JPH03383B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、一般式（）を有する化合物に、一
般式（）を有する化合物を反応させ、一般式
（）を有する化合物を得るアゼチジノン誘導体
の製造法である。 一般式（）および（）におけるR¹は水素
原子又は水酸基の保護基｛水酸基の保護基として
は特に限定はなく一般的な水酸基の保護基を用い
ることができる。たとえば、低級アルキル基（メ
チル、エチル、プロピル又はイソプロピル基な
ど）、シリル基（トリメチルシリル、トリエチル
シリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブ
チルジフエニルシリル又はトリフエニルシリル基
など）、アシル基（ホルミル、アセチル、クロル
アセチル、トリフルオルアセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、又はベンゾイル基など）、アラル
キル基（ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｏ−ニ
トロベンジル、又はｐ−メトキシベンジル基な
ど）、アルコキシカルボニル基（ベンジルオキシ
カルボニル、ｐ−ブロムベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ニトロベンジルオキシカルボニル、２，２，２−
トリクロルエトキシカルボニル、アリルオキシカ
ルボニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、
２−メチルアリルオキシカルボニル、tert−ブト
キシカルボニル、ジフエニルメチルオキシカルボ
ニル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボ
ニル基など、tert−ブチルカルボニルオキシメチ
ルオキシカルボニル基、又はエーテル基（テトラ
ヒドロピラニル、メトキシメチル、１−エトキシ
エチル、又は２−（トリメチルシリル）エトキシ
メチル基など）｝である。 一般式（）および（）におけるR²および
R³は、同一又は異なる水素原子又は低級アルキ
ル基（たとえばメチル、エチル、プロピル、又は
イソプロピル基など）である。 一般式（）におけるＸは、酸素、窒素、硫
黄、若しくはセレニウム原子、Ｘが窒素原子であ
る場合には、 XR⁴が

【式】基〔式中、ＹおよびＺは酸素 又は硫黄原子を示す〕である。 一般式（）におけるR⁴は、置換基を有して
もよいアリール基（たとえば、フエニル、１−ナ
フチル、又は２−ナフチル基など）、置換基を有
してもよい芳香族複素環基（たとえば、ピリジ
ル、ピリミジル、トリアゾリル、チエニル、フリ
ル、チアゾリル、又はイミダゾリル基など）であ
り、これらのアリール基、又は芳香族複素環基の
置換基は、アルキル基（たとえばメチル、エチ
ル、又はプロピル基など）、アルコキシ基（たと
えばメトキシ、エトキシ、又はプロポキシ基な
ど）、アミノ基（たとえば、アミノ、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、又はジエチ
ルアミノ基など）、アシルオキシ基（たとえば、
アセチルオキシ、又はプロピオニルオキシ基な
ど）、水酸基、ニトロ基、ハロゲン原子（たとえ
ば、弗素、塩素、又は臭素原子など）、アルコキ
シカルボニル（たとえば、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、又はtert−ブトキシカルボ
ニル基など）、低級アルキルチオ基（たとえば、
メチルチオ、エチルチオ、又はイソプロピルチオ
基など）、低級アルキルスルフイニル基（たとえ
ば、メチルスルフイニル、エチルスルフイニル、
又はプロピルスルフイニル基など）、又はアルキ
ルスルホニル基（たとえばメチルスルホニル、エ
チルスルホニル、又はイソプロピルスルホニル基
など）である。 一般式（）および（）におけるR⁵は、水
素原子、アミドNH基の保護基、若しくは置換基
〔たとえば、

【式】基｛式中、R⁷は、水素 原子又はカルボキシ基の保護基（カルボキシ基の
保護基は特に限定はなく一般的なカルボキシ基の
保護基を用いることができる。たとえば、低級ア
ルキル基（メチル、エチル、プロピル又はtert−
ブチル基など）、アラルキル基（ベンジル、ジフ
エルメチル、ｐ−ニトロベンジル又はｏ−ニトロ
ベンジル基など）、アルケニル基（アリル、２−
クロルアリル又は２−メチルアリル基など）、ハ
ロゲン化アルキル基（２，２，２−トリクロルエ
チル又は２，２，２−トリブロムエチル基など）、
２−（トリメチルシリル）エチル基、又はtert−
ブチルカルボニルオキシメチル基などである。）
R⁸およびR⁹は、同一又は異なる水素原子、低級
アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピ
ル、又はイソプロピル基など）、ハロゲノメチル
基（たとえば、クロルメチル、ブロムメチル、又
はヨウ化メチル基など）、アリル基、アリール基
（たとえば、フエニル基、ｐ−メトキシフエニル、
ｐ−アミノフエニル又はｍ−ブロムフエニル基な
ど）、低級アルコキシ基（たとえば、メトキシ、
エトキシ、又はプロポキシ基など）、又はアシル
オキシ基（たとえば、アセチルオキシ、プロピオ
ニルオキシ、又はベンゾイルオキシ基など）であ
る。｝、

【式】基｛式中、R⁷は前述したも のと同意義を示す。｝、

【式】基｛式中、 R⁷は、前述したものと同意義を示す。｝、

【式】基｛式中、R⁷は前述したもの と同意義を示す。R¹⁰，R¹¹、およびR¹²は、同一
又は異なるアリール基（たとえば、フエニル、ｐ
−トリル、又はｐ−メトキシフエニル基など）、
アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル又はブチル基など）、アルコキ
シ基（たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、又はsec−ブト
キシ基など）、アリールオキシ基（たとえば、フ
エノキシ、ｐ−トリルオキシ、又はｍ−メトキシ
フエノキシ基など）、ジアルキルアミノ基（たと
えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロ
ピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルア
ミノ、又はジ−sec−ブチルアミノ基など）、

【式】基、又は

【式】基 である。｝、アラルキル基｛たとえばベンジル、ｐ
−メトキシベンジル、２，４−ジメトキシベンジ
ル、３，４−ジメトキシベンジル基又はジ（ｐ−
メトキシフエニル）メチル基、など｝、アリール
基｛たとえば、フエニル、ｐ−メトキシフエニ
ル、３，４−ジメトキシフエニル基又はｐ−メト
キシメチルオキシフエニル基など｝、又はシリル
基｛たとえば、トリメチルシリル、トリエチルシ
リル、tert−ブチルジメチルシリル、又はtert−
ブチルジフエニル基など｝である。〕である。 一般式（）および（）におけるR⁶は、ア
ルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、又はtert−ブチル基
など）、シクロアルキル基（たとえば、シクロプ
ロピル、シクロペンチル、又はシクロヘキシル基
など）、置換アルキル基〔たとえば、−CH₂A，−
CH₂CH₂A，−CHACH₃，−CH₂CH₂CH₂A，−CH
（CH₃）CH₂A，−CHACH₂CH₃，−
CH₂CHACH₃，−CH（CH₃）CH₂CH₂A又は−
CH₂（CH₂）₂CH₂A基などであり、その置換基Ａ
は、水酸基、保護された水酸基（R¹における水
酸基の保護基と同意義を示す）、アミノアルキル
基で修飾された水酸基｛アミノアルキル基として
は、−CH₂CH₂NHR¹³，−CH（CH₃）CH₂NHR¹³、
又は−CH₂CH₂CH₂NHR¹³などであり、式中の
R¹³は水素原子、又はアミノ基の保護基（アミノ
基の保護基としては特に限定はなく一般的なアミ
ノ基の保護基を用いることができる。たとえばア
シル基（ホルミル、アセチル、クロルアセチル、
トリフルオルアセチル、プロピオニル、又はベン
ゾイル基など）、アルコキシカルボニル基（エト
キシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、
２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル、
２，２，２−トリブロムエトキシカルボニル、２
−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、又はアリルオキシカルボニル基など）、
アラルキル基（ベンジル、ジフエニルメチル、又
はトリフエニルメチル基など）である。｝、−
NR¹⁴R¹⁵基｛式中、R¹⁴およびR¹⁵は、同一又は異
なる、水素原子、アルキル基（たとえば、メチ
ル、エチル、プロピル、又はイソプロピル基な
ど）、アシル基（たとえば、アセチル、プロピオ
ニル、イソブチリル、又はベンゾイル基）、スル
ホニル基（たとえば、メチルスルホニル、エチル
スルホニル、又はフエニルスルホニル基）又はア
ミノ基の保護基（R¹³におけるアミノ基の保護基
と同意義を示す。）である。｝、

【式】 基｛式中、R¹⁶は、水素原子、アルキル基（たと
えば、メチル、エチル、又はプロピル基など）又
はアリール基（たとえば、フエニル、ｐ−メトキ
シフエニル又はｐ−アミノフエニル基など）であ
る。R¹⁷は、水素原子、アルキル基（たとえば、
メチル、エチル、又はプロピル基など）、tert−
ブチルカルボニルオキシメチルオキシカルボニル
基、アミノ基の保護基（R¹³におけるアミノ基の
保護基と同意義を示す。）フエニル基、又はR¹⁶
とR¹⁷が一緒になつて環を形成する基（たとえ
ば、R¹⁶とR¹⁷が−（CH₂）₃−又は−（CH₂）₄−基な
ど）である｝、

【式】基｛式中、R¹⁸， R¹⁹およびR²⁰は、同一又は異なる水素原子、ア
ルキル基（たとえば、メチル、エチル、又はプロ
ピル基など）、アミノ基の保護基（R¹³における
アミノ基の保護基と同意義を示す。）、R¹⁹とR²⁰
が一緒になつて環を形成する基（たとえば、R¹⁹
とR²⁰が−（CH₂）₄−、−（CH₂）₅−、又は−
（CH₂）₆−基など）、又はR¹⁸とR¹⁹が一緒になつて
環を形成する基（たとえば、R¹⁸とR¹⁹が−
（CH₂）₂−、−（CH₂）₃−又は−（CH₂）₄−基など）
である｝、ハロゲン原子｛たとえば、弗素、塩素、
臭素又はヨウ素原子など｝、−CO₂R²¹基｛式中、
R²¹は水素原子、アルキル基（たとえば、メチ
ル、エチル、又はプロピル基など）又はカルボキ
シ基の保護基（R⁷におけるカルボキシ基の保護
基と−CONHR²²基｛式中、R²²は水素原子、ア
ルキル基（たとえばメチル、エチル又はプロピル
基など）、又はアミノ基の保護基（R¹³における
アミノ基の保護基と同意義を示す。）｝、−
NHCONHR²²基｛式中、R²²は前述のものと同意
義を示す。｝、−SR²³｛式中、R²³は、水素原子、ア
ルキル基（たとえば、メチルエチル、又はプロピ
ル基など）、アルケニル基（たとえばアリル、ビ
ニル、１−メチルビニル、又は１−プロペニル基
など）、アルキニル基（たとえば、エチニル、２
−プロピニル、又は−プロピニル基など）、シク
ロアルキル基（たとえば、シクロプロピル、シク
ロペンチル、又はシクロヘキシル基など）、シク
ロアルキルアルキル基（たとえば、シクロプロピ
ルメチル、シクロペンチルメチル、２−シクロヘ
キシルエチル、又は２−シクロペンチルエチル基
など）、アラルキル基（たとえば、ベンジル、フ
エネチル、ｐ−メトキシベンジル、又はｐ−ブロ
ムベンジル基など）、アリール基（たとえば、フ
エニル、ｐ−トリル、又はｐ−メトキシフエニル
基など）、芳香族複素環基（たとえば、チエニル、
フリル、イミダゾリル、又はピリジル基など）、
芳香族複素環置換アルキル基（たとえば、チエニ
ルメチル、２−チエニルエチル、ピリジルメチ
ル、イミダゾリルメチル、又はチアゾリルメチル
基など）である。｝、

【式】基（式中、R²³は前 述したものと同意義を示す。）、−SO₂R²⁴基｛式
中、R²⁴は前述したR²³と同意義を示すほか、ア
ルコキシ基（たとえば、メトキシ、エトキシ、又
はプロポキシ基など）である。｝、−OSO₂R²³基
（式中、R²³は前述したものと同意義を示す）、シ
アノ基、ニトロ基、アジド基、炭素原子間に窒素
原子、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カル
ボニル基又はチオカルボニル基が介在する置換、
若しくは非置換の脂肪族複素環基｛たとえば、

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】 【式】

【式】

【式】

【式】 【式】

【式】

【式】

【式】 （式中、一線は置換基の位置を示し、これが環
の中から出ているものは置換基の位置を特に限定
せず環炭素上のいずれかに置換基を有することを
示す。置換基Ｂは、水素原子、アルキル基（たと
えばメチル、エチル、プロピル又はイソプロピル
基など）、水酸基、保護された水酸基（R¹におけ
る水酸基の保護基と同意義を示す。）、−NR¹⁴R¹⁵
基（式中、R¹⁴およびR¹⁵は前述したものと同意
義を示す。）、

【式】基（式中、R¹⁶お よびR¹⁷は前述したものと同意義を示す。）、

【式】基（式中、R¹⁸，R¹⁹およびR²⁰ は前述したものと同意義を示す。）、ハロゲン原子
（弗素、塩素、臭素、又はヨウ素原子）、−CO₂R²¹
基（式中、R²¹は前述したものと同意義を示
す。）、−CONHR²²基、−NHCONHR²²基（式中、
R²²は前述したものと同意義を示す。）、−SR²³基、

【式】基（式中、R²³は前述したものと同意義 を示す。）、−SO₂R²⁴基（式中、R²⁴は前述したも
のと同意義を示す。）、−OSO₂R²³基（式中、R²³
は前述したものと同意義を示す。）、シアノ基、ア
ジド基、ニトロ基、アルコキシアルキル基（たと
えば、メトキシメチル、エトキシメチル、２−メ
トキシエチル、又は３−メトキシプロピルなど）、
アルコキシカルボニルアルキル基（たとえば、メ
トキシカルボニルメチル、tert−ブトキシカルボ
ニルメチル、又は２−ベンジルオキシカルボニル
エチル基など）、シアノアルキル基（たとえば、
シアノメチル、シアノエチル、又はシアノプロピ
ル基など）、ハロゲノアルキル基（たとえば、ト
リフルオルメチル、２−フルオルエチル、２，
２，２−トリフルオルエチル、２−クロルエチ
ル、２−ブロムエチル、２−フルオルプロピル、
又は３−フルオルプロピルなど）である。R²⁵は
水素原子、アルキル基（たとえば、メチル、エチ
ル、又はプロピル基）、アルケニル基（たとえば、
ビニル、アリル、又は１−プロペニル基など）、
アルキニル基（たとえば、エチニル、２−プロピ
ニル、又は１−プロピニル基など）、シクロアル
キル基（たとえば、シクロプロピル、シクロペン
チル、又はシクロヘキシル基など）、シクロアル
キルアルキル基（たとえば、シクロプロピルメチ
ル、シクロペンチルメチル、２−シクロヘキシル
エチル、又はシクロヘキシルメチル基など）、ア
リール基（たとえば、フエニル、ｐ−メトキシフ
エニル、又はｍ−アセトキシフエニル基など）、
アラルキル基（たとえば、ベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジル、ｏ−メトキシベンジル、又はｐ−ブロ
ムベンジル基など）、−COR²⁷基（式中、R²⁷はア
ルケニル基（たとえば、ビニル、１−メチルビニ
ル、１−プロペニル基など）、アルキニル基（た
とえば、エチニル、１−プロピニル、又は２−プ
ロピニル基など）、シクロアルキル基（たとえば、
シクロプロピル、シクロペンチル、又はシクロヘ
キシル基など）、シクロアルキルアルキル基（た
とえば、シクロプロピルメチル、シクロペンチル
メチル、シクロヘキシルメチル、２−シクロペン
チルエチル、又は３−シクロヘキシルプロピル基
など）、アリール基（たとえば、フエニル、トリ
ル、又はｐ−メトキシフエニル基など）、アラル
キル基（たとえば、ベンジル、又はｐ−メトキシ
ベンジル基など）、芳香族複素環基（たとえば、
フリル、チエニル、ピリジル、チアゾリル、イミ
ダゾリル、ピリミジル、又はピラジニル基など）、
芳香族複素環置換アルキル基（たとえば、テニ
ル、フルフリル、ピリジルメチル、又はピリミジ
ルメチル基など）、脂肪族複素環基（たとえば、
ピロリジニル、１−ピロリジニル、ピペリジル、
ピペリジノ、モルホリニル、又はモルホリノ基な
ど）、脂肪族複素環置換アルキル基（たとえば、
アジリジニルメチル、ピロリジニルメチル、１−
ピロリジノメチル、ピペリジルメチル、ピペリジ
ノメチル、モルホリニルメチル、又はモルホリノ
メチル基など）である。｝、−SR²³基（式中、R²³
は、前述したものと同意義を示す。）、

【式】基 （式中、R²³は前述したものと同意義を示す。）、−
SO₂R²⁴基（式中、R²⁴は前述したものと同意義を
示す。）、スルホ基、水酸基、保護された水酸基
（その保護基は前述したR¹における保護基と同意
義を示す。）、

【式】基（式中、R¹⁶およびR¹⁷は前述した ものと同意義を示す。）、

【式】基｛式 中、R²⁸およびR²⁹は同一又は異なる水素原子、
アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピ
ル、又はイソプロピル基など）、フエニル基、又
は前述したR¹³におけるアミノ基の保護基であ
る。Ｗは、酸素原子、硫黄原子、又はNR³⁰基
（式中R³⁰は、水素原子、アルキル基（たとえば、
メチル、エチル、プロピル、又はイソプロピル基
など）、フエニル基、又は前述したR¹³における
アミノ基の保護基である。｝、アミノ基の保護基
（前述したR¹³におけるアミノ基の保護基と同意
義を示す。）である。R²⁶は前述したR²⁵と同意義
を示す。Ｄは、NR³¹基｛式中、R³¹は、水素原
子、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プ
ロピル、又はイソプロピル基など）、アルケニル
基（たとえば、ビニル、アリル、又は１−プロペ
ニル基など）、アルキニル基（たとえば、エチニ
ル、又は２−プロピニル基など）、アラルキル基
（たとえば、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、又
はｐ−メトキシベンジル基など）、又はアリール
基（たとえば、フエニル、ｐ−ブロムフエニル、
又はｍ−メトキシフエニル基など）である。｝で
ある。Ｅは酸素原子、硫黄原子、又はNR³²基
（式中R³²は前述したR³¹と同意義を示す。）であ
る。｝、置換基を有してもよいアリール基｛たとえ
ば、フエニル、１−ナフチル、又は２−ナフチル
基など｝、又は置換基を有してもよい芳香族複素
環基｛たとえば、ピリジル、ピリミジル、トリア
ゾリル、チエニル、フリル、チアゾリル、又はイ
ミダゾリル基など｝であり、これらのアリール基
又は芳香族複素環基の置換基は、R⁴おけるアリ
ール基又は芳香族複素環基における置換基と同意
義を有する。〕、置換シクロアルキル基（たとえ
ば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チル、又はシクロヘキシル基などであり、その置
換基は置換アルキル基で説明した置換基Ａと同意
義を示しその置換基の位置は特に限定しない。）、
アルケニル基（たとえば、ビニル、アリル、１−
プロペニル、又は２−ブテニル基など）、置換ア
ルケニル基｛たとえば、ビニル、アリル、１−プ
ロペニル、又は２−ブテニル基などである、その
置換基は−NR¹⁴R¹⁵基（式中R¹⁴およびR¹⁵は、前
述したものと同意義を示す。）、−CO₂R²¹基（式中
R²¹は前述したものと同意義を示す。）、−
CONHR²²基（式中、R²²は前述したものと同意
義を示す。）、−NHCONHR²²基（式中、R²²は前
述したものと同意義を示す。）、−SR²³基（式中、
R²³は前述したものと同意義を示す）などであ
る。｝、アルキニル基（たとえば、エチニル、２−
プロピニル、又は１−プロピニル基など）、置換
アルキニル基（たとえば、エチニル、２−プロピ
ニル、又は１−プロピニル基などであり、その置
換基は、−NR¹⁴R¹⁵基（式中、R¹⁴およびR¹⁵は、
前述したものと同意義を示す。）、−CO₂R²¹基（式
中、R²¹は前述したものと同意義を示す。）、−
CONHR²²基（式中、R²²は前述したものと同意
義を示す。）、−NHCONHR²²基（式中、R²²は前
述したものと同意義を示す。）、−SR²³基（式中、
R²³は前述したものと同意義を示す。）などであ
る。）炭素原子間に窒素原子、酸素原子、硫黄原
子、スルホニル基、カルボニル基又はチオカルボ
ニル基が介在する置換、若しくは非置換脂肪族複
素環基（たとえば

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】 【式】

【式】

【式】

【式】 【式】

【式】

【式】

【式】

【式】 （式中R²⁵，R²⁶，Ｂ，ＤおよびＥは前述した
ものと同意義を示す。）、アリール基（たとえば、
置換基を有してもよいフエニル、又はナフチル基
であり、その置換基は、アミノ基、水酸基、メト
キシ基、アルコキシカルボニルメチル基などであ
る。）、アラルキル基（たとえば、ベンジル、メト
キシベンジル、ニトロベンジル、ブロムベンジ
ル、アミノベンジル、２−テニル、３−テニル、
又はフルフリル基など）、アリール基（たとえば
フエニル、１−ナフチル、又は２−ナフチル基な
ど）、芳香族複素環基（たとえばピリジル、ピリ
ミジニル、トリアジニル、チエニル、フリル、チ
アゾリル、イミダゾリル、テトラゾリル、又は
１，３，４−チアジアゾリル基など）である。な
お前述した一般式（）および（）における
R⁶のアラルキル基、アリール基、又は芳香族複
素環基の芳香環の置換基は一般式（）のR⁴の
アリール基又は芳香族複素環基において示した置
換基を有してもよい。 一般式（）を有する化合物の例を第１表に示
す。たゞし本発明はこの例示化合物により限定さ
れるものではない。

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】

【表】 表中の略号は次のものを示す。 PNZ：ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル AOC：アリルオキシカルボニル PNB：ｐ−ニトロベンジル BDMS：tert−ブチルジメチルシリル TES：トリエチルシリル TMS：トリメチルシリル BDPS：tert−ブチルジフエニルシリル TROC：２，２，２−トリクロルエトキシカル
ボニル TROB：２，２，２−トリブロムエトキシカル
ボニル ONB：ｏ−ニトロベンジル なお表中の例示化合物はすべて新規化合物であ
る。 一般式（）および（）を有する化合物の立
体配位に関しては特に限定はないが、化合物
（）をカルバペネム化合物に誘導した際の配位
がチエナマイシンと同じ5R，6S，8Rの配位を有
するものが好ましい。一般式（）を有する化合
物が不斉炭素原子を有する場合にもその配位に関
しては特に限定はなく、化合物（）の光学活性
体又はその混合物を用いてもよい。 本反応の実施にあたつて、反応は一般式（）
を有する化合物と一般式（）を有する化合物を
溶剤の存在下で接触させることによつて達成され
る。反応に使用される溶剤としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、ベンゼン、トルエンのような芳
香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなジアルキルアミド類、塩
化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロルエ
タンのようなハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル
のような酢酸エステル類、メタノール、エタノー
ル、プロパノールのようなアルコール類、アセト
ニトリル、ジメチルスルホキシド並びにこれらの
有機溶剤の混合溶剤が好適である。本反応は塩基
の存在下で促進されるが、塩基が存在しなくても
よい。使用される塩基としては、例えばトリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジ
ン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オク
タン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノ
ン−５−エンのような有機塩基あるいは水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、重炭酸ナトリウムの如き炭酸塩をあげ
ることが出来る。反応温度は特に限定はなく通常
は−20℃乃至100℃付近である。反応は窒素のよ
うな不活性ガスのふん囲気中で行なうことが望ま
しいが、空気中でも反応は進行する。反応に要す
る時間は主に原料化合物の種類、反応温度によつ
て異なるが約10分乃至３日間である。 反応終了後、本発明の目的化合物（）は常法
に従つて反応混合物から採取される。例えば反応
混合物に水不混和性有機溶剤を加え、水洗、乾燥
後、有機溶剤を留去することにより得ることがで
きる。さらに必要に応じて、得られた目的物を再
結晶、カラムクロマトグラフイー、分取薄層クロ
マトグラフイーを用いて、さらに精製することが
できる。 一般式（）で示される本発明の出発物質は以
下に述べる方法（Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤ法）によつて
得ることができる。 上記反応式に示したようにスレオニン（）
（式中、R¹は、前述したものと同意義を示す。）
を化合物（）とし、これに化合物（）（式中、
R⁵およびR⁷は、前述したものと同意義を示す。）
を反応させ化合物（）に導く、化合物（）を
塩基で処理することにより化合物（）が得られ
る。スレオニンから化合物（）へ導く方法につ
いては、特開昭56−142259号に本発明者等によつ
て開示されている。化合物（）のR⁷がカルボ
キシ基の保護基である場合は、常法に従つてその
保護基をはずし化合物（）とし、次いで四酢酸
鉛と反応させ化合物（）へ導く。化合物（）
にｏ−シリルケテンアセタール（XI）（式中、
R²，R³，R⁴およびＸは前述したものと同意義を
示す。）を反応させると化合物（）が得られる。
（）と（XI）の反応は、トリフルオルメタンス
ルホン酸トリメチルシリルエステルを触媒とし
て、溶媒（たとえば、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、又は
ジメチルホルムアミドが用いられる。）中、−15℃
〜100℃で、化合物（XI）を（）に対して１〜
３当量を用いて、(1)時間〜７日間反応させる。 上記反応式に示したように、化合物（XII）（式
中、R¹およびR⁵は前述したものと同意義を示
す。）にグリニヤ試薬（）（式中、R⁴および
Ｘは前述したものと同意義を示す。）を反応させ
化合物（）が得られる。この反応に関して
は、本発明者等が特開昭55−7251号に開示した方
法で行うことができる。化合物（）をトリフ
ルオル酢酸などの触媒により水和反応に付し化合
物（）（（）式におけるR²およびR³が水素原
子の化合物）へ導くことができる。 化合物（）に対応する化合物（）のR⁵が

【式】基である化合物はＡ法によつ ても合成できるが、上記反応式に示したＣ法によ
つても得られる。すなわち、一般式（）を有す
る化合物においてR⁵が水素原子である化合物
（）（式中、R¹，R²，R³，R⁴およびＸは前述
したものと同意義を示す。）に酸クロライド（
）（式中、R⁷は前述したカルボキシ基の保護基
を示す。）を反応させ化合物（）に導くこと
ができる。この反応は、化合物（）を溶媒
（たとえば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩
化メチレン、クロロホルム、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、
又はアセトニトリルなど）に溶かし１〜３当量の
塩基（たとえば、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，
０〕ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロ
〔２，２，２〕オクタン、ブチルリチウム、又は
水素化ナトリウムなど）の存在下に、１〜３当量
の酸クロライド（）を加え、−78℃〜50℃で
10分間〜１時間行なう。 一方、一般式（）を有する化合物において
R⁵が

【式】基であるＤ法によつて得られ る化合物（）（式中、R¹，R²，R³，R⁵およ
びR⁷は前述したものと同意義を示す）をオゾン
酸化することによつても化合物（）が得られ
る。この反応は、化合物（）を溶媒（たとえ
ばヘキサン、塩化メチレン、クロロホルム、又は
酢酸エチルなど）に溶かし、−78℃〜０℃でオゾ
ン酸化を行い、生成したオゾニドをジメチルスル
フイドで還元的に分解することにより行なう。 こゝに得られた化合物（）に、化合物（
）（式中、R¹⁰，R¹¹およびR¹²は前述したもの
と同意義を示す。）を反応させると化合物（）
に導ける。この反応は、化合物（）を溶媒
（たとえば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩
化メチレン、クロロホルム、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、
又はアセトニトリルなど）に溶かし、２当量以上
の化合物（）を加え40゜〜150℃で、30分間〜
10時間行なう。 化合物（）および化合物（）に対
応する一般式（）のR²およびR³が水素原子、
Ｘが硫黄原子、R⁵が

【式】基又は

【式】基である化合物は上記反応式に示 す方法で合成できる。すなわち、化合物（XI）
（式中、R¹およびR⁷は前述したものと同意義を示
す。）にｏ−シリルケテンアセタール（）
（式中、R⁴およびＸは前述したものと同意義を示
す。）を反応させ、化合物（）へ導ける。
この反応は、化合物（XI）を溶媒（たとえば、
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、
クロロホルム、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、アセトニトリル、又はジメチルホル
ムアミドなど）に溶かし触媒量のトリフルオルメ
タンスルホン酸トリメチルシリルエステルの存在
下、１〜３当量の化合物（）を加え、−15
℃〜100℃で、５時間〜７日間行なう。得られた
化合物（）を常法に従つて塩基（たとえ
ば、トリエチルアミン、１，５−ジアザビシクロ
〔４，３，０〕ノン−５−エン、１，４−ジアザ
ビシクロ〔２，２，２〕オクタン、又は４−ジメ
チルアミノピリジンなど）で処理すると化合物
（）が得られる。一方、化合物（）
（式中、R¹およびR⁷は前述したものと同意義を示
す。）に化合物（）を反応させることによ
り化合物（）へ導ける。この反応は化合物
（XI）と化合物（）の反応と同様に行う。 本発明によつて得られる一般式（）を有する
化合物は以下に述べる方法に従つて強い抗菌活性
を示すカルバペネム誘導体へ導ける。すなわち一
般式（）を有する化合物はカルバペネム誘導体
の合成中間体として重要な化合物であることを見
い出し本発明を完成した。 一般式（）を有する化合物においてR⁵がア
ミドNHの保護基である場合には、常法に従つて
その保護基を除去し、Ｃ法に準じた方法によるア
シル化、ホスホラニリデン化により、化合物（
）（式中、R¹，R²，R³，R⁶，R⁷，R¹⁰，R¹¹
およびR¹²は前述したものと同意義を示す。）へ
導ける。一般式（）においてR⁵が

【式】 および

【式】（式中、R⁷，R⁸，および R⁹は前述したものと同意義を示す。）の場合は、
Ｄ法およびＣ法に準じた方法で化合物（）
へ導ける。一方、化合物（）はＡ法により
導いた化合物（）（R⁵：

【式】） を本発明のメルカプト基の交換反応により得られ
る。こゝに得られた化合物（）は非プロト
ン性溶媒中、80℃〜150℃で、10時間〜５日間加
熱することにより閉環し化合物（）を与え
る。 化合物（）においてR¹が水酸基の保護基、
又は、およびR⁶が保護基を有する水酸基、アミ
ノ基、若しくはカルボキシ基を有する基、又は、
および、R⁷がカルボキシ基の保護基である場合
は、その保護基を常法に従つて除去し、カルバペ
ネム誘導体（）（式中R³³は、前述したR⁶
と同意義を示す。ただしR⁶が保護基を有する水
酸基、アミノ基、若しくはカルボキシ基を有する
基である場合はその保護基を除去したものを有す
る基を示す。）に導ける。 なお化合物（）は次の方法によつても合
成できる。 上記反応式に示したように一般式（）におけ
るR⁵が水素原子である化合物（）（式中、
R¹，R²，R³，およびR⁶は前述したものと同意義
を示す。）に、常法に従つて化合物（）（式
中、R⁷は前述したものと同意義を示す。）を反応
させ、化合物（XI）へ導く。（XI）を常
法に従つて酸化して化合物（XII）とし、これ
を先に述べた方法でホスホラニリデン化して化合
物（）へ導ける。 以下に、実施例、参考例をあげて本発明を説明
する。 参考例 １ Ｎ−（ｐ−メトキシベンジル）グリシンtert−
ブチルエステル ｐ−メトキシベンジルアミン（69g、0.5mol）、
トリエチルアミン（75.75g、0.75mol）を乾燥テ
トラヒドロフラン2500ml中に溶解させ、室温下、
tert−ブチルブロムアセテート（97.5g、0.5mol）
を滴下後さらに１時間加熱還流反応させる。冷却
後、生成したトリエチルアミン塩酸塩を去し、
減圧下テトラヒドロフランを留去する。残渣を酢
酸エチル2000mlに溶解し、水（500ml×２）、飽和
食塩水250mlで順次、洗浄後硫酸マグネシウムで
乾燥する。硫酸マグネシウムを去し、酢酸エチ
ルを減圧にて留去し、得られた油状物をシリカゲ
ル1.2Kgを用いたクロマトグラフイーに付し、シ
クロヘキサン−酢酸エチル（２：１）で溶出する
と目的とするＮ−（メトキシベンジル）グリシン
tert−ブチルエステルが94.14g（74.5％）の収率で
得られた。 元素分析 C₁₄H₂₁O₃N 理論値 測定値 Ｃ 66.9 ％ 66.78％ Ｈ 8.42％ 8.40％ Ｎ 5.57％ 5.40％ 参考例 ２ （2S，3R）−Ｎ−（tert−ブトキシカルボニル
メチル）−Ｎ−（ｐ−メトキシベンジル）−２−ブ
ロム−３−ヒドロキシ酪酸アミド （2S，3R）−２−ブロム−３−ヒドロキシ酪酸
（50.96g、0.278mol）、Ｎ−（ｐ−メトキシベンジ
ル）、グリシンtert−ブチルエステル（70.14g、
0.278mol）を乾燥テトラヒドロフラン1000mlに
溶解させ氷冷下撹拌しながら、ジシクロヘキシル
カルボジイミド（57.3g、0.278mol）を添加反応
させる。室温にて30分間撹拌後生成した尿素化合
物を去し、テトラヒドロフランを減圧下留去す
る。残渣を酢酸エチル1000mlに溶解し、希塩酸
200ml、水200ml、５％重ソウ水200ml、飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。硫酸マグネシウムを去し、減圧下酢酸エチ
ルを留去すると目的とするアミドが118g（oil）得
られる。これをシリカゲル900gを用いたラピツ
ドクロマトグラフイーに付してシクロヘキサン−
酢酸エチル（２：１）で溶出すると目的とするア
ミド体が81.9g（71.5％）得られた。 C₁₈H₂₆NO₅B_r（MW416.32） 元素分析 理論値 実測値 Ｃ 51.9 51.8 Ｈ 6.29 6.20 Ｎ 3.36 3.11 参考例 ３ （3S，4S）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔tert−ブトキシカルボニル〕−１−〔ｐ
−メトキシベンジル〕−２−アゼチジノン リチウムヘキサメチルシラジドの調整。ヘキサ
メチルジシラザン（54ml、0.256mol）を、乾燥
テトラヒドロフラン150mlに溶解し、氷冷下撹拌
しながら、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.6M
溶液、162.6ml、0.26mol）を滴下反応させる。 参考例２で得たアミド体（51.7g、0.124mol）
を乾燥テトラヒドロフランに溶解させ、氷冷下先
に調整したリチウムヘキサメチルジシラジド溶液
の半分を滴下反応させる。滴下後、５分間同温度
にて撹拌し、内温20〜22℃に上昇させる。 さらに内温20〜22℃を保つて、残りのリチウム
ヘキサメチルジシラジドを滴下反応させる。滴下
終了後、30分間20〜22℃で反応させた後、希塩酸
でPH≒５に調整したのち減圧下テトラヒドロフラ
ンを留去する。残渣を酢酸エチル1000mlに溶解
し、水500ml、５％重ソウ水250ml、飽和食塩水
250mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。酢酸エチルを留去し、得られた油状物を
シリカゲル1.5Kgを用いたクロマトグラフイーに
付し、シクロヘキサン：酢酸エチル（１：１）で
溶出すると、目的とするアゼチジノン化合物が
26.6g（63.9％）得られた。 融点 75〜76℃C₁₈H₂₅NO₅ MW335.41 元素分析 理論値 測定値 Ｃ 64.46 64.69 Ｈ 7.51 7.47 Ｎ 4.18 4.18 参考例 ４ （3S，4S）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル〕−４−カルボキ
シ−２−アゼチジノン 参考例３で得られたアゼチジノン化合物
（20g、0.06mol）を氷冷下、トリフルオル酢酸に
溶解し、室温下３時間反応させる。トリフルオル
酢酸を留去後、酢酸エチル200mlに溶解し、５％
重ソウ水で水層のPHが４になるまで洗浄する。次
いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、酢酸エチルを留去すると目的物が半結
晶として19gが得られた。 融点 100〜102℃ 元素分析 理論値 実測値 Ｃ 60.20 60.27 Ｈ 6.14 6.27 Ｎ 5.02 4.93 参考例 ５ （3R，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−
３−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）−４−アセト
キシ−２−アゼチジノン 参考例４で得られたアゼチジノン体2.8g
（10mmol）を用いて、オルガニツク−リアクシ
ヨン、1972年、19巻、279頁の方法に従つて反応
を行う。 反応後、酢酸エチル300mlに溶解し、水（100ml
×２）、５％重ソウ水100ml、飽和食塩水100mlで
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
硫酸マグネシウムを去後、酢酸エチルを留去す
る。得られた残査をシリカゲル50gを用いたクロ
マトグラフイーに付し、シクロヘキサン−酢酸エ
チル（１：２）の溶液にて溶出し、これを濃縮
后、酢酸エチル−シクロヘキサン（４：１）の溶
液にて再結晶を行うと目的とするアゼチジノン体
1.63g（51.3％）が得られた。 融点 84〜85℃ 元素分析 理論値 実測値 Ｃ 61.42 61.32 Ｈ 6.53 6.43 Ｎ 4.78 4.81 参考例 ６ （3R，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−４−アセトキシ−２−
アゼチジノン 参考例５で得られたアセトキシアゼチジノン体
2.93g（10mmol）を乾燥塩化メチレン20mlに溶解
し、室温下かくはんしながら、ジメチルアミノピ
リジン3.66g（30mmol）を添加する。さらにｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルクロライド
6.45gの乾燥塩化メチレン10ml溶液を滴下し、続
いて２時間室温にてかくはんする。不溶物を去
した後、塩化メチレンを留去し、再び酢酸エチル
200mlに溶解させる。希塩酸50ml、水50ml、５％
重ソウ水50ml、飽和食塩水50mlで順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウ
ムを取し、酢酸エチルを減圧下留去する。残査
をシリカゲル200gを用いたカラムクロマトグラ
フイーに付し、シクロヘキサン−酢酸エチル
（１：２）溶液で溶出すると、目的とするアゼチ
ジノン体3.7g（78％）が得られた（油状物）。 元素分析 理論値 実測値 Ｃ 58.47％ 58.40％ Ｈ 5.31％ 5.08％ Ｎ 5.93％ 5.73％ 参考例 ７ （3S，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−（フエニルチオカルボ
ニルメチル）−２−アゼチジノン 参考例６で得られたアセトキシアゼチジノン
1.18g（2.5mmol）を乾燥塩化メチレン10mlに溶解
し、室温下かくはんする。これに１−フエニルチ
オ−１−（トリメチルシリルオキシ）エチレン
2.24g（10mmol）を添加し、さらに触媒として、
トリフルオルメタンスルホン酸トリメチルシリル
エステル0.11g（1.25mmol）を加えて室温下一夜
放置する。 塩化メチレンを留去し、酢酸エチル100mlに溶
解し水50ml、５％重ソウ水50ml、飽和食塩水50ml
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。硫酸マグネシウムを去し、酢酸エチルを留
去後、シリカゲル125gを用いたカラムクロマト
グラフイーに付しシクロヘキサン−酢酸エチル
（１：１）溶液で溶出すると目的とする４−〔（フ
エニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジ
ノン誘導体1.34g（94.9％）が得られた（油状物）。 元素分析 計算値 実測値 Ｃ 61.6 ％ 61.33％ Ｈ 5.00％ 5.12 ％ Ｎ 4.96％ 4.81 ％ Ｓ 5.67％ 5.63 ％ 参考例 ８ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼ
チジノン 参考例７で得られたアゼチジノン203mg
（0.36mmol）をアセトン10mlに溶解し、室温下か
くはんしながらセリツクアンモニウムナイトレー
ト3.0g（15.2当量）を水５mlに溶解したものを加
える。室温下２時間かくはん後、酢酸エチル200
ml、水50mlを加えてかくはんし、５％重ソウ水で
PH約7.0に調整する。 酢酸エチル層を分取し、飽和食塩水50mlで洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグ
ネシウムを去し、酢酸エチルを留去したのち得
られた残査をローバーカラムに付して、シクロヘ
キサン−酢酸エチル（２：１）溶液で溶出する
と、目的とするアゼチジノン体119mg（69.5％）
が得られた。 NMR（CDCl₃）スペクトル δppm： 1.44（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz） 2.9〜3.2（3H，ｍ） 3.86〜4.1（1H，ｍ） 5.15（2H，

【式】Ｓ 4.9〜5.3（1H，ｍ） 6.44（1H，ｓ） 7.5〜8.3（9H，

【式】

【式】） Massスペクトル ｍ／ｅ： 444（M⁺） 参考例 ９ （3S，4S）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−（tert−プトキシカル
ボニル）−２−アゼチジノン 参考例３で得られたアゼチジノン体335mg
（1mmol）を乾燥塩化メチレン10mlに溶解し氷冷
下かくはんしながらジメチルアミノピリジン122
mg（1mmol）を加える。さらにｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルクロライド215mg
（1mmol）を加えた後、室温下１時間かくはんす
る。反応終了後、塩化メチレンを留去し、酢酸エ
チル100mlにて溶解し、希塩酸10ml、５％重ソウ
水10ml、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを去
し、酢酸エチルを留去後、シリカゲル15gを用い
たカラムクロマトグラフイーに付しシクロヘキサ
ン：酢酸エチル（１：１）にて溶出すると、目的
とするアゼチジノン体336mg（65.3％）が得られ
た。 元素分析 理論値 測定値 Ｃ 60.69％ 60.54％ Ｈ 5.88％ 5.82％ Ｎ 5.45％ 5.48％ 参考例 10 （3S，4S）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−カルボキシ−２−ア
ゼチジノン 参考例９で得られたアゼチジノン体193mg
（0.38mmol）を氷冷下、トリフルオル酢酸２mlに
溶解し、そのまま２時間かくはんする。反応終了
後、トリフルオル酢酸を留去し、酢酸エチル50ml
に溶解し、５％重ソウ水50ml（×２）で抽出す
る。水層を希塩酸でPH２に調整し、酢酸エチル50
ml（×２）で抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。硫酸マグネシウムを去し、酢酸エチル
を留去すると、目的とするアゼチジノン体が170
mg（99％）得られた。 NMR（CDCl₃）スペクトル δppm： 1.25（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.25（1H，dd，Ｊ＝
3.0，4.5Hz）、3.75（3H，Ｓ），3.8〜4.8（1H，ｍ）、
4.1，4.7（2H，AB−ｑ，Ｊ〕15Hz）、4.15（1H，
ｄ，Ｊ＝3.0Hz）、5.18（2H，ｓ）、6.64〜7.2（4H，
ｍ）、7.25〜8.25（4H，ｍ） Massスペクトル ｍ／ｅ：465（M⁺） 参考例 11 （3S，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−４−アセトキシ−２−ア
ゼチジノン 参考例10で得られたアゼチジノン体0.9g
（1.75mmol）をジメチルホルムアミドと酢酸
（５：１）の溶液10mlに溶解し、かくはん下四酢
酸鉛0.87g（1.96mmol）を加え50℃で10分間かく
はんする。室温に冷却後、酢酸エチル100mlに溶
解し、水、５％重ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄
する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチ
ルを留去し、シリカゲル30gを用いたカラムクロ
マトグラフイーに付し、シクロヘキサン：酢酸エ
チル（１：１）で溶出すると目的とするアゼチジ
ノン体680mg（71.9％）が得られた。 元素分析 理論値 測定値 Ｃ 58.47％ 58.4 ％ Ｈ 5.31％ 5.08％ Ｎ 5.93％ 5.73％ 参考例 12 （3S，4S）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−（１−アリルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−４−（tert−ブトキシカルボニル）−２
−アゼチジノン 参考例３で得られたアゼチジノン体670mg
（2mmol）を乾燥塩化メチレン10mlに溶解し、氷
冷下かくはんしながらジメチルアミノピリジン
448mg（4mmol）、アリルオキシカルボニルクロ
ライド480mg（4mmol）を加え氷冷下２時間かく
はんする。室温一夜放置後、酢酸エチル100mlに
溶解し、希塩酸、５％重ソウ水、飽和食塩水で順
次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢
酸エチルを留去し、得られた油状物をローバーカ
ラムに付し、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：
１）で溶出すると、目的とするアゼチジノン体
742mg（88％）が得られた。 NMR（CDCl₃）スペクトル δppm： 1.35（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.42（9H，Ｓ）、3.2〜
3.4（1H，ｍ）、3.75（3H，Ｓ）、3.5〜4.0（2H，
ｍ）、4.0，4.75（2H，AB−ｑ，Ｊ＝16Hz）4.5〜
4.7（2H，ｍ）、4.9〜5.5（2H，ｍ）、5.6〜6.0（1H，
ｍ）、6.6〜7.3（4H，ｍ） Massスペクトル ｍ／ｅ：419（M⁺） 参考例 13 （3S，4S）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−４−カルボキシ−２−アゼチジノン 参考例12で得られたアゼチジノン体562mg
（1.34mmol）を乾燥塩化メチレン５mlに溶解し氷
冷下トリフルオル酢酸５mlを加えて１時間かくは
んする。室温にて一夜放置後、トリフルオル酢酸
を留去し、酢酸エチル100mlに溶解する。５％重
ソウ水50mlで３回抽出する。水層を希塩酸でPH２
に調整し、酢酸エチル50mlで２回抽出した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去すると、目的とするアゼチジノン400mg（82.2
％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃） δppm： 1.45（3H，ｄ，Ｊ＝6.0Hz）、3.0〜3.3（1H，ｍ）、
3.8（3H，Ｓ）、3.8〜6.5（9H，ｍ）、6.7〜7.4（4H，
ｍ） Massスペクトル ｍ／ｅ：363（M⁺） 参考例 14 （3R，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−
３−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニルオキ
シ）エチル〕−４−アセトキシ−２−アゼチジノ
ン 参考例13で得られたアゼチジノン4.46g
（12.31mmol）をジメチルホルムアミド：酢酸
（５：１）の溶液20mlに溶解し、室温下かくはん
しながら、四酢酸鉛5.44g（12.3mmol）を加えた
後、50℃にて10分間反応させる。 室温に冷却後、酢酸エチル200mlに溶解させ水
（50ml×２）、５％重ソウ水50ml、飽和食塩水で順
次洗浄後、シリカゲル150gを用いたクロマトグ
ラフイーに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル
（２：１）で溶出すると、目的とするアゼチジノ
ン3.15g（68％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.4（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.95（3H，Ｓ）、３，
３（1H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.75（3H，Ｓ）、4.1，
4.5（2H，AB−ｑ，Ｊ＝15Hz）、4.4〜4.7（2H，
ｍ）4.9〜5.2（1H，ｍ）、5.1〜5.5（2H，ｍ）、5.6
〜6.1（1H，ｍ）、5.85（1H，Ｓ）、6.6〜7.3（4H，
ｍ） 元素分析： 理論値 測定値 Ｃ 60.4 ％ 59.8 ％ Ｈ 6.14％ 6.03％ Ｎ 3.71％ 3.67％ Massスペクトル ｍ／ｅ：377（M⁺） 参考例 15 （3S，4R）−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチ
ル〕−２−アゼチジノン 参考例14で得られたアゼチジノン377mgを乾燥
塩化メチレン２mlに溶解し、１−フエニルチオ−
１−（トリメチルシリルオキシ）エチレン448mg
（2mmol）を加えて室温下かくはんする。触媒量
のトリフルオルメタンスルホン酸トリメチルシリ
ルエステルを加えて、室温にて一夜放置する。酢
酸エチル200mlに溶解し、水100ml、飽和食塩水
100mlで順次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、ローバーカラムに付し、シクロヘキサン
−酢酸エチル（１：１）で溶出すると目的とする
アゼチジノン430mg（91％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.39（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.8（2H，ｄ，Ｊ＝7.5
Hz）、3.1（1H，dd，Ｊ＝2.5、7.5Hz）、3.75（3H，
Ｓ）、3.8〜4.2（1H，ｍ）、4.1〜4.5（2H，AB−ｑ，
Ｊ＝14Hz）、4.5〜4.7（2H，ｍ）、4.8〜5.2（1H，
ｍ）5.1〜5.4（2H，ｍ）、5.6〜7.1（1H，ｍ）6.7〜
7.5（9H，ｍ） Massスペクトル ｍ／ｅ：469（M⁺） 参考例 16 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕−４−〔（フエニルチオ）
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン 参考例15で得られたアゼチジノン体140mg
（0.3mmol）をアセトン２ml、水１mlの混合溶媒
に溶解させる。室温にてかくはん下、セリツクア
ンモニウムナイトレート822mg（1.5mmol）を加
えて２時間反応させる。酢酸エチル100mlを加え、
水（20ml×２）、５％重ソウ水20ml、飽和食塩水
20mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。酢酸エチルを留去し、ローバーカラムクロ
マトに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル（１：
１）で溶出すると、目的とするアゼチジノン体25
mg（24.0％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.4（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.8〜3.3（3H，ｍ）、
3.8〜4.2（1H，ｍ）、4.4〜4.7（2H，ｍ）、4.8〜5.2
（1H，ｍ）、5.1〜5.4（2H，ｍ）、5.6〜6.1（1H，
ｍ）、6.1〜6.3（1H，broad，ｓ）、7.36（5H，ｓ） Massスペクトル ｍ／ｅ：349（M⁺） 元素分析 理論値 測定値 Ｃ 58.4 ％ 58.1 ％ Ｈ 5.48％ 5.49％ Ｎ 4.01％ 3.89％ Ｓ 9.15％ 9.34％ 参考例 17 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔（フエニルチ
オ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔（フエニルチ
オ）エチニル〕−２−アゼチジノン（3.28g）の無
水塩化メチレン（75.0ml）溶液に、窒素雰囲気中
にて氷冷撹拌下、トリフルオル酢酸（3.5ml）を
加え、氷冷下で30分間と更に室温で1.5時間撹拌
する。ついで、反応液を重曹（1.14g）、水（75
ml）及び酢酸エチル（300ml）からなる混液に注
加する。混合溶液を食塩で飽和させたのち分液し
て有機層を分け取り、水層は酢酸エチルにて２回
抽出操作を行なう。得られた有機層と酢酸エチル
層を合わせて炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒
を減圧で留去したのち得られる残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフイー（シクロヘキサン−酢
酸エチル／３：１）にて精製して目的とするチオ
エステル化合物（3.09g）を無定形固化物として
得た。 （収率89.8％） IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1765cm^-1 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.08（6H，
Ｓ）、0.88（9H，Ｓ）、1.21（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、
2.7〜3.2（3H，ｍ）、4.0（1H，ｍ）、4.18（1H，
ｍ）、6.10（1H，br）7.4（5H，Ｓ） 参考例 18 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−
２−アゼチジノン （3S，4S）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔（フエニルチオ）エチニル〕−２−アゼ
チジノン（718mg）の無水塩化メチレン（８ml）
溶液に、窒素雰囲気中にて氷冷撹拌下、トリフル
オル酢酸（1.1ml）を加え、氷冷下で30分間と更
に室温で1.5時間撹拌する。ついで、反応液を重
曹（2.44g）、水（15ml）及び酢酸エチル（30ml）
からなる混液に注加する。混合溶液を食塩で飽和
させたのち分液して有機層を分け取り、水層は酢
酸エチルにて２回抽出操作を行なう。得られた有
機層と酢酸エチル層を合わせて炭酸水素ナトリウ
ム水溶液と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥する。溶媒を減圧で留去したのち得られる
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（シ
クロヘキサン−酢酸エチル／１：３）にて精製し
て目的とするチオエステル化合物（281mg）を得
た。酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶。融点
121.5〜123.5℃。（収率36.5％）。 IR（KBr）：1730cm^-1 NMRスペクトル（acetone−d₆）δppm：1.23
（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.77（1H，ｓ）、2.8−3.3
（3H，ｍ）、3.8−4.2（2H，ｍ）、7.25（1H，bs）、
7.50（5H，ｓ） 参考例 19 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼ
チジノン （3S，4S）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−
〔（フエニルチオ）エチニル〕−２−アゼチジノン
（448mg）の無水塩化メチレン（５ml）溶液に窒素
雰囲気中にて氷冷撹拌下、トリフルオル酢酸
（0.4ml）を加え、氷冷下で30分間と更に室温で
1.5時間撹拌する。ついで反応液を重曹（1.0g）、
水（10ml）及び酢酸エチル（20ml）からなる混液
に注加する。混合溶液を食塩で飽和させたのち分
液して有機層を分け取り、水層は酢酸エチルにて
２回抽出操作を行なう。得られた有機層と酢酸エ
チル層を合わせて炭酸水素ナトリウム水溶液と飽
和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒を減圧で留去したのち得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（シクロヘキサン
−酢酸エチル／１：１）にて精製して目的とする
チオエステル化合物（95.0mg）を粘調性油状物と
して得た。 （収率63.0％） IRスペクトルν^CHCl3 _naxcm^-1：3410，1762，1750
（sh.），1690 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.47（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、〜3.0（2H，ｄ−like）、3.13
（1H，dd，Ｊ＝７，２Hz）、4.02（1H，ddd，Ｊ＝
８，6.2Hz）、〜5.1（1H，ｍ）、5.19（2H，Ｓ）、
6.32（1H，br.S）、7.35（5H，Ｓ）、7.43（2H，ｄ）、
8.15（2H，ｄ） 参考例 20 １−（チアゾリジン−２−チオン−３−イル）−
１−（トリメチルシリルオキシ）エテン 8.28gのヘキサメチルジシラザンの無水テトラ
ヒドロフラン20ml溶液に1.6ミリモルのブチルリ
チウムのヘキサン溶液を氷冷下加えヘキサメチル
ジシラザンのリチウム液を形成する。ついで−78
℃に反応温度を下げ、5.5gのＮ−アセチルチアゾ
リジン−２−チオンの55mlテトラヒドロフラン溶
液を加え、同温にて30分間撹拌後、8.6mlのトリ
メチルシリルクロリドを加える。更に1.5時間撹
拌後、ゆつくり反応温度を０℃に上昇させる。析
出した塩をすばやく過し、更に塩をエーテルに
て洗滌する。母液及び洗滌液を合せ、減圧下、溶
媒を留去する。析出した塩を再度エーテルにて洗
滌後、セライトを用い、過する。液を溶媒留
去後、粗生成物を蒸留し所望の化合物7.2gを得
た。 沸点 170℃／１mmHg NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.29（CH₃×
３，ｓ）、3.29（2H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、4.24（2H，
ｔ，Ｊ＝８Hz）、4.39（1H，ｄ，Ｊ＝2.5Hz）、
4.55（1H，ｄ，Ｊ＝2.5Hz） 参考例 21 １−（オキサゾリジン−２−オキソ−３−イル）
−１−（トリメチルシリルオキシ）エテン 12mlのヘキサメチルジシラサンのTHF40ml液
に1.6ミリモルのブチルリチウムのヘキサン溶液
35.8mlを氷冷下加え、シラザンのリチウム塩を形
成する。ついで反応温度を−78℃に下げ、5gの
Ｎ−アセチルオキサゾリジン−２−オンの50ml
THF液をゆつくり加える。１時間撹拌後9.82ml
のトリメチルシリルクロリドを加える。同温にて
1.5時間撹拌後、ゆつくり反応温度を０℃まで上
昇させる。溶媒を減圧下留去し、析出した塩をエ
ーテルにて洗滌後、セライト過し、液を減圧
下溶媒留去後、粗生成物を蒸留すると所望の化合
物5gを得た。 沸点 100℃／１mmHg NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.28（CH₃×
３，ｓ）、3.1−3.7（2H，ｍ）、3.8−4.3（4H，
ｍ） 参考例 22 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−（チアゾリジ
ン−２−チオン−３−イル）カルボニルメチル−
２−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン1.0g
を無水塩化メチレン20mlに溶解し参考例20で得た
Ｏ−シリルケテンアセタール1.03gを加える。つ
いで氷冷下すばやく0.06mlのトリフルオルメタン
スルホン酸トリメチルシリルエステルを加え、全
反応液を室温にて18時間撹拌する。塩化メチレン
を加えついで希塩酸水溶液、希重曹水、さらに食
塩水にて反応液を洗滌後、減圧下溶媒留去し、残
渣をシクロヘキサン：酢酸エチル＝１：１の系に
てシリカゲル分取TLCに付しRf＝0.3に対応する
所望の首記化合物112mgを得た。 融点 125℃（酢酸エチル：石油エーテル１：５
より再結晶）。 IRスペクトルνKBr cm−１：3200，1735，1690，
1520 NMRスペクトルCDCl₃）δppm：0.08（CH₃×
２）、0.85（tert−ブチル基）、1.25（CH₃，ｄ，
Ｊ＝６Hz）、2.85（1H，dd，Ｊ＝4.5及び2.5Hz）、
3.35（2H，ｔ，Ｊ＝7.5Hz）、4.55（2H，ｔ，Ｊ
＝7.5Hz），3.5〜4.3（4H）、6.3（NH） 元素分析 C₁₆H₂₈N₂O₃S₂Siとして 計算値 Ｃ，49.45；Ｈ，7.26；Ｎ，7.21 実測値 Ｃ，49.63；Ｈ，7.30；Ｎ，7.24 参考例 23 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−（２−オキソ
オキサゾリジン−３−イル）カルボニルメチル−
２−アセチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕
−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン1g
を無水塩化メチレン20mlに溶解し、参考例21によ
り合成したＯ−シリルケテンアセタール1.38gを
加える。氷冷下すばやく0.06mlのトリフルオルメ
タンスルホン酸トリメチルシリルエステルを加
え、室温にて18時間撹拌、塩化メチレンにて希釈
し、希重曹水、ついで食塩水にて洗滌後、減圧下
溶媒留去し、残渣を６mlのエタノールに溶解し、
33mlのKFを加え、室温にて１時間撹拌。酢酸エ
チルを加え、食塩水にて洗滌後、減圧下溶媒留
去。残渣をシクロヘキサン：酢酸エチル＝１：２
の系にてシリカゲル分取TLCに付しRf＝0.2に対
応する所望化合物850mgを得た。 融点 109℃ NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.08（CH₃×
２）、0.87（tert−ブチル基）、1.25（CH₃，ｄ，
Ｊ＝６Hz）、2.87（1H，dd，Ｊ＝５，２Hz）、
3.1〜3.66（2H，ｍ）、3.8〜4.66（6H，ｍ）、6.46
（1H，NH） 元素分析 C₁₆H₂₈N₂O₅Siとして 計算値 Ｃ，53.91；Ｈ，7.92；Ｎ，7.86 実測値 Ｃ，54.16；Ｈ，8.03；Ｎ，7.74 参考例 24 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−〔（Ｒ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メ
チル−２−プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3R，4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１
−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
１−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチルプロプ−２−エニル〕−２−
アゼチジノン83mg（0.160mmole）と１−フエニ
ルチオ−１−（トリメチルシリルオキシ）エチレ
ン54mg（0.24mmole）を乾燥塩化メチレン３mlに
溶かし、トリフルオルメタンスルホン酸トリメチ
ルシリルエステル６mg（0.027mmole）を加え、
窒素雰囲気下72時間静置する。反応終了後、反応
液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽出する。
クロロホルムを留去して得られる残留物をシリカ
ゲルの分取用薄層クロマトグラフイー〔展開溶
媒：ヘキサン−酢酸（４：１）〕により精製し、
目的物86mg（収率88％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1750（Sh），1740，
1695 比旋光度 〔α〕²⁵ _D−50゜（Ｃ＝1.04，CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.03（3H，
ｓ），0.06（3H，ｓ）、0.85（9H，ｓ）、1.18（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.85（3H，br.s）、2.86（1H，dd，
Ｊ＝15，７Hz）、3.00（1H，dd，Ｊ＝5.2.5Hz）、
3.20（1H，dd，Ｊ＝15，5.5Hz）、3.9〜4.6（2H，
ｍ）、4.78（1H，ｓ）、4.87（1H，br・ｓ）、5.02
（1H，br）、5.20（2H，ｓ）、7.36（5H，ｓ）、7.45
（2H，ｄ）、8.16（2H，ｄ） 参考例 25 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−（１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−
１−プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボ
ニルメチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオシエチル〕−１−〔（Ｒ）−１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチ
ル−２−プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）カ
ルボニルメチル〕−２−アゼチジノン86mgを塩化
メチレン1.5mlに溶かし、トリエチルアミン15mg
を加えて室温下１時間静置する。溶媒を留去して
得られる残留物をベンゼン−酢酸エチル（20：
１）混合溶媒に溶かし、シリカゲル1gのカラム
を通して精製する。目的物84mg（収率98％）を油
状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1750，1715（Sh.）
1625 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＋46゜〔Ｃ＝1.32，CHCl₃〕 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.00（3H，
ｓ）、0.05（3H，ｓ），0.86（9H，ｓ）、1.25（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.00（3H，ｓ）、2.20（3H，ｓ）、
2.90（1H，ｄ，Ｊ＝６，2.5Hz）、2.95（2H，ｄ，
Ｊ＝6.5Hz）、4.15（1H，ｍ）、4.40（1H，td，Ｊ＝
6.5，2.5Hz）、5.26（2H，ｓ）、7.33（5H，br.）、
7.52（2H，ｄ）、8.17（2H，ｄ） 参考例 26 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−４−
〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼ
チジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−１−〔（Ｒ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メ
チル−２−プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン64mg
（0.104mmole）をアセトニトリル1.5mlに溶かし、
−15℃で撹拌しながら三弗化ホウ素エーテル錯体
15mg（0.106mmole）を加える。30分後反応液に
酢酸エチルを加えて希釈し、希重曹水で洗う。溶
媒を減圧下留去し、得られる残留物をシリカゲル
の薄層クロマトグラフイー〔ベンゼン−酢酸エチ
ル（２：３）〕で精製して、目的物48mg（収率92
％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3480，1748，1720
（Sh.），1700（Sh.），1625 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.26（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.99（3H，ｓ）、2.23（3H，ｓ），
〜2.95（1H，ｍ）、2.97（2H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.9
−4.5（2H，ｍ）、5.24（2H，ｓ）、7.35（5H，br.
s）、7.49（2H，ｄ）、8.17（2H，ｄ） 参考例 27 （3S，4R）−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕−４−〔（フエニルチオ）
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−４−
〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼ
チジノン44mg（0.088mmole）を塩化メチレン２
mlに溶かし、０℃で撹拌しながら、４−ジメチル
アミノピリジン32mg（0.26mmole）ついでｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルクロリド57mg
（0.26mmole）を加える。同温度で３時間撹拌し
たのち、希重曹水にあけてクロロホルムで抽出す
る。クロロホルム層を希塩酸、希重曹水で順次洗
い、乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲル
の薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒：ベンゼン
−酢酸エチル（３：１）〕により精製して目的物
21mg（収率35％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1756，1720（Sh.），
1700（Sh.），1625 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.41（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.96（3H，ｓ）、2.23（3H，ｓ）、
2.91（2H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.11（1H，dd，Ｊ＝
8.5，2.5Hz）、4.31（1H，td，Ｊ＝6.5，2.5Hz）、
5.08（2H，ｓ）、5.23（2H，ｓ）、5.1（1H，ｍ）、
7.32（5H，ｓ）、7.39（2H，ｄ）、7.49（2H，ｄ）、
8.15（4H，ｄ） 参考例 28 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリル）−４−〔（フ
エニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジ
ノン （3S，4R）−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペ
ニル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−〔（フ
エニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチ
ジノン97mgを塩化メチレン10mlに溶かし、−78
℃でオゾンを吹き込む。反応液が青味を帯びた
ら、窒素ガスを吹き込んで過剰のオゾンを追い
出す。ジメチルスルフイド0.1mlを加えて反応
液を約５分間で室温に戻した後、減圧下濃縮す
る。残留物をベンゼンに溶かし２回水洗し、乾
燥後溶媒を留去して、目的物93mg（収率100％）
を固体として得た。ベンゼン−酢酸エチル混合
溶媒より再結晶をおこない融点129−130℃を有
する純品を得た。 元素分析値 C₃₀H₂₅O₁₂N₃Sとして 計算値：Ｃ，55.30；Ｈ，3.87；Ｎ，6.45；Ｓ，
4.92 実測値：Ｃ，55.49；Ｈ，3.92；Ｎ，6.30；Ｓ，
4.87 IRスペクトル ν^nujol _naxcm^-1：1810，1748，1728，
1700，1690（Sh.） 比旋光度 〔α〕²⁵ _D−48゜（Ｃ＝1.02，CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.43（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.12（1H，dd，Ｊ＝16，８Hz）、
3.53（1H，dd，Ｊ＝16，４Hz）、3.66（1H，dd，
Ｊ＝７，3.5Hz）、4.55（1H，ｍ）、5.11（2H，ｓ）、
5.35（2H，ｓ）、〜5.2（1H，ｍ）、7.52（4H，ｄ）、
8.12（2H，ｄ）、8.16（2H，ｄ） （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４
−〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−
アゼチジノン1.00g（2.25mmole）を塩化メチレ
ン20mlに溶かし、０℃で撹拌しながらジイソプ
ロピルエチルアミン350mg（2.71mmole）つい
でｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリ
ド660mg（2.71mmole）を加える。15分後さら
にジイソプロピルエチルアミン230mg
（1.78mmole）とｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリルクロリド433mg（1.78mmole）を加え
て15分間同温度で撹拌する。反応終了後、
0.1M−リン酸緩衝液（PH7.1）30mlを加えて有
機層を分離し、水層をさらにクロロホルムで抽
出する。有機層を一諸にし溶媒を留去する。残
留物をベンゼン−酢酸エチル（１：１）混合溶
媒50mlに溶かし0.02N−塩酸、水、５％重曹
水、飽和食塩水の順に洗浄する。乾燥後、溶媒
を留去して結晶性の目的物1.47g（収率100％）
を得た。ベンゼン−酢酸エチル混合溶媒から再
結晶をおこない融点129−130℃を有する純品を
得た。 参考例 29 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリ
イソプロポキシホスホラニリデンメチル〕−４−
〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼ
チジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシオキサリル）−４−〔（フ
エニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジ
ノン147mg（0.225mmole）と亜リン酸トリイソプ
ロピル234mg（1.13mmole）をベンゼン３mlに溶
かし、窒素気流下70℃で1.5時間撹拌する。溶剤
を留去して得られる残留物をローバーカラムＡ
（E.メルク社製）を用いて精製する。ベンゼン−
酢酸エチル（３：１）混合溶剤で溶出して目的物
161mg（収率85％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1748，1700，1630 参考例 30 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル〕
−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−１−プロペニル〕−２−アゼチ
ジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔２−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチ
オ〕カルボニルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−
プロペニル〕−２−アゼチジノン150mg
（0.198mmole）をアセトニトリル５mlに溶かし、
氷冷撹拌下三弗化ホウ素エーテル錯体28mg
（0.197mmole）を加える。20分後、反応液に酢酸
エチル10mlを加え重曹水で洗浄する。乾燥後、溶
媒を留去して目的物125mg（収率98％）を油状物
として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3450，3400，1747，
1720，1700（Sh.），1680 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.25（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.94（3H，ｓ）、2.18（3H，ｓ）、
2.5〜3.6（7H，ｍ）、3.8−4.5（2H，ｍ）、5.13（2H，
ｓ）、5.22（2H，ｓ）、5.4（1H，br）、7.42（2H，
ｄ）、7.50（2H，ｄ）、8.14（4H，ｄ） 参考例 31 （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル〕
−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−１−プロペニル〕−２−アゼチ
ジノン125mg（0.194mmole）を塩化メチレン４ml
に溶かし、０℃で撹拌しながら４−ジメチルアミ
ノピリジン71mg（0.58mmole）ついでｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロリド126mg
（0.58mmole）を加える。反応液を室温にして１
時間撹拌する。塩化メチレンを加えて希釈し、飽
和食塩水で洗浄して溶媒を留去する。残留物をロ
ーバーカラムＢを用いて精製する。ヘキサン−酢
酸エチル（２：３）混合溶媒で溶出して目的物82
mg（収率51％）を油状物として得た。IRおよび
NMRスペクトルは実施例11で述べる化合物のそ
れと一致した。 参考例 32 （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチ
ジノン （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル〕−２−アゼチジノン31mgを
塩化メチレン15mlに溶し−78℃でオゾンを５分間
通じる。同温度で15分間静置した後、窒素ガスを
通じて過剰のオゾンを追い出す。ジメチルスルフ
イド50mgを加えて反応液を約10分間で室温にした
のち、溶媒を留去する。残留物をベンゼンに溶か
し、２回水洗したのち乾燥し減圧下溶媒を留去し
て目的物27mg（収率90％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1808，1749，1718
（br）、1700（Sh.），1682（Sh.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.40（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.7−3.7（7H，ｍ）、4.5（1H，
ｍ）、5.13（2H，ｓ）、5.19（2H，ｓ）、5.35（2H，
ｓ）、4.9−5.4（2H，ｍ）、7.43（2H，ｄ）、7.46
（2H，ｄ）、7.50（2H，ｄ）、8.15（2H，ｄ）、8.17
（4H，ｄ） 参考例 33 （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイ
ソプロポキシホスホラニリデンメチル〕−２−ア
ゼチジノン （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチ
ジノン165mg（0.207mmole）と亜リン酸トリイソ
プロピル215mg（1.04mmole）をトルエン３ml中、
窒素気流下80℃で1.5時間加熱撹拌する。溶剤を
留去して得られる残留物をローバーカラムＡ（E.
メルク社製）を用いて精製する。ベンゼン−酢酸
エチル（１：１）混合溶剤で溶出して、目的物
182mg（収率89％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3450，1745（br.），
1682，1632 参考例 34 （5R.6S）−２−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ）エチルチオ〕−６−〔（Ｒ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕カルバペン−２−エム−３−カル
ボン酸Ｐ−ニトロベンジルエステル （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（Ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイ
ソプロピルオキシホスホラニリデンメチル〕−２
−アゼチジノン48mgとハイドロキノン３mgをキシ
レン５ml中、窒素気流下120℃で13時間加熱する。
キシレンを減圧下留去して得られる残留物をロー
バーカラムＡを用いて精製する。クロロホルム−
酢酸エチル（２：１）混合溶媒で溶出して得られ
る粗結晶をベンゼン−酢酸エチルから再結晶して
融点148−150℃の無色プリズム晶19mg（収率51
％）を得た。 元素分析値 C₃₄H₃₁O₁₆N₅Sとして 計算値：Ｃ，53.33；Ｈ，4.08；Ｎ，9.15；Ｓ，
4.19 実測値：Ｃ，53.19；Ｈ，4.07；Ｎ，9.13；Ｓ，
4.43 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3450，1780，1740
（Sh.），1718，1700（Sh.） 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＋66゜（Ｃ＝0.81，CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.47（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.7〜3.7（7H，ｍ）、4.20（1H，
ｍ）、〜5.1（1H，ｍ）、5.16（2H，ｓ）、5.22（2H，
ｓ）、5.18（1H，ｄ，Ｊ＝14Hz）、5.47（1H，ｄ，
Ｊ＝14Hz）、7.45（2H，ｄ）、7.49（2H，ｄ）、7.60
（2H，ｄ）、8.20（6H，ｄ） 参考例 35 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジ
ン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−〔１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−
メチル−１−プロペニル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カ
ルボニルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペ
ニル〕−２−アゼチジノン511mg（0.62mmole）を
アセトニトリル20mlに溶かし、氷冷撹拌下三弗化
ホウ素エーテル錯体176mg（1.24mmole）を加え
る。反応液を室温にして2.5時間後、酢酸エチル
を加えて希釈し重曹水で洗浄する。乾燥後溶媒を
留去して462mg（収率105％）の目的物を得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3500，1749，1718，
1674 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.24（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.94（3H，ｓ）、2.19（3H，ｓ）、
2.28（3H，ｓ）、1.7−2.5（2H，ｍ）、2.87（2H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.1〜4.5（8H，ｍ）、5.15（2H，
ｓ）、5.22（2H，ｓ）、7.49（2H，ｄ）、7.51（2H，
ｄ）、8.13（2H，ｄ）、8.17（2H，ｄ） 参考例 36 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピレリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−
〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−
２−メチル−１−プロペニル〕−２−アゼチジノ
ン56mg（0.079mmole）を塩化メチレン1.5mlに溶
かし、０℃で撹拌しながら４−ジメチルアミノピ
リジン29mg（0.24mmole）ついでｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルクロリド51mg
（0.24mmole）を加える。反応液を室温に戻して
３時間撹拌する。塩化メチレンを加えて希釈し、
食塩水で洗浄する。乾燥後溶媒を留去し、得られ
る残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラ
フイー〔展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル（１：
５）〕で精製して目的物30mg（収率43％）を油状
物として得た。出発原料８mg（14％）が回収され
た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1756，1720（Sh.），
1677 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.41（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.94（3H，ｓ）、2.21（3H，ｓ）、
2.27（3H，ｓ）、1.7−2.5（2H，ｍ）、2.81（2H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.06（1H，dd，Ｊ＝7.5，２Hz）、
3.2〜4.0（5H，ｍ）、4.26（1H，td，Ｊ＝6.5，２
Hz）、〜5.1（1H，ｍ）、5.18（4H，ｓ）、5.23（2H，
ｓ）、7.46（2H，ｄ）、7.50（4H，ｄ）、8.13（2H，
ｄ）、8.16（4H，ｄ） 参考例 37 （3R，4R）−１−〔ヒドロキシ（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）メチル〕−４−〔〔（Ｓ）
−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチ
オ〕カルボニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノ
ン950mg（1.45mmole）、ｐ−ニトロベンジルグリ
オキシレート水和物492mg（2.17mmole）、モレキ
ユラーシーブー4A，9g、トリエチルアミン18mg
（0.17mmole）、テトラヒドロフラン20mlの混合物
を室温で３時間撹拌する。反応終了後、反応液を
過し、液より溶媒を留去する。得られた残留
物をローバーカラムＢを用いて精製する。ベンゼ
ン−酢酸エチル（１：５）混合溶媒で溶出して目
的物970mg（収率77％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3400，1748，1675 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.37（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、2.27（3H，
ｓ）、2.7−3.2（3H，ｍ）、3.3〜4.3（9H，ｍ）、
5.15and5.27（2H，ｓ）、5.19（4H，ｓ）、4.8−5.6
（2H，ｍ）、7.51（4H，ｄ）、7.53（2H，ｄ）、8.17
（2H，ｄ）、8.20（4H，ｄ） 参考例 38 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔ｐ−ニトロ
ベンジルオキシオキサリル〕−２−アゼチジノン （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミド
イル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニル
メチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノ
ン34mg（0.038mmole）を塩化メチレン10mlに
溶かし、−78℃でオゾンを３分間吹き込む。同
温度で10分間静置したのち窒素ガスを吹き込ん
で過剰のオゾンを追い出す。ジメチルスルフイ
ド50mgを加えて反応液を約10分間で室温に戻
し、氷−水にあける。クロロホルム層を分離し
水洗乾燥後溶媒を留去して目的物33mg（収率
100％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1810，1753，1682
（br.） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.42（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.8−2.5（2H，ｍ）、2.26（3H，
ｓ）、2.8〜4.2（8H，ｍ）、〜4.5（1H，ｍ）、5.17
（2H，ｓ）、5.21（2H，ｓ）、5.37（2H，ｓ）、〜5.2
（1H，ｍ）、7.52（6H，br，ｄ）、8.15（2H，ｄ）、
8.19（4H，ｄ） 塩化メチレン５mlにオキサリルクロリド10mg
（0.87mmole）を溶かし、窒素気流下−78℃で
ジメチルスホキシド137mg（1.75mmole）を加
える。10分間撹拌したのち（3R，4R）−１−
〔ヒドロキシ（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）メチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイ
ミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボ
ニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−２
−アゼチジノン500mg（0.577mmole）を塩化メ
チレン５mlに溶かした溶液を約２分間で加え
る。５分間撹拌した後、トリエチルアミン250
mg（2.48mmole）を加えさらに15分間撹拌す
る。0.1Mリン酸緩衝液（PH7.1）約30mlを加え
て撹拌し、塩化メチレンで抽出する。無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を留去する。得られ
た残留物をシリカゲル10gを用いるカラムクロ
マトグラフイーに付す。ベンゼン−酢酸エチル
（２：１〜１：１）混合溶媒で手早く溶出して
目的物350mg（収率70％）を油状物として得た。
IRおよびNMRスペクトルは上で得られた化合
物のそれと一致した。 参考例 39 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロ
ポキシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジ
ノン （3S，4R）−４〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−ルチオ〕カルボニルメチル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン430mg
（0.497mmole）、亜リン酸トリイソプロピル517mg
（2.49mmole）をトルエン10mlに溶かし、窒素気
流下90℃で２時間加熱する。溶媒を減圧下留去し
て得られる残留物をローバーカラムを用いて精製
する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール
（30：10：１）混合溶媒で溶出して目的物447mg
（収率85％）を油状物として得た。IRおよび
NMRスペクトルは実施例13で述べる化合物のそ
れと一致した。 参考例 40 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐニ
トロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロポ
キシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジノ
ン100mg、ハイドロキノン６mgをトルエン10ml中、
窒素気流下110℃で24時間加熱する。減圧下トル
エンを留去して得られる残留物を、ローバーカラ
ムＡを用いる液体クロマトグラフイーで分離精製
する。クロロホルム−酢酸エチル−メタノール
（10：30：１）混合溶媒で溶出し、目的物41mg
（収率52％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1780，1744，1690
（Sh.），1676 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＋68゜（Ｃ＝0.17，CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.48（3H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.31（3H，ｓ）、1.8〜2.6（2H，
ｍ）、3.0〜4.5（9H，ｍ）、5.16（2H，ｓ）、5.20
（2H，ｓ）、5.14（1H，ｄ，Ｊ＝14Hz）、5.43（1H，
ｄ，Ｊ＝14Hz）、〜5.2（1H，ｍ）、7.50（4H，ｄ）、
7.57（2H，ｄ）、8.17（6H，ｄ） 参考例 41 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−（アセトイミドイ
ル）ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１
−ヒドロキシエチル〕カルバペン−２−エム−３
−カルボン酸 （5R.6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル485mgをテトラヒ
ドロフラン25mlおよび0.1M−リン酸緩衝液（PH
7.1）25mlの混合溶液に溶かし、10％パラジウム
−炭素1.4gを加え、常圧水素下、70分間撹拌す
る。反応終了後、触媒を過して除き、液に上
記緩衝液15mlを加えて酢酸エチルで洗浄する。水
層を室温減圧下、約1/2まで濃縮したのち、
HP20AG（三菱化成社製）15mlを用いるカラムク
ロマトグラフイーに付し、３％アセトン−水で溶
出するフラクシヨンを集め、凍結乾燥をおこなつ
て白色粉末状の目的物115mg（収率58％）を得た。
IRスペクトル ν^KBr _naxcm^-1：3400，1760，1675 NMRスペクトル（D₂O）δppm：1.29（3H，ｄ，
Ｊ＝6.5Hz）、1.8〜2.7（2H，ｍ）、2.29（3H，ｓ）、
3.22（2H，ｄ，Ｊ＝9.5Hz）、3.3〜4.4（8H，ｍ） 参考例 42 （5R，6S）−２−〔（Ｒ）−１−（アセトイミドイ
ル）ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１
−ヒドロキシエチル〕カルバペン−２−エム−３
−カルボン酸 実施例14で述べる（3S，4R）−４−〔〔（Ｒ）−１
−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕
カルボニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−
１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）トリイソプロポキシホスホラニリデンメチ
ル〕−２−アゼチジノンを参考例40で述べた方法
にしたがつて環化反応に付し、得られた（5R，
6S）−２−〔（Ｒ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕
カルバペン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニ
トロベンジルエステルを参考例41で述べた方法に
よつて保護基を除去し、融点208〜210℃（分解）
を有する白色結晶の目的物に導いた。 IRスペクトル ν^KBr _naxcm^-1：3400，1760，1675 NMRスペクトル（D₂O）δppm：1.29（3H，ｄ，
Ｊ＝6.5Hz）、1.8〜2.7（2H，ｍ）、2.29（3H，ｓ）、
2.9〜4.4（10H，ｍ） 参考例 43 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（トリメチルシリ
ルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシオキザリル）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル〕アセトイミド
イル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン 実施例15で得られたアゼチジノン体2.0g
（3.63mM）に乾燥塩化メチレン30mlを加えてと
かし−30℃に冷却する。これに撹拌しながらトリ
エチルアミン1.01ml（7.26mM）を加え、ついで
ｐ−ニトロベンジルオキシオキザリルクロライド
1.5g（6.15mM）を乾燥塩化メチレン15mlにとかし
た溶液を滴加する。滴加に10分を要する。滴加後
同温度で15分撹拌を続け、溶媒を減圧で留去し、
残留物にベンゼン50mlを加え、不溶物（トリエチ
ルアミン塩酸塩）を去し、液を濃縮し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトに附し、ベンゼ
ン：酢酸エチル（２：１）で溶出し目的物のフラ
クシヨンを集め、濃縮、乾燥すると目的物2.26g
が油状物として得られた。（収率82％） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.07（9H，
Ｓ）、1.18（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.28（3H，Ｓ）
1.6〜2.7（2H，ｍ）2.8〜4.8（10H，ｍ）5.18（2H，
Ｓ）5.38（2H，Ｓ）7.30〜8.30（8H，ｍ） 参考例 44 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（トリメチルシリ
ルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリル）−４−〔〔（Ｒ）−１−〔Ｎ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル〕アセトイミド
イル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン 実施例16で得られたアゼチジノン体2.0g
（3.63mmol）を参考例43の場合と同様に反応せし
め、処理すると、目的物2.21gが油状物として得
られた。（収率80.3％） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.07（9H，
Ｓ）、1.20（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）2.30（3H，Ｓ）
1.8〜2.55（2H，ｍ）、3.0〜4.90（10H，ｍ）5.20
（2H，Ｓ）、5.40（2H，Ｓ）7.40〜8.37（8H，ｍ） 参考例 45 （5R，6S）−２−〔（Ｒ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１
−（トリメチルシリルオキシ）エチル〕カルバペ
ン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベン
ジルエステル 参考例44で得られたアゼチジノン体1.0g
（1.32mmol）、に亜リン酸トリエチル1.37ml
（7.9mmol）、およびトルエン80mlを加え15時間撹
拌還流する。ついで冷却し、溶媒を減圧留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトに附し、ベン
ゼン−酢酸エチル（１：２）混合溶媒で溶出して
目的物817mg（収率85.3％）が油状物として得ら
れた。これにイソプロピルエーテルを加えると結
晶化する。この結晶を集乾燥すると融点146〜
149℃を有する純品を得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1700，1680， NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.14（9H，
Ｓ）1.27（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.26（3H，Ｓ）、
1.7〜2.6（2H，ｍ）、2.8〜4.4（10H，ｍ）、5.15
（2H，Ｓ）、5.16（1H，ｄ，Ｊ＝14Hz）、5.40（1H，
ｄ，Ｊ＝14Hz）、7.47（2H，ｄ）、7.56（2H，ｄ）、
8.13（4H，ｄ） 参考例 46 （5R，6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−（Ｒ）−１
−（トリメチルシリルオキシ）エチル〕カルバペ
ン−２−エム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジ
ルエステル 参考例43で得られたアゼチジノン体1.0g
（1.32mmol）を参考例45と同様に反応せしめ、同
様に処理すると目的物824mgが油状物として得ら
れる。収率86％、これをベンゼン−イソプロピル
エーテルより再結晶すると融点95〜96℃を有する
純品が得られる。 〔α〕Ｄ：＋79゜（Ｃ＝0.72，CHCl₃） IR ν^nujol _naxcm^-1：1781，1693，1670 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.15（9H，
Ｓ）、1.27（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.28（3H，Ｓ）、
1.9〜2.6（2H，ｍ）3.0〜4.5（10H，ｍ）、5.17（2H，
Ｓ）5.18（1H，ｄ、Ｊ＝13.5Hz）、5.44（1H，ｄ，
Ｊ＝13.5Hz）、7.51，7.60（2H各ｄ）、8.17（4H，
ｄ） 実施例 １ （3S，4R）−１−〔ｐ−メトキシベンジル〕−４
−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３
−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）
エチル〕−２−アゼチジノン 参考例７で得られたアゼチジノン体219mg
（0.39mmol）を乾燥塩化メチレン５mlに溶解さ
せ、室温下撹拌し、（Ｓ）−３−メルカプト−１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン250mg（0.77mmol）
を添加し、さらに触媒量のトリエチルアミンを添
加後、同温にて一夜反応させる。反応終了後、溶
媒を留去し、ローバーカラムに付し、酢酸エチル
で溶出すると、目的とするアゼチジノン体276mg
（91.5％）が得られた。 C₃₇H₃₉N₅O₁₂S NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.39（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、
2.25（3H，Ｓ）、2.6〜2.8（2H，ｍ）、3.1（1H，br.
d，Ｊ＝８Hz）、3.2〜4.0（6H，ｍ）、3.73（3H，
Ｓ）、4.10（1H，ｄ，Ｊ＝15Hz）、4.50（1H，ｄ，
Ｊ＝15Hz）、4.9〜5.3（1H，ｍ）、5.19（2H，Ｓ）、
5.22（2H，Ｓ）、6.75（2H，ｄ）、7.10（2H，ｄ）、
7.50（4H，ｄ）、8.15（2H，ｄ）、8.20（2H，ｄ） 実施例 ２ （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノ
ン 参考例８で得られたアゼチジノン体115mg
（0.26mmol）を乾燥塩化メチレン５mlに溶解し、
（Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン125mg（0.386mmol）を添加し、室温に
て撹拌下、トリエチルアミン触媒量を加えて、一
夜撹拌反応させる。 反応終了後、溶媒を留去しローバーカラムによ
り、酢酸エチルで溶出すると目的とするアゼチジ
ノン化合物が168mg（98.0％）得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.42（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.28（3H，Ｓ）、1.5
〜2.6（2H，ｍ）、2.90（2H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、3.05
（1H，br.d，Ｊ＝７Hz）、3.2〜4.2（6H，ｍ）、4.9
〜5.3（1H，ｍ）5.18（2H，ｓ）、5.22（2H，ｓ）、
6.7（1H，ｓ）、7.4〜8.3（8H，ｍ） 実施例 ３ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕−１−〔ｐ−メトキシベ
ンジル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−
２−アゼチジノン 参考例15で得られたアゼチジノン体461mg
（0.98mol）を乾燥塩化メチレン５mlに溶解し、
（Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン969mg（3mmol）を添加し、さらに触媒
量のトリエチルアミンを添加後、室温下一夜放置
する。 反応終了後、溶媒を留去し残査をローバーカラ
ムクロマトに付し、酢酸エチルで溶出すると目的
とするアゼチジノン546mg（76.7％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.38（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.27（3H，Ｓ）、1.7
〜2.6（2H，ｍ）、2.6〜2.9（2H，ｍ）、3.1（1H，br.
d，Ｊ＝７Hz）、3.2〜4.5（6H，ｍ）、3.76（3H，
Ｓ）、4.5〜4.7（2H，ｍ）、4.85〜5.20（1H，ｍ）、
4.80〜5.50（2H，ｍ）、5.6〜6.2（1H，ｍ）、6.82
（2H，ｄ）、7.52（2H，ｄ）、8.15（2H，ｄ） 実施例 ４ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（アリルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カル
ボニルメチル〕−２−アゼチジノン 参考例16で得られたアゼチジノン体115mg
（0.26mmol）、（Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセト
イミドイル〕ピロリジン125mg（0.386mmol）を
乾燥塩化メチレン５mlに溶解し、触媒量のトリエ
チルアミンを添加後、室温下一夜反応させる。溶
媒を留去し、ローバーカラムクロマトに付し、酢
酸エチルで溶出すると、目的とするアゼチジノン
体168mg（98％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm： 1.38（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.26（3H，Ｓ）、1.8
〜2.6（2H，ｍ）、2.7〜3.0（2H，ｍ）、3.0（1H，br.
d，Ｊ＝6.5Hz）、3.2〜4.2（6H，ｍ）、4.5〜4.7
（2H，ｍ）、4.9〜5.1（1H，ｍ）、5.12（2H，Ｓ）、
5.1〜5.4（2H，ｍ）、5.6〜6.1（1H，ｍ）、6.17（1H，
br.S）、7.48（2H，ｄ）8.15（2H，ｄ） 実施例 ５ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルピロリジ
ン−３−イル）チオカルボニルメチル〕−２−ア
ゼチジノン 参考例17で得られたアゼチジノン体191mg
（0.50mmol）を乾燥塩化メチレン５mlに溶解さ
せ、室温下撹拌し、（Ｓ）−３−メルカプト−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン159mg（0.56mmol）を添加し、さらに触媒量
のトリエチルアミンを添加後、リフラツクスにて
3hr反応させたのち一夜反応させる。反応終了後、
溶媒を留去し、残査を酢酸エチル40mlに溶解し、
水（10ml×２）、飽和食塩水で順次、洗浄後、硫
酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを
去し、酢酸エチルを減圧にて留去し、得られた
油状物をローバーカラムクロマトに付し、酢酸エ
チルで溶出すると、目的とするアゼチジノン体
253mg（91.2％）が得られた。 C₂₅H₃₇N₃O₇SSi 融点98〜100℃ NMRスペクトル δppm： 0.08（6H，Ｓ）、0.88（9H，Ｓ）、1.19（3H，ｄ，
Ｊ＝６Hz）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、2.7〜3.0（2H，
ｍ）、3.53（2H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、3.2〜4.4（6H，
ｍ）、5.19（2H，Ｓ）、6.15（1H，br.S）、7.42（2H，
ｄ）、8.20（2H，ｄ） IRスペクトル（KBr）cm^-1： 1600，1700，1770，3000〜3300 実施例 ６ （3S，4R）−３−（Ｒ−１−tert−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル、ピロリジン−３−イル〕チオカル
ボニルメチル〕−２−アセチジノン 参考例17で得られたアゼチジノン体382mg
（1.01mmol）を乾燥塩化メチレン10mlに溶解さ
せ、室温下撹拌し、（Ｓ）−３−メルカプト−１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン357mg（1.10mmol）
を添加し、さらに触媒量のトリエチルアミンを添
加後、同温にて2hr反応させたのち、3hrリフラツ
クスさせる。反応終了後、溶媒を留去し、残渣を
酢酸エチル40mlに溶解し水（10ml×２）、飽和食
塩水で順次、洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。硫酸マグネシウムを去し、酢酸エチルを減
圧にて留去し、得られた油状物をローバーカラム
クロマトに付し、酢酸エチルで溶出すると目的と
するアゼチジノン体514mg（86.1％）が得られた。 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.09（6H，
Ｓ）、0.88（9H，Ｓ）、1.20（3H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、
2.29（3H，Ｓ）、1.5〜2.5（2H，ｍ）、2.7〜3.0（2H，
ｍ）、3.3〜4.4（8H，ｍ）、5.18（2H，Ｓ）、6.27
（1H，br.s）、7.52（2H，ｄ）、8.17（2H，ｄ） IRスペクトル cm^-1：（KBr） 1600，1640，1690，1760，3050〜3500 実施例 ７ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−
３−イル）チオカルボニルメチル−２−アゼチジ
ノン 参考例22で得られたチアゾリジン誘導体244mg
を（Ｓ）−３−メルカプト−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）ピロリジン256mgを５ml
の塩化メチレンに溶解し、トリエチルアミン10mg
を加え、10時間室温にて撹拌。塩化メチレンを加
え、水洗、希重曹水にて洗滌。水洗後MgSO₄に
て乾燥。溶媒留去後、シクロヘキサン：酢酸エチ
ル＝１：１にてRf＝0.5に対応する所望の首記化
合物260mgを得た。NMRスペクトルは実施例５
で得られた化合物のそれに一致した。 実施例 ８ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ）エチル〕−４−〔（Ｓ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イル〕チオカルボニルチル−２−アゼ
チジノン 実施例17と全く同様の実験操作により参考例23
で得られたオキサゾリジン誘導体250mgと（Ｓ）−
３−メルカプト−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）ピロリジン300mgより所望の首記
化合物120mgを得た。NMRスペクトルは実施例
５で得られた化合物のそれに一致した。 実施例 ９ （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔２−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチ
オ〕カルボニルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−
プロペニル〕−２−アゼチジノン 参考例25で得られた（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−
１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−１−プロペニル〕−４−〔（フエ
ニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノ
ン166mg（0.249mmole）、２−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）エタンチオール139
mg（0.54mmole）、トリエチルアミン55mg
（0.54mmole）を塩化メチレン38mlに溶かし、窒
素雰囲気下室温で一晩静置する。減圧下溶媒を留
去して得られる残留物をローバーカラムＢを用い
て精製する。ヘキサン−酢酸エチル（１：２）混
合溶媒で溶出して目的物156mg（収率76％）を油
状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3460，1748，1720，
1685 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.00（3H，
ｓ）、0.04（3H，ｓ）、0.84（9H，ｓ）、1.21（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.95（3H，ｓ）、2.15（3H，ｓ）、
2.87（2H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.8〜3.5（5H，ｍ）、
4.13（1H，ｍ）、4.35（1H，td，Ｊ＝6.5，2.5Hz）、
5.14（2H，ｓ）、5.24（2H，ｓ）、5.37（1H，br.）、
7.43（2H，ｄ）、7.51（2H，ｄ）、8.13（2H，ｄ）、
8.17（2H，ｄ） 実施例 10 （3S，4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カ
ルボニルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペ
ニル〕−２−アゼチジノン 参考例25で得られた（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−
１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕
−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−１−プロペニル〕−４−〔（フエ
ニルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノ
ン491mg（0.802mmole）、（Ｓ）−３−メルカプト
−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アセトイミドイル〕ピロリジン518mg
（1.60mmole）、トリエチルアミン162mg
（1.60mmole）を塩化メチレン10mlに溶かし、窒
素雰囲気下室温で1.5時間静置する。減圧下溶媒
を留去して得られる残留物をローバーカラムＢを
用いて精製する。ベンゼン−酢酸エチル（２：
３）混合溶媒で溶出して目的物511mg（収率77％）
を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1747，1720，1676 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.00（3H，
ｓ）、0.04（3H，ｓ）、0.85（9H，ｓ）、1.20（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.94（3H，ｓ）、2.16（3H，ｓ）、
2.26（3H，ｓ）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、2.82（2H，br.
d，Ｊ＝７Hz）、3.1〜4.5（8H，ｍ）、5.14（2H，
ｓ）、5.22（2H，ｓ）、7.46（2H，ｄ）、7.49（2H，
ｄ）、8.10（2H，ｄ）、8.14（2H，ｄ） 実施例 11 （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン 参考例27で得られた（3S，4R）−１−〔１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチ
ル−１−プロペニル〕−３−〔（Ｒ）−１−（Ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕
−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２
−アゼチジノン21mg（0.032mmole）、２−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）エタン
チオール16mg（0.063mmole）、トリエチルアミン
６mg（0.06mmole）を塩化メチレン0.4mlに溶か
し窒素雰囲気下室温で３時間静置する。反応液を
クロロホルムでうすめ水洗する。乾燥後溶媒を留
去し残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグ
ラフイー〔展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル
（２：３）〕で精製し、目的物17mg（収率66％）を
油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3460，1753，1721，
1700（Sh.），1682 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＋85°（Ｃ＝0.86，CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.42（3H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.97（3H，ｓ）、2.23（3H，ｓ）、
2.84（2H，ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、2.7〜3.7（5H，ｍ）、
4.27（1H，td，Ｊ＝6.5，２Hz）、4.8〜5.5（2H，
ｍ）、5.16（2H，ｓ）、5.19（2H，ｓ）、5.23（2H，
ｓ）、7.46（4H，br.d）、7.51（2H，ｄ）、8.18（6H，
ｄ） 実施例 12 （3S，4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニ
ルメチル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイ
ソプロポキシホスホラニリデンメチル〕−２−ア
ゼチジノン 参考例29で得られた（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ
シ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）トリイソプロポキシホスホラニ
リデンメチル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン52mg
（0.062mmole）、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）エタンチオール32mg
（0.125mmole）、トリエチルアミン13mg
（0.13mmole）を塩化メチレン１mlに溶かし、窒
素雰囲気下室温で24時間静置する。減圧下溶媒を
留去し、ローバーカラムＡを用いる液体クロマト
グラフイーで分離精製する。ベンゼン−酢酸エチ
ル（１：１）混合溶媒で溶出し、目的物48mg（収
率79％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：3450，1745（br.），
1682，1632 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.33（18H，
ｄ，Ｊ＝６Hz）、1.42（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.7〜
3.5（7H，ｍ）、3.5〜4.2（1H，ｍ）、4.3〜5.4（5H，
ｍ）、5.12（4H，ｓ）、5.18（2H，ｓ）、7.43（6H，
ｍ）、8.16（6H，ｄ） 実施例 13 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロ
ポキシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジ
ノン 参考例29で得られた（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ
シ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）トリイソプロポキシホスホラニ
リデンメチル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン756mg
（0.896mmole）、（Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル〕ピロリジン580mg（0.180mmole）、
トリエチルアミン181mg（0.179mmole）を塩化メ
チレン14mlに溶かし、窒素雰囲気下室温で１晩静
置する。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ル20gのカラムクロマトグラフイーに付す。ベン
ゼン−酢酸エチル（１：１〜１：10）混合溶媒で
溶出して得られる粗生成物を次にローバーカラム
Ｂで精製する。クロロホルム−酢酸エチル−メタ
ノール（10：30：１）混合溶媒で溶出して目的物
489mg（収率51％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1750，1675，1630 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.35（18H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.43（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.24
（3H，ｓ）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、2.6〜3.1（2H，
ｍ）、3.1〜4.2（7H，ｍ）、4.4〜5.3（4H，ｍ）、
5.13（4H，ｓ）、5.18（2H，ｓ）、7.45（2H，ｄ）、
7.48（4H，ｄ）、8.13（6H，ｄ） 実施例 14 （3S，4R）−４−〔〔（Ｒ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチ
ル〕−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロ
ポキシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジ
ノン 参考例29で得られた（3S，4R）−３−〔（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ
シ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）トリイソプロポキシホスホラニ
リデンメチル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニ
ルメチル〕−２−アゼチジノン325mg
（0.385mmole）、（Ｒ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル〕ピロリジン248mg（0.77mmole）、
トリエチルアミン78mg（0.77mmole）を塩化メチ
レン６mlに溶かし、窒素雰囲気下室温で一晩静置
する。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
10gのカラムクロマトグラフイーに付す。ベンゼ
ン−酢酸エチル（１：10）混合溶媒で溶出して得
られる粗生成物をついでローバーカラムＢを用い
て精製する。クロロホルム−酢酸エチル−メタノ
ール（10：30：１）混合溶媒で溶出して目的物
231mg（収率56％）を油状物として得た。 IRスペクトル ν^CHCl3 _naxcm^-1：1750，1675，1635 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：1.35（18H，
ｄ，Ｊ＝6.5Hz）、1.43（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.24
（3H，ｓ）、1.7〜2.5（2H，ｍ）、2.6〜3.1（2H，
ｍ）、3.1〜4.2（7H，ｍ）、4.4〜5.3（4H，ｍ）、
5.13（4H，ｓ）、5.18（2H，ｓ）、7.45（2H，ｄ）、
7.48（4H，ｄ）、8.13（6H，ｄ） 実施例 15 （3S，4R）−４−〔〔（Ｓ）−１〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（トリメチルシリルオキシ）エ
チル〕−２−アゼチジノン 参考例18で得られたアゼチジノン体2.65g
（0.001モル）に乾燥塩化メチレン50mlを加え、氷
水浴中、撹拌下、トリエチルアミン3.47ml
（0.025モル）およびトリメチルシリルクロライド
3.14ml（0.025モル）を加え、30分撹拌を続ける。 反応終了後、析出したトリエチルアミン塩酸塩
を去し、液を減圧濃縮する。残留物にヘキサ
ン100mlを加え、更に析出した結晶を去し、
液を濃縮する。残留物に乾燥塩化メチレン40mlを
加えてとかし、これにトリエチンアミン2.1ml
（0.015モル）および（Ｓ）−３−メルカプト−１
−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕ピロリジン4.85g（0.015モル）
を添加し、室温で一夜撹拌反応せしめる。ついで
溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマ
トに附し、ベンゼン：酢酸エチル＝１：１で溶出
すると目的とするアゼチジノン体5.31gが得られ
た。（収率96.5％） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.01（9H，
Ｓ）、1.20（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.30（3H，Ｓ）、
1.80〜2.67（2H，ｍ）、2.70〜3.07（3H，ｍ）、3.23
〜4.37（6H，ｍ）、5.23（2H，Ｓ）、6.73（1H，Ｓ）、
7.63（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz）、8.27（2H，ｄ，Ｊ＝９
Hz） 実施例 16 （3S，4R）−４−〔〔（Ｒ）−１〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（トリメチルシリルオキシ）エ
チル〕−２−アゼチジノン 参考例18で得られたアゼチジノン体2.65g（0.01
モル）を用い、先の実施例15と同様にトリメチル
シリル化反応を行い、ついでトリエチルアミン
2.1ml（0.015モル）および（Ｒ）−３−メルカプ
ト−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）アセトイミドイル〕ピロリジン4.85g
（0.015モル）を添加し、同様に反応せしめ、処理
すると目的化合物5.25gが得られた。（収率95.3
％） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm：0.01（9H，
Ｓ）、1.21（3H，ｄ，Ｊ＝６Hz）、2.30（3H，Ｓ）、
1.80〜2.60（2H，ｍ）、2.77〜3.07（3H，ｍ）、3.36
〜4.37（6H，ｍ）、5.24（2H，Ｓ）、6.7（1H，Ｓ）、
7.60（2H，ｄ，Ｊ＝９Hz）、8.23（2H，ｄ，Ｊ＝９
Hz）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R¹は水素原子又は水酸基の保護基を、
   R²およびR³は同一又は異なる水素原子又は低級
   アルキル基を、Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原
   子又はセレニウム原子を、Ｘが窒素原子の場合は
   XR⁴が活性アミド基を、R⁴はアリール基又は芳
   香族複素環基を、R⁵は水素原子、アミド基の保
   護基、若しくは置換基を示す。〕を有する化合物
   に、一般式 R⁶SH （） 〔式中、R⁶はアルキル基、置換アルキル基、
   シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アル
   ケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置
   換アルキニル基、脂肪族複素環基、アラルキル
   基、アリール基又は芳香族複素環基を示す。〕を
   有する化合物を反応させることを特徴とする、 一般式 〔式中、R¹，R²，R³，R⁵，R⁶は前述したもの
   と同意義を示す。〕を有する化合物の製造法。