ　、　ｂｒ
、　）　、７．４３　（２Ｈ５ｄ）、７．５９（２ＴＩ
、ｄ）、８．１７（４Ｈ，ｄ）チル （３８，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−４−［［（Ｓ
）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ
リシン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）−１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノ
ン１２８ｍ９（０，１５５ｍｍｏｌｅ　）、亜リン酸ト
リエチル１５５ｍ９（０，９３４ｍｍｏｌｅ　）および
ハイドロキノン７　ｍ？　（０，０６ｍｍｏｌｅ　）を
トルエン１３ｍＡ！に溶かし、窒素気流下９０°で１．
５時間加熱する。原料が消失したら溶媒および過剰の亜
リン酸トリエチルを減圧下留去し、得られる残留物をふ
たたびトルエン１３−に溶かし、窒素気流下１００℃で
８０時間加熱する。

溶媒を留去し生成物をローバーカラムで分離着製スる。

酢酸エチル−ベンゼン（１：１）混合溶媒で溶出して目
的物６９．６ｍ９Ｃ収率５６．６％）を油状物として得
た。

ＩＲス’り）ルｖｃＩ（Ｃ’５に１１−’　：　１７７
８　、１７４５　。

ａｘ １６９５．１６９０（ａｈ、） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ４３）δｐｐｍ　：１．４７
（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　１．７〜２．７　（２Ｈ、ｍ　）
　、　２．９〜４．５（１０）１．ｍ）、５．１８（２
Ｈ，ｉ）、５．２１（２Ｈ。

ｓ　）　、５．１９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４１−１ｚ　
）　、５．４５（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、７．４７（４Ｈ，ｄ）、７．５８
（２Ｈ。

ｄ）、８．１７（６Ｂ、ｄ） ３、明細書の第９０頁１５行目と１６行目の間に次の語
句を追加する。

「 参考例１６ −（ｐ−ニトロベンジルオキシカルがニル）ア（３８，
４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−４−カル？キシメチルー２−ア
ゼチジノン２６７ｍｙ（０，９３ｍｍｏｌｅ　）と、（
Ｓ）　−３−メルカプト−１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルがニル）アセトイミドイル〕ピロリノン
３３０ｍｐ（１，０２ｍｍｏｌｅ　）　′（Ｉｌ−ベン
ゼン５　ｍｌに溶かし、ノシクロへキシルジカルポイ、
　ミド２１０ｍ９　（１，０２ｍｍｏｌｅ　）、ついで
４−ツメチルアミノピリジン５■（０，０４１ｍｍｏｌ
ｅ　）を加える。

１時間室温で攪拌した後、生成した不溶固体を許去し、
Ｐ液から溶媒を留去する。得られた油状物をシリカダル
１５　Ｆ’を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、
ベンゼン−酢酸エチル（１：２〜１：５）混合溶媒で溶
出して、目的物４９５　ｍ９　（収率９０％）を油状物
として得た。

Ｈ（スペクトル　νＣ””５ｃｍ’　：３４１（１，１
７６０゜ａｘ ６７７ ＮＭＲスペクトル（ｃＤｃｚ５）δｐｐｍ　：　０．０
９（６Ｈ。

ｓ）、０．８８（９Ｈ，ｓ）、１．２（１（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、１．５〜２
．５（２Ｈ。

ｍ）、２．７〜３．０（２Ｈ，ｍ）、３．３〜４．４（
８Ｂ１ｍ）＋５．１８（２８，ｓ）、６．２７（ＩＨ，
ｂｒ、ｓ）、７．５２（２Ｈ，ｄ）、８．１７（２Ｈ，
ｄ） 参考例１７ （３８，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチンジルオキシオキサリル）　−４−Ｃ［（Ｓ）−
１−（Ｎ−（ｐ−ニトロペンノルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル］ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン（３８，４Ｒ）−３（（
Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ゾチルノメチルシリルオキシエチ
ル］　−４−［［：（Ｓ）　−１−（Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルビニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ノン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチ
ジノン１８５　＋ｒｒ、ｙ（０，３１ｍｍｏｌｅ　）　
’にテトラヒドロ７ラン５ｍｌに溶かし、窒木気流下−
７８℃で攪拌しながら、１５％ｎ−ブチルリチウムヘキ
サン’Ｂ？［０，２ｏ　ｒｎｌ　（０，３２ｍｍｏｌｅ
）全滴下する。２分間同温度で・攪拌した後、ｐ−ニト
ロペンノルオキシオキサリルクロリド１２０ｍ９（０，
４９ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加える。４分間攪拌した後、反
応液に０．１　Ｍリン酸緩衝液（１）Ｉ１７．１　）　
１ｆｌｒ／Ｌ１１．１加え、酢酸エチルで抽出する。乾
燥後溶媒を留去し、残留物をシリカダル６グ・を用いる
クロマトグラフィーに付す。ペノゼンー酢藪エチル（ｓ
：ｉ）混合溶媒で不純物を溶出した後、ベンゼン−酢酸
エチル（４：１〜３：１）混合溶媒で溶出して、目的物
９９■（収率４５％）’ｉ油状物として得た。（ベンゼ
ン−酢ｆｆエチル（１：２〜１：５）混合溶媒でさらに
溶出して出発化合物５１　ｍ９　（２８％）　ｆｔ、回
収Ｌり。）ＩＲスペクトルν”””５（１−’　：　１
８（１８，１７５６゜ａｘ ６８９ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ６ρδｐｐｍ　：　−０，＋
１３　（３Ｈ，ｓ）　。

０．０８（３Ｈ，ｓ）、０．８２（９Ｈ，ｓ）、１．２
０（３Ｈ。

ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、１．５
〜２．５（２Ｈ，ｍ）、３．０〜４．７（ＩＯＨ，ｍ）
、５．１７（２Ｂ。

ｓ）、５．３６（２Ｈ，ｓ）、７．５１（２Ｈ，ｄ）、
７．５３（２Ｈ，ｄ）、８．１８（２Ｈ，ｄ）、８．２
２（４Ｈ，ｄ）参考例１８ オキシカルボニルオキシ）エチル）　−４−（（（Ｓ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチ
ジノン ０ＯＰＮｎ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロペン
ノルオキシカルがニルオキシ）エチル）−４−［：（（
Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピ
ロリノン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−ア
ゼチジン７１８２ｍｇ（０，２９５ｍｍｏｌｅ）　’ｌ
：塩化メチレン１　（ｌ　ｍ／４に溶かし、（１℃で攪
拌しなから１，４−ノアザビシクロ（２，２，２）オク
タン１１０　ｍ９　（０，９８ｍｍｏｌｅ　）ついでｐ
−＝トロベンジルオキシオキサリルクロリド４５０Ｗｉ
（１，８５ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加える。１時間後、反応
液ヲ０．１Ｍ−リフ’ｅ緩衝液（ｐＨ７，１）　４０　
ｍｌ中にあけ、塙化メチレンで抽出する。飽和食塩水で
洗浄した後乾燥し、溶媒を留去する。残留物全シリカゲ
ル５５１ｉ：用いるカラムクロマトグラフィーに付し、
１０〜１７．５％酢酸エチル−ベンゼンで浴出して、目
的物１６９　ｍｇｌ　（収率６９．５％）を油状物とし
て得た。

ＩＲスペクトル　νＣＨＣｔ、　、漂−’：１８０５，
１７４５゜ａｘ １６９５．１６９０（ｓｈ、） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ６ρδｐＩ）ｍ　：１．４２
（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６．５Ｈｚ　）　、　１．５〜２．５　（２Ｈ、ｍ
　）　、　２．７〜４．２（９Ｈ，ｍ）、〜４．５（Ｉ
Ｈ，ｍ）、５．１７（２Ｈ，ｓ）。

５．２０（２Ｈ，ｓ）、５．３６（２Ｈ，ｓ）、７．４
７（４Ｈ。

ｄ）、７．５２（２Ｈ，ｄ）、８．１８（６Ｈ，ｄ）　
　　＝以上 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１５８６０４号 ２、発明の名称 カルバペネム誘導体の製分法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　〒１０３東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称　　　（１８５）三共株式会社 代表者　取締役社長　　河村喜典 ４、代理人 居所　〒１４０東京部品川区広町１丁目２番５８号三共
株式会社内 ５、補正によシ増加する発明の数　　なし７、補正の内
容　　別紙の通り １、　明ＩｖｌｌＩ書の特許Ｍｌ″１求の範囲を下記の
ように訂正する。

〔式中、Ｒ１は水素原子または水酸基の保護基を、Ｒ２
およびＲ３は同一または異なる水系原子、アルキル基ま
た一２アリール基を、ＸおよびＹは酸素原子または硫黄
原子を、Ｒ’　ｌよアルキル基、１江換アルキル基、ア
ラルキル基、脂現式伏素珈基、脂集式複索狽血４負アル
キル基、アリール基または芳香族複素環基を、Ｒ５は水
素ノエ：！、子ま／とはカルボキシ基の保護基を示す。

〕をイ１する化名物に一般式 ％式％（） 〔式中、Ｒ６はアルコキシ基、アリールオキシ、基また
はジアルキルアミン基を示す。〕を有する化−８′物を
反応させ 一般式 〔式中、Ｒ’、　Ｒ２，Ｒ’、　Ｒ’、　Ｒ５，Ｒ６，
ＸおよびＹは前述したものと同意義を示す。〕を有する
化合物としこれを閉基することを特徴とする一般式 〔式中、Ｈｌ、　Ｒ２，Ｒ５，Ｈ４，Ｒ５およびＹは前
述したものと同意義を示す。〕を有するカルバペネム誘
導体の製造法。」 ２、　明細凋第４頁第９行の 「フエニノしシリルなどのシリルＡＶｊ’ｔｒ７ｍ　−
ルシリル、ｔ−ブトキシジメチルシリル、ｔ−ブトキシ
ジフェニルシリルなどのシリルノ、１８Ｊト言ｊ正する
。

３　明細吉第４負下から第５行方６ミ下から第４行の ｒ　２．２．２−　）　ＩＪ　／’　Ｏルエチルオキシ
カルボニル」ｉ　「２．２．２　＝　トリクロルエトキ
シカルボニル」と訂正する。

４、　リＪ＃ｔｌｌ書第４頁下から第４１〕乃至下から
第３行の 「２．２．２−　）　’Ｊブロムエチルオキキンルボニ
ル」ｋ　ｒ　２．２．２−１−　！Ｊ　フロムエトキシ
カルボニル」と訂正する。

５、　明細Ｉ■（第４頁下から第３１１の「ｔ−ブチル
オキシカルボニル、、ｌ’ｋｒｔ−ブトキシカルボニル
」と訂正する。

６　明細■、第第４下下ら第２杓乃至下から第１行の 「２−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル、、１
ｔｒ２−（＋−リメチルシリル）エトキシカルボニル」
と訂正する。

７、　リ」細１第５頁第２行乃至第３行のｋｒ２−（ト
リメチルシリル）エトキシメチル」と訂正する。

８、　明細（１，を第６頁第５杓乃至第６行の１−２．
２．２−）　ＩＪ　フロムエチルオキシカルボニル」ｋ
　ｒ　２．２．２−　）　ＩＪ　フロムエトキシカルボ
ニル」と訂正する。

９、　明細、］（］Ｉ−第６頁第６の 「ｔ−ブチルオキシカルボニルＪ’、ｃｒｔ−ブトキシ
カルボニル」と言」正スル。

１０、　　明イｉｆ　）Ｉｉ紀６頁第７行の「ジフェニ
ルメチルオキシカルボニル」ヲ「ジフェニルメトギシ力
ルボニル」と８１　正ｆ　ル。

１１、　　明細書第６頁第１行乃至第８行のｒ　２−　
）　ＩＪメチルシリルエテルオキシカルボニルＪ（ｒｒ
２−（）リメチルシリル）エトキシカルボニル」とδＪ
圧する。

１２、　　明細％第６頁第８行乃至第９行の「オキシカ
ルボニル基Ｊｔｒア／ｌ／コキシカルボニル基」と訂正
する。

１３　　明イ（１１書第６頁第１０行乃至第１１行の［
−トリメチルシリルエチルオキシメチル」’（ｒ　＋”
　２−　（、トリメチルシリル）エトキシメチル」と訂
正する。

１４、　　明イＩＩ＋７Ｆタシ１頁第３行の「ｔ−ブチ
ルオキシカルボニル」を「ｔ−フ゛ｌ・キシカルボニル
」と訂正する。

１５、　　明４１＋１侮第１頁第４１−〕の「２．２．
２−　トリブロムエチルオキシカルボニルｊｉ　１−２
．２．２−　トリブロムエトキシカルボニル」と８Ｊ正
する。

１６　　明細Ａ１４第７頁第５行の ［２−トリメチルシリルエチルオキシカルボニルＪ’ｆ
ｒ：Ｆ２−Ｃトリメチルシリル）エトキシカルボニルｊ
と訂正する。

１７、　　明治（１１第７頁第８行の 「オキシカルボニル基」ｋ［アルコキシカルボニル基」
と訂正する。

１Ｂ、　　明細書第７頁第９行乃至第１ｏ　（ＪＱ、＞
ｌ−２−（２−アミノエチル）オキシエチル」ヲｒ２−
（２−アミノエトキシ）エテル」と訂正する。

１９　　明細針第７頁ム＞１０行乃至第１１行σ）Ｆ２
−（２−アミノエチル）オキシ−１−メチルエチルＪｆ
ｆｉｒ２−（２−アミノエトキシ）−１−メチルエチル
」と削正する。

２０　　ゆ」イＩｌｌ　−！）第７頁第１１１Ｊ乃至第
１２行σ）Ｆ２−（３−アミノプロピル）オキシエチル
」ｋｒ２−（３−アミノプロポキン）エチル」ト訂正す
る。

２１、　　明！１１１１男第７貞第１２１１乃至第１３
行の［３−（２−アミノエチル）オキシプロピル」’ｉ
ｌ”３−（２−アミノエトキシ）プロピル」ト訂正する
。

２２、　　明細層第７頁第１３行乃至第１５行のｌ−３
−（２−アミノエチル）オキシ−１−メチルプロピルＪ
　’、ｒ　ｒ　３−　（２−アミンエトキシ）−１−メ
チルプロピル」と訂正スフ１＞。

２３　　明細書第１頁第１５行の 「保ぬされ」を「修飾され」とｉ」圧する。

２４、　　明細層第７頁第１７行の ［直鎮または）枝卸置換アルキルリ４シ」を「ヒドロキ
シ蔭おＪ直鎖または分枝鎖アルキル基」と訂正する。

２５　　明＃ｌｌｌ唱１第１３頁下から第４イ」の「ｎ
−プロピルチオ」全１プロピルチオ」とｎ］正する。

２６　　明、ｉｌｌ　：ｆＪ第１８頁第４行乃至第５行
の「アリールスルホニル」金１アリルスルホニル」と訂
正する。

２７、　　リｊ細Ｓ第１８頁下から′拮４行乃至下から
第３行の 「３−シクロペンチルプロピルＪ’（ｚｒ３−シクロペ
ンチルプロピルスルホニル１．！＝ＮＴ正する。

２８　　明ｔｌｉ１店第１８頁下から第３行乃至下から
第２行の 「２−シクロペンチルプロピル」を「２−シクロペンチ
ルプロピルスルホニル」と訂正する。

２９、　　明４ｔ：ｌ　ａＦ第１８頁下から第２行乃至
下から第１行の 「低級シクロアルキルアルキル基」を「低級シクロアル
キルアルキルスルホニル基」とａ■止する。

３０、　　明細書第２０頁下から第７行乃至下から第６
１丁の ［ｎ−ブトキシカルボニルＪ　’ｃ　「ブトキシカルボ
ニル」と削正する。

３１、　　ψ１細訃８ｇ２２頁下から第４行の「１ｉ（
りきエチル」奮「１−置換エチル」と訂正する。

３２、　　明細書第２２頁下から第３１丁の「２９Ｑル
がエチル」をｒ２−１！換エチル」　とバｊ圧する。

お　明細書第２４頁第４行乃至第５杓のｒ２−）リメチ
ルシリルエチルＪｔ−’ｒ２−（トリメチルシリル）エ
チル」と訂正する。

Ｍ　明細西紀２４頁下から第６行の 「ｔ−ブチルジメチルシリル、ｐｊをＪｔ−ブチルジメ
チルシリル、ｔ−ブトキシジメチルシリル、ｔ−ブトキ
シジフェニルシリル、ｐ」と訂正する。

３５、明細■第２５貞第６行の 「２−（２−アミノエチル）オキシエチル」ヲＩ”２−
（２−アミノエトキシ）エチル」と訂正する。

３６　　明細書第２５頁第６行乃至第８行のｌ−２−（
２−アミンエチル）オキシ−１−メチルエチルＪ’１ｒ
２−（２−アミノエトキシ）−１−メチルエチル」と削
正する。

３７、明細■第２６頁ｖＪ３行の 「ベンジルオキシカルボニル）１゜３−ヒｌＪミ、Ｊヲ
「ベンジルオキシカルボニル）　−１，３−ビリミ」と
訂正する。

３８、　　明細書！！２７頁第１０行のｒ　２−）　Ｉ
Ｊメチルシリルエチルｊｔｒ２−（トリメチルシリル）
エチル」とｎ」正する。

３９、明細：８第２７頁下から第３行乃至下から第１行
の 「ジー武−プチルアミン、ジーｔｅｒｔ−ブチルアミン
」ｆ：［ジー寓−プチルアミノ、ジ−ｔ−ブチルアミノ
」と訂正する。

４０、　　明細書第２８頁下から第１行の４１、　　明
細書第２９頁下から第４行第８列の「ＰＮＺ　Ｊ　ｉ　
［ＰＮＢＪと訂正する。

４２、明細書第２９頁下から第３行第８列の［ＰＮＺＪ
　：ｉ　［ＰＮＢＪと訂正する。

４３　　明細−：Ｌｌ−第３０頁第１行第８列の［ＰＮ
Ｚｊ　’ｉ　「ＰＮＢＪと訂正−ｊ−ル。

４４、　　明細Ｉｆ、第３１頁第３行第８列の［ｔＢｕ
Ｊ　’ｆｃ　［Ｂｖ−ｔｊと訂正する。

４５　　明細−四相３４頁第３行と第４行の間におよび Ｃ１（。

を追加する。

４６　　リ」細、淋第３５頁第２杓の ［ｔ−ブチルジメチルシリル、ｐ−Ｊｋｒｔ−ブチルジ
メチルシリル、ｔ−ブトキシジメチルシリル、ｔ−ブト
キシジフェニルシリル、ｐ−Ｊと訂正する。

４７、　　明細書第３８頁第５行第６列のｒ　ｔＢｕ　
Ｊをｒ　Ｂｕ″」と訂正する。

４８、　　明細書第３８頁第６行第６列の［ｔＢｕ　ｊ
　會Ｉ　Ｂｕｔ　ｊ　と削土する。

４９、　　明細書＾４３８頁第１行第６列のｒ　ｔＢｕ
　Ｊをｒ　ＢｕｔＪ　ト訂１Ｅ−ｊ−ル。

５０、　　明細書第３８頁第１０行第１列の５１、　　
明細書第３８頁下がら第２行第６列の５２、　　リＪ細
掛８ｇ３９頁ａ３４行第１列のｒ　ｔＢｕＪ　ｋ　ｒＢ
ｕｔＪと訂正する。

５４、　　明細７１１第３９頁第６行第６列の５５、！
！Ｉｆ、ｌｌｌ−１ｆ第３９貞ｇ４１８行第６列の５６
　　明細書第３９頁下がら第２行第６列のする。

５７、　　明細ｖ１第４１頁の第４行と第５行の間にお
よび 全追加する。

５８　　明細書第４１頁第６行の 「１〕−ニトロベンジル、＆Ｊｔｒｐ−ニトロベンジル
基」と１正する。

５９’）Ｊ　Ｉｖ＋ｌｌｌ　４ｇ　１４４１頁第１行の
［Ｐ　−＝　）　ｏ　ヘンシルオキシカルボニル基」ｔ
「ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基」ト訂正する
。

６０、　　明細書第４１頁第８行の 「０−ニトロベンジルオキシカルボニルＭｌ　ｋ「Ｏ−
ニトロベンジルオキシカルボニル基」ト創圧する。

６１、　　明細吉紀４１頁下から第４行乃至下から第３
行の 「子含有する場合にはその・・・・・・・・・混合物で
あってもよい。」ヲ「子を有する場合にはその立体配位
には特に限定はない。」と訂正する。

６２、明細書第３８頁下行の ＯＦ３０ＳＯ２ＴＭＳ　Ｊ　　　　０Ｆ５ＳＯ５Ｓｉ（
ＤＨ４）３　Ｊ訂正する。

６３　　明細書第３８頁第６行の 〔式中Ｒ２およびＲ５は同一」と訂正する。

６４、　　明ｐＨ１１５’）第４４頁第９行の［を反応
させると一般式（Ｖ）のＪ　ｋ　ｒ−＋＊反応さぜる。

一般式ｆｆ）の」と訂正する。

６５８　　明細畜第４６頁下から紀１行乃至下から第６
行の 「ジフェニルホスホリルアミド」ヲ［−ジフェニルホス
ホリルアジド」と訂正する。

６６、　　明細力、第４８頁下から第１０行乃至下から
第９行の 「ジフェニルホスホリルアジド−ｌ　４ｃ　［ジフェニ
ルホスホリルアジド」と訂正する。

６７、　　明細書第４８頁下かも第９イ」の「に反応で
せ化合物へ尋き次いで」丘「に反応させ化合Ｔｈ　（Ｘ
ＶＩ＋）へηｔき次いで」と副圧する。

６８、　　明細暑第４９負下刃）ら第７行と第８杓の間
に以下の字句ヲ追加する。

「本発明によって得られる一般式（へ）を有する化合物
においてＲ１が水酸基の保護奉、Ｒ４が水１股基又はア
ミノ基′ｆ：有するＩｉ’ｊ換基である場合それらの保
護基、及び　Ｒ５かカルポギシ基の保護基である場合、
こｉｌ、らの保護基’ｃ　’ｉ＋’；　１１：に従って
除去することｔこよシ、強力な抗菌活Ｅｌ：を有するカ
ルバペネム蒋導体へ導くことができる。」６９、　　明
９（１１書第５３頁下から第２？゛」の「酢酸」ヲ「酢
１・Ｊλエチル」とＮＴ　ｊｌＥする。

７０、　　明細書記６９頁下から第６イ」の「リン酸緩
衝液２０−」を「リンＩ’Ｊ夕緩佃Ｉ液（ｐＨ７，２）
　２０　ｍｌと訂正する。

「ジシクロへキシルカルボジミド」を１ジシクロへキシ
ルカルボジイミド」と酌止する。

１２　　ゆ」δｉｆ慢第１５真下から第２有の「シｍａ
ＸＯＡ−’　Ｊを”　悶：”　”−’　ｊ　ト＠Ｊ正ス
ル。

７３　　昭和５７年９月３０日付の手絖袖止四相７頁Ｕ
↓１５イ］と第１６１１の間に次の字句を追加する。

［実施例１０ （３８，４Ｒ）　−４−Ｃ［Ｉ　２−　（ｐ−二トロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル］−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−二トロペンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン２３０
　ｍｇ　（０，２９ｍｏｒｏｓｅ　）と亜す　ン酸　ト
　リ　エ　チ　ル　２Ｂ７　　■　（１，７３ｍｍｕｔ
θ　）　を　ト　ルエン２Ｚｍｅ中で窒素ふんい気下９
０℃で１時間加熱する。減圧−）同温度で溶媒およびＦ
ｌ＋発性物質を留去して得られる残留吻にノ・イドロキ
ノンＢ　ｍｇとトルエン１０−を加え、窒素ふんい気下
１００℃で４４時間加熱する。反応終了後、減圧下で溶
媒を留去し得られる残留物全ローバーカラムを用いて４
’＋７　’ＪＡする。ベンゼン−酢酸エチル混合溶媒で
溶出して結晶性の目的物ｓｏｍｇ（収率４０飴）をｉＵ
た。

酢酸エチル−ベンゼン−ヘキサン混合溶媒で丙結晶全行
い、融点１４８−１５０℃のプリズム晶を得た。

元素分セ１値　Ｃ５４Ｈ５１０＋６ＮｓＳとして計算値
：　ｅ　、　５３３３　；　Ｈ、４，０８；　Ｎ　、　
９．１５　；Ｓ　、　４．１９ 実測値：　ａ　、　５３．１９　；　Ｈ、４，０７；　
Ｎ　、　９．１３　；ｓ、４．４３ 工ＲスペクトルシＣＨＣムｃｍ−’　：　３４５０　、
１７８０　。

ａｘ １７４０　（Ｓｈ、）　、　１７１８　、１７００　（
Ｓｈ、）比旋光度〔α〕廿＋６６°（０＝０．８１　、
　ｅＨｅｚ５）ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯ２５）δＩ）
ｌ１ｍ　：　１．４７　（３Ｈ。

ｄ　、　Ｊ　＝　６　Ｈ２）　、　２．７〜３．７　（
７Ｈ、ｍ　）　。

４．２０　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　〜５．１　（Ｉ　Ｈ
、ｍ　）　、　５．１６（２Ｈ、ｓ　）　、　５．２２
　（２Ｈ、−ｓ　）　、　５．１８　（ＩＨ，（１，Ｊ
＝１４Ｈｚ）、５．４７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝　１４　Ｈ２
）　、　７．４５　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．４９　（
２Ｈ、ｃｌ　）　、　７．６０　（２Ｈ、ｄ　）　、　
８．２０　（６１１，ｃｌ、　）実施例１１ ジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−１−（３ｓ、
４ｕ）　−３−〔但）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシオキサリル）−４−［（フェニルチオ）カル
ボニルメチル）−２−アゼチジノン１４７７１Ｉ９　（
０，２２５ｍｍｏｊｅ　）と亜リン酸トリイソプロピル
２３４　ｍｌ／（１１３ｍｍｏｌｅ　）　ｆベンゼン３
〃！に溶かし、窒素気流下７０　Ｃで１．５時間攪拌す
る。層剤を１）イ去して得られる残′１￥ｌ物をローバ
ーカラムＡ　（Ｅ、メルク社製ンを用いて精製する。ベ
ンゼン−酢酸エチル（３：１）混合溶剤で溶出して目的
物１６１■（収率８５係）を油状物として得た。

工Ｒスペクトルｕ　盟”：’　ｃｎｔ−’　：　１７４
Ｂ　、　１７００　。

６３０ 実施例１２ （３８，４Ｒ）　−３＋　［（ロ）−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−１−［１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプ
ロビルオキシホスホシニ＋）　テンメｆル：］−４−（
（フェニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノ
ン５５ｍｇとハイドロキノン３　ｍｇ　ｆ　）ルエン５
　＋ｎｌ中、窒素気流下１０５℃で４８時間加熱する。

トルエン４′減圧下留去し７、残留物音シリカゲル５ｇ
／ｆ：用いるカラムクロマトグラフィーに付す。５％ｒ
ｏ１ｙ上ツルーベンゼン混合溶剤′Ｔ：浴出して目的物
２７　ｍｙ　（収率６Ｔ％）を油状物として得た。

ＩＲスヘ７／　）　／ｌ／　　ｖ　ＣＨ”５　ａｎ−’
　：　１７７９　、１７４５　。

ａｘ １０１ ００Ｎスペクトル（０ＤＯｔ５　）δｐＨ）ｍ　：　１
．４１　（３Ｈ。

ａ　、　Ｊ　＝　６　Ｈ２）　、　２．６５　（２Ｈ、
ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ　）　、　３．２４　（Ｉ　Ｈ
、ｄｄ　、　Ｊ　＝　８　、２．５　Ｈｚ　）　。

４．０３　（Ｉ　Ｈ、ｔｄ、　、　Ｊ　＝　９　、２．
５　Ｈ２）　、〜５．０（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　５．１
４　（２Ｈ、８）　、　５．２１　（ＩＨ、（１，、Ｊ
　＝　１４８Ｚ　）　、　５．４８　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、
　Ｊ＝　１４　Ｈｚ　）　、　〜７．４　（５Ｈ、ｍ　
）　、　７．４２　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．６０　（
２Ｈ、ｄ　）　、　８．１４　（２Ｈ、ｄ）　＋　ｅ、
ｔｏ　（２Ｈ、ａ　） 実施例１３ イル〕ピロリジンー３−イルチオ〕力／ｌ／ボニル（３
”’＋””）　　４−〔〔（Ｓ）−１−［：Ｎ（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−３−［
（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル］−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキ
サリル）−２−アゼチジノン９７２　Ｈ９（１，１２ｍ
ｍｏｌｅ　）　、亜すン酸トリエチＡ／　１．１２　ｇ
（６，７５ｍｍｏｌｅ　）　′？ｆ：ｔ・／ｌ／エン８
０ｍ１　ｉｃ　ｍかし、窒素気流下９０℃で２時間加熱
する。

溶媒を減圧下留去して得られる残留物ｔローバーカラム
を用いて精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノ
ール（３０：　１０　：　１　）混合溶媒で溶出して目
的物９６１１Ｉ１ｇ（収率８４係）を油状９勿としてイ
尋た。

ＩＲスヘク）　ルｖ　ＣＨＣｌ５　ｃｍ−’　：　１７
５０　、１６８０　。

ａｘ ６４０ 実施例１４ （３Ｓ＋４Ｒ）　−’　−Ｃ［（Ｓ）　−１−〔”　−
（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミド
イル〕ヒロリシン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］
−３−（（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル］−ｔ−〔１−（ｐ−＝）ｏヘン
シルオキシカルボニル）トリエチルオキシホスホラニリ
テンメチル〕−２−アゼチジノン１９７■、ハイドロキ
ノン２０ｍｇ、トルエン２ｏ〃１の混合′＋／／Ｊ會鼠
素気流下１００℃で４４時間加熱した。減圧下市媒を留
去し、残留物をローバーカラムを用いて精製する。酢酸
エテル−クロロホルム−メタノ−＃　（３０：１０：１
）混合溶媒で溶出して出発原料１ｓｍｙ（８％）を回収
し、ついで目的物９３　ｘｇ　（収率５８饅）を油状物
として得た。

ＩＲスペクトルＵ　恭’７’　ｃ１＋１−’　：　１７
８０　、１７４４　。

ｔ６９ｏ　（ｓｈ、）　、　１６７６ 比旋光度　〔α〕２５　＋６８°（ｃ　＝　０．１７　
、　ａＨｃｔｓ　）ＮＭＲスヘクトル（ＯＤ０７５　）
６９９ｍ　：　１．４８　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　２．３１　（３Ｈ
、ｓ　）　、　１．８〜２．６　（２Ｈ、ｍ　）　、　
３．０〜４．５　（９Ｈ、ｍ　）　。

５．１６　（２Ｈ、ｓ　　）　　、　　５．２０　（２
Ｈ、ｓ　）　　、　　５．１４（Ｉ　Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝
　１４　Ｈ２）　　、　　５．４３　（Ｉ　Ｈ、ｄ、　
Ｊ　＝　１４　Ｈ２）　　、　〜５．２　　（Ｉ　Ｈ、
ｍ　）　　、　　７．５０（４Ｈ、ｄ　）　　、　　７
．５７　（２Ｈ、ｄ　）　　、　　８．１７　（６Ｈ、
（１） 実施例１５ 参考例３４と同様の方法にょυイ（）られる。

（３Ｓ、ＪＲ）　−４−ＣＣ但）−１−（：Ｎ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−１−
（（ｐ−二トロペンジルオキシ）オキサリル）−ａ−［
（Ｒ）−１−（）リメチルシリルオキシ）エチル〕−２
−アゼチジノン８２ｍ”ｉ　（０，１３４ｍｍｏｌｅ　
）、亜リン酸トリエチル１’１０　Ｉｌｌｇ（ｇ、６６
　ｍｍｏｔｅ　）、ハイドロキノン５Ｔｎｇ、トルエン
１０　ｍｅの混合物を窒素気流下１０５℃で５０時間加
熱する。溶媒全滅圧下留去して得られる残留物をローバ
ーカラムＡを用いて精製する。ベンゼン−酢酸エチル（
１：２）混合心媒で浴出して目的物４８ｍｐ（収率６２
　％　）　ｋ油状物として得た。

ジイソプロピルエーテルよシ結晶化させ、融点１４６〜
１４９℃を有する純品を得た。

ＩＲスヘク）ルＩ／　ＣＨＣ’Ｓ　ｃｒＬ−’　：　１
７８０　、１６８０ａｘ ＮＭＲスペクト／Ｉ／　（Ｌ！ＤＵ７５）δｐｐｒｎ：
　０．１４　（９Ｈ。

ｓ　）　、　１．２７　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６　
Ｈｚ　）　、　２．２６（３Ｈ、ｓ）　、　１．７〜２
．６　（２Ｈ、ｍ　）　、　２．８〜４．４（，１０Ｈ
，＋ｎ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）。

５．１６　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　１４　ｕｚ）　
、　５．４０　（１Ｈ、ａ　）　　、　　７．４７　　
（２Ｈ、ｄ）　　、　　７．５６　　（２Ｈ。

ｄ）、８．１３（４Ｈ，ｄ）ｊ ７４、昭和５１年９月３０日付の手続袖正書第１３頁第
８行と第９行の間に仄の字句全追加うる。

「参考例１９ 参考例ＩＴ述べ＊　（３ｓ、ｉｔ）　−３−［：　（＝
）−１−ｔθｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
〕−’−Ｃ［２（ｐ−二）ｏベンジルオキシカルボニル
アミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル］−１−（ｐ−
二トロペンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン
５６０■（０，７６＋ｎｍｏｊｅ　）。

をアセトニトリル１２ｍ１ＶＣ的かし、０℃で拐４拌下
、三弗化ホウ素エーテル銘体２８０　Ｍ／　（１，９７
ｍｍｏ／１．ｓ）　ｆ加える。１５分後、反Ｌ［ｚ、’
ｌｌｉ　？ｌｒ　ｏ、　Ｉ　Ｍリン酸緩絢液（１）Ｈ７
１）　５０　ｍｌと酊削エチル２０ｍｅ、’ｇ払拌する
中へあけ酢酸エチル層を分り−る。

乾燥後、浴奴を留去して目的物４ｚａｍｙ（収楽１００
％）を油状物として得た。

工ＲスペクトルＩ／　ＣＨＣ’５　ｃｒａ−’　：　３
４０Ｇ　、　１８０５　。

ａｘ １７５０　、１７２０（Ｓｈ、　）　、　１７０（ＩＮ
ＭＲスペクトル（ＯＤＯｚ３）δｌ）ｌ：１ｍ　：　１
．２６　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　、　２．７〜３．７　（
８Ｈ、ｍ　）　。

３．９〜４．７　（２Ｈ、＋ｎ　）　、　５．１３　（
２Ｈ、ｓ　）　。

５．３５　（２Ｈ、ｓ　）　、　５．４１（１ｕ　、　
ｂｒ、　）　＋７．４４　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．５
１　（２Ｈ、ｄ　）　、　８．１５（４Ｂ、ａ） 参考例２０ キシオキサリノＬ）−３−［（Ｉリ−１−トリメチル□ （３Ｓ、４Ｒ）　−３［（Ｒ）　−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−［Ｃ２−（ｏ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルアミノ）エナルチオ］カルボニルメチル］−１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジ
ノン１１２　ｔｎ９　（０，１８ｍｍｏｌｅ）をテトラ
ヒドロフラン２　ｔｒｙ　Ｋ　１．’４かし、ビス（ト
リメチルシリル）トリノルオルアセトアミド９５　ｍ９
　（０，３７ｍｍｏｌｅ）、４−ジメチルアミノピリジ
ンｉ　ｔｎｇ’ｘ加え室温で４５分間放１＃Ｚする。反
応終了後、溶ＩＭを減圧下ｈ′Ｉ去し、残留物をシリカ
ゲル１ｇのカラムクロマトゲランイーＶこ付す。

ベンゼン−酢醒エチル（２：１）混合沼媒で溶出して目
的物１ｔｓｍｇ（収率９２係）を油状物として得た。

ＮＭＬ（スペクトル（ＯＤＯ４５）δｐｐｍ　：　−０
，０１、０，０３（１：　１　、９　Ｈ、ｓ　）　、　
１．１７　、１．２２　（１：　１、３Ｈ，ｄ　、　Ｊ
＝６Ｈｚ　）　、　２．６〜３．７　（７Ｈ。

ｍ）、３．９〜４．７（２Ｈ，ｍ）、５．１４（２Ｈ。

ｓ　）　、　５．３５　（２Ｈ、ｓ　）　、　〜５．３
　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ。

）　、　７．４５　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．５２　（
２Ｈ、ｄ　）　１ａ、ｕ＋　（４Ｈ、ａ　） 参考例２１ （３Ｒ，４Ｒ）　−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル１）−１−（）リメクールシリル）−２−アゼチジノ
ン３０　ｍ９　（０，０５１＋ｎｍｏｔｏ　）　　とＳ
−［２−［Ｎ−（ｐ−＝トｏベンジルオキシカルボニル
）−Ｎ−（）リメチルシリル）アミン］エチル：］（＋
−リメチルシリル）エタング・オエート４７ｍｇ（口ｉ
ｏｓ　ｍｍｏｔｅ　）　ｋ　Ｊａ化メチレン０．５　ｍ
ｌニ’１６かし、家系気ｖｉＬ下トリメチルシリルメタ
ンスルホン酸トリメチルシリルエステル３ｍｇ（０，０
１４ｍｍｏ７ｅ　）　ｋ加える。室温下２４時間放１１
χした後、反応層を５％重曹水に作動４ｊｉ拌下あけ、
１０分間拐；拌する。酢酸エチルで抽出し昭和食塩水で
洗い乾煉後溶媒を留去する。残留物音シリカゲルの分収
用薄層クロマトグラフィー〔ル；開ｍ　媒？ベンゼンー
酢畝エナル（１：２）、１で精製して２９　ｍｐ　（収
率６９％）の目的物全油状１勿として得た。

工Ｒスヘクトルｖ　”ＣＬ５　ｃｍ−’　：　３４６０
　、３４２０　。

ａＸ １７６３　、１７５０（Ｓｈ、）　、　１７３０（Ｓｈ
、）　、　１６８５ＮＭＲ／（ペクト／Ｉ／　（ＯＤＯ
４５）δＩ）ｐｍ　：　１．４０　（３Ｈ。

ｃ３．　　、　　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　　、　　２．
６〜３．６　　（７Ｈ、ｍ　）　　。

３．９１　　（１１１、ｍ　）　　、　　５．１３　　
（２Ｈ、ｓ　　）　　、　　５．１９（２Ｈ、ｓ　）　
　、　　４．９〜５．５　（２Ｈ、ｍ　）　　、　　Ｇ
、６Ｔ（Ｉ　Ｈ、ｂｒ−Ｓ　）　　ｒ　　１４５　　（
２Ｈ、ｄ　）　　、　　７．４８（２Ｈ、ｄ　）　　、
　　８．１６　　（２１ｉ　　、　　ｄ　）　　、　　
８．１９　（２）１　　、　　ｄ、　　） 蚕考ｆｙｌ＋２２ （３Ｓ、４Ｒ）　−４−Ｃ［２−（ｐ−二トロペンジル
オキシ力ルポニＡ・アミン）エチルチオ〕カルボニルメ
ヂル）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼナジノン３５
１１　ｍ９　（０，４４９ｍｍｏＡｅ　）　’ｆｃｍ化
メチレン８　ｍ１！Ｋ　ｈｌ？かし、０℃で撹拌しなが
らトリエチルアミン１８４　ｍｇ　（１，８２ｍ＋ｏｏ
ｊｅ　）、ついでｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル
クロリド４４３　ｍ９　（１，８２ｍｍｏｌｅ　）　ｋ
：加える。同Ｔｌ！Ａ　Ｊｋで１時間撹拌した懐、反応
層を０．１　Ｍ　リン骸緩１．．：ｈ把（１）Ｈ７８２
）　２０１ｎｅＫ　；Ｄ）け、有１幾層を分離し、水層
を塩化メチレンで沁らに抽出する。有枳層をあわぜ、食
塩水で洗浄したのち乾煉し、溶媒會留去する。残留ｖｌ
ヲシリカゲル５ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに
伺し、ヘキザンーＩＮ’１：阪エチル（１：１）混合溶
媒でｔｃｉ出して目的物３５１　＃ｊ　（収替、７３係
）を油状物として得た。ヘキサン−酢酸１チル（１：　
３　）　７１ｔ、合溶媒でさらに溶出して出発肺、旧７
５ｍ１／（２１襲）を回収した。

工Ｒスペクトル　シＣＨＣム硼−′：　１ａｏｊ　、　
１７４Ｂ　。

ａｘ １７１Ｂ（ｂｒ、）、１７００（Ｓｈ、）、１６８２（
Ｓｈ、）ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯ４５）δｐｐｍ　：
　１．４０　（３Ｈ。

ｄ　　、　　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　　）　　、　　２
．７　−　３．１　　（７Ｈ、ｍ　）　　。

４．５　　（Ｉ　　Ｈ、ｍ　　）　　、　　５．１３　
　（２Ｈ、ｓ　　）　　、　　５．１９（２Ｈ、ｓ　　
）　　、　　５．３５　　（２Ｈ、ｓ　　）　　、　　
４．！ｌ　−５，４（２Ｈ、ｗ　）　　、　　７．４３
　　（２Ｈ、ｄ　　）　　’、　　７．４６　　（２’
　　ｒ　　ｄ　　）　　＋　　１５０　　（２Ｈ、ｄ　
　）　　、　　８．１５　　（２Ｈ。

ｄ　　）　　、　　８．１７　　（４Ｈ、６）参考例２
３ ６α−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリ
ルオキシエチル〕ペニシランＣＷ　　ｐ−ニトロベンジ
ルｘ　ステル１／ｊ＋−オキシド５１１　ｍ９　（１，
ＬＩＯｒｕｕ＋ｏｌθ）をトルエン３０　ｍｌ　ＶＣ７
７ｊかし、！１１１りン１戊トリメブール７４４　Ｍｌ
ｌ　（６，００ｍｍｏｌｅ）、酢眠２４０　Ｉｎ＆　（
４，００ｍｍｕム）を加えて９０℃で５時間加熱する。

反応終了波、溶媒全滅圧下Ｗ１去し、残留！Ｉ７！Ｉを
シリカゲル１０ｙを“用いるカラムクロマトグラフィー
に伺り。ベンゼン−酢酸エチル（２０：１）混イＦ　’
ｌ（、ｉ　４．’＋’でｆｃ７出しで目的物４７９　ｍ
９　（収率９２襲）′（［−油伏′）勿として得た。

生成物は４Ｒおよび４Ｂ配位乞伺する二異性体の約１：
１の混合物である。

ＩＲスペクトル　シｅｎｃ４□−’　：　１７６８　（
ｓｂ、）　、　１７４５ｄｘ ＮＭＲスペクト＃　（ｅＤＦ、！ｊ３）δｐｐｍ　＋　
（４Ｒ）’Ａｎ体：０．０２　（３Ｈ、ｓ　）　、　０
．０６　（３Ｈ、ｓ　）　、　０．８４（９Ｈ、ｓ　）
　、　１．２６　（３Ｈ、（１、Ｊ　＝　６　Ｈ２）　
。

Ｌ８３　（３Ｈ、ｂｒ、ｓ　）　、　１．Ｈ（３Ｈ、ｓ
　）　。

３．０９　　　（１１（、ｄｄ、　　　、　　　Ｊ　　
＝　　４．５　　　、　　１．５　　Ｈ，）　　　、　
　　４．２（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　４．８０　（Ｉ　Ｈ
、ｓ　）　、　４．８９　（ＩＨ、ｂｒ、ｓ　）　、　
５．００　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　）　、　５．２０（２Ｈ
、ｓ　）　、　６．４２　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ、　−
１，５Ｈｇ　）　、。

７．４５　　（２Ｈ、ｄ、　　）　　＋　　８．１６　
　（２Ｈ＋　　ｄ　　／　　；　　（４Ｓ）−異１を俸
：　０．０４　（３Ｈ、Ｓ　）　、　０．０８　（３）
１　。

８　　）　　、　　０．８４　　（９Ｈ、Ｓ　　）　　
、　　１．３４　　（３Ｈ、ｄ　　。

Ｊ　−６Ｈ２）　　、　　２．０８　　（３Ｈ、ｓ　　
）　　、　　３．３５　　（Ｉ　　Ｈ、ｃｌｄ　　、　
　Ｊ　＝　８　　、　４．５　Ｈｚ　　）　　、　　４
．２　　（Ｉ　　Ｈ、ｍ　　）　　。

４．７５　　（Ｉ　　Ｈ、ｓ　　）　　、　　４−８９
　　（Ｉ　　Ｈ、’ｏｒ、Ｓ　　）　　＋５、（Ｈ（Ｉ
　　Ｈ、ｂｒ−）　　＋　　５．２θ　（”　　＋　　
”　　）　　＋６．１７　　（１）１　　、　６．　　
、　　Ｊ　＝　４．５　Ｈ２）　　、　　７．４５　　
（２Ｈ、ｄ　　）　　、　　８．１６　　（２Ｈ、ｄ　
　）参考例２４ ＨＬ、ｔ（Ｊ２１’ＮＢ （３）（，４Ｒ８）　−４−アヒトキシ−３−〔θリー
１−ｔｅｒｔ　−フテルジノナルシリルオキシＬ７−ル
〕−１−（：（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル −２−アゼチジノンｕ　３　ｅＩｇ　（　０．１６０　
＋＋＋ｍｏｔｅ　）　　と１−フェニルチオ−１−（）
リメテルシリルオキシ）エチレン５　４　Ｍｇ（　０．
２４　ｍｍｏｌｅ　）　’＜乾燥塩化メチレンＶこ３ｒ
ｎｅ’ｍかし、トリフルオルメタンスルホン４ｎＦ”）
メチルシリルエステル６　Ｔａ２（　０．０２７　ｍｍ
ｏｌｅ　）　ｋ　〃１．ｌえ、窒素’；＋　１）Ｊ」気
下６４時間’ｆｉ’ｊ’　！ｌ“０：する。反応終了後
、反応液金希重靭水にあげてクロロホルムで抽出する。

クロロホルムｔＷイ去して得ら）１，る残留物をシリカ
ゲルの分取用薄層クロマトグラフィー〔展開？Ｆ’ｌ　
Ｉ！Ａ，ヘキザンー耐ｆｆｂ（　４　：１）］によシ精
製し、１」的ルり８６７ｎ９　（収率８８≠）を油状物
として得た。

工Ｒスペクトル　シＯＨＣｔ５αー’　ｊ　１７５０　
（ｓｈ．）　。

ｎａ　Ｘ １７４０　、　１６９５ 比施光度　〔α〕廿−５０°（０＝ｔｏ４，　ａＨｃｚ
，）ＮＭＲ　スペクトル（ＣＤＣ１Ｂ）δｐｐｍ：　Ｏ
．Ｑｊ（　３　Ｈ　。

ｓ　　）　　、　　０．０６　　（　　３　Ｈ　　、　
　ｓ　　）　　、　　０．８５　　（　　９　Ｈ　　、
　　ｓ　　）　　。

ｉ．ｔａ　　（　　３　　Ｈ　　、　　ｄ．　　、　　
Ｊ　＝　Ｇ　　Ｈｚ　　）　　、　　Ｌｆｆ１５　　（
　　３　Ｈ　　。

ｂｒ．ｓ　　）　　、　　２．８６　　（　　Ｉ　　Ｈ
　　、　　ｄｄ　　、　　Ｊ　＝　１５　　、　　？　
　Ｈｖン　、　　３．ＯＱ　　（　　Ｉ　　Ｈ　　、　
　ａａ　　、　　Ｊ　＝　　５　　、　　２．５　　ｉ
ｉ７　　）　　。

３、２０　　（　　１　　）ｉ　　、　　ｄ（１　　、
　　Ｊ　＝　　１５　　、　　５．５　Ｈｚ　　）　　
、　　３．９〜’Ｇ　　（　　２　１１＋　　ｍ　）　
　＋　　４．７８　　（　　Ｉ　　Ｈ　　、　　ｓ　　
）　　。

４、８７　　（　　Ｉ　Ｈ　　、　　ｂｒ．ｓ　　）　
　、　　５．０２　　（　　Ｉ　　Ｈ　　、　　ｂｒ．
　　）　　。

５、２０　　（　　２　Ｈ　　、　　ｓ　　）　　、　
　７．３６　　（　　５　Ｈ　　、　　ｓ　　）　　、
　　７．４５（２Ｈ，ｄ　）、０．１６（ｚＨ，ａ）参
考例２５ １ｊｏＯＰＮＢ （３Ｓ、４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］　−１−Ｃ（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−ノ
ナルー２−プロペニル、］−４−４（フェニルチオ）カ
ルボニルメチルツー２−アゼチジノン８６Ｔｎ９を塩化
メチレン１．５　ｍｅ　Ｖｃ浴かし、トリエチルアミン
１５ｒｎｙ’ｃｊｌｒＪえて室温下１時間静ｆ【〔する
。蔭媒をｌイ去して得られる夕’Ｑ　ｔＹｆ　’ｌｌ全
全ベンゼン−ｕＩト’；ｉ、　エチル（２０：　１　）
　混合浴１’＋’、ニｈｌｉ　カｌ、、シリカゲル１！
Ｊのカラムｔ　ｉｌ、ｌｌ　Ｌで４１’ｊ製する。１］
的物８４　ｍｇ　（収率９８係）を油状物とＬ２て得た
。

ＩＲスペクトル　シ０ＨＤ７５ｔｑルー’　：　１７５
υ、　１７１５ａｘ （ｓｂ、）　、　１６２５ 比旋光度　〔α〕廿＋４６°ＣＯ＝　１．３２　、　Ｃ
＋ｕ；ｔ、　）ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐ
ｌｎ　：　０．００　（３Ｈ。

ｓ）、０・０５　（３Ｈ、ｓ　）　、　０．８６　（９
Ｈ、ｓ　）　。

１．２５　　（３Ｂ　　、　　（１、Ｊ　　＝　　６　
　融　）、２．００　（３Ｈ、ｓ　）　、　２．２０　
（３Ｈ、ｓ　）　、　２．９０　（Ｉ　Ｈ。

ｄｄ、　Ｊ　＝　６　、２．５　Ｈ２）　、　２．９５
　（２Ｈ、ａ　。

Ｊ　、＝　５．５　Ｈｚ　）　、　４．１５　（Ｉ　Ｈ
、ｒｎ　）　、　４．４０　（１Ｈ、ｔｄ　　、　　Ｊ
　＝　６．５　　、　２．５　Ｈ２）　　、　　５．２
６　　（２Ｈ。

ｓ　　）　　、　　７．３３　（５）１　　、　　ｂｒ
、　　）　　、　　７．５２　（２Ｈ、ｄ。

）　　、　　８．１７　　（２Ｈ、ｄ　　）参考例２６ （３ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔニー
ブチルジメチルシリルオキシエチル］−１−［１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１
−プロペニル］−４−［（フェニルチオ）カルボニルメ
チル］−２−アゼチジノン１９９■ヲ塩化メチレン２５
ｍｅＫ％かじ、−１８℃てオゾンを吹き込む。反応液が
１￥味をイ１）び１辷ら、屋素ガス奢吹き込んで過剰の
オゾンを追い出す。

ジメチルスルフィド０．２　ｍｌ　′ｆｄ：加えて反応
敢ヲ約５分間で呈温に戻した後、減圧下龜緬する。残Ｍ
ｌ物欠ベン七ンーヘキサン（１：ｉ）’／１４合Ｙｂ媒
に浴かし２回水洗し、乾燥俊１６４１１を留去して、目
的物１ｓｚｎｇ（収率１００％）を油状物として得た。

ＩＲおよびＮ１ｖｌＲスペクトルは参考例６で述べた化
合物のそれと一致した。

参考例２７ Ｌ！０ＯＰＮＢ （３Ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−フ
゛ブールジメチルシリルオキシエチル］−１−［（Ｒ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−
メチル−２−プロペニル］−４−４（フェニルチオ）カ
ルボニｌレメチル〕−２−アゼチジノン６４　　ｍｙ　
　（０，１０４ｍｍｏｌｅ　　）　　’ｆｃ　　ア　セ
　ト　ニ　ト　１ノ　ル　１．　５　　ｍｅに溶かし、
−１５℃で撹（１しなｈ・ら三弗イヒンｊ（つ素エーテ
ル償目本１５　ｍｇ　（０，１０６ｍｍｏｌｅ　）　’
ｌ　ＪＪＬＩえる。

３０分広、反応液に１１′ｌ−敵エチルケ加えてイｉＹ
増くし、希４１ｆ曹水で洗う。ＹＩｚｔ減川下留去し、
イ号ら」（。

る残１１′イ物奮７リカゲルの薄層クロマトグラフィー
〔ベンゼン−酢酸エチル（２：３）：］で４’＋’ｊ製
して、目的物４８　ｍｅ　（収率９２％）全て１ｈ状ｑ
勿として得た。

ＩＲスペクトル　シａＨａｔＳ儂−’　；　３４Ｂ０　
、１７４８　。

ａｘ １７２０（ｓｈ、）　　、　　１７００（ｓｈ、）　　
、　　１６２５ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１５）δｐｐ
ｍ　：　１．２６　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１．９９　（３Ｈ
、ｓ　）　、　１２３（３１（、ｓ　）　、　〜２．９
５　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　２．９７　（２Ｈ、（１、
Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　３．９−４．５　（２
Ｈ。

ｍ　）　　、　　５．２４　（２Ｈ、８）　　、　　７
．３５　（５Ｈ、ｂｒ。

ｓ　）　　、　７．４９　（２Ｈ、ｄ　）　　、　　８
．１７　（２Ｈ、ａ　）参考例２８ チジノン （３８，４Ｒ）　−３−〔但）−１−ヒドロキシエチル
）−１−［１−（ｐ−二トロベンジルオキシ力ルボニル
）−２−メチル−１−プロペニル〕−４−［（フェニル
チオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン４４７ｎ
９　（０，０８８ｍｍｏｌｅ　）　ｋ塩化メチレン２７
１ｃ　浴かし、０℃で撹拌しなから、４−ジメチルアミ
ノピリジン３２　ｍｇ　（０，２６ｎ＋ｍｏｔ６）つい
でｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド５７　
Ｍ９　（０，２６ｍｍｏｌｅ）全加える。同温展で３時
間撹拌したのち、希厘曲水にめげクロロボルムで抽出す
る。クロロホルムＩ’）’ｊ　’ｃＣ’希塙ムノ。

玲乗′曽水で順次洗い、乾燥後沼媒を留去する。

残留物音シリカゲルの薄層クロマトグラフィー〔展開溶
媒：ベンゼンー酢酸エチル（３：１）〕により楯装して
目的物２１　ｍｇ（収率３５チ）を油状物として得た。

ＩＲスペクトル　νＣＨ”５　ｃｍ−’　：　１７５６
　、１７２０ｌ１ｚ （ａｌｌ、）　、　１７００（ｓｂ、）　、　１６２５
ＮＭＲ、＜ペクトＡ／　（ＯＤＵｔ５）δｐｐｍ　：　
１．４１　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１９６　（３Ｈ、
ｓ　）　、　２．２３（３Ｈ、ｓ　）　、　２．９１　
（２Ｈ、（１、Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ）　　　、　　　
３．１１　　　（Ｉ　　　Ｈ、ａｄ　　、　　　Ｊ　　
＝　　８．５　　　、　　２．５　　Ｆ’ｚ）＋４．３
１　（Ｉ　Ｈ、ｔｄ　、　Ｊ　＝　６．５　、２．５　
Ｈ２）　、　５．００（２Ｈ、ｓ　）　、　５．２３　
（２Ｈ、ｓ　）　、　５．１　（ＩＨ、ｍ　　）　　、
　　７．３２　　（Ｓ　　Ｒ、ｓ　　）　　、　　７：
３９　　（２Ｈ。

ｄ、　）　、　７．４９　（２１１、（１）　、　８．
１５　（４Ｈ、ｄ　）参考例２９ （３Ｓ、４Ｒ）　−１−Ｃ１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル）−３
−［（Ｒ）−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エナル］−４−４（フェニルチオ）カルボニ
ルメチル］−２−アゼチジノン９７　ｍｇ　′ｆ：塩化
メチレン１０ｍ１Ｋ繭かし一７８℃でオゾンを吹き込む
。反応液が青味を帯。

びたら、窒素ガスを吹き込んで過剰のオゾンを追い出す
。ジメチルスルフィド０．１　ｍｅ　ｆ加えて反応液を
約５分間で室温に戻した後、威圧下前゛？龜縮する。残
留物全ベンゼンに浴かし２回水洗し、乾燥後（４媒を留
去して、目的物９３叩（収率１００％）を固体として得
た。ベン−ピン−ＬＩｔ、酵エチル混合溶媒よシ再結晶
をおこない融点１２９−１３０Ｃ’＜有する純品を得た
。

元系分析値　Ｕ３０ＨｚｓＯ＋ｚＮｓＳとしてｉｔ　＄
ｓ：　＋直　：　　Ｃ、５５，３０；　　Ｈ、３８７；
　　Ｎ　　、　　６４５　　；Ｓ　　、　　４．９２ 実測値：　０　、５５．４９　；　Ｈ、３９２；　Ｎ　
、　６．３Ｑ　；Ｓ　　、　　４．８７ エＲスヘク）　ルｖ−”ｊ”　ｃｒｎ−’　：　１Ｂ１
０　、１７４Ｂ　。

ｌｌｉス １７２８　、１７００　、１６９０（ｓｈ、）比旋光度
　〔α〕廿　−４８°（０＝ＬＯ２、０ＨＵＩｓ　）Ｎ
ＭＲスペクト＃　（ＣＤ（Ｌ／４）δｐｐｍ　７１．４
３　（３Ｈ。

ａ　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　３．１２　（
ｉ　Ｈ、ａａ　、　Ｊ　＝１６　、８１１ｚ）　、　３
．５３　（Ｉ　Ｉ（、ｄ、ｄ　、　Ｊ　＝　１６　。

４１（Ｚ　）　、　３．６６　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ　、　’
Ｊ　＝　７　、３．５１Ｌｚ）　、　４．５５　（Ｉ　
Ｈ、ｍ　）　、　５．１１　（、２１（、Ｓ　）　。

５．３５　（２Ｈ、ｓ　）　、　〜５．２　（Ｉ　ＩＩ
　、　ｗ　）　、　７．５２（４Ｈ、ｄ　）　　、　　
８．１２　　（２Ｈ、ｄ　　）　　、　　８．１６　　
（２Ｒ、ｄ　） か前例３０ （３Ｒ，４Ｒ）　−４−アセトキシ−３−〔（ハ））−
１−（ｐ−二トロペンジルオギシ力ルポニルオキシ）エ
チル］−１−１リメチルシリルー２−アゼチジノン６５
０　ｍｆ！　（１，５３ｍｍｏｌｅ　）と１−フェニル
チオ−１−（トＩＪメチルシリルオキシ）エチレン５１
４　Ｑ　（２，２９ｍｍｏｊｅ　）　”ｔ（乾燥塩化メ
チレン１７−に溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸
トリメチルシリルエステル７５　ｉｌｇ（０，３４ｍｍ
ｏｌｅ　）を加え、竪−（ら気流下２５時間室温で族１
自する。

反応終了後、反応液を稀止曲水にあけてクロロホルム・
で抽出する。クロロホルム金留去し１侶られる残留物を
テトラヒドロフラン−水（４：１）混合液に箔かし、ｐ
−）ルエンスルホン酸　ピリジン塩２０ｍ１Ｊを加えて
室温下３０分放ｔｉ１する。

酢酸エチルを加えて貼相食ち・セ、水′ｔ″佐浄し、乾
：ＩＺｊ；後浴娯奮留去する。残留油状物をシリカゲル
１０ｙ奮用いるｐラムクロマトフランイーに伺し、ベン
ゼン−酢酸エチル（５：１）混合溶媒で浴出して目的物
６３１　ｔ、＋ｇ　（収″”４９３　％　）を油状物と
して得た。

ＩＲスペクトル　シａｗｃｔ５鑞−’　：　３４１０　
、１７６２　。

ａＸ １７５Ｇ（ｓｈ、）　、　１６９Ｇ ＮＭＲスペク＋−、、（ＣＤＯ４）δｌ）ｐｍ　：　１
．４７　（３Ｈ。

ａ　、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　、　〜３．０　（２Ｈ
、ｄ　１ｉｋｅ　）　。

３．１３　（１１ｉ　、　ｄｅｌ、　、　Ｊ　−７、２
Ｈｚ）　、　４．０２（Ｉ　Ｈ、ｄｄｃ］、　、　Ｊ＝
　８　、　Ｇ　、　２８ｚ）　、　〜５．１（Ｉ　Ｈ、
ｍ　）　、　５．１９　（２Ｈ、８）　、　６．３２　
（ＩＨ、ｂｒ、ｓ　　）　　　、　　　７．３５　　（
５Ｈ、ｎ　　　ン　　、　　　７．４３　　（２Ｈ。

６、　　）　　、　　ｅｌｓ　　＜　　２　”　　ｌ　
　ｄ）参考例３１ （３Ｓ、４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）−１−（１１）−二ト
ロペンジルオキシ力ルポニルオギシ）エチル〕−４−〔
（フェニルチオ）カルボニルメチル］−２−アセチジノ
ン１．００　ｇ　（２，２５ｒｎｍｏｌθ）全塩化メチ
レン２０ｍｅＫ％がし、ｏｃで撹拌しなからジイソプロ
ピルエチルアミン３５０　ｍｙ　（２，７１ｍｍｏｌｅ
　）についでｐ−ニトロベンジルオキシオキザリルクロ
リド６６０■（２，７１ｍｍｏｌｅ　）全加える。１５
分後さらにジイソプロピルエチルアミン２３０１１１ｇ
（１，７８ｍｍｏｌｅ）とｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリルクロリド４３３藺９　（１７８ｍｒｎｏｔｅ）
を加えて１５分間同温度でもｔ拌する。反応終了後、０
１Ｍ−リンら３１１．＞Ｑ、衝液（ｐＨ７，１）　３０
　ｔｎｌ？Ｉ？加えて有（人層金分離し、水層をさらに
クロロホルムで抽出する。有懺ルシ會−諸にし険媒を留
去する。残留！１勿奮ベンゼン″′酢酸エチル（１：１
）？見合１６媒５０ｍｅＶＣ’ｌこｉかし０．０２　Ｎ
　−塩ｔＪ’ｌ、水、５１１水、飽和食塙水の１１に洗
浄する。乾燥後、浴媒を留去して結晶性の目的物１．４
７．９　（収率１００％）ヲ・得た。ベンゼン−酢酸エ
チル温０（ｄ媒から再結晶をおこない／訓点１２９−１
３０℃を有する純品を得た。工ＲおよびＮＭＲスペクト
ルは参考例２９で述べた化合物のそれと一致しｌζ。

参考例３２ ルメチル〕−２−アゼチジノン （３Ｒ，ＪＲ）　−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル）−１−（）リメチルシリル）−２−アゼチジノン５
３　ｍｌ　（０，１２５ｍｍｏｌｅ　）と（Ｓ）−１’
−（ｐ−二トロペンジルオキシヵルボニル）−３−（ト
リメチルシリルアセチルチオ）ピロリジン１０３　ｖ＋
９　（、Ｊ］、２５　ｒｎｍｏｌｅ　）　ｋ塩化メチレ
ン１−に溶かし、この溶液にトリフルオルメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルエステル５ηｉｆ？　（０，０２
３ｍｍｏｌｅ　）　ｆ加え、窒素ふんい気下室温で２８
時ｆｌｊＪ静ｔｉｔする。反応液全クロロホルムで希釈
し、指爪ダυ水で洗ｆｆｉする。乾燥後、浴ｐルシを留
去し得られる残留物をテトラヒドロンラン−水（４：１
）３−に俗かし、ピリジン−ｐ−トルエンスルホン酸ｊ
品３■を加えて室温で３０りＪ間静ｔ４する。酢酸エチ
ルを加えて水洗し、乾６燥彷二浴奴を留去して得られる
残留物をシリカゲルの分収用薄層クロマトグラフィー〔
力ｐ　ｊ’ｒＪ畠媒：ベンゼンー酢醒エチル（２：　１
　、）　）で＋１Ｉ１７製して目旧物６１１１Ｉｇ（収
１ｇ　８７φ）を固体として得た。ベンセンから（Ｉ）
結晶を行い、融点５４−５６℃をイ４うる板状晶會得た
。

元１を分析値　０２７Ｈ２ｅＯ＋＋Ｎ４Ｓ　トして計η
値：　ｃ　、　５２．５９　；　Ｈ、４，５８；　Ｎ　
、　９．０９　；Ｓ　、　５．２０ 実測値：　ｃ　、　５２．８８　；　Ｈ、４，５４；　
Ｎ　、　８．９３　；Ｓ　、　５．４７ エＲスペクトル　νＯＨ（、！ｔ５α−’　：　３４１
０　、１７６０　。

！Ｉ］ａｘ ６８Ｂ 比旋光Ｌ’）ｌ　　［Ｉ（Ｉ］Ｕ　＋５３°（Ｃ＝０．
５５　、　ｃＨＣｌ、　）ＮＭＲスヘク）　／Ｉ／　（
ｃＤＯ１５）δｐｐｍ　：　１．４４　（３）１　。

ｄ　、Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　１．６〜２．７　（２）ｉ
　、　ｍ　）　。

２．７〜４．５（ＩＯＨ，ｍ）、５．１９（２Ｈ，Ｓ）
。

５．１２（２ｋｌ　、　ｓ　）　、　６．３５　（Ｉ　
Ｈ、ｂｒ、　）　。

７．４７　　（２）ｉ　　、　　＋１　　）　　　、　
　　７．５１　　　（２１４、ｄ　　）　　　、　　　
８．２０（４Ｈ，ａ） 参考例３３ ゼチジノン （３Ｒ，４Ｒ）、　−４−アセトキシ−３−〔（６）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エ
チル］−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン
５０　Ｑ　（０，１１８＋ｎｍｏｌｅ　）と（Ｓ）　−
１−［：Ｎ−（ｐ−ニドａベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル］−３７（）リメテルシリルアセチル
チオ）ピロリジン１０Ｂ　＋＋ＩＩ！　（０，２４ｍｍ
ｏｌｅ）を塩化メチレン０．８　ｍｌ　ＶＣ彪がし、こ
れにトリフルオルメタンスルホン酸トリメチルシリルエ
ステル６３　ｍｌ　（０，２８ｍｍｏｊｅ　）　ｋ　力
Ｉｆえ、？ｌ’ｉ　４’ｇふんい気下室温で１４時間静
ｆ畝する。反応７１り４°氷冷し、５１■水５　ｍｌを
加え１０分間耀４−′１−する。

酢自グエチルで抽出し、水洗、乾燥後■７媒を贋イ去し
て得られる残留物をシリカゲルの分取用１薄贋ｌクロマ
トグラフィー〔展開浴繰：ベンセンー酢欽エチル（１：
２）〕で精製して目的し’＋　４５　ｍｄ（収率５８φ
）を油状物としてイけた。

工Ｒスペクトルｖ　ｇＡ”：５　ｃｒｒｔ−’　：　３
３８Ｇ　、　１７４０　。

６８Ｏ ＮＭＲＸペクトＡ、　（ＣＤＯＡ３）δｐｐｍ　：　１
．４１　（３Ｈ−。

ｄ、　Ｊ　＝＝６．５　Ｈ２）　、　１．７〜２．５　
（２Ｈ、ｒｎ　）　。

□ ２．２７　（３Ｈ、ｓ　）　、　２．８４　（２Ｈ、ｄ
、　Ｊ　＝　７３ｚ　）　、　３．０１　（Ｉ　Ｈ、（
１ｄ、　Ｊ　＝　８　、２．５　Ｈ２）　。

３．３〜４．２　（５Ｈ、ｍ　）　、　５．１　（１１
４，、ｍ　）　。

５．１７　（２）１　、　ｓ　）　、　５．２０　（２
ＩＩ　、　ｓ　）　、　６．３２（Ｉ　Ｈ、ｔ）ｒ、　
）　、　７．５１　（４）１　、　ｄ’　）　、　８．
１７　（２Ｈ、（’１　）　、　８．２０　（２１１、
ｄ、　）ζζ考１シ１）　３４ （３Ｓ１４Ｊ　　’　　［［：（Ｓ）−’　−ＣＮ−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）−
３−［：（Ｒ）−１−（ｐ−二トロベンジルオキシ力ル
ポニルオキシ）エチル〕−２−アセグ・ジノン１５０　
ｍｇ　（０，２３ｍｍｏｌｅ　）　’ｔｒテトラヒドロ
フランＳ　ｍｅ　Ｋ品かし、屋素気υ１１．下、−７８
℃で攪拌しながら、１５慢ブチルリチウムヘキザンＱ　
’（Ｑｊ　０．１５　ｍｌｌ　（０，２４ｍｍｏｌｅ　
）　？＋：５［１下する。２分間１ｊ＃　拌した後、ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド６４１４ｇ
　（０，３４ｍｍｏｌｅ）ケ加える０４分間伝押した後
、反応＊Ｍ　ＶＣ，ｏ、Ｉ　Ｍ　リン酸緩イ！ｌＩＩτ
’ｔｉ　（ｐｉ（７，１）　？　＋＊Ｉ！を加え、酸１
ν゛ニゲルで抽出する。乾燥後電媒を留去し、残Ｗイ物
をシリカゲル４ｇ食用いるカラムクロマトグラフィーに
伺す。

ベン七′ンー酢酸エチル（１：　５　）　？昆ｆｒ１台
媒でｔけ出して目的物６１１ｎ９　（収率３１％）を油
状物として１４／こ。

ＩＲスヘクト＃　　ｖ　”−”’５　ｃｍ−’　：　１
８１０　、１７５３　。

ａｘ １６８２（ｂｒ、） ＮＭＲスペクトル（０ＤＯ４）δｐｐｍ　：　１．４２
　（３１１。

（１、Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　１．８〜２．５
　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．２６　（３Ｈ、ｓ　）　、　２．８〜４．２　（８
Ｈ、ｍ　）　。

〜４５　（Ｉ　Ｈｌ　ｍ　）　＋　５１７　（２”　＋
　Ｓ）　ｒ　”’（２Ｈ，ｓ）、５．３７（２Ｈ’、ｓ
）、〜５２（１Ｈ、ｍ　）　、　７．５２　（６Ｈ、ｂ
ｒ、ｄ　）　、　８．１５　（２Ｈｌ　ｄ　）　、　８
．１９　（４Ｈ、ｃｌ　）参考例３５ Ｃ５１（＋６８）　−２−〔（Ｓ）−’　−Ｃ”　　（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アート・；・イ
ミドイル〕ビロリジニ／−３−イルチオ）　−６−Ｃ（
Ｒ）　−１−（ｐ−二トロペンジルオキゾ力ルポニルオ
キシ）エチル〕カルバペンー２−エムーカルボンｆ！ｆ
ｔ　　ｐ−ニトロベンジルエステル４８５　ｍｇ　１．
１　テトラヒドロンラン２５ｍｅおよび０．１Ｍ−リン
酸緩衝液（ｐＨ７，１）　２５　ｍｅの混合溶液に溶か
し、１０％パラジウム−炭素１．４９　’ｆｒ：加え、
常圧水素下、１０分間（、を打する。反応終了後、触媒
をｆ−１過して除き、ｆ”　Ｍｌ−に上７Ｑ　ＬＭ　’
ｊ、ｉ！Ｊ　ｊ［’４１５１ｎｅ　’（１加えてｒ！「
酸エチルで洗汀）する。水ノ・−′ｊを堅温減圧下、約
１／２まで６５’ｊ　Ｉξｌ’ｉ　Ｌ／たのち、ＨＰ２
０ΔＧ（三次（ヒ１シに社３７　）　ｉ　５１ｎｌを用
いるカラムクロマトグラフィーに伺し、３％アセトン−
水で浴出するフシクションを東の、凍結乾燥をおこ、′
工って白色Ａ、σ末状の１」的９勿１１ｓｍｇ（収率５
８％）を得た。

ＩＲスヘク）ルｖ　ＫＢｒｃｎ−’　：　３４００　、
１７６０　。

ａＸ ６１５ ＮＭＲスペクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　：　１．２９　
（３）（、ａ、Ｊ−６５Ｈ２）、１．８〜２．１（２１
１，ｒｌｌ）。

２．２９　（３Ｈ、ｃ　）　、　３．２２　（２Ｈ、ｄ
、　Ｊ　＝　９．５Ｈ２）　、　３．３−−４．４　（
８Ｈ、ｍ　）参′４フ例３６ −３−　、ＩＪルボンｆ７　　Ｉ）−ニトロベンジルニ
ス−２−夷旅例１５″ＣコＸｔＳべた（５Ｊ６Ｓ）　−
２−Ｃ（Ｒ）　−１−［Ｎ　−（ｐ−二トロベンジル；
Ｊ−ｊ＋”　’／　カルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ］−６−４（Ｒ）−１−（トリ
メチルシリルオキシ）エチル〕カルバベンー２−エム−
３−刀ルボンＵｐ−ニトロベンジルエステル３Ｓｍｙを
デトラヒＦロフランー水（，１：１）混合溶媒１、５　
ｒｒｌ、にｆｔ４カＬ、ヒ＋）　）ン・ｐ−トルエニ・
スルホン酸ｉ篇３　ｍｑを刀１１え猪Ｓ　７ｉ臂で４０
イ〕１川）賓１δする。

酊ミ酸エナル乞・加えて飽和−ＬＪ’　Ｊ、’Ａ、！水
で７光汀ｔし、乾１、・￥１後溶媒ケ留告してイ尋らｊ
する夕ｙ、　＋；、ｒＨ４１勿七：ｒｌにＰ＆にエチル
から結晶化ネぜて目的Ｖｖ　２６　ｍ９　（収率８５袈
）をイ母ｌこ。

ＮＭＬＩスペクトル（ｄ６−Ｄ！１４Ｆ　）δｐｐ出：
　１．２３　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　ｔｉ、Ｇ　Ｈｚ　）　、　１．６−２．
７　（３Ｈ＋　ｍ　）　＋２．２６（３Ｈ，ｓ）　、　
３．１−４．６（ＩＯＨ，ｍ　）　。

５．２１　（２）１　、８　）　、　５．３３　、５．
５０　（２）１　、　ＡＢ−ｑｌＪ＝”Ｈ２）ｌ”、６
１　　、８．２１　（４Ｈ、Ａ２Ｂ２　　　、　　　Ｊ
　　＝　　９　　Ｈｚ　　）　　　、　　　７．７？　
　　、　　　８．２１　　　（４Ｈ、Ａ２Ｂ２　　　。

Ｊ＝９Ｈｚ）ｊ １５、　　昭和５７年９月３０日伺の手続抽圧四相８頁
下からＭ４７行乃至第６行の 「ジシクロへキシルカルボジミド」を［ジシクロへキシ
ルカルボジイミド］とｉＪ圧する。

以」二

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中　Ｒ１は水素原子またけ水酸基の保護基を　Ｒ２
   およびＲ３は同一または異なる水素原子、アルキル基ｌ
   たけアリール基を、ＸおよびＹは酸素原子互たけ硫黄原
   子促　Ｒ４はアルキル基、置換アルキル基、アラルキル
   基、脂環式複素環基、脂環式・ムＬ素壌置換アルキル基
   、アリール基ｌたは芳香族複素環基を、Ｒ５は水素原子
   またはカルボキシ基の保愚基を示す。〕を有する化合物
   に 一般式 ％式％）（ 〔式中、Ｒ６はアルコキシ基、アリールオキシ基ｌたは
   ジアルキルアミノ基を示す。〕を有する化合物を反応さ
   せ 一般式 〔式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，ＲｓおよびＲ６は前
   述したものと同意義を示す。〕を有する化合物とし、こ
   れを閉環することを特徴とする 一般式 〔式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，ＲおよびＹは前、述したもの
   と同意義を示す、〕ヲ有するカルバペネム誘導体の製造
   法。