JPH0129185B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は一般式（）を有する新規なアゼチジ
ノン誘導体およびその合成法に関するものであ
る。 式中、R¹は水素原子、水酸基の保護基を示し、
保護基としてはβ−ラクタム系抗生物質誘導体の
反応に使用される水酸基の保護基なら特に限定は
ないが、好適にはホルミル、アセチル、クロルア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ベンゾイルのようなアシル基；トリメチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリフエニル
シリルなどのシリル基；ベンジル、ｐ−ニトロベ
ンジルのようなアラルキル基；ベンジルオキシカ
ルボニル、ｐ−ブロムベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ニトロベンジルオキシカルボニル、アリルオキシ
カルボニル、２−クロルアリルオキシカルボニ
ル、２−メチルアリルオキシカルボニル、２，
２，２−トリブロムエトキシカルボニル、２，
２，２−トリクロルエトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、２−（トリメチルシリル）エ
トキシカルボニル、などのアルコキシカルボニル
基、テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、１
−エトキシエチル、２−（トリメチルシリル）エ
トキシメチルなどのエーテル基である。R²は水
素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ルなどの炭素数１乃至３個の低級アルキル基また
はフエニル基を示し、R³は水素原子、炭素数１
乃至３個のメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピルなどのアルキル基またはフエニル基を示し、
Ｘは酸素原子または硫黄原子を示し、Ｙはイミノ
基、アルキルイミノ基（アルキル基としてメチ
ル、エチル、ｔ−ブチルなどの炭素数１乃至４個
のアルキル基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジルな
どのアラルキル基）、酸素原子または硫黄原子を
示し、R⁴はアルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチルなどを示
す。水酸基が保護された、直鎖もしくは分枝鎖置
換アルキル基としては（水酸基の保護基としては
特に限定はなく一般的なアルコール性水酸基の保
護基を用いることができる。好ましくはメチル、
エチル、プロピルなどのアルキル基、ベンジル、
ｐ−ニトロベンジルなどのアラルキル基、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ベンゾイルなどの
アシル基、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカ
ルボニル基、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメ
チルシリルなどのトリアルキルシリル基である。）
２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、も
しくは３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基な
どのヒドロキシアルキル基を示す。アミノ基の保
護された直鎖または分枝鎖置換アルキル基として
は（アミノ基の保護基としては特に限定はなく一
般的なアミンの保護基を用いることができる。好
ましくはホルミル、アセチル、クロルアセチル、
プロピオニル、ベンゾイルなどのアシル基、ｔ−
ブトキシカルボニル、２，２，２−トリクロルエ
トキシカルボニル、２−（トリメチルシリル）エ
トキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルなどのアルコキシカ
ルボニル基である）２−アミノエチル、２−アミ
ノ−１−メチルエチル、２−アミノ−１−エチル
エチル、３−アミノプロピル、３−アミノ−１−
メチルプロピル、２−アミノ−２−メチルエチル
もしくは２−Ｎ−メチルアミノエチル、２−Ｎ−
メチルアミノ−１−メチルエチルなどのアミノア
ルキル基を示す。水酸基がアミノアルキル基で保
護された直鎖または分枝鎖置換アルキル基、その
アミノ基が保護されていてもよい、アミノ基の保
護基は特に限定はないが好ましいものとしては前
述したものがあげられる。水酸基がアミノアルキ
ル基で修飾された置換アルキル基として好ましく
は２−（２−アミノエトキシ）エチル、２−（２−
アミノエトキシ）−１−メチルエチル、２−（３−
アミノプロポキシ）エチル、３−（２−アミノエ
トキシ）プロピル、３−（２−アミノエトキシ）−
１−メチルプロピルなどを示す。アラルキル基と
してはベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｍ−ニ
トロベンジル、ｏ−メチルベンジル、ｐ−ブロム
ベンジルもしくはｐ−アミノベンジルなどを示
し、アリール基としてはフエニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチル、ｐ−ニトロフエニル、ｍ−カ
ルボキシフエニル、ｏ−ヒドロキシフエニル、ｐ
−メトキシフエニルもしくはｍ−エトキシカルボ
ニルフエニルを示し、脂環式複素環基としては環
炭素鎖に窒素原子、酸素原子、硫黄原子、スルフ
イニル基、スルホニル基またはカルボニル基が介
在していてもよい置換若しくは非置換の４員環乃
至８員環を形成する環状脂肪族アミン残基を表わ
し、その環炭素原子に結合する置換基はアルキル
基、アルコキシアルキル基、シアノアルキル基、
ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、水酸基、ア
ミノ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、シアノ基、アジド基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アルキルスルフイニル基、アル
キルスルホニル基またはニトロ基からなる群から
選択されたものであり、その環窒素原子に結合す
る置換基はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、フ
エナシル基、スルフオ基；アルコキシスルホニル
基、アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニ
ル基、アルキニルスルホニル基、シクロアルキル
スルホニル基、シクロアルキルアルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基；アラルキルスルホ
ニル基、ヘテロアリールスルホニル基、ヘテロア
ラルキルスルホニル基、 式

【式】基（式中、R¹⁰は水素原子ま たは低級アルキル基を、R¹¹は水素原子又はイミ
ノ基の保護基を示す） 式

【式】基（式中、R¹²およびR¹³は同 一または異なつて水素原子または低級アルキル基
を示し、Ｚは酸素原子、硫黄原子または低級アル
キル基で置換されていてもよいイミノ基を示
す。）、アルコキシカルボニル基またはアラルキル
オキシカルボニル基からなる群から選択されたも
のであつて、上記の窒素原子に結合する置換基は
更に低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸
基、アミノ基、ハロゲン原子、低級脂肪族アシル
オキシ基、低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ
基、アジド基、カルボキシル基、低級アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキルスルフイニル基、低級アルキ
ルスルホニル基、ニトロ基または式

【式】基（式中、R¹⁴およびR¹⁵は同 一または異なつて水素原子または低級アルキル基
を示す。）からなる群から選択されたもので置換
されていてもよい。脂環式複素環基として好適に
は置換基を有してもよいアゼチジニル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、モルホリニル、テトラヒド
ロピリミジニル、チアゾリジニル、オキサゾリジ
ニル、ヘキサヒドロピリミジニル、イミダゾリジ
ニルまたはオクタヒドロアゾシニルなどであつて
その環炭素原子に結合する置換基は好適には例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、イソペンチルのような直鎖状若しくは
分枝鎖状の低級アルキル基、例えばシクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルのようなシクロアルキル基、例えばメトキシ
メチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチ
ル、メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２
−メトキシプロピル、４−エトキシブチルのよう
な低級アルコキシアルキル基、例えばメトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、ｔ
−ブトキシカルボニルメチル、ベンジルオキシカ
ルボニルエチル、メトキシカルボニルプロピルな
どのアルコキシカルボニルアルキル基、例えばシ
アノメチル、シアノエチル、３−シアノプロピ
ル、２−シアノプロピル、４−シアノブチルのよ
うなシアノ低級アルキル基、例えばトリフルオロ
メチル、２−フルオロエチル、２，２，２−トリ
フルオロエチル、２−クロロエチル、２−ブロモ
エチル、３−フルオロプロピル、２−フルオロプ
ロピル、４−クロロブチル、３−フルオロブチル
のようなハロゲノ低級アルキル基、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、ｔ−ブ
トキシのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級ア
ルコキシ基、水酸基、アミノ基、例えば弗素、塩
素、臭素、沃素のようなハロゲン原子、例えばア
セトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキ
シ、イソブチリルオキシのような低級脂肪族アシ
ルオキシ基、例えばアセチルアミノ、プロピオニ
ルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノ
のような低級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基、
アジド基、カルボキシル基、例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキ
シカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルのような
低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ
のような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル
チオ基、例えばメチルスルフイニル、エチルスル
フイニル、プロピルスルフイニル、イソプロピル
スルフイニル、ブチルスルフイニル、イソブチル
スルフイニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の
低級アルキルスルフイニル基、例えばメチルスル
ホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ル、イソブチルスルホニルのような直鎖状若しく
は分枝鎖状の低級アルキルスルホニル基またはニ
トロ基からなる群から選択されたものであり、そ
の環窒素原子に結合する置換基は好適には例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、イソペンチルのような直錯状若しくは分
枝鎖状の低級アルキル基、例えばビニル、アリ
ル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−ブテ
ニル、２−ペンテニルのような低級アルケニル
基、例えばエチニル、２−プロピニル、２−ブチ
ニル、４−ペンチニルのような低級アルキニル
基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルの
ようなシクロ低級アルキル基、例えばシクロプロ
ピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチ
ルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチ
ルメチル、２−シクロペンチルエチル、２−シク
ロヘキシルエチル、３−シクロペンチルプロピ
ル、２−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘ
キシルプロピル、２−シクロヘキシルプロピル、
４−シクロペンチルブチル、３−シクロヘキシル
ブチルのような低級シクロアルキルアルキル基、
例えばフエニル、ナフチルのようなアリール基、
例えばベンジル、フエネチル、３−フエニルプロ
ピルのようなアラルキル基、例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、アクリロイル、メタアクリロイル、クロトノ
イル、イソクロトノイル、プロピオロイル、メチ
ルプロピオロイルのような低級脂肪族アシル基、
例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブタン
カルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロ
ヘキサンカルボニルのような低級シクロアルカン
カルボニル基、例えばシクロプロピルアセチル、
シクロブチルアセチル、シクロペンチルアセチ
ル、シクロヘキシルアセチル、３−シクロペンチ
ルプロピオニル、３−シクロヘキシルプロピオニ
ル、４−シクロペンチルブチリル、４−シクロヘ
キシルブチリルのような低級シクロアルキルアル
カノイル基、例えばベンゾイル、１−ナフトイ
ル、２−ナフトイルのような芳香族アシル基、例
えばフエニルアセチル、１−ナフチルアセチル、
３−フエニルプロピオニル、ヒドラトロポイル、
シンナモイル、フエニルプロピオロイルのような
芳香族アシル基、例えばフロイル、テノイル、ニ
コチノイル、イソニコチノイル、４−チアゾール
カルボニル、５−ピリミジンカルボニル、２−ピ
ラジンカルボニルのような複素環アシル基、例え
ば２−チエニルアセチル、３−（２−チエニル）
プロピオニル、４−チアゾリルアセチル、２−ピ
リジルアセチル、４−ピリジルアセチル、５−ピ
リミジルアセチルのような複素環脂肪族アシル
基、例えば１−アジリジンカルボニル、１−アゼ
チジンカルボニル、３−アゼチジンカルボニル、
１−ピロリジンカルボニル、２−ピロリジンカル
ボニル、３−ピロリジンカルボニル、１−ピペリ
ジンカルボニル、２−ピペリジンカルボニル、４
−ピペリジンカルボニル、４−モルホリンカルボ
ニルのようなヘテロシクリルカルボニル基若しく
は例えば１−アジリジニルアセチル、１−アゼチ
ジニルアセチル、３−アゼチジニルアセチル、１
−ピロリジニルアセチル、２−ピロリジニルアセ
チル、３−ピロリジニルアセチル、３−（２−ピ
ロリジニル）プロピオニル、ピペリジノアセチ
ル、２−ピペリジニルアセチル、４−ピペリジニ
ルアセチル、モルホリノアセチルのようなヘテロ
シクリル脂肪族アシル基等のアシル基、フエナシ
ル基、スルフオ基、例えばメトキシスルホニル、
エトキシスルホニル、プロポキシスルホニル、イ
ソプロポキシスルホニルのような低級アルコキシ
スルホニル基、例えばメチルスルホニル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピル
スルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスル
ホニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級ア
ルキルスルホニル基、例えばアリルスルホニル、
イソプロペニルスルホニル、２−ブテニルスルホ
ニルのような低級アルケニルスルホニル基、例え
ばエチニルスルホニル、２−プロピニルスルホニ
ル、２−ブチニルスルホニルのような低級アルキ
ニルスルホニル基、例えばシクロプロピルスルホ
ニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチル
スルホニル、シクロヘキシルスルホニルのような
低級シクロアルキルスルホニル基、例えばシクロ
プロピルメチルスルホニル、シクロブチルメチル
スルホニル、シクロペンチルメチルスルホニル、
シクロヘキシルメチルスルホニル、２−シクロペ
ンチルエチルスルホニル、２−シクロヘキシルエ
チルスルホニル、３−シクロペンチルプロピルス
ルホニル、２−シクロペンチルプロピルスルホニ
ルのような低級シクロアルキルスルホニル基、例
えばフエニルスルホニル、１−ナフチルスルホニ
ル、２−ナフチルスルホニルのようなアリールス
ルホニル基、例えばベンジルスルホニル、フエネ
チルスルホニル、３−フエニルプロピルスルホニ
ル、２−フエニルプロピルスルホニルのようなア
ラルキルスルホニル基、例えば２−チエニルスル
ホニル、４−チアゾリルスルホニル、２−ピリジ
ルスルホニル、４−ピリジルスルホニルのような
ヘテロアリールスルホニル基、例えば２−チエニ
ルメチルスルホニル、３−（２−チエニル）プロ
ピルスルホニル、４−チアゾリルメチルスルホニ
ル、２−ピリジルメチルスルホニル、４−ピリジ
ルメチルスルホニルのようなヘテロアラルキルス
ルホニル基、式

【式】基（式中、R¹⁰は 水素原子または例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピルのような低級アルキル基を、
R¹¹は水素原子または例えばアリルオキシカルボ
ニル、２−メチルアリルオキシカルボニル、２−
クロルアリルオキシカルボニル、２，２，２−ト
リクロルエトキシカルボニル、２，２，２−トリ
ブロムエトキシカルボニルのようなアルコキシカ
ルボニル基または例えばｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルのようなアラルキルオキシカルボニル基を示
す。） 式

【式】基（式中、R¹²およびR¹³は同 一または異なつて水素原子または例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピルのような低級ア
ルキル基を示し、Ｚは酸素原子、硫黄原子または
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
のような低級アルキル基で置換されていてもよい
イミノ基を示す。）、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、２，
２，２−トリクロルエトキシカルボニル、２，
２，２−トリブロムエトキシカルボニルのような
低級アルコキシカルボニル基または例えばベンジ
ルオキシカルボニル、フエネチルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラル
キルオキシカルボニル基からなる群から選択され
たものであつて、上記の窒素原子に結合する置換
基は好適には例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピルのような低級アルキル基、例えばメ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
のような低級アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
例えば弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリ
ルオキシ、イソブチリルオキシのような低級脂肪
族アシルオキシ基、例えばアセチルアミノ、プロ
ピオニルアミノ、ブチリルアミノ、イソブチリル
アミノのような低級脂肪族アシルアミノ基、シア
ノ基、アジド基、カルボキシル基、例えばメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニルのような
低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
イソプロピルチオのような低級アルキルチオ基、
例えばメチルスルフイニル、エチルスルフイニ
ル、プロピルスルフイニル、イソプロピルスルフ
イニルのような低級アルキルスルフイニル基、例
えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、イソプロピルスルホニルのよう
な低級アルキルスルホニル基、ニトロ基または式

【式】基（式中、R¹⁴およびR¹⁵は同 一または異なつて水素原子または例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピルのような低級ア
ルキル基を示す。）からなる群から選択されたも
のでさらに置換されていてもよい。 脂環式複素環置換アルキル基として複素環は前
述した脂環式複素環であつてその環炭素原子、窒
素原子に結合する置換基は前述したものと同意義
を示し、アルキル基はメチル、１−置換エチル、
２−置換エチル、１−置換プロピルなどの低級ア
ルキル基である。 芳香族複素環基としては置換基を有してもよい
ピリジル、ピリミジニル、トリアジニル、チエニ
ル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリルなど
であり、その置換基としてはメチル、エチル、プ
ロピルなどのアルキル基、メトキシ、エトキシ、
プロポキシなどのアルコキシ基、アミノ基、メチ
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノなどの
アルキルアミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノなどのジアルキルアミノ基、水酸基、アセト
キシ、プロピオニルオキシなどの低級アルカノイ
ルオキシ基、ニトロ基、弗素、塩素、臭素などの
ハロゲン原子、たとえばメトキシカルボニル、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブトキ
シカルボニルなどのアルコキシカルボニル基であ
る。 R⁵は水素原子、アミド基の保護基としてカル
ボキシ基が保護されたオキサロ基（カルボキシ基
の保護基としては特に限定はなくβ−ラクタム系
抗生物質で用いられるカルボキシ基の保護基を示
す。好ましくはメチル、エチル、ｔ−ブチルなど
の低級アルキル基、ベンツヒドリル基、ベンジ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−ニトロベンジルな
どのアラルキル基、アリル、２−クロルアリル、
２−メチルアリルなどのアルケニル基、２，２，
２−トリクロルエチル、２，２，２−トリブロム
エチルなどのハロゲン化アルキル基、２−（トリ
メチルシリル）エチル基などである。）、カルボキ
シ基の保護された（カルボキシ基の保護基は前述
したオキサロ基の場合のカルボキシ基の保護基を
示す。）カルボキシメチル基、１−カルボキシ−
２−メチル−１−プロペニル基、１−カルボキシ
−２−メチル−２−プロペニル基など；更にアゼ
チジノン環のアミド基の保護基としては特に限定
はなく一般的なアミド基の保護基を示し、好まし
くはトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルなどのトリアルキルシリル基、トリフエニルシ
リルなどのトリアリールシル基である。 一般式（）の立体配位に関しては特に限定は
ないが好適にはチエナマイシンの５，６，８位と
同様な配位を有するものに導ける立体配位を有す
るアゼチジノン誘導体である。R⁴に不斉炭素の
ある場合その立体配位は特に限定はない。 一般式（）を有するアゼチジノンのうち特に
好適にはR¹はｔ−ブチルジメチルシリル、メト
キシメチル、１−エトキシエチル、クロルアセチ
ル、トリメチルシリル、パラニトロベンジルオキ
シカルボニル、アリルオキシカルボニル、２，
２，２−トリクロルエトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル基であり、R²およびR³は水素
原子であり、ＸおよびＹは酸素原子または硫黄原
子であり、R⁴はベンジル、フエニル、２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル、２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１
−メチルエチル、２−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）アミノエチル、２−アセトアミド
エチル、２−アセトアミド−１−メチルエチル、
２−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）エトキシ〕−１−メチルエチル、１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３
−イル、１−アセチルピロリジン−３−イル、１
−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イル、１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホ
ルムイミドイル〕ピロリジン−３−イル、３，
４，５，６−テトラヒドロ−２−メチル−１，３
−ピリミジン−５−イル、３，４，５，６−テト
ラヒドロ−２−メチル−３−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）１，３−ピリミジン−５−
イル、１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ピロリジン−３−イル〕エチル、１−
（１−アセチルピロリジン−３−イル）エチル、
１−〔１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ホルムイミドイル〕ピロリジン−３−イ
ル〕エチル、１−〔１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イル〕エチル、１−〔４−〔Ｎ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）ホルムイミド
イル〕モルホリン−２−イル〕エチル、１−〔４
−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕モルホリン−２−イル〕エチ
ル、１−〔４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）モルホリン−２−イル〕エチル、１−（４
−アセチルモルホリン−２−イル）エチル、ピリ
ジン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン
−４−イル、２−チエニル、３−チエニル、１，
２，４−トリアゾール−３−イル、チアゾール−
２−イルなどであり、R⁵は水素原子、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルメチル、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル、２−メチル−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−１−プ
ロペニル、２−メチル−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）−２−プロペニル、２−メ
チル−１−（ｔ−ブトキシカルボニル）−１−プロ
ペニル、２−メチル−（ｏ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−１−プロペニル、２−メチル−
１−ジフエニルメチルオキシカルボニル−１−プ
ロペニル、２−メチル−１−アリルオキシカルボ
ニル−２−プロペニル、２−メチル−１−（２，
２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−
２−プロペニル、２−メチル−１−トリメチルシ
リルオキシカルボニル−２−プロペニル、ｔ−ブ
チルジメチルシリル基などである。 一般式（）を有する化合物は一般式（）を
有する化合物に （式中、R¹およびR⁵は前述したものと同意義を
示し、R⁶は脱離基であり、ホルミルオキシ、ア
セトキシ、プロピオニルオキシなどの低級アシル
オキシ基；ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキ
シ、ｐ−メトキシベンゾイルオキシなどのアリー
ルカルボニルオキシ基；メチルスルホニルオキ
シ、エチルスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシなどの
スルホニルオキシ基；アセチルチオ、プロピオニ
ルチオ、ベンゾイルチオ、ｏ−メチルベンゾイル
チオなどのアシルチオ基；塩素、臭素、ヨウ素な
どのハロゲン原子を示す。） 一般式（）を有する化合物を反応させること
により製造される。 （式中、R²、R³、Ｘ、Ｙ、R⁴は前述したものと
同意義を示す。R⁷、R⁸およびR⁹は同一または異
なるメチル、エチル、ｔ−ブチル、フエニル基を
示す。） 化合物（）と（）の反応はトリフルオロメ
タンスルホン酸トリアルキルシリルエステルたと
えばトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシ
リルエステル、または三弗化ホウ素エーテル錯
体、ヨウ化亜鉛、四塩化チタン、塩化第二錫、塩
化アルミニウムなどからえらばれた触媒の存在下
に、非プロトン性の溶液たとえばヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、
１，２−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリルまたはジエチルエー
テル中で反応を行う。反応温度は−20℃〜80℃で
あり、反応時間は１時間〜７日間である。R⁵が
トリメチルシリル基の場合は反応終了後、水で処
理することによりあるいはアルコール中フツ化カ
リで処理することにより、容易にＮ−シリル基を
脱離せしめることができる。 また、一般式（）においてR¹が水酸基の保
護基の場合、常法に従つて保護基を除去すること
によりR¹が水素原子のものを得ることができる。 α−シリル酢酸エステル（）と４位ヘテロ置
換アゼチジノン化合物（）をトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリルエステルの存在下
に反応せしめ、アゼチジノンの４位に酢酸エステ
ル基を導入するこの新しい方法は以下に示す特徴
を有する。最近（A.G.M.Barrett and P.
Quayle、Chem.Comm、1981、1076）４−アセ
トキシアゼチジノン化合物にシリルエノールエー
テルあるいはｏ−シリルケテンアセタールを反応
せしめ、アゼチジノンの４位に炭素−炭素結合を
生成せしめる新しい方法が開発された、この反応
に用いられるシリルエノールエーテルあるいはｏ
−シリルケテンアセタールはケトンあるいはエス
テルを強塩基で処理して脱プロトン化し、ついで
トリメチルクロルシランでシリル化して得られる
ものである。 この方法では出発物のケトンあるいはエステル
がその分子中に塩基に不安定な官能基を有する場
合、目的とするシリルエノールエーテルあるいは
ｏ−シリルケテンアセタールを合成することは通
常、困難である。また一般にシリルエノールエー
テルあるいはｏ−シリルケテンアセタールは容易
に加水分解を受けてもとのケトン、エステルに戻
りやすく、取扱いに注意を要する。 本発明者らは、α−シリル酢酸から容易に導か
れるそのエステル、チオエステル、アミドが上述
のｏ−シリルケテンアセタールと全く同様にアゼ
チジノンの４位で炭素−炭素結合を形成すること
を見い出した。本反応に用いるα−シリル酢酸エ
ステル、チオエステル、アミドはα−シリル酢酸
塩化物とアルコール、メルカプタン、アミンとの
反応によつてあるいはα−シリル酢酸とアルコー
ル、メルカプタン、アミンとを適当な縮合剤の存
在下、反応せしめることによつて得られる。反応
条件が緩和なので、種々の官能基を有するα−シ
リル酢酸誘導体を得ることができ、化合物の安定
性もよいので取扱いやすくクロマトグラフイーに
よる精製も可能である。したがつて、A.G.M.
Barrett等の方法では合成困難なアゼチジノン
（）も適当なα−シリル酢酸誘導体を用いるこ
とにより一段階で合成することが可能である。 本発明によつて得られる一般式（）を有する
新規アゼチジノン誘導体を第１表に例示する。た
だしこれによつて本発明を限定するものではな
い。

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】 本発明によつて得られる一般式（）を有する
アゼチジノン誘導体は下記に示す方法によりカル
バペネム誘導体に導くことができる。 すなわち一般式（）のR⁵が水素原子の場合
は（）の窒素原子にアルコキシオキサリル基を
導入して化合物（）とし、またR⁵が１−アル
コキシカルボニル−２−メチル−２−プロペニル
基の場合化合物（）を塩基処理により１−アル
コキシカルボニル−２−メチル−１−プロペニル
体（）とした後オゾン酸化して化合物（）に
導く 〔式中のR¹、R²、R³、R⁴、ＸおよびＹは前述し
たものと同一意義を示す。Ｒはカルボキシ基の保
護基を示す。〕 化合物（）を亜リン酸トリエチルと反応させ
ることにより、カルバペネム誘導体（）に導く
ことが可能である。 必要に応じて化合物（）の水酸基の保護基
R¹、R⁴にアミノ基の保護基を含む場合にはその
保護基およびカルボキシ基の保護基Ｒを常法に従
つて除去すると、チエナマイシンで代表される強
力な抗菌活性を示すカルバペネム誘導体が得られ
る。 以上のことから明らかなように一般式（）を
有する化合物は有用なカルバペネム誘導体合成の
重要中間体である。 以下に本発明の参考例および実施例を示す。 実施例 １ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕
−２−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン180
mg（0.50ｍmole）、（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−３−（トリメチルシリル
アセチルチオ）ピロリジン414mg（1.00ｍmole）
を塩化メチレン３mlに溶かし、ついでトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル15
mg（0.07ｍmole）を加え、室温で15時間放置す
る。反応終了後、反応液を重曹水の中に撹拌しな
がらあける。有機層をわけ、水洗、乾燥した後、
溶媒を留去する。得られた残留物を分取用薄層ク
ロマトグラフイー〔展開溶媒：クロロホルム−酢
酸エチル（６：１）〕で分離精製し、得られる固
体185mg（収率67％）をヘキサン−酢酸エチルか
ら再結晶して融点104−106℃を有する純品を得
た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 3410、1775、1685 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.08（6H、ｓ）、0.88（9H、ｓ）、1.19（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、1.7〜2.5（2H、ｍ）、2.7〜3.0（2H、
ｍ）、3.53（2H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、3.2〜4.4（6H、
ｍ）、5.19（2H、ｓ）、6.15（1H、br）、7.42（2H、
ｄ）、8.20（2H、ｄ） 実施例 ２ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−（１−メトキ
シカルボニル−２−メチル−１−プロペニル）
−４−（ベンジルオキシカルボニルメチル）−２
−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−１
−（１−メトキシカルボニル−２−メチル−１−
プロペニル）−２−アゼチジノン1.04ｇ（2.61ｍ
mole）、トリメチルシリル酢酸ベンジルエステル
1.74ｇ（7.84ｍmole）を塩化メチレン12mlに溶か
し、ついでトリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリルエステル50mg（0.23ｍmole）を加え、
室温で７日間放置する。反応液を重曹水にあけ有
機層をわけ、水洗、乾燥後、溶媒を留去する。得
られた残留物をローバーカラム−Ｂ（E.メルク社
製）を用いる液体クロマトグラフイーで分離精製
する。ヘキサン−酢酸エチル（４：１）混合溶媒
で溶出し、出発原料アゼチジノン109mg（8.6％）
を回収して、ついで目的物693mg（収率55％）を
油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1740（br.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.09（6H、ｓ）、0.89（9H、ｓ）、1.23（3H、ｄ、
Ｊ＝6.5Hz）、1.85（3H、ｓ）、2.10（3H、ｓ）、
2.67（2H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、2.85（1H、dd、Ｊ＝
6.5、2.5Hz）、3.64（3H、ｓ）、3.9〜4.5（2H、
ｍ）、4.90（1H、ｄ、Ｊ＝12Hz）、5.06（1H、ｄ、
Ｊ＝12Hz）、7.28（5H、ｓ） 実施例 ３ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔（フエニル
チオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン 参考例１で述べる（3R，4R）−４−アセトキ
シ−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル〕−１−トリメチルシリル−２−
アゼチジノン1.10ｇ（3.06ｍmole）と、トリメチ
ルシリルチオ酢酸 Ｓ−フエニルエステル961mg
（4.29ｍmole）の塩化メチレン20ml溶液を−20℃
に冷却し、窒素気流下トリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルエステル0.07ml（0.32ｍ
mole）を加える。−10℃〜５℃で4.5時間撹拌し
た後、水を加えて反応を終結させる。塩化メチレ
ン層を希重曹水、飽和食塩水で洗浄する。溶剤留
去後の残渣をエタノール2.5mlに溶かし、フツ化
カルウム58mg（1.00ｍmole）を加え室温で1.5時
間撹拌する。反応液を酢酸エチルで希釈し、水、
飽和食塩水で洗い、溶剤を留去する。残渣をロー
バーカラム（E.メルク社製）を用いて精製する。
ヘキサン−酢酸エチル（２：１）混合溶剤で溶出
される部分を集め目的物961mg（収率83％）を結
晶として得た。ヘキサンから再結晶すると融点94
〜95℃の針状晶が得られた。 元素分析値 C₁₉H₂₉NO₃SSiとして 計算値：Ｃ、60.12；Ｈ、7.70；Ｎ、3.69 ；Ｓ、8.45 実測値：Ｃ、60.11；Ｈ、7.72；Ｎ、3.67 ；Ｓ、8.54 IRスペクトルν^nujol _naxcm^-1： 3160、3000、1767、1726、1703 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.08（6H、ｓ）、0.88（9H、ｓ）、1.21（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、2.7〜3.2（3H、ｍ）、4.0（1H、ｍ）、
4.18（1H、quintet、Ｊ＝６Hz）、6.10（1H、br.
s）、7.4（5H、ｓ） 実施例 ４ （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボ
ニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−２
−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチ
ジノン30mg（0.051ｍmole）とＳ−〔２−〔Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−Ｎ−
（トリメチルシリル）アミノ〕エチル〕（トリメチ
ルシリル）エタンチオエート47mg（0.106ｍ
mole）を塩化メチレン0.5mlに溶かし、窒素気流
下トリメチルシリルメタンスルホン酸トリメチル
シリルエステル３mg（0.014ｍmole）を加える。
室温下24時間放置した後、反応液を５％重曹水に
冷却撹拌下あけ、10分間撹拌する。酢酸エチルで
抽出し飽和食塩水で洗い乾燥後溶媒を留去する。
残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラフ
イー〔展開溶媒：ベンゼン−酢酸エチル（１：
２）〕で精製して29mg（収率69％）の目的物を油
状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3460、3420、1763、
1750（sh.）、1730（sh.）、1685 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.40（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.6〜3.6（7H、ｍ）、
3.91（1H、ｍ）、5.13（2H、ｓ）、5.19（2H、ｓ）、
4.9〜5.5（2H、ｍ）、6.67（1H、br.s）、7.45（2H、
ｄ）、7.48（2H、ｄ）、8.16（2H、ｄ）、8.19（2H、
ｄ） 実施例 ５ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチ
ジノン53mg（0.125ｍmole）と（Ｓ）−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−３−（トリメ
チルシリルアセチルチオ）ピロリジン103mg
（0.25ｍmole）を塩化メチレン１mlに溶かし、こ
の溶液にトリフルオロメタンスルホン酸 トリメ
チルシリルエステル５mg（0.023ｍmole）を加
え、窒素雰囲気下室温で28時間静置する。反応後
をクロロホルムで希釈し、希重曹水で洗浄する。
乾燥後溶媒を留去し得られる残留物をテトラヒド
ロフラン−水（４：１）３mlに溶かし、ピリジン
−ｐ−トルエンスルホン酸塩３mgを加えて室温で
30分間静置する。酢酸エチルを加えて水洗し、乾
燥後溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲル
の分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒：ベ
ンゼン−酢酸エチル（２：１）〕で精製して目的
物67mg（収率87％）を固体として得た、ベンゼン
から再結晶を行い、融点54〜56℃を有する板状晶
を得た。 元素分析値 C₂₇H₂₈O₁₁N₄Sとして 計算値：Ｃ、52.59；Ｈ、4.58；Ｎ、9.09 ；Ｓ、5.20 実測値：Ｃ、52.88；Ｈ、4.54；Ｎ、8.93 ；Ｓ、5.47 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 3410、1760、1688 比旋光度〔α〕²⁵゜_D＋5.3゜（ｃ＝0.55、CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.44（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.7（2H、ｍ）、
2.7〜4.5（10H、ｍ）、5.19（2H、ｓ）、5.22（2H、
ｓ）、6.35（1H、br.）、7.47（2H、ｄ）、7.51
（2H、ｄ）、8.20（4H、ｄ） 実施例 ６ （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼ
チジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチ
ジノン50mg（0.118ｍmole）と（Ｓ）−１−〔Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセト
イミドイル〕−３−（トリメチルシリルアセチルチ
オ）ピロリジン103mg（0.24ｍmole）を塩化メチ
レン0.8mlに溶かし、これにトリフルオルメタン
スルホン酸 トリメチルシリルエステル63mg
（0.28ｍmole）を加え窒素雰囲気下室温で14時間
静置する。反応液を氷冷し、５％重曹水５mlを加
え10分間撹拌する。酢酸エチルで抽出し、水洗、
乾燥後溶媒を留去して得られる残留物をシリカゲ
ルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒：
ベンゼン−酢酸エチル（１：２）〕で精製して目
的物45mg（収率58％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3380、1680 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.41（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、1.7〜2.5（2H、ｍ）、
2.27（3H、ｓ）、2.84（2H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、
3.01（1H、dd、Ｊ＝８、2.5Hz）、3.3〜4.2（5H、
ｍ）、5.1（1H、ｍ）、5.17（2H、ｓ）、5.20（2H、
ｓ）、6.32（1H、br.）、7.51（4H、ｄ）、8.17
（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 実施例 ７ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−１−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２
−メチル−２−プロペニル〕−４−〔（フエニル
チオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル〕−１−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−２−プロペニル〕−
２−アゼチジノン358mg（0.69ｍmole）、Ｓ−フ
エニル（トリメチルシリル）エタンチオエート
260mg（1.16ｍmole）、トリフルオロメタンスル
ホン酸 トリメチルシリルエステル25mg（0.113
ｍmole）を塩化メチレン12mlに溶かし、窒素雰
囲気下41時間静置する。反応液を氷冷撹拌下希重
曹水にあけてクロロホルムで抽出する。乾燥後溶
媒を留去し残留物をローバーカラムＢ（E.メルク
社製）を用いる液体クロマトグラフイーで分離精
製する。ヘキサン−ベンゼン−酢酸エチル（６：
６：１）混合溶媒で溶出して出発原料アゼチジノ
ン67mg（回収19％；シス：トランス＝１：２）、
つづいて目的物301mg（収率71％）を油状物とし
て得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1750（sh.）、1740、1695 比旋光度〔α〕²⁵ _D−50゜（ｃ＝1.04、CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.03（3H、ｓ）、0.06（3H、ｓ）、0.85（9H、ｓ）、
1.18（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.85（3H、br.s）、
2.86（1H、dd、Ｊ＝15、７Hz）、3.00（1H、dd、
Ｊ＝５、2.5Hz）、3.20（1H、dd、Ｊ＝15、5.5
Hz）、3.9〜4.6（2H、ｍ）、4.78（1H、ｓ）、4.87
（1H、br.s）、5.02（1H、br.）、5.20（2H、ｓ）、
7.36（5H、ｓ）、7.45（2H、ｄ）、8.16（2H、ｄ） 実施例 ８ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルメチル）−４−
（（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−ア
ゼチジノン （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメ
チル）−２−アゼチジノン75mg（0.156ｍmole）、
Ｓ−フエニル（トリメチルシリル）エタンチオエ
ート52mg（0.27ｍmole）、トリフルオロメタンス
ルホン酸 トリメチルシリルエステル６mg
（0.027ｍmole）を塩化メチレンに溶かし、窒素
雰囲気下43時間静置する。反応液を氷冷下希重曹
水にあけ、クロロホルムで抽出する。溶媒を留去
して得られる油状物をシリカゲルの分取用薄層ク
ロマトグラフイー〔展開溶媒：クロロホルム−酢
酸エチル（10：１）〕により分離して目的物57mg
（収率64％）を油状物として得た。出発原料アゼ
チジノン18mg（24％）を回収した。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1750、1690 NMR（CDCl₃）δppm： 0.07（6H、ｓ）、0.87（9H、ｓ）、1.23（3H、ｄ、
Ｊ＝6.5Hz）、2.90（1H、dd、Ｊ＝5.5、2.5Hz）、
3.12（2H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、4.08（2H、ｓ）、3.9
〜4.4（2H、ｍ）、5.15（2H、ｓ）、7.34（5H、
ｓ）、7.36（2H、ｄ）、8.07（2H、ｄ） 実施例 ９ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−〔１−〔（フ
エニルチオ）カルボニル〕エチル〕−２−アゼ
チジノン

【式】

【式】 （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン
500mg（1.39ｍmole）とＳ−フエニル ２−（ト
リメチルシリル）プロパンチオエート662mg
（2.78ｍmole）を塩化メチレン５mlに溶かし、ト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエ
ステル40mg（0.18ｍmole）を加えて、窒素雰囲
気下室温で一晩静置する。反応液を水洗後溶媒を
留去し、残留物をテトラヒドロフラン−水（４：
１）25mlに溶かし、ピリジン−ｐ−トルエンスル
ホン酸塩25mgを加え室温で30分間撹拌する。酢酸
エステルを加えて水洗し、乾燥後溶媒を留去して
得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーで分離精製〔シクロヘキサン−酢酸エチル
（４：１）で溶出〕して、目的物の化合物Ａ〜310mg
（収率57％）と化合物Ｂ〜135mg（収率25％）をそれ
ぞれ油状物として得た。 化合物Ａ〜： IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3430、1765、1695 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.08（6H、ｓ）、0.87（9H、ｓ）、1.20（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、1.32（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.7〜
3.2（2H、ｍ）、3.94（1H、dd、Ｊ＝６、２Hz）、
4.20（1H、dq、Ｊ＝６、５Hz）、5.90（1H、br.
s）、7.41（5H、ｓ） 化合物Ｂ〜： IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 3430、1765、1695 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.08（6H、ｓ）、0.87（9H、ｓ）、1.22（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、1.32（3H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、2.5〜
3.1（2H、ｍ）、3.76（1H、dd、Ｊ＝８、２Hz）、
4.18（1H、quint.J＝６Hz）、6.05（1H、br.s）、
7.41（5H、ｓ） 実施例 10 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−〔１−
〔〔（2S，4S）−２−カルバモイル−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−
３−イルチオ〕カルボニル〕エチル〕−２−ア
ゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン
550mg（1.53ｍmole）と、（2S，4S）−２−〔Ｎ，
Ｎ−ビス−（トリメチルシリル）カルバモイル〕−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４
−〔２−（トリメチルシリル）プロピオニルチオ〕
ピロリジン1.83ｇ（3.06ｍmole）を塩化メチレン
10mlに溶かし、ついでトリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルエステル50mg（0.23ｍ
mole）を加え、室温下15時間静置する。反応終
了後反応液を重曹水の中に撹拌しながらあける。
有機層をわけ、水洗、乾燥した後溶媒を留去す
る。得られた残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル（１：２）混合溶媒で溶出し、目的物708mg
（収率57％）を油状物として得た。このものはア
ゼチジノンの４位側鎖のメチル基の立体配位にも
とづく２種の異性体Ａ、Ｂの混合物である。異性
体Ａをクロマトにより分離した。 異性体Ａ〜のスペクトルデータ IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3480、3410、3330、
1757、1690（br.）、1668 NMRスペクトル（α₇−DMF）δppm： 0.08（6H、ｓ）、0.85（9H、ｓ）、1.16（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、1.23（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、2.0−
4.6（10H、ｍ）、5.20（2H、ｓ）、6.17（1H、
br.）、6.67（2H、br.）、7.47（2H、ｄ）、8.15
（2H、ｄ） 参考例 １ （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン 窒素気流下氷冷した（3R，4R）−４−アセト
キシ−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル〕−２−アゼチジノン50ｇ
（0.174mole）とトリエチルアミン24.6ｇ
（0.244mole）のテトラヒドロフラン500ml溶液
に、トリメチルクロルシラン26.5ｇ（0.244mole）
を加える。反応温度を室温に戻し２時間撹拌す
る。析出した沈澱物をセライトを用いた過によ
り除去し、さらにエーテルで２回洗浄する。液
と洗液を合せ溶剤を留去し、残渣にエーテルを加
え、不溶物を去する。液の溶剤を留去し、目
的物62.3ｇ（収率100％）を半固体状として得た。 IRスペクトルν^nujol _naxcm^-1：1770、1745 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.06（6H、ｓ）、0.26（9H、ｓ）、0.85（9H、ｓ）、
1.19（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.03（3H、ｓ）、
3.07（1H、dd、Ｊ＝３、１Hz）、4.13（1H、dq、
Ｊ＝３、６Hz）、6.04（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz） 参考例 ２ （Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）−３−（トリメチルシリルアセチルチオ）
ピロリジン 55％水素化ナトリウム182mg（4.16ｍmole）を
ヘキサンで洗つたあと、エーテル５mlに懸濁さ
せ、氷冷撹拌下、トリメチルシリル酢酸500mg
（3.79ｍmole）を加える。水素ガスの発生がおさ
まつたら得られた乳濁液に同温度で撹拌下、塩化
オキサリル481mg（3.79ｍmole）を滴下する。15
分後、（Ｓ）−３−メルカプト−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）ピロリジン500mg
（1.77ｍmole）とエチルジイソプロピルアミン
229mg（1.77ｍmole）を塩化メチレン５mlに溶か
した溶液をゆつくり滴下する。30分間同温度で撹
拌した後、重曹水にあけ、有機層をわけ、水洗、
乾燥した後、溶媒を留去する。得られる残留物を
ローバーカラム−Ｂを用いる液体クロマトグラフ
イー〔クロロホルム−酢酸エチル（10：１）〕で
分離精製し、目的物282mg（収率38％）を油状物
として得た。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.15（9H、ｓ）、2.30（2H、ｓ）、1.7〜2.5（2H、
ｍ）、3.54（2H、ｔ、Ｊ＝6.5Hz）、3.1〜4.2（3H、
ｍ）、5.20（2H、ｓ）、7.50（2H、ｄ）、8.17（2H、
ｄ） 参考例 ３ トリメチルシリルチオ酢酸Ｓ−フエニルエステ
ル 55％水素化ナトリウム237mg（5.41ｍmole）を
ヘキサンで洗浄し、エーテル6.5mlを加える。こ
の懸濁液に、氷冷し、撹拌しながらトリメチルシ
リル酢酸650mg（4.93ｍmole）を加える。水素ガ
スの発生がおさまつたら得られた乳濁液に同温度
で撹拌下、塩化オキサリル626mg（4.93ｍmole）
を滴下する。15分後得られた乳濁液に氷冷撹拌
下、チオフエノール253mg（2.30ｍmole）とジイ
ソプロピルエチルアミン298mg（2.30ｍmole）を
塩化メチレン6.5ml溶液をゆつくりと滴下する。
30分間同温度で撹拌した後、反応液を希重曹水に
あけ、分離した有機層を水洗、乾燥した後、溶剤
を留去する。得られる残渣をローバーカラム−Ｂ
を用いる液体クロマトグラフイー〔ベンゼン−ヘ
キサン（１：１）〕で分離精製し目的物206mg（収
率40％）を油状物質として得た。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.06（9H、ｓ）、2.34（2H、ｓ）、7.30（5H、ｓ） 参考例 ４ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル）−４−〔〔（Ｓ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕
−２−アゼチジノン （3R，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−
アゼチジノン57.7mg（0.105ｍmole）とトリエチ
ルアミン33mg（0.33ｍmole）の塩化メチレン３
ml溶液を氷冷し、窒素気流下、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシオキサリル クロリド73mg（0.30ｍ
mole）を加えて、１時間撹拌する。反応液を
0.1Mリン酸緩衝液（PH7.2）にあけ、有機層を飽
和食塩水で洗う。溶剤留去後の残渣をシリカゲル
1.3ｇを用いるカラムクロマトグラフイーに付し、
ベンゼン−酢酸エチル混合溶剤（12：１〜４：
１）で溶出される部分を集め目的物67.8mg（収率
83％）を油状物質として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1800、1754、1695、1682 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.03（3H、ｓ）、0.13（3H、ｓ）、0.85（9H、ｓ）、
1.23（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.5〜2.5（2H、ｍ）、
3.0〜5.0（10H、ｍ）、5.23（2H、ｓ）、5.43（2H、
ｓ）、7.50（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、7.56（2H、ｄ、
Ｊ＝８Hz）、8.22（4H、ｄ、Ｊ＝８Hz） 参考例 ５ （5R，6S）−６−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−２−〔（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロ
リジン−３−イルチオ〕カルバペン−２−エム
−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステ
ル （3R，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシサリル）−４−〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３
−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジ
ノン190mg（0.25ｍmole）、亜リン酸トリエチル
250mg（1.5ｍmole）、及びハイドロキノン10mg
（0.09ｍmole）のトルエン20ml溶液を95℃で15時
間加熱する。薄層クロマトグラフイー上で原料が
消失し、（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル〕−１−〔１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリエトキ
シホスホラニリデンメチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−
アゼチジノンと目的とするカルバペネム化合物が
認められる。溶剤と過剰の亜リン酸トリエチルを
減圧下留去し、残つた油状物質に再びトルエン20
mlを加え、95℃で57時間加熱し、ホスホラン化合
物の環化反応を終結させる。溶剤留去後の残渣を
ローバーカラムを用いて精製する。ベンゼン−酢
酸エチル（２：１）混合溶剤で溶出される部分を
集め、目的物151.5mg（収率83％）を油状物質と
して得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1770、1695 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.07（6H、ｓ）、0.87（9H、ｓ）、1.24（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、1.6〜2.8（2H、ｍ）、2.8〜4.5（10H、
ｍ）、5.14（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、5.18（2H、
ｓ）、5.41（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、7.46（2H、ｄ、
Ｊ＝９Hz）、7.61（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、8.17
（4H、ｄ、Ｊ＝９Hz） 参考例 ６ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル）−４−〔（フエニル
チオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔（フエニルチ
オ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン747mg
（1.97ｍmole）とトリエチルアミン398mg（3.94ｍ
mole）の塩化メチレン20ml溶液を氷冷し、窒素
気流下ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロ
リド960mg（3.94ｍmole）を加え、２時間撹拌す
る。反応液に0.1Mリン酸緩衝液（PH7.2）を加え
反応を終結させ、有機層を水洗する。乾燥後、溶
剤を留去し、残渣をシリカゲル15ｇを用いるカラ
ムクロマトグラフイーに付す。ヘキサン−酢酸エ
チル（６：１〜３：１）で溶出される部分を集
め、1.032ｇ（収率89％）の目的物を油状物質と
して得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1805、1757、1699、1609、1522、1344 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： −0.02（3H、ｓ）、0.04（3H、ｓ）、0.08（9H、
ｓ）、1.14（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、3.11（1H、dd、
Ｊ＝15、８Hz）、3.35（1H、ｔ、Ｊ＝３Hz）、
3.43（1H、dd、Ｊ＝15、４Hz）、4.29（qd、Ｊ＝
６、３Hz）、4.64（1H、ddd、Ｊ＝８、４、３
Hz）、5.37（2H、ｓ）、7.52（2H、ｄ、Ｊ＝８
Hz）、8.16（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz） 参考例 ７ （5R，6S）−６−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−２−（フエニルチ
オ）カルバペン−２−エム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ〕−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシオキサリル）−４−〔（フエニルチオ）カル
ボニルメチル〕−２−アゼチジノン114mg（0.194
ｍmole）と亜リン酸トリエチル258mg（1.55ｍ
mole）をトルエン10mlに溶かし、触媒量のハイ
ドロキノンを加えて窒素気流下100℃で18時間加
熱する。溶媒を減圧下留去して得られる残留物を
ローバーカラム（E.メルク社製）を用いるクロマ
トグラフイー〔展開溶媒：ヘキサン−アセトン
（3.5：１）に付し、目的物95mg（収率88％）を固
体として得た。アセトン−ヘキサン混合溶媒から
再結晶を行い、融点144〜145.5℃の無色針状晶を
得た。 元素分析値 C₂₈H₃₄N₂O₆SSiとして 計算値：Ｃ、60.62；Ｈ、6.18；Ｎ、5.05 ；Ｓ、5.78 実測値：Ｃ、60.50；Ｈ、6.11；Ｎ、4.77 ；Ｓ、5.91 IRスペクトルν^nujol _naxcm^-1： 1777、1697、1524 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.06（6H、ｓ）、0.83（9H、ｓ）、1.15（3H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、2.63（2H、ｄ、Ｊ＝10Hz）、3.05
（1H、dd、Ｊ＝４、２Hz）、4.04（1H、dd、Ｊ
＝10、２Hz）、4.19（1H、dq、Ｊ＝４、６Hz）、
5.22（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、5.50（1H、ｄ、Ｊ＝
14Hz）、7.2〜7.7（5H、ｍ）、7.64（2H、ｄ、Ｊ
＝９Hz）、8.19（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz） 参考例 ８ Ｓ−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）エチル〕（トリメチルシリル）エタ
ンチオエート （CH₃）₃SiCH₂COSCH₂CH₂NHPNZ ２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）エタンチオール512mg（2.00ｍmole）、ト
リメチルシリル酢酸264mg（2.00ｍmole）、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド455mg（2.20ｍ
mole）、４−ジメチルアミノピリジン10mgをベン
ゼン10mlに溶かし、窒素気流下室温で5.5時間撹
拌する。水100mgを加えて10分間撹拌し、過剰の
ジシクロヘキシルカルボジイミドを分解する。不
溶物を過して除き、液をシリカゲル３ｇのカ
ラムに通す。ベンゼン−酢酸エチル（１：１）混
合溶媒で流し、集めた溶液を減圧下留去する。残
留物をローバーカラムＢを用いるクロマトグラフ
イーで精製する、ヘキサン−酢酸エチル（２：
１）混合溶媒で溶出して目的物455mg（収率61％）
を結晶として得た。ヘキサン−ベンゼン混合溶媒
より再結晶して融点49〜50℃を有する純品を得
た。 元素分析値 C₁₅H₂₂N₂O₅SSiとして 計算値：Ｃ、48.63；Ｈ、5.98；Ｎ、7.56 ；Ｓ、8.65 実測値：Ｃ、48.53；Ｈ、6.28；Ｎ、7.44 ；Ｓ、8.67 IRスペクトルν^nujol _naxcm^-1： 3340、1719、1660 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.15（9H、ｓ）、2.32（2H、ｓ）、2.6〜3.6（4H、
ｍ）、5.18（2H、ｓ）、〜5.2（1H、br.）、7.48
（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 参考例 ９ Ｓ−〔２−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）−Ｎ−（トリメチルシリル）アミノ〕
エチル〕（トリメチルシリル）エタンチオエー
ト Ｓ−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）エチル〕（トリメチルシリル）エタン
チオエート41mg（0.111ｍmole）、ビス（トリメ
チルシリル）トリフルオルアセトアミド86mg
（0.33ｍmole）、４−ジメチルアミノピリジン１
mgをテトラヒドロフラン1.3mlに溶かし、窒素気
流下室温で30時間放置する。反応終了後、室温減
圧下溶媒を留去し残留物をベンゼン−酢酸エチル
（10：１）に溶かしシリカゲル300mgのカラムをす
ばやく通す。溶媒を減圧下留去して目的物47mg
（収率96％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^liq _naxcm^-1：1702、1678 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.13（9H、ｓ）、0.28（9H、ｓ）、2.30（2H、ｓ）、
2.7〜3.5（4H、ｍ）、5.20（2H、ｓ）、7.48（2H、
ｄ）、8.19（2H、ｄ） 参考例 10 （3S，4R）−４｜〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボ
ニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリル）−２
−アゼチジノン （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼ
チジノン358mg（0.449ｍmole）を塩化メチレン
８mlに溶かし、０℃で撹拌しながらトリエチルア
ミン184mg（1.82ｍmole）ついでｐ−ニトロベン
ジルオキシオキサリルクロリド443mg（1.82ｍ
mole）を加える。同温度で１時間撹拌した後、
反応液を0.1Mリン酸緩衝液（PH7.2）20mlにあ
け、有機層を分離し、水層を塩化メチレンでさら
に抽出する。有機層をあわせ、食塩水で洗浄した
のち乾燥し溶媒を留去する。残留物をシリカゲル
５ｇを用いるカラムクロマトグラフイーに付し、
ヘキサン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒で溶出
して目的物351mg（収率73％）を油状物として得
た。ヘキサン−酢酸エチル（１：３）混合溶媒で
さらに溶出して出発原料75mg（21％）を回収し
た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1808、1749、1718（br.
）、
1700（sh.）、1682（sh.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.40（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、2.7〜3.7（7H、ｍ）、
4.5（1H、ｍ）、5.13（2H、ｓ）、5.19（2H、ｓ）、
5.35（2H、ｓ）、4.9〜5.4（2H、ｍ）、7.43（2H、
ｄ）、7.46（2H、ｄ）、7.50（2H、ｄ）、8.15（2H、
ｄ）、8.17（4H、ｄ） 参考例 11 （5R，6S）−２−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ）エチルチオ〕−６−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロパンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕カルバペン−２−エム−
３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチ
ジノン230mg（0.29ｍmole）と亜リン酸トリエチ
ル287mg（1.73ｍmole）をトルエン23ml中で窒素
雰囲気下90℃で１時間加熱する。減圧下同温度で
溶媒および揮発性物質を留去して得られる残留物
にハイドロキノン８mgとトルエン10mlを加え、窒
素雰囲気下100℃で44時間加熱する。反応終了後、
減圧下で溶媒を留去し得られる残留物をローバー
カラムを用いて精製する。ベンゼン−酢酸エチル
混合溶媒で溶出して結晶性の目的物90mg（収率40
％）を得た。酢酸エチル−ベンジル−ヘキサン混
合溶媒で再結晶を行い、融点148〜150℃のプリズ
ム晶を得た。 元素分析値 C₃₄H₃₁O₁₆N₅Sとして 計算値：Ｃ、53.33；Ｈ、4.08；Ｎ、9.15 ；Ｓ、4.19 実測値：Ｃ、53.19；Ｈ、4.07；Ｎ、9.13 ；Ｓ、4.43 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3450、1780、1740（sh.
）、
1718、1700（sh.） 比旋光度〔α〕²⁵ _D＋66゜（ｃ＝0.81、CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.47（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、2.7〜3.7（7H、ｍ）、
4.20（1H、ｍ）、〜5.1（1H、ｍ）、5.16（2H、
ｓ）、5.22（2H、ｓ）、5.18（1H、ｄ、Ｊ＝14
Hz）、5.47（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、7.45（2H、
ｄ）、7.49（2H、ｄ）、7.60（2H、ｄ）、8.20（6H、
ｄ） 参考例 12 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔（ｐ
−ニトロベンジルオキシ）オキサリル〕−２−
アゼチジノン （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノ
ン150mg（0.23ｍmole）をテトラヒドロフラン５
mlに溶かし、窒素気流下、−78℃で撹拌しながら、
15％ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液0.15ml
（0.24ｍmole）を滴下する。２分間撹拌した後、
ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド84
mg（0.34ｍmole）を加える。４分間撹拌した後、
反応液に0.1Mリン酸緩衝液（PH7.1）７mlを加
え、酢酸エチルで抽出する。乾燥後溶媒を留去
し、残留物をシリカゲル４ｇを用いるカラムクロ
マトグラフイーに付す。ベンゼン−酢酸エチル
（１：５）混合溶媒で溶出して目的物61mg（収率
31％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1810、1753、1682（br.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.42（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、1.8〜2.5（2H、ｍ）、
2.26（3H、ｓ）、2.8〜4.2（8H、ｍ）、〜4.5（1H、
ｍ）、5.17（2H、ｓ）、5.21（2H、ｓ）、5.37（2H、
ｓ）、〜5.2（1H、ｍ）、7.52（6H、br.d）、8.15
（2H、ｄ）、8.19（4H、ｄ） 参考例 13 （5R，6S）−６−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−２−
〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルバペン
−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベン
ジルエステル （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリ
ル）−２−アゼチジノン128mg（0.155ｍmole）、
亜リン酸トリエチル155mg（0.934ｍmole）およ
びハイドロキノン７mg（0.06ｍmole）をトルエ
ン13mlに溶かし、窒素気流下90℃で1.5時間加熱
する。原料が消失したら溶媒および過剰の亜リン
酸トリエチルを減圧下留去し、得られる残留物を
ふたたびトルエン13mlに溶かし、窒素気流下100
℃で80時間加熱する。溶媒を留去し生成物をロー
バーカラムで分離精製する。酢酸エチル−ベンゼ
ン（１：１）混合溶媒で溶出して目的物69.6mg
（収率56.6％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1778、1745、1695、
1690（sh.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.47（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.7〜2.7（2H、ｍ）、
2.9〜4.5（10H、ｍ）、5.18（2H、ｓ）、5.21（2H、
ｓ）、5.19（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、5.45（1H、ｄ、
Ｊ＝14Hz）、7.47（4H、ｄ）、7.58（2H、ｄ）、
8.17（6H、ｄ） 参考例 14 （Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）アセトイミドイル〕−３−（トリメ
チルシリルアセチルチオ）ピロリジン （Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン1.40ｇ（4.33ｍmole）をベンゼン28ml
に溶かし10℃でトリメチルシリル酢酸574mg
（4.34ｍmole）、Ｎ，N′−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド980mg（4.75ｍmole）およびジメチル
アミノピリジン４mgを加えて13時間撹拌する。水
0.5mlを加えて室温で10分間撹拌した後固体を
過して除く、液をシリカゲル４ｇのカラムを通
し、カラムをさらにベンゼン−酢酸エチル（３：
２）混合溶媒で流す。溶出液をあつめて溶媒を減
圧下室温で留去して得られる残留物をローバーカ
ルムＢを用いるクロマトグラフイーで精製する。
酢酸エチル−ベンゼン（１：１）混合溶媒で溶出
して目的物937mg（収率49％）を油状物として得
た。 IRスペクトルν^liq _naxcm^-1：1670、1550 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 0.16（9H、ｓ）、1.6〜2.8（2H、ｍ）、2.30（5H、
ｓ）、3.3〜4.2（5H、ｍ）、5.17（2H、ｓ）、7.51
（2H、ｄ）、8.15（2H、ｄ） 参考例 15 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリル）−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン182mg（0.295ｍmole）
を塩化メチレン10mlに溶かし、０℃で撹拌しなが
ら１，４−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン110
mg（0.98ｍmole）ついでｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリルクロリド450mg（1.85ｍmole）を
加える。１時間後、反応液を0.1M−リン酸緩衝
液（PH7.1）40ml中にあけ、塩化メチレンで抽出
する。飽和食塩水で洗浄した後乾燥し、溶媒を留
去する。残留物をシリカゲル５ｇを用いるカラム
クロマトグラフイーに付し、10〜17.5％酢酸エチ
ル−ベンゼンで溶出して、目的物169mg（収率
69.5％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1805、1745、1695、
1690（sh.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.42（3H、
ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、1.5〜2.5（2H、ｍ）、2.7〜4.2
（9H、ｍ）、〜4.5（1H、ｍ）、5.17（2H、ｓ）、
5.20（2H、ｓ）、5.36（2H、ｓ）、7.47（4H、ｄ）、
7.52（2H、ｄ）、8.18（6H、ｄ） 参考例 16 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリ
エトキシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼ
チジノン （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン
972mg（1.12ｍmole）、亜リン酸トリエチル1.12ｇ
（6.75ｍmole）をトルエン80mlに溶かし、窒素気
流下90℃で２時間加熱する。溶媒を減圧下留去し
て得られる残留物をローバーカラムを用いて精製
する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール
（30：10：１）混合溶媒で溶出して目的物961mg
（収率84％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1750、1680、1640 参考例 17 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕カルバペン−２−エム−３−カ
ルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエステル （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）トリエチルオ
キシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジノ
ン197mg、ハイドロキノン20mg、トルエン20mlの
混合物を窒素気流下100℃で44時間加熱した。減
圧下溶媒を留去し、残留物をローバーカラムを用
いて精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタ
ノール（30：10：１）混合溶媒で溶出して出発原
料16mg（８％）を回収し、ついで目的物93mg（収
率58％）を油状物として得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1780、1744、1690（sh.
）、
1676 比旋光度〔α〕²⁵ _D＋68゜（ｃ＝0.17、CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.48（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、2.31（3H、ｓ）、1.8
〜2.6（2H、ｍ）、3.0〜4.5（9H、ｍ）、5.16（2H、
ｓ）、5.20（2H、ｓ）、5.14（1H、ｄ、Ｊ＝14
Hz）、5.43（1H、ｄ、Ｊ＝14Hz）、〜5.2（1H、
ｍ）、7.50（4H、ｄ）、7.57（2H、ｄ）、8.17（6H、
ｄ） 参考例 18 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−（アセトイミドイ
ル）ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−
１−ヒドロキシエチル〕カルバペン−２−エム
−３−カルボン酸 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕カルバペン−２−エム−カルボン酸 ｐ
−ニトロベンジルエステル485mgをテトラヒドロ
フラン25mlおよび0.1M−リン酸緩衝液（PH7.1）
25mlの混合溶液に溶かし、10％パラジウム−炭素
1.4ｇを加え、常圧水素下、70分間撹拌する。反
応終了後、触媒を過して除き、液に上記緩衝
液15mlを加えて酢酸エチルで洗浄する。水層を室
温減圧下、約1/2まで濃縮したのち、HP20AG
（三菱化成社製）15mlを用いるカラムクロマトグ
ラフイーに付し、３％アセトン−水で溶出するフ
ラクシヨンを集め、凍結乾燥をおこなつて白色粉
末状の目的物115mg（収率58％）を得た。 IRスペクトルν^KBr _naxcm^-1： 3400、1760、1675 NMRスペクトル（D₂O）δppm： 1.29（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz）、1.8〜2.7（2H、ｍ）、
2.29（3H、ｓ）、3.22（2H、ｄ、Ｊ＝9.5Hz）、3.3
〜4.4（8H、ｍ） 参考例 19 （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル〕−１−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−２−メチル−２−プロペニ
ル）−２−アゼチジノン 6α−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリル
オキシエチル〕ペニシラン酸 ｐ−ニトロベンジ
ルエステル1β−オキシド511mg（1.00ｍmole）を
トルエン30mlに溶かし、亜リン酸トリメチル744
mg（6.00ｍmole）、酢酸240mg（4.00ｍmole）を
加えて90℃で５時間加熱する。反応終了後、溶媒
を減圧下留去し、残留物をシリカゲル10ｇを用い
るカラムクロマトグラフイーを付す。ベンゼン−
酢酸エチル（20：１）混合溶媒で溶出して目的物
479mg（収率92％）を油状物として得た。生成物
は4Rおよび4S配位を有する二異性体の約１：１
の混合物である。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1768（sh.）、1745 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：〔（4R）−異性
体〕0.02（3H、ｓ）、0.06（3H、ｓ）、0.84（9H、
ｓ）、1.26（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、1.83（3H、br.
s）、1.99（3H、ｓ）、3.09（1H、dd、Ｊ＝4.5、
1.5Hz）、4.2（1H、ｍ）、4.80（1H、ｓ）、4.89
（1H、br.s）、5.00（1H、br.）、5.20（2H、ｓ）、
6.42（1H、ｄ、Ｊ＝1.5Hz）、7.45（2H、ｄ）、
8.16（2H、ｄ）； 〔（4S）−異性体〕0.04（3H、ｓ）、0.08（3H、
ｓ）、0.84（9H、ｓ）、1.34（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.08（3H、ｓ）、3.35（1H、dd、Ｊ＝８、
4.5Hz）、4.2（1H、ｍ）、4.75（1H、ｓ）、4.89
（1H、br.s）、5.00（1H、br.）、5.20（2H、ｓ）、
6.17（1H、ｄ、Ｊ＝4.5Hz）、7.45（2H、ｄ）、
8.16（2H、ｄ） 参考例 20 （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−
２−アゼチジノン （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル〕−１−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−２−プロペニル〕−
２−アゼチジノン78mgを塩化メチレンに溶かしト
リエチルアミン20mgを加えて室温で50分間静置す
る。溶媒を減圧下留去し得られる油状物をシリカ
ゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶
媒：酢酸エチル−ヘキサン（１：４）〕により精
製して、目的物75mg（収率96％）を油状物として
得た。本物質は３，４−トランス異性体と３，４
−シス異性体の１：１混合物である。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1764、1755（sh.）、173
7
（sh.）、1725（sh.）、1720（sh.）、1700（sh）、163
0 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 〔トランス異性体〕−0.03（3H、ｓ）、0.03（3H、
ｓ）、0.83（9H、ｓ）、1.27（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、1.97（3H、ｓ）、2.01（3H、ｓ）、2.22（3H、
ｓ）、3.19（1H、dd、Ｊ＝6.5、1.5Hz）、4.1（1H、
ｍ）、5.27（2H、ｓ）、6.19（1H、ｄ、Ｊ＝1.5
Hz）、7.53（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 〔シス異性体〕0.06（3H、ｓ）、0.10（3H、ｓ）、
0.86（9H、ｓ）、1.36（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
1.97（3H、ｓ）、2.06（3H、ｓ）、2.22（3H、ｓ）、
3.37（1H、dd、Ｊ＝８、4.5Hz）、4.3（1H、ｍ）、
5.27（2H、ｓ）、6.24（1H、ｄ、Ｊ＝4.5Hz）、
7.52（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 参考例 21 （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル〕−１−〔（ｐ−ニトロベンジルオキシ）オ
キサリル〕−２−アゼチジノン （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−２−ア
ゼチジノン156mgを塩化メチレン25mlに溶かし−
78℃に冷却する。オゾンを15分間通じ、同温度で
10分間静置した後、窒素ガスを吹き込み過剰のオ
ゾンを除く。反応液にジメチルスルフイド0.2ml
を加え室温まで温度を上げた後、減圧下溶媒を留
去する。残留物をベンゼン−ヘキサン（１：１）
混合溶媒に溶かし、水洗を２回おこなつた後乾燥
し溶媒を留去する。油状の目的物149mg（収率100
％）を得た。本物質は３，４−トランス異性体と
３，４−シス異性体の１：１混合物である。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1： 1820、1758、1713 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 〔トランス異性体〕−0.01（3H、ｓ）、0.07（3H、
ｓ）、0.81（9H、ｓ）、1.28（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.08（3H、ｓ）、3.27（1H、ｔ、Ｊ＝２
Hz）、4.3（1H、ｍ）、5.37（2H、ｓ）、6.67（1H、
ｄ、Ｊ＝２Hz）、7.53（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 〔シス異性体〕0.03（3H、ｓ）、0.08（3H、ｓ）、
0.86（9H、ｓ）、1.29（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
3.56（1H、dd、Ｊ＝6.5、5.5Hz）、4.3（1H、ｍ）、
5.37（2H、ｓ）、6.81（1H、ｄ、Ｊ＝5.5Hz）、
7.53（2H、ｄ）、8.20（2H、ｄ） 参考例 22 （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルメチル）−２−アゼチジノン （3R，4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−
１−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチ
ル〕−１−〔（ｐ−ニトロベンジルオキシ）オキサ
リル〕−２−アゼチジノン149mg（0.30ｍmole）、
亜リン酸トリエチル224mg（1.35ｍmole）をトル
エン３mlに溶かし、90℃で２時間加熱した。溶媒
を減圧下留去して（3R，4RS）−４−アセトキシ
−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）トリエトキシホスホラニリ
デンメチル〕−２−アゼチジノンを油状物として
得た。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1774、1752 上で得た油状物をテトラヒドロフラン３ml、水
１mlに溶かし、ｐ−トルエンスルホン酸３mgを加
え室温で５分間静置する。酢酸エチルを加えて希
釈し水洗、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカ
ゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶
媒：酢酸エチル−ベンゼン（１：７）〕によつて
精製して目的物118mg（収率82％）を油状物とし
て得た。本物質は３，４−トランス異性体と３，
４−シス異性体の１：１混合物である。 IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：1774、1752 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 〔トランス異性体〕0.04（3H、ｓ）、0.08（3H、
ｓ）、0.86（9H、ｓ）、1.26（3H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、2.03（3H、ｓ）、3.24（1H、dd、Ｊ＝4.5、
1.5Hz）、4.11（2H、ｓ）、4.2（1H、ｍ）、5.22
（2H、ｓ）、5.93（1H、ｄ、Ｊ＝1.5Hz）、7.47
（2H、ｄ）、8.19（2H、ｄ） 〔シス異性体〕0.08（3H、ｓ）、0.10（3H、ｓ）、
0.86（9H、ｓ）、1.36（3H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
2.08（3H、ｓ）、3.44（1H、dd、Ｊ＝8.5、4.5
Hz）、3.93（1H、ｄ、Ｊ＝18Hz）、4.24（1H、ｄ、
Ｊ＝18Hz）、4.3（1H、ｍ）、5.22（2H、ｓ）、
6.03（1H、ｄ、Ｊ＝4.5Hz）、7.47（2H、ｄ）、
8.19（2H、ｄ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R¹は水素原子または水酸基の保護基を、
   R⁵は水素原子またはアミド基の保護基を、R⁶は
   脱離基を示す。〕を有する化合物に 一般式 〔式中、R²およびR³は同一又は異なる水素原子、
   アルキル基またはアリール基を、Ｘは酸素原子ま
   たは硫黄原子を、Ｙはイミノ基もしくはアルキル
   イミノ基、酸素原子または硫黄原子を、R⁴はア
   ルキル基、置換基を有するアルキル基、アラルキ
   ル基、脂環式複素環置換アルキル基、脂環式複素
   環基、アリール基または芳香族複素環基を、R⁷、
   R⁸およびR⁹は同一または異なるアルキル基、ア
   リール基を示す。〕を有する化合物を反応させる
   ことを特徴とする。 一般式 〔式中、R¹は水素原子または水酸基の保護基を、
   R²およびR³は同一または異なる水素原子、低級
   アルキル基またはアリール基を、Ｘは酸素原子ま
   たは硫黄原子を、Ｙはイミノ基もしくはアルキル
   イミノ基、酸素原子または硫黄原子を、R⁴はア
   ルキル基、置換基を有するアルキル基、アラルキ
   ル基、脂環式複素環置換アルキル基、脂環式複素
   環基、アリール基、または芳香族複素環基を、
   R⁵は水素原子またはアミド基の保護基を示す。〕
   を有するアゼチジノン誘導体の製造法。