JPS6019764A - アゼチジノン誘導体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式（１）’を有する化合物に、一般式叩
を有する化合物を反応させ、一般式（２）を有する化合
物を得るアゼチジノン誘導体の製造法である。

（１）　ＧＩＤ 一般式（Ｉ）および（［［ＤＫおけるＲは水素原子又は
水酸基の保護基（水酸基の保護基としては特に限定はな
く一般的な水酸基の保護基を用いることができる。たと
えば、低級アルキル基（メチル、エチル、プロピル又は
イソプロピル基など）シリル基（トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル善、
ｔｅｒｔ、−ブチルジフェニルシリル番又ハトリフェニ
ルシリル基など）、アシル基（ホルミル、アセチル、ク
ロルアセチル、トリフルオルアセチル、プロリ ピオニル、ブチル、又はベンゾイル基など）、アラルキ
ル基（ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、０−ニトロベン
ジル、又はｐ−メトキシベンジル基ナト）、アルコキシ
カルボニル基（ベンジルオキ７カルボニル、ｐ−ブロム
ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、０−ニトロベンジルオキ７カルボニル、２
、２．２−　）　！Ｊ　クロルエトキクカルボニル、ア
リルオキ７カルボニル、２−クロルアリルオキシカルボ
ニル、２−メチルアリルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−
７’トキ７カルボニル、ジフェニルメチルカルボニルオ
キシメチルオキ７カルボニル基、又はエーテル基（テト
ラヒドロピラニル、メトキクメチル、１−エトキシエチ
ル、又け２−（トリメチルシリル）エトキシメチル＋Ｊ
など））である。

一般式（１）および師におけるＲ２およびＲ５は、同−
又は異なる水素１α子又は低級アルキルｍ　（ｆｃとえ
はメチル、エチル、プロピル、又はイソプロピル基なと
）である。

一般式（１）におけるＸは、酸素、窒素、硫政、若しく
はセレニウム原子、芙耕Ｘが留水原子である場合には、 は硫黄原子を示す〕である。

一般式（１）におけるＲ４は、置換基を有してもよいア
リール基（たとえば、フェニル、１−１−７チル、又は
２−ナフチル基など）、置換基を有してもよい芳香族複
素環基（たとえば、ピリジル、ピリミジル、トリアゾリ
ル、チェニル、フリル、チアゾリル、又はイミダゾリル
基など）であり、これらのアリール基、又は芳香族複素
環基の置換基は、アルキル基（たとえばメチル、エチル
、又はプロピル基など）、アルコキシ基（たとえばメト
キシ、エトキシ、又はプロポキシ基など）、アミノ基（
たとえば、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメ
チルアミノ、又はジエチルアミノ基など）、アシルオキ
シ基（たとえば、アセチルオキシ、又はプロピオニルオ
キ７基など）、水酸基、ニトロ基、ハロゲン原子（たと
えば、弗素、塩素、又は臭素原子など）、アルコキシカ
ルボニル基（たとえば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、又は′Ｆｙｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
など）、低級アルキルチオ基（たとえば、メチルチオ、
エチルチオ、又はイソプロピルチオ基など）、低級アル
キルスルフィニル基（りとえハ、メチルスルフィニル、
エチルスルフィニル、又はプロピルス＃７（ニル基なト
）、又はアルキルスルホニ１’ｔｉ−（ｆｃトｊｔＡｆ
、メチルスルホニル、エチルスルホニル、又ハイソプロ
ビルスルホニル基など）である。

一般式（１）および（至）におけるＲ５は、水素瞑子、
を用いることができる。たとえば、低級アルキル基（メ
チル、エチル、プロピル又ハｔｅｒｔ−ブチル基など）
、アラルキル基（ベンジル、ジフエニルメチル、ｐ−ニ
トロベンジル３１ｔｏ−−−トロベンジルＭ＆と）、ア
ルケニル基（アリル、２−クロルアリル又は２−メチル
アリル基など）、ハロゲン化アルキル基（２，２，２−
トリクロルエチル又は２．２．２−　トリブロムエチル
基など）、２−（トリメチルシリル）エチル基、又はｔ
ｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチル基などである。

）Ｒ８およびＲは、同−又は異なる水素原子、低級アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、又はイ
ソプロピル基など）、ハロゲノメチル基（たとえば、ク
ロルメチル、ブロムメチル、又はヨウ化メチル基など）
、アリル基、了り一ル基（たとえば、フェニル基、ｐ−
メトキンフェニル、ｐ−アミノフェニル又はｍ−ブロム
フェニル基ナト）、低級アルコキク基（たとえば、メト
キシ、エトキン、又はゾロポキン基など）、又はアシ〃
オキシ基（たとえば、アセチルオキシ、ゾロピオニルオ
キシ、又はベンゾイルオキ７基など）である。）、 Ｒ、Ｒ、およびＲは、同−又は異なるアリール基（たと
えば、フェニル、ｐ−トリル、又はｐ−メトキシフェニ
ル基なト）、アルキｋ　基（たとえば、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル又はブチル基など）、アルコ
キシ基（たとえば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキン、ブトキン、又は５ｅｃ−ブトキシ基な
ど）、アリールオキシ基（たとえば、フェノキシ、Ｔｌ
１−）ジルオキシ、又はｍ−メトキシフェノキシ基など
）、ジアルキルアミノ基（たとえば、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、又はジー５ｅｃ−ブチルアミノ基
る。）、アラルキル基ｆたとえばベンジル、ｐ−メトキ
シベンジル、２．４−シメトキンベンジル、３，４−ジ
メトキシベンジル基又はジ（ｐ−メトキシフェニル）メ
チル基、など）、アリーｖ基（ｆｃ　ト、ｔば、フェニ
ル、ｐ−メトキシフエニＡ／　、３．４−　シメトキン
フェニル基又ｔｄ、ｐ−メトキ７メチルオキクフェニル
基など）、又はシリル基（たとえば、トリメチルシリル
、トリメチルシリル、ｔｅｒｔ−プチルジメチルンジル
、又はｔａｒ　ｔ−ブチルジフェニル基など）である。

〕である。

−ｆｆ式（ＩＩ）および（２）におけるＲ６は、アルキ
ル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、又はｔｅｒ　ｔ−ブチル基など）、シク
ロアルキル基（たとえば、シクロプロピル、フクロペン
チル、又はシクロヘキシル基ｆｘト）、置換アルキル基
〔たとえば、−ＣＨ２ｋ　、　−ＣＨ２ＣＨ２Ａ　。

−ＣＨＡＣＨ，、−ＣＨ２０Ｍ２ＣＨ２Ａ　、　−ＣＨ
（ＣＨ３）Ｃ！（２Ａ　。

−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３，−ＣＨ２ＣＨＡＣＨ３，−ＣＨ
（ＣＨ，）ＣＨ２ＣＨ２Ａ又は−ＣＨ２（ＣＨ２）２Ｃ
Ｈ２Ａ基などであり、その置換基Ａは、水酸基、保護さ
れた水酸基（Ｒにおける水酸基の保護基と同意義を示１
〜）、アミノアルキル基で修飾された水酸貼１アミノア
ルキル基としては、−ＣＨＣＨＮＨＲ、−ＣＨ（ＣＨ３
）Ｃｌ２ＮＨＲ、又２ は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＲなどであり、式中のＲは
水素原子、又はアミノ基の保護基（アミノ基の保護基と
しては特に限定はなく一般的なアミノ基の保護基を用い
ることができる。たとえばアシル基（ホルミル、アセチ
ル、クロルアセチル、トリフルオルアセチル、プロピオ
ニル、又ハベンゾイル基すど）、アルコキシカルボニル
基（エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−７”トキシカルボ
ニＡ／、２，２．２−ト！Ｊクロルエトキクカルボニル
、２、２．２−　）　！Ｊ　７”ロムエトキシカルボニ
ル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、０−ニトロベンジルオキ７カルボニル、又は
アリルオキシカルボニル基なト）、アラルキル基（ベン
ジル、ジフェニルメチル、又はトリフェニルメチル基な
ど）である。

）、−ＮＲＲ基（式中、ＲおよびＲは、同−又は異なる
、水素原子、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、
プロピル、又はインプロヒル基など）、アシル基（たと
えば、アセチル、ゾロヒオニル、イソブチリル、又ハベ
ンゾ（、＋１／基）、スルホニル基（たとえば、メチル
スルホニル、エチルスルホニル、又ハフェニルスルホニ
ル基）又はアミノ基の保護基（Ｈにおけるアミノ基の保
護基と同意義を示す。）である。）、キル基（たとえば
、メチル、エチル、又はプロピル基など）又はアリール
基（たとえば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル又はｐ
−アミノフェニル基など）である。Ｒは、水素原子、ア
ルキル基（たとえば、メチル、エチル、又はプロヒル基
など）　、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチルオ
キシカルボニル基、アミノ基の保護基（Ｈにおけるアミ
ノ基の保「昼基と同意義を示す。）フェニル基、又はＲ
とＲが−緒になって壌を形成する基（たとえば、ＲとＲ
が＝（ＣＨ２）３−又は−（ＣＨ２）４−基など）であ
る）、は、同−又は異なる水素原子、アルキル基（たと
えば、メチル、エチル、又はプロピル基など）、アミノ
基の保ＨＳＣＲにおけるアミノ基の保護基と同意戎全示
す。）、ＲとＲが−緒になって環全形成する基（たとえ
ば、Ｒと０ Ｒが−（ＣＨ２）４−１−（ＣＨ２）５−１又は−（Ｃ
Ｈ２）６−基など）、又はＲとＲが−緒になって環を形
成する基（たとえば、ＲとＲが−（ＣＨ２）２−１−（
ｃａ２）３−又は−（ＣＨ２）４−基なと）である）、
ハロゲン原子またとえば、弗素、塩素、臭素又はヨウ索
原子など）、−ｃｏ２Ｒ基１式中、Ｒは水素原子、アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、又はプロヒル基な
ど）又はカルボキン基の保護基（Ｒにおけるカルボキシ
基の保護基と、−−−２２− −ＣＯＮＨＲ基１式中、Ｒは水素原子、アルキル基（た
とえばメチル、エチル又はプロピル基など）、又はアミ
ノ基の保護基（Ｒ１３におけるアミノ基のＰｆ、穫基と
同意義を示す。））、−ＮＨＣＯＮＨＲ２２基１式中、
Ｒ２２は前述のものと同意驕を示す。）、−８Ｒ（式中
、Ｒは、水素原子、アルキル基（たとえば、メチルエチ
ル、又はプロピル基など）、アルケニル基（たとえばア
リル、ビニル、１−メチルビニル、又は１−プロペニル
＃など）、アルキニル基（たとえば、エチニル、２−プ
ロビニル、又は１−プロピニル基など）、シクロアルキ
ル基（たとえば、シクロフロヒル、シクロペンチル、又
ハシクロヘキクル基など）、シクロアルキルアルキル基
（たとえば、シクロプロピルメチル、ンフクンチ１ルメ
チル、２−シクロヘキシルエチル、又ハ２−ンクロペメ
チルエチル基なト）、アラルキル基（たとえば、ベンジ
ル、フェネチル、ｐ−メトキシベンジル、又はｐ−ブロ
ムベンジル基など）、アリール基（たとえば、フェニル
、ｐ−トリル、又はｐ−メトキシフェニル基など）、芳
香族複素環基（たとえば、チェニル、フリル、イミダゾ
リル、又はピリジル基など）、芳香族複素環置換アルキ
ル基（たとえば、チェニルメチル、２−チェニルエチル
、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、又はチアゾリ
ルメチル基など）である。）　、％　Ｒ２３基（式中、
Ｒは前述したものと同意義を示す。）、−８ｏ、、Ｒ基
（式中、Ｒは前述したＲ　と同意義ヲ示すほか、アルコ
キシ基（たとえば、メトキシ、エトキン、又はプロポキ
シ基など）である。）、−０８ＯＲ”基（式中、Ｒは前
述したものと同意義を示す）、シアノ基、二）口塞、ア
ジド基、炭素原子間に窒素原子、酸素原子、硫黄原子、
スルホニル基、カルボニル基又はチオカルボニル基が介
０２ （式中、−線は置換基の位置を示し、これが猿の中から
出ているものは置換基の位置合特に限定せず現炭素上の
いずれかに置換基を有することを示す。置換基Ｂは、水
素原子、アルキル基（たとえばメチル、エチル、プロピ
ル又はインプロビル基など）、水酸基、保護された水酸
基（Ｒにおける水酸基の保循基と同意義を示す。）、−
ＮＲ１４Ｒ１５基（式中、Ｒ１４およびＲ１５は前およ
びＲは前述したものと同意義ヲ示す。）、ハロゲン原子
（弗素、塩素、臭素、又はヨウ素原子）、−ＣＯ２Ｒ基
（式中、Ｒは前述したものと同意義を示す。）、−ＣＯ
ＮＨＲ２２基、−ＮＨＣＯＮＨＲ２２基（式中、Ｒは前
述したものと同意義を示す・）・−８Ｒ２３基・−ＪＲ
２３基（式中、Ｒは前述したものと同意義を示す。）、
−ＳＯ□Ｒ基（式中、Ｒは前述したものと同意義ヲ示す
。）、−０Ｂ０２Ｒ２３基（式中、Ｒ２３は前述したも
のと同意義を示す。）、シアノ基、アジド基、ニトロ基
、アルコキンアルキル基（たとえば、メトキシメチル、
エトキシメチル、２−メトキシエチル、又は３−メトキ
シプロピルなど）、アルコキンカルボニルアルキル基（
たとえば、メトキシカルボニルメチル、ｔ、ｅｒｔ　−
’７’　）キシカルボニルメチル、又は２−ベンジルオ
キ７カルボニルエチル基など）、シアノアルキル基（た
とエバ、シアノメチル、７アノエチル、又はシアノプロ
ピル基など）、ハロゲノアルキル基（たとえば、トリフ
ルオルメチル、２−フルオルエチル、２゜２、２−　）
　’）フルオルエチル、２−クロルエチル、２−ブロム
エチル、２−フルオルプロピル、又は３−フルオルプロ
ピルなど）である。Ｒは水素原子、アルキル基（たとえ
ば、メチル、エチル、又はプロビル基）、アルケニル基
（たとえば、ビニル、アリル、又は１−プロペニル基な
ど）、アルキニル基（たとえば、エチニル、２−プロピ
ニル、又は１−プロピニル基など）、シクロアルキル基
（たとえば、シクロプロピル、７クロペンチル、又ハシ
クロヘキシル基ナト）、シクロアルキルアルキル基（た
とえば、シクロプロピルメチル、シクロペンチルメチル
、２−シクロヘキンルエチル、又ハシクロへキシルメチ
ル基など）、アリール基（たとえば、フェニル、ｐ−メ
トキシフェニル、又はｍ−アセトキシフェニル基など）
、アラルキル基（たとえば、ベンジル、ｐ−ニトロベン
ジル、０−メトキシベンジル、又はｐ−ブロムベンジル
基なト）、−ＣＯＲ基（式中、Ｒは、アルケニル基（た
とル、１−プロピニル、又は２−プロピニル基など）、
シクロアルキル基（たとえば、シクロプロピル、シクロ
ペンチル、又ハシクロヘキシル基など）、シクロアルキ
ルアルキル基（タトエば、７クログロピルメチル、シク
ロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、２−７クロ
ペンチルエチル、又は３−シクロヘキンルグロピル基な
ど）、アリール基（たとえば、フェニル、トリル、又は
ｐ−メトキンフェニル基など）、アラルキル基（たとえ
ば、ベンジル、又はｐ　−メトキンベンジル基など）、
芳香族複素環基（たとえば、フリル、チェニル、ピリジ
ル、チアグリル、イミダゾリル、ピリミジル、又はピラ
ジニル基など）、芳香族複素環置換アルキル基（たとえ
ば、パテニル、フ ルフジル、ピリジルメチル、又はピリミジルメチル基な
ど）、脂肪族複素環基（たとえば、ピロリジニル、１−
ピロリジニル、ピペリジル、ピペリジノ、モルホリニル
、又はモルホリノ基ル、ピペリジルメチル、ピペリジノ
メチル、モルホリニルメチル、又はモルホリノメチル基
など）である。）、−８Ｒ基（式中、Ｒは、前述したも
のと同意義を示す。）、ＳＲ基（式中、旦　は前述した
ものと同意義ヲ示す。）、−８０２Ｒ基（式中、Ｒは前
述したものと同意義を示す。）、スルホ基、水酸基、保
護された水酸基（その保護基は前述したＨにおける保護
−さ、、、ＮＲ１７基（式中、ＲおよびＲは前述したも
のと同意ｍを示す。）、−Ｃ−ＮＲ′Ｂ　基１式中、１ ａ　２　ＢおよびＲは同−又は異なる水素原子、ア前述
したＲ　におけるアミノ基の１呆Ｍ＆である。

Ｗは、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ基（式中Ｒ３０は
、水素原子、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、
プロピル、又はイソプロピル基など）、フェニル基、又
は前述したＲ　におけるアミノ基の保護基である。）、
アミノ基の保護基（前述したＲ　におけるアミノ基の保
護基と同意義を示す。）である。Ｒは前述したＲ２５と
同意義を示す。Ｄけ、ＮＲ基１式中、Ｒ３１は、水素原
子、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル
、又はイソプロピル基など）、アルケニル基（たとえば
、ビニル、アリル、又は１−プロペニル基など）、アル
キニル基（たとえば、エチニル、又は２−プロピニル基
など）、アラルキル基（たとえば、ベンジル、ｐ−二ト
ロベンジル、又はｐ−メトキンベンジル基など）、又は
アリール基（たとえば、フェニル、Ｉ）−７’ロムフエ
ニル、又ハｍ−メ）キシフェニル基など）である。）で
ある。Ｅは酸素原子、硫黄原子、又けＮＲ５２基（式中
Ｒ３２は前述したＲ　と同意義を示す。）である。）、
置換基を有してもよいアリール基（たとえば、フェニル
、１−ナフチル、又は２−ナフチル基など）、又は置換
基を有してもよい芳香族複素環基（たとえば、ピリジル
、ピリミジル、トリアゾリル、チェニル、フリル、チア
ゾリル、又はイミダゾリル基など）であシ、これらのア
リール基又は芳香族複素環基の置換基は、Ｒ４における
アリール基又は芳香族複素環基における置換基と同意義
を有する。〕、置換シクロアルキル基（たとえば、シク
ロプロピル、シクロブチル、フクロペンチル、又はシク
ロヘキシル基すどであシ、その置換基は置換アルキル基
で説明した置換基Ａと同意義を示しその置換基の位置は
特に限定しない。）、アルケニル基（たトエハ、ビニル
、アリル、１−プロベニル、又ハフ−ブテニル基など）
、置換アルケニル基（たと、ｔＪｆ、ビニル、アリル、
１−７’ロヘニル、又ハフ−ブテニル基などである、そ
の置換基は−ＮＲＲ基（式中ＲおよびＲは、前述したも
のと同意義を示す。）、−Ｃｏ２Ｒ基（式中Ｒ２１は前
述したものと同意義を示す。）、−ＣＯＮＨＲ２２基（
式中、Ｒ２２は前述したものと同意義を示す。）　、−
ＮＨＣＯＮＨＲ基（式中、Ｒは前述したものと同意義を
示す。）、−８Ｒ基（式中、Ｒは前述したものと同意義
を示す）などである。）、アルメ擁基（たとえば、・チ
ール、２−プロピニル、又は１−プロピニル基なト）、
置換アルキニル基（たとえば、エチニル、２−プロピニ
ル、又は１−プロピニル基などであり、その置換基は、
−ＮＲＲ基（式中、ＲおよびＲ１５は、前述したものと
同意義を示す。）、−Ｃｏ２Ｒ基（式中、Ｒは前述した
ものと同意義を示す。）　、−ＣＯＮＨＲ基（式中、Ｒ
は前述したものと同意義を示す。）　、−ＮＨＣＯＮＨ
Ｒ基（式中、Ｒは前述したものと同意義を示す。

）、−ｓＲｍ（式中、Ｒは前述したものと同意義を示す
。）などである。）、炭素原子間に留累原子、酸素原子
、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基又はチオカル
ボニル基が介在する濾侯、若しくは非置侯力旨肋族複索
猿基（たとえ（式中Ｒ、Ｒ、Ｂ、ＤおよびＥは前述した
ものと同意ａ＋示す。）、アリール基（たとえば、置換
基を有してもよいフェニル、又はナフチル基であり、そ
の置換基は、アミノ基、水酸基、メトキシ基、アルコキ
クカルボニルメチル基などである。）、アラルキル基（
たとえば、ベンジル、メトキシベンジル、ニトロベンジ
ル、ブロムベンジル、アミノベンジル、２−テニル、３
−テニル、又はフルフリル基など）、アリール基（たと
えばフェニル、１−ナフチル、又は２−ナフチル基など
）、芳香族複素環基（たとえばピリジル、ピリミジニル
、トリアジニル、チェニル、フリル、チアゾリル、イミ
ダゾリル、テトラゾリル、又は１．３．４−チアジアゾ
リル基なと）である。なお前述した一般式（ＩＩ）およ
び（ト）におけるＨのアラルキル基、アリール基、又は
芳香族複素環基の芳香環の置換基は一般式（１）のＲ４
のアリール基又は芳香族複素環基において示した置換基
を有してもよい。

一般式（ＩＩＤを有する化合物の例を第１表に示す。

たゾし本発明はこの例示化合物により限定されるもので
はない。

表中の略号は次のものを示す。

ＰＮＺ：１）−ニトロベンジルオキシカルボニルＡＯＣ
：アリルオキシカルボニル ＰＮＢ：ｐ−ニトロベンジル ＢＤＭＳ　：　ｔｅｒｔ−プチルジメチルンジルＴＦｉ
Ｅｌ：トリエチルンリル ７ＭＳニトリメチルシリル ＢＤＰＳ　：　ｔｅｒｔ−７’チルジフエニルンリルＴ
Ｒ０Ｃ：２，２．２−）リクロルエトキシ力ルボニルＴ
Ｒ０Ｂ：２，２．２−１’）７”ロムエトキシカルボニ
ルＯＮＢ：ｏ−ニトロベンジル なお表中の例示化合物はすべて新規化合物である。

一般式（１）および（ｎＤ　＊有する化合物の立体配位
と同じＳＲ，５８，８Ｒの配位を有するものが好ましい
。一般式（ＩＩ）を有する化合物が不斉炭素原子を有す
る場合にもその配位に関しては特に限定はなく、化合物
（ＩＩ）の光学活性体又はその混合物を用いてもよい。

本反応の実施にあたって、反応は一般式（Ｉ）を有する
化合物と一般式（Ｉｆ）を有する化合物を溶剤の存在下
で接触させることによって達成される。

反応に使用される溶剤としては本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのヨウなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなジアルキルア
ミド類、塩化メチレン、クロロホルム、１．２−シクロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素類、酢酸エチルのよ
うな酢酸エステル類、メタノール、エタノール、プロパ
ノールのようなアルコール類、アセトニトリル、ジメチ
ルホルホキンド並びにこれらの有機溶剤の混合溶剤が好
適である。

本反応は塩基の存在下で促進されるが、塩基が存在しな
くてもよい。使用される塩基としては、例えばトリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、１
，４−ジアザビシクロ〔２、２，２１オクタン、１，５
−ジアザビシクロ〔４゜３．０〕ノン−５−エンのよう
な有機塩基あるいは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムの如き炭酸
塩をあげることが出来る。反応温度は特に限定はなく通
常は一２０℃乃至１００℃付近である。反応は窒素のよ
うな不活性ガスのふん囲気中で行なうことが望ましいが
、空気中でも反応は進行する。反応に要する時間は主に
原料化合物の種類、反応温度によって異なるが約１０分
乃至３日間である。

反応終了後、本発明の目的化合物（２）は常法に従って
反応混合物から採取される。例えば反応混合物に水不混
和性有機溶剤を加え、水洗、乾燥後、有機溶剤を留去す
ることにより得ることができる。さらに必要に応じて、
得られた目的物を再結晶、カラムクロマトグラフィー、
分取薄層クロマトグラフィーを用いて、さらにＮ’ｔ７
１１することができる。

一般弐〇）で示される本発明の出発物質は以下に述べる
方法（’Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤ法）によって得ることができ
る。

Ａ法：第１図 ■　確 ω　頭 （１） 第１図に示したようにスレオニン（ＩＶ）　（式中、Ｒ
１は、前述したものと同意義を示す。）を化合物（至）
とし、これに化合物（ロ）（式中、ＲおよびＲ７は、前
述したものと同意義を示す。）を反応させ化合物幡に導
く、化合物（至）を塩基で処理することにより化合物（
■）が得られる。スレオニンから化合物（■）へ導く方
法については、特開昭５８−１４２２５９号に本発明者
等によって開示されている。化合物（■）のＲがカルボ
キン基の保睡基である場合は、常法に従ってその保護基
をはずし化合物■とし、次いで四酢酸鉛と反応させ化合
物ωへ導く。化合物（至）に。−シリルケテンアセター
ル＠（式中、Ｒ，Ｒ，ＲおよびＸは前述したものと同意
義を示す。）を反応させると化合物（Ｉ）が得られる。

（ト）と（至）の反応は、トリフルオルメタンスルホン
酸トリメチルシリルエステルを触媒として、溶媒（たと
えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、
クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、又はジメチルホルムアミドが用いられる
。）中、−１５℃〜１００℃で、化合物（至）を■に対
して１〜３当量を用いて、（１）時間〜Ｔ目間反応させ
るっ Ｂ法：第２図１ （ＸＩＴ）　（ＸＭ） （１） 第２図に示したように、化合物（ＸＩ［）（式中、Ｒ１
およびＲ５は前述したものと同意義を示す。）にグリニ
ヤ試薬（Ｘ［［Ｉ）　（式中、Ｒ４およびＸは前述した
ものと同意義を示す。）を反応させ化合物（ＸＩＶ）が
得られる。この反応に関しては、本発明者等が特開昭５
５−７２５１号に開示した方法で行うことができる。化
合物（Ｘｌｖ）　ｆｆｉ　）リフルオル酢酸などの触媒
によシ水和反応に付し化合物（■）（（Ｉ）式における
ＲおよびＲが水素原子の化合物）へ導くことができる。

Ｃ法：第３図 （罵）　（ＸＸ） 化合物（ＸＸ）に対応する化合物（１）のＲかも合成で
きるが、第３図に示したＣ法によってもイ０られる。す
なわち、一般式（１）ｔ−有する化合物においてＲが水
素原子である化合物（ＸＶ）　（式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ
およびＸは前述したものと同意義を示す。）に酸クロラ
イド（ＸＶｆ）　（式中、Ｒは前述したカルボキン基の
保訛基を示す。）を反応させ化合物（ＸＶＩＩ）に導く
ことができる。この反応は、化合物（ＸＶ）を溶媒（た
とえば、ヘキサン、ベンセン、トルエン、塩化メチレン
、クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、酢酸エチル、又はアセトニトリルなど）に溶
かし１〜３当鑓の塩基（たとえば、トリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ピリ゛ジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，
０］］ノンー５−工ン１．４−ジアザビシクロ［２，２
，２］オクタン、ブチルリチウム、又は水素化ナトリウ
ムなど）の存在下に、１〜３当計の酸クロライド（ＸＶ
Ｉ）を加え、−１８℃〜５０℃で１０分間〜１時間行な
う。

一方、一般式（１）を有する化合物においてＲが（罵）
（式中、Ｒ’、　Ｒ２，Ｒ’、　Ｒ’およびＲ７は前述
したものと同意義を示す）をオゾン酸化することによっ
ても化合物（罵）が得られる。この反応は、化合物（罵
）を溶媒（たとえばヘキサン、塩化メチレン、クロロホ
ルム、又は酢酸エチルなど）に溶かし、−１８℃〜０℃
でオゾン酸化を行い、生成したオシニドをジメチルスル
フィドで還元的に分解することにより行なう。

こ＼に得られた化合物（ＸＶＩＩ）に、化合物（ＸＩＸ
）（式中、Ｒ，ＲおよびＲは前述したものと同意義を示
す。）を反応させると化合物（ＸＸ）に導ける。この反
応は、化合物（粘）を溶媒（たと、ｔＪｆ、ヘキサン、
ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチ
ル、又はアセ、トニトリルなど）に溶がし、２当歇以上
の化合物（■）を加え４０°〜１５０℃で、３０分間〜
１０時間行なう。

Ｄ法：第４図 （ＸＸＩ　）　（ＸＸ［） ↓ｂａｓｅ 化合物（ＸＸＩＩＩ）および化合物（ＸＸＶ）に対応す
る一般式（１）のＲおよびＲが水素原子、Ｘが硫黄原子
、第４図に示す方法で合成できる。すなわち、化合物（
■）（式中、Ｒ１およびＲ７は前述したものと同意義を
示す。）に０−シリルケテンアセクール（ＸＸＩＩ）　
（式中、Ｒおよび又は前述したものと同意義を示す。）
を反応させ、化合物（ＸＸＩＩＩ）へ導ける。この反応
は、化合物（可）を溶媒（たとエバ、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、エーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、
又はジメチルホルムアミドなど）に溶かし触媒針のトリ
フルオルメタンスルホン酸トリメチル７リルエステルの
存在下、１〜３当鼠の化合物（ＸＸＩＩ）全加え、−１
５℃〜１００℃で、５時間〜１日間行なう。得られた化
合物（ＸＸＩＩＩ）　’ｅ常法に従って塩基（たとえば
、トリエチルアミン、１．５−ジアザビシクロ〔４，３
，０〕ノン−５−エン、１，４−ジアザビシクロＣ２，
２，２］オクタン、又は４−ジメチルアミノピリジンな
ど）で処理すると化合物（ＸＸＶ）が得られる。一方、
化合物（ＸＸＩＶ）　（式中、ＲおよびＲは前述したも
のと同意義ヲ示す。）に化合物（ＸＸｎ）　’に反応さ
せることにより化合物（ＸＸＶ）へ導ける。この反応は
化合物（ｎｌ）と化合物（ＸＸＩ［）の反応と同様に行
う。

本発明によって得られる一般式（２）を有する化合物は
以下に述べる方法（第５図）に従って強い抗菌活性を示
すカルバペネム誘導体へ導ける。

すなわち一般式（至）を有する化合物はカルバペネム誘
導体の合成中間体として重要な化合物であることを見い
出し本発明を完成した。

一般式（２）を有する化合物においてＲがアミドＮＨの
保護基である場合には、常法に従ってその保護基を除去
し、Ｃ法に準じた方法によるアシル化、ホスホラニリデ
ン化により、化合物（ｍ（式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，
Ｒ、ＲおよびＲ１２は前述したものと同意義を示す。）
へ導ける。一般式（２）においてＲが の場合は、Ｄ法およびＣ法Ｋ　７ｊ４じた方法で化合物
（Ｘ■）へ導ける。一方、化合物（■）はＡ法にこ＼に
侍られた化合物（ＸＸＶＩ）は非プロトン性溶媒中、８
０℃〜１５０℃で、１０時間〜５日間加熱することによ
り閉環し化合物（ＸＸＶＩＩ）−ｅ与える。

（ＸＸＶＩ）　（ＸＸＶＩＩ） ｏ２Ｈ 化合物（ＸＸＶｉ［）においてＲが水酸基の保護基、又
は、およびＲが保護基全有する水酸基、アミノ基、若し
くはカルボキシ基を有する基、又は、および、Ｒかカル
ボキシ基の保鳩基である場合は、その１′ｆ、護基を常
法に従って除去し、カルバベネＡｍ導体（ＸＸＶＩＩＩ
）　（式中Ｒ３３Ｕ、前述Ｌ＊Ｒ’と同意義を示す。た
だしＲが保護基を有する水酸基、アミノ基、若しくはカ
ルボキン基を有する基である場合はその保誦基金除去し
たものを有する基を示す。）に導ける。

なお化合物（ＸＸＶＩ）は次の方法によっても合成でき
る。

第６図に示したように一般式（２）におけるＲ５が水素
原子である化合物（ＸＸＩＫ）　（式中、Ｒ＃　”　Ｉ
Ｒ３，およびＲ６は前述したものと同意義を示す。）に
、常法に従って化合物（■）（式中、Ｒ，Ｒ。

Ｒ５，およびＲ６は前述したものと同意義を示す。）に
、常法に従って化合物（ｍ）（式中、Ｒは前述したもの
と同意義を示す。）を反応させ、化合物α別）へ導く。

■別）を常法に従って酸化して化合物（ＸＸＸＩＩ）と
し、これを先に述べた方法でホスホニリデン化して化合
物（ＸＸＶＩ）へ導ける。

以下に、実施例、参考例をあげて本発明を説明する。

（５６） 参考例１ Ｎ−（ｐ−メトキシベンジル）クリンンｔｅｒｔ−ブチ
ルエステル ／−ｃｏＯＢｌｌ Ｎ ｐ−メトキシベンジルアミン（６９ｔ　、　０．５ｍｏ
ｂ　）、トリエチルアミン（７５，７５ｆ　、　０．７
５ｍｏＡ）を乾燥テトラヒドロフラン２５００ｍｍ中に
溶解させ、室温下、ｔｅｒｔ−ブチルブロムアセテート
（９７，５Ｆ、０．５ｍｏｔ）’ｅ滴下後さらに１時間
加熱還流反応させる。冷却後、生成したトリエチルアミ
ン塩酸塩を沖去し、減圧下テトラヒドロフランを留去す
る。残置全酢酸エチル２０００ｍ／に溶解し、水（ｓｏ
ｏｍｇｘ　２　）　、飽和食塩水２５０ｉｎで順次、洗
浄後硫酸マグネシウムで乾燥する。

硫酸マグネシウムを炉去し、酢酸エチルを減圧にて留去
し、得られた油状物をシリカゲル１．２勾を用いたクロ
マトグラフィーに付し、シクロヘキサン−酢酸エチル（
２：１）で溶出すると目的とするＮ−（メトキシベンジ
ル）グリシンｔｅｒｔ−ブチルエステルが９４．１４９
　（７４，５％　）の収率で得られた。

元素分析　Ｃ１４Ｈ２１０３Ｎ 理論値　測定値 Ｃ６６，９％　６６．７８％ Ｈ８４２％　８．４０％ Ｎ　５．５７％　５．４０係 参考例２ （２Ｓ　、　３Ｒ）　−Ｎ−（１ｅｒｉ−ブトキシカル
ボニル）−Ｎ−（ｐ−メトキシベンジル）−２−プロム
ー３−ヒドロキシ酪酸アミド ＣＲ３ （２８，３Ｒ）−２−ブロム−３−ヒドロキシ酪ｅ　（
５０，９６ｆ　、Ｄ、２７８ｍｏＡ　）　、Ｎ　−（ｐ
−メトキシベンジル）クリシン　ｔｅｒｔ　−フーＦ−
ルエステル（’ＩＯ，１４ｆ　、　０．２７８ｍｏｔ）
を乾燥テトラヒドロフラン１０００ｍＪに溶解させ水冷
上攪拌しながら、シンクロヘキシルカルポジイド（５７
，１：１，０．２７８ｍｏｔ）を添加反応させる。室温
にて３０分間攪拌後生成した尿素を戸去し、テトラヒド
ロフランを減圧下留去する。残渣を酢酸エチル１０００
ｎｉｌ　Ｋ溶解し、希塩酸２００ｍＪ、水２００ｍ１ｌ
、５％重ソウ水２００ｍ、飽和食塩水で順次洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを炉
去し、減圧下酢酸エチルを留去すると目的とするアミド
が１１８　ｔ　（ｏｉｌ）４られる。これをシリカゲル
ｇｏｏｒ’ｌ用いたラビッドクロマトグラフィーに付し
てシクロヘキサンー酢酸エチル（２：１）で溶出すると
目的とするアミド体が８１．！１（７１５係）得られた
。

ｃ、８Ｈ２６Ｎｏ５Ｂｒ（Ｍ　Ｗ　４１６．３２　）元
素分析 理論値　実測値 Ｃ’５１．９　５１８ Ｈ６，２９６，２Ｏ Ｎ　３．３６　３．１１ 参考例３ （３Ｓ　、４Ｒ）−３−（（Ｒ）　−１−ヒドロキシエ
チル］　−４−［ｔｅｒｔ　−７’トキシカルボニル〕
−１−（ｐ−メトキシベンジルコ−２−アゼチジノン リテウムービスートリメチルンラジドの調整。

ヘキサメチルジシラザン（５４酩、０．２５６ｍｏｔ）
を、乾燥テトラヒドロフラン１５０罰に溶解し、水冷上
攪拌しながら、ブチルリチウムヘキサン溶液（１，６Ｍ
溶液、１６２．８１１１ｊ　、　０．２６ｍｏｔ）を滴
下反応させる。

参考例２で得たアミド体（ｓｌ、ｙｒ、ｏ、ｔｚ４ｍｏ
ｌ　）　ｆ乾燥テトラヒドロフランに溶解させ、水冷下
先に調整したりチウムービスートリメチルジシラジド溶
液の半分を滴下反応させる。滴下後、５分間同温度にて
攪拌し、内温２０〜２２℃に上昇きせる。

さらに内温２０〜２２℃を保って、残りのリチウムービ
スートリメチルジシラジドを滴下反応させる。滴下終了
後、３０分間２０〜２２℃で反応させた後、希塩酸でｐ
Ｈ＃　５に調整したのち減圧下テトラヒドロフランを留
去する。残渣を酢酸エチル１［１０ｏｍ／に溶解し、水
５００１．５チ重ソウ水２５０罰、飽和食塩水２５０罰
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸
エチルを留去し、得られた油状物をシリカゲル１、５　
ｋｇを用いたクロマトグラフィーに付し、シクロヘキサ
ン：酢酸エチル（１：１）で溶出すると、目的とするア
ゼチジノン化合物が２６゜６ｖ（８３，９％）得られた
。

融点　７５〜Ｔ６°ＣＣ１Ｃ１６Ｈ２５Ｎｏ５３３５．
４１元素分析 理論値　測定値 Ｃ６４，４６％　６４６９ Ｈ７，５１７，４７ Ｎ　４．１８　４．１Ｂ 参考例４ （３８、４Ｒ）−１−（ｐ−メトキシベンジル）　−３
−［（Ｒ）　−１−ヒドロキシエチルヨー４−カルボキ
シ−２−アゼチジノン Ｈ ル ２０　ｆ’　、　０．０６　ｍｏｔ’）を水冷下、トリ
フルオτ酢・。

酸に溶解し、室温下３時間反応させる。トリフルオル酢
酸を留去後、酢酸エチル２００ｍＪに溶解し、５％重ソ
ウ水で水層のｐＨが４になるまで洗浄する。次いで飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸
エチルを留去すると目的物が半結晶として１９ｆが得ら
れた。

融点　１００〜１０２℃ 元素分析 理論値　実測値 Ｃ６０，２０６０，２７ Ｈ６，１４６，２７ 参考例５ （３８、４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−１）、−１−ヒドロキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノン Ｈ 参考例４で得られたアゼチジノン体　２．８ｇ（１０ｍ
ｍｏ’ｌ　）を用いて、オルガニツクーリアクション、
　１９７２年、１９巻、２７Ｂ頁の方法に従つ×２）、
５％重ンウ水１００−１飽和食塩水１０〇−で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウ
ムをＰ去後、酢酸エチルを留去する。得られた装置をシ
リカゲル５０Ｉを用いたクロマトグラフィーに付し、シ
クロヘキサン−酢酸エチル（１：２）の溶液にて溶出し
、これを濃縮層、酢酸エチル−シクロヘキサン（４：１
）の溶液にて再結晶を行うと目的とするアゼチジノン体
１．６３　ｇ　（５１，３％　）が得られた。

融点　８４〜８５’ご 元素分析 理論値　実測値 ０　６１．４２　６１．３２ Ｈ６，５３６，４３ Ｎ　４．７８　４．８１ 参考例６ （３Ｂ、４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−（（Ｒ）−１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル〕−４−アセトキシー２−アゼチジノ
ン ００Ｈ。

参考例５で得られたアセトキシアゼチジノン体２．９３
９　（１０ｍｍｏｌ　）を乾燥塩化メチレン２゜−に溶
解し、室温下かくはんしながら、ジメチルアミノピリジ
ン３．６６．９　（３０Ｆ）を添加する。

さらにｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルクロライド
６４５１１の乾燥塩化メチレン１〇−溶液を滴下し、続
いて２時間室温にてかくはんする。

不溶物をＰ去した後、塩化メチレンを留去し、再び酢酸
エチル２００ｍ１Ｋ溶解させる。希塩酸５〇−１水５０
−１５％重ソウ水５０ｒｎｌ、飽和食塩水５０−で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネ
シウムを１取し、酢酸エチルを減圧下留去する。装置を
シリカゲル２００ｇを用いたカラムクロマトグラフィー
に付シ、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：２）溶液で
溶出すると、目的とするアセチジノン体３．７　Ｉ！（
７Ｂ係）が得られた（油状物）。

元素分析 理論値　実測値 ０　５Ｂ、４７チ　５８４０％ （６６） Ｈ５３１チ　５．０８　％ Ｎ　５．９３　％　５７３　％ 参考例７ （３Ｓ１４Ｒ）　１−　（ｐ−メトキシベンジル）−３
−［（Ｒ）　−１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル］−４−（フェニルチオカルボニル
メチル）−２−アゼチジノン参考例６で得られたアセト
キシアゼチジノン１．１８　ｇ　（２，５ｍｍｏ］、　
）を乾燥塩化メチレン１〇−に溶解し、室温下かくはん
する。これに１−フェニルチオ−１−トリメチルシリル
オキシエチレン２．２４　Ｊｉ’　（１０ｍｍｏｌ）を
添加し、さらに触媒トシて、トリフルオルメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルエステル０．１１　ｇ（１−２５
ｍｍｎ１　）を加え（６７） し水５０ｍ７！、５チ重ソウ水５０ｍ／、飽和食塩水５
０−で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

硫酸マグネシウムを１去し、酢酸エチルを留去後、シリ
カゲル１２５ｇを用いたカラムクロマトグラフィーに付
しシクロヘキサン−酢酸エチル（１：１）溶液で溶出す
ると目的とｆル（Ｒ）−４−［（フェニルチオ）カルボ
ニルメチル〕−２−アゼチジノン誘導体１．３４９　（
９４，９係）が得られた（油状物）。

元素分析 計算値　実測値 Ｃ６１，６％　６１３３％ Ｈ５，００％　５１２％ Ｎ４９６％　４８１％ ８５６７％　５６３％ 参考例８ （３８，４Ｒ）　−３−［（Ｆｔ）　−１−（ｐ−二ト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−４−［
（フェニルチオ）カルボニルメチル］−２−アゼチジノ
ン 参考例７で得られたアゼチジノン２０３　Ｉ＋１ｇ（０
，３６ｍｍｏ１）をアセトン１０ｔｄ［溶解し、室温下
かくはんしながらセリツクアンモニウムナイトライド３
、Ｏｇ（１５，２当量）を水５−に溶解したものを加え
る。室温下２時間かくはん後、酢酸エチル２００−５水
５０ｍｊ！を加えてかくはんし、５チ重ソウ水でｐＨ約
７．０に調整する。

酢酸エチル層を分取し、飽和食塩水５０−で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムをｒ
去し、酢酸エチルを留去したのち得られた装置をローバ
ーカラムに付して、シクロヘキサン−酢酸エチル（２：
１）溶液で溶出すると、目的とするアゼチジノン体１１
１Ｑ＋９（６９，５チ）が得られた。

ＮＭＲ（ｌｊＤＣ４５）　スペクトル　δｐｐｍ　：１
．４４　（３Ｈ、６、Ｊ　−６，４８）２．９〜３．２
　（３Ｈ、ｍ　） ３．８６〜４．１　（１１Ｈ、ｍ　） ４９〜５．３　（３Ｈ、−０Ｈ２−Ｑ−ＮＯ２、ＢＩＨ
，ｍ） ６．４４　（Ｉ　Ｈ、ｓ　） Ｍａｓｓスペクトル　ｍｌ。； ４４４　（、Ｍ”） 参考例９ （３ｓ、４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−［（Ｒ）−ｔ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル）　−４−（ｔθｒｔ　７’トキシカ
ルボニル）−２−アゼチジノン （７ｆ＋） 参考例３で得られたアゼチジノン体３３５ｆｉ９（１ｍ
ｍｏｌ　）を乾燥塩化メチレン１０ｍ７！に溶解し水冷
下かくはんしながらジメチルアミノピリジン１２２１９
　（１（０［１１０１）を加える。さら［ｐ−二）ロベ
ンジルオキシ力ルポニルクロライド２１５■（１ｍｍｏ
ｌ　）を加えた後、室温下１時間かくはんする。反応終
了後、塩化メチレンを留去し、酢酸エチル１００−にて
溶解し、希塩酸１０−１５チ重ソウ水１０ゴ、飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫
酸マグネシウムをＰ去し、酢酸エチルを留去後、シリカ
ゲル１５．９を用いたカラムクロマトグラフィーに付し
シクロヘキサン：酢酸エチル（１：１）にて溶出すると
、目的とするアゼチジノン体３３Ｂ　ｍｇ　（６５，３
係）が得られた。

元素分析 理論値　測定値 ０６０．６９％　６０．５４チ Ｈ５，８８チ　５８２φ Ｎ５４５チ　５．４８％ （７１） 参考例１０ （３８，４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル］−４−カルボキシー２−アゼチジノ
ン 参考例９で得られたアゼチジノン体１９３１１ｇ（０，
３８ｍｍｏｌ）を水冷下、トリフルオル酢酸２　ｍｌに
溶解し、そのまま２時間かくはんする。反応終了後、ト
リフルオル酢酸を留去し、酢酸エチル５０ｍ１に溶解し
、５係重ソウ水５０ｍｇ（Ｘ２）で抽出する。水層を希
塩酸でｐＨ７に調整し、酢酸エチル５０ｍ／（Ｘ２）で
抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネ
シウムを１去し、酢酸エチルを留去すると、目的とする
アゼチジノン体が１７０■（９９係）得られた。

ＮＭＲ（ＯＤＯ７！、３）スペクトル　δｐｐｍ　：１
．２５　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、
　２．７　（Ｉ　Ｈ、ａ　）　、　３〜３．３　（Ｉ　
Ｈ、ｍ　）　、　３．７５　（３Ｈ。

ｓ　）　、　３．８〜４．８　（４Ｈ、ｍ　）　、　５
．１８　（２Ｉ（。

ｓ　）　、　６．６４〜７．２　（４Ｈ、ｍ）　、　７
．２５〜８．２５（”　＋　ｍ　） ＭＡＹＢスペクトル”／／８：　４６５　（Ｍ”）参考
例１１ （３８，４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−（（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル〕−４−アセトキシー２−アゼチジノ
ン 参考例１０で得られたアゼチジノン体０．９　！１（１
，７５ｍｍｏｌ　）をジメチルホルムアミドと酢酸（５
：１）の溶液１０ｍ７！に溶解し、かくはん下回酢酸鉛
０．８７１　（１，９６ｍｍｏｌ　）を加え５０Ｃで１
０分間かくはんする。室温に冷却後、酢酸エチル１００
ｍｅに溶解し、水、５係重ソウ水、飽和食塩水で順次洗
浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを
留去し、シリカゲル３０ｇを用いたカラムクロマトグラ
フィーに付し、シクロヘキサン：酢酸エチル（１：１）
で溶出すると目的とするアゼチジノン体６８０　ｍｙ　
（７１，９％　）が得られた。

元素分析 理論値　測定値 ｃ　５Ｂ、４７％　５８．４　チ Ｈ５，３１％　５０８％ Ｎ５９３％　５．７３係 参考例１２ （３Ｓ＋４Ｒ）　−’　（ｐ−メトキシベンジル）−３
−Ｃ（Ｒ）−（１−了りルオキシヵルボニルオキシ）エ
チル）　−４−（ｔａｒｔ−プトキシヵルボニ（７４〕 ル）−２−アゼチジノン 参考例３で得られたアゼチジノン体６７０ｉ＋ｇ（２ｍ
ｍｏ１）乾燥塩化メチレン１０−に溶解し、水冷下かく
はんしながらジメチルアミノピリジン４４８　ｍｇ　（
４ｍｍｏｌ）、アリルオキシカルボニルクロライド４８
０　ｍｇ（４ｍｍｏｌ）を加え水冷下２時間かくはんす
る。室温−夜放置後、酢酸エチル１００ｔｎｔに溶解し
、希塩酸、５％重ソウ水、飽和食塩水で順次洗浄する。

無水硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを留去し、
得られた油状物をロード−カラムに付し、シクロヘキサ
ン−酢酸エチル（１：１）で溶出すると、目的とするア
ゼチジノン体ｙ４ｚ＊ｙ（ａａ％）が得られた。

ＮＭＲ（ＯＤＯｔ、）スペクトル　δｐｐｍ　：（７５
） １．３５　（２Ｈ、ｄ、６．５　Ｈｚ　）　、１４２　
（９Ｈ。

ｓ　’）　＋　３２〜１９２　（Ｉ　Ｈｔ　ｍ　）　ｔ
　１７５　（３Ｈ、ｓ　）　、３．８〜３．９２　（Ｉ
　Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　３．ＯＨ２）　、４．０〜４．
９　（４Ｈ、ｍ　）　、４．９〜５．５　（２Ｈ＋　ｍ
　）　１　５．６〜８．０　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　＋　６
．６〜７．３　（４Ｈ，ｍ） １１！ａｓｓスペクトルｍ／。：　４１９　（Ｍ”）参
考例１３ （３ｓ、４Ｒ）　１−　（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（６）−１−アリルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル〕−４−カルボキシー２−アゼチジノン 参考例１２で得られたアゼチジノン体５６２１１ｇ（１
，３４ｍｍｏｌ）を乾燥塩化メチレン５ｍ７４に溶解し
水冷下トリフルオル酢酸５−を加えて１時間かくはんす
る。室温にて一夜放置後、トリフルオル酢酸を留去し、
酢酸エチル１００ｍ１Ｋ溶解する。

５係重ソウ水５０−で３回抽出する。水層を希塩酸でｐ
Ｈ２に調整し、酢酸エチル５０−で２回抽出した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。

酢酸エチルを留去すると、目的とするアゼチジノン４０
０８９　（８２，２％）が得られた。

ＮＭＲスペクトル　δｐｐｍ　： １．４２　（２Ｈ、６，、Ｊ　＝　６．０　Ｈ２）　、
　３．０〜３．３（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　３．６〜３．
８　（３Ｈ、ｓ　）　、　３．８〜６．５　（９Ｈ、ｍ
　）　、　６．７〜７．４　（４Ｈ、ｍ　）Ｍａ８Ｓス
ペクトＡ／　ｍ／。：　３６３　（Ｍ”）参考例１４ （３Ｂ、４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−〔（ロ）−１−（アリルオキシカルボニルオキシ）エ
チル〕−４−アセトキシ−２−アゼチジノン 参考例１３で得られたアゼチジノン４．４６　ｇ　（１
２，３１ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド：酢酸（５
：１）の溶液２ｏ−に溶解し、室温下がくはんしながら
、四酢酸鉛５．４４　ｇ（１２，３ｍｍｏｌ　）　を加
えた後、５０℃にて１０分間反応させる。

室温に冷却後、酢酸エチル２００　ｆｎｌに溶解させ水
（５０ｍｔＸ２）　、ｓ　％重ソウ水５０ｍ１、飽和食
塩水で順次洗浄後、シリカゲル１５０　、！ｉｌを用い
たクロマトグラフィーに付し、シクロヘキサン：酢酸エ
チル（２：１）で溶出すると、目的とするアゼチジノン
３．１５．９（６８％）が得られた。

ＮＭＲスペクトル　δｐｐｍ　： １．４　（２Ｈ、ｒ３　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）
　、　３．３　（Ｉ　Ｈ。

ａ　、　Ｊ　−６，４Ｈ２）　、　３．７５　（３Ｈ、
ｓ　）　＋　３．９（７８） 〜３．６２　（９Ｈ、ｍ　）　、６．６〜７．３　（２
Ｈ、ｍ　）元素分析： 理論値　測定値 ０　６０．４　％　５９．８　チ Ｈ６１４％　６０３チ Ｎ　３．７１係　３．６７係 Ｍａ８８スペクトルｍ／ｅ＝３７１（Ｍ＋）参考例１５ （３８，４Ｒ）　−１−（ｐ−メトキシベンジル）−３
−［（Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニルオキシ）エ
チル］−４−［（フェニルチオ）カルボニルメチル〕−
２−アゼチジノン 参考例１４で得られたアゼチジノン３７７１１９を乾燥
塩化メチレン２ｒｎｌＫ溶解し、フェニルチオ（７９） アセテートのＯ−シリルケテンアセタール４４８ｍｇ　
（２ｍｍｏｌ　）を加えて室温下がくはんする。触媒量
のトリフルオルメタンスルホン酸トリメチルシリルエス
テルを加えて、室温にて一夜放置する。酢酸エチル２０
０　ｔｄに溶解し、水１１００ｙ、飽和食塩水１００−
で順次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ロー
バーカラムに付シ、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：
１）で溶出すると目的とするアゼチジノン４３０１１ｙ
　（ｓ１％　）が得られた。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：１．３９
　（３Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝　ｌｉ、５　Ｈ２）、　２．８
　（２Ｈ。

ａｄ　、　Ｊ　−３，０、Ｊ　＝　９　Ｈｚ　）　、　
３．１　（Ｉ　Ｈ。

６６　、　、Ｔ　−２，５Ｈｚ　、　Ｊ　＝　６．５　
Ｈ２）　、　３．７５　（３Ｈ、ｓ　）　、　３．８〜
４．６２　（６Ｈ、ｍ　）　、　４．８〜！ｔ４　（２
）Ｉ　ｔ　［ｎ　）　ｅ　５−６〜７．１　（Ｉ　Ｈｔ
　ｍ　）　１６．７〜７．５　（８Ｈ、ｍ　） Ｍａｓｓスペクトル　ｍ／８＋　４６９　（Ｍ”）参考
例１６ （３Ｅ＋、４Ｒ）　−３−［（ト））−１−（アリルオ
キシカルボニルオキシ）エチル］−４−４（フェニルチ
オ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン参考例１５
で得られたアゼチジノン体１４（１１９（ｏ、３ｍｍｏ
１）をアセトン２ｍｌ、水１−の混合溶媒に溶解させる
。室温にてかくはん下、セリツクアンモニウムナイトラ
イド８２２■（１５ｍｍｏｌ　）を加えて２時間反応さ
せる。酢酸エチル１００ｍＡを加え、水（２０ｍｔＸ２
）、５チ重ソウ水２０−１飽和食塩水２０−で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。酢酸エチルを留
去し、ローハーカラムクロマトニ付し、シクロヘキサン
：酢酸エチル（１：１）で溶出すると、目的とするアゼ
チジノン体　２５２９　（２４，０％　）が得られた。

ＮＭＲスペクトル　δｐｐｍ　： １．４　（３Ｈ’ｔ　ａ、　、　、Ｔ−６，５Ｈ２）　
、　２．８〜３．３（３Ｈ、ｍ　）　、３．８〜４．２
　（２Ｈ、ｍ　）　、４．４〜４．７　（２Ｈ、ｍ　）
　、４．８〜５．５　（２Ｈ、ｍ　）　。

５．６〜６．１　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、６．１〜６．３
　（Ｉ　Ｈ。

ｂｒｏａｄ、、ｓ　）　、７．３６　（５Ｈ、ｓ　）Ｍ
ａＢＢ　スペクトＡ、”／ｅ　：　３４９　（”）元素
分析 理論値　測定値 ０　５Ｂ、４　チ　５８１　チ Ｈ５，４８チ　５４９チ Ｎ４０１％　３８９チ ８９１５％　９３４チ 参考例１７ （３Ｂ、ＪＲ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４，−［（フェニ
ルチオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン（３ｓ
、４Ｒ）　−３−［（Ｆｊ）　−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメ（８２〕 チルシリルオキシエチル］−４−［（フェニルチオ）エ
チニルツー２−アゼチジノン（３，２Ｂ　、！／）の無
水塩化メチレン（７５，０ｙｄ　）溶液に、窒素雰囲気
中にて水冷攪拌下、トリフルオル酢酸（３，５ｆｆ１７
りを加え、水冷下で３０分間と更に室温で１．５時間攪
拌する。ついで、反応液を重曹（１，１４ｐ　）、水（
７５ｍｇ）及び酢酸エチル（３０〇−）からなる混液に
注加する。混合溶液を食塩で飽和させたのち分液して有
機層を分は取り、水層は酢酸エチルにて２回抽出操作を
行なう。

得られた有機層と酢酸エチル層を合わせて炭酸水素す）
　ＩＪウム水溶液と飽和食塩水で洗浄し、硫酸す）　Ｉ
Ｊウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去したのち得られる
残渣をシリカゲルカラムクロマトクラフィー（シクロヘ
キサン−酢酸エチル／３１１　）にて精製して目的とす
るチオエステル化合物（３，０９，９）を無定形固化物
として得た。

（収率ａｓ、ａ　ｑ６’） 工Ｒｘヘク）／ｌ／　ｖ　ＣＨＣ”　−’　：　１７６
５ｃＩｎ−’ａｘ ’ＮＭＲＸベクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：　０．
０７　（６Ｈ＋（８３） ｓ　）　、０．８７　（９Ｈ、ｓ　）　、１．２０　（
３Ｈ、ｃＬ　。

Ｊ　＝　６　）　、２．７−３．３　（３Ｈ、ｍ　）　
、３．８−４．４（２Ｈ、ｍ　）　、６．１２　（Ｉ　
Ｈ、ｂｓ　）　、７．３８　（５Ｈ＋　ｓ　） 参考例１８ （３８，４Ｒ）　−ａ　−Ｃ（Ｒ）　−１−ヒドロキシ
エチル）−４−［（フェニルチオ）カルボニルメチル〕
−２−アゼチジノン Ｈ （３８，４８）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−ヒドロキシエ
チル）−４−４（フェニルチオ）エチニルツー２−アゼ
チジノン（７１１１ｇ）の無水塩化メチレン（８−）溶
液に、窒素雰囲気中にて水冷攪拌下、トリフルオル酢酸
（１，１ｒｄ）を加え、水冷下で３０分間と更に室温で
１．５時間攪拌する。ついで、反応液を重曹（２，４４
ｇ）、水（１５−）及び酢酸エチル（３０ｍ）からなる
混液に注加する。混合溶液を食塩で飽和させたのち分液
して有機層を分は取り、水層は酢酸エチルにて２回抽出
操作を行なう。得られた有機層と酢酸エチル層を合わせ
て炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液と飽和食塩水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去したの
ち得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（シクロヘキサン−酢酸エチル／１：３）にて精製して
目的とするチオエステル化合物（２８１ｍｇ　）を得た
。酢酸エチル−〇−ヘキサンから町結晶。融点１２１．
５〜１２３５℃。（収率３６．５チ）。

工Ｒ（ＫＢｒ）　：　１７３０　ｃｒｎ−１ＨＭＲスペ
クトル（ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）δｐｐｔｎ　：　１２
３　（３Ｈｌ　ｃｌ　ｌ　Ｊ＝　６　）　、　２．７７
　（Ｉ　Ｈ、８）　、　２．８−３３　（３Ｈｒ　ｍ　
）　＋　３．８　４２（２Ｈ＋　ｍ　）　＊７．２５　
（Ｉ　Ｈ、ｂｓ　）　、　７．５０　（５Ｈ、ｓ　）参
考例１９ （３Ｂ、４Ｒ）　−３−Ｃ（ロ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−［（７
ｍ＝ｍニルチオルボニルメチル］−２−アゼチジノン （３８，４８）　−３−［（Ｒ）　−１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−４−〔（
フェニルチオ）エチニル）−２−１セチシ／　ン（４４
８■）の無水塩化メチレン（５ｒｎｌ）溶液に窒素雰囲
気中にて水冷攪拌下、トリフルオル酢酸（０，４ｍ６）
を加え、水冷下で３０分間と更に室温で１．５時間攪拌
する。ついで反応液を重曹（１，０１１）　、水（１０
ｍ）及び酢酸エチル（２０ｍｌ）からなる混液に江別す
る。混合溶液を食塩で飽和させたのち分液して有機層を
分は取シ、水層は酢酸エチルにて２回抽出操作を行なう
。得られた有機層と酢酸エチル層を合わせて炭酸水素す
）　ＩＪウム水溶液と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧で留去したのち得られる残
？ｆ　ｅシリカゲルカラムクロマト（８６） グラフィー（シクロヘキサン−酢酸エチル／１：１）に
て精製して目的とするチオエステル化合物（９５，０ｍ
ｇ　）を粘稠注油状物として得た。

（収率６３０％） 工Ｒスペクトル（ａａａｚ５）ν０ＨＯｔａ　＞−’　
：　１７７０σ−１ａｘ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐＨ）ｍ：　１．４
３　（３Ｈ。

ｄ、　、　Ｊ　＝　６　）　、　２．９−３．３　（３
Ｈ、ｍ　）　、　３．８−４２　（Ｉ　Ｈｌ　ｍ　）　
、　４．７−５．４　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　。

５．１３　（２Ｈ、ｓ　’）　、　６．４０　（Ｉ　Ｈ
、ｂｓ　）　。

７．３３　（５Ｈ、８）　、　７．７５　（４Ｈ、Ａ２
Ｂ２（Ｌ　ｌ△δ−４４Ｈ２，Ｊ＝９） 参考例２゜ １−（チアゾリジン−２−チオン−３−イル）　−１−
（）　ＩＪメチルシリルオキシ）エテノ８．２８．９の
へキサメチルジシラザンの無水テトラヒドロフラン２０
ｍ１溶液に１．６ミリモルのブチルリチウムのヘキサン
溶液を水冷下加えヘキ（８７） サメチルジシラザンのリチウム液を形成する。

ついで−７８℃に反応温度を下げ、５．５ｇのＮ−アセ
チルチアゾリジン−２−チオンの５５ｍｅテトラヒドロ
フラン溶液を加え、同温にて３０分間攪拌後、８．６−
のトリメチルシリルクロリドを加える。更に１．５時間
攪拌後、ゆっくり反応温度を０℃に上昇させる。析出し
た塩をすばやくｆ過し、更に塩をエーテルにて５％滌す
る。母液及び洗滌液を合せ、減圧下、溶媒を留去する。

析出した塩を再度エーテルにて洗滌後、セライトを用い
、ｒ過する。Ｐ液を溶媒留去後、粗生成物を蒸留し所望
の化合物７．２　Ｆを得た。

沸点　１７０”Ｃ／　１　ｍｍ　Ｈ２ ＮＭＲスペクトル（０ＤＯ４）８９１１１ｍ　＋　０．
２９　（０Ｈ５Ｘ３　、８　）　、　３．２９　（２Ｈ
、ｔ　、　Ｊ　＝　８　Ｈｚ　）　。

４．２４　（２Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　８　Ｈｚ　）　、
　４．３９　（Ｉ　Ｈ。

ｄ、　、　Ｊ　＝　２．５　Ｈ２）　、　４．５５　（
Ｉ　Ｈ、（１、Ｊ　＝　２．５Ｈｚ　） 参考例２１ １−（オキサゾリジン−２−オキソ−３−イル’）−１
−（）リメチルシリルオキシ）エテノ１２ｍ１のへキサ
メチルジシラザンのＴＨＦ　４０−液に１，６ミリモル
のブチルリチウムのヘキサン溶液３５．８．ｍ／を氷冷
下加え、シラザンのリチウム塩を形成する。ついで反応
温度を一７８℃に下げ、ｓ、ｐのＮ−アセチルオキサゾ
リジン−２−オンの５０　ｍｇ　ＴＨＦ液をゆっくり加
える。１時間攪拌後９．８２ｍのトリメチルシリルクロ
リドを加える。同温にて１．５時間攪拌後、ゆっくり反
応温度を０℃まで上昇させる。溶媒を減圧下留去し、析
出した塩をエーテルにて洗滌後、セライト１過し、ＩＰ
液を減圧下溶媒留去後、粗生成物を蒸留すると所望の化
合物５ｇを得た。

沸点　１００　Ｃ／　１　ｍｍ　Ｈｐ ＮＭＲスペクトル（Ｃ！ＤＯｔ３）δｐｐｍ　：　０．
２８　（ａ）（３ｘ３　、８　）　、　３．１−３．７
　（２Ｈ、ｍ　）　１３．８−４．３（”　＋　”　） 参考例２２ （３日＋４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−（ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−（チアゾ
リジン−２−チオン−３−イル）カルボニルメチル−２
−アゼチジノン （３Ｒ，４Ｒ）　−４−アセトキシ−３−［Ｉ（Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル
］−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン１、ＯＩ
を無水塩化メチレン２０ｍｅに溶解し参考例２０で得た
０−シリルケテンアセタール１．０３１１を加える。つ
いで水冷下すはや＜　０．０６−のトリフルオルメタン
スルホン酸トリメチルシリルエステルを加え、全反応液
を室温にて１８時間攪拌する。塩化メチレンを加えつい
で希塩酸水溶液、希重曹水、さらに食塩水にて反応液を
洗滌（９０） 後、減圧下溶媒留去し、残漬をシクロヘキサン：酢酸エ
チル−１：１の系にてシリカゲル分取ＴＬＯに付しＲｆ
＝　０．３に対応する所望の首記化合物１１２尻９を得
た。

融点　１２５℃（酢酸エチル：石油エーテル１；５より
再結晶）。

ＩＲスヘク）ルｖ　Ｋｐ、ｒ　’３２００　、１７３５
　、１６９０　。

ｆｆ ５２Ｏ ＮＭＲｘベクトル（ＯＤ０４５）δ１１１１）ｍ　：　
０．０Ｂ　（ＯＨ，Ｘ２　）　、　０．８５　（ｔｅｒ
ｔ−ブチル基）　＊　１２５　（ＯＨ，。

ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２．８５　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ　、　Ｊ
　＝４．５及び２．５　Ｈｚ　）　、　３．３５　（２
Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　７．５Ｈ２）　、　４．５５　（
２Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　７．５　Ｈ２）　、　３．５〜
４３　（４Ｈ）　、　６．３　（ＮＨ）元素分析　０１
６Ｈ２ｓＮ２０ｓ”２ｓｉとして計算値　［：！　、　
４９．４５　；　Ｈ、７，２６；　Ｎ　、　７．２１実
測値　０　、４９．６３　；　Ｈ、７，３０；　Ｎ　、
　７．２４参考例２３ （３Ｓ＋４Ｒ）　−３−［（”）　−１−（ｔａｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル）−４−（２−オ
（９１） キソオキサゾリジン−３−イル）カルボニルメチル−２
−アセチジノン （３Ｒｒ　４　Ｒ）　４−アセトキシ−３−〔但）−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシラエチルＩ
］−１−）ジメチルシリル−２−アゼチジ袢ノン１ｇを
無水塩化メチレン２０−に浴解し、参考例２１により合
成した０−シリルケテンアセタール１．３８．９を加え
る。水冷下すはや＜　０．０６　ｍ／のトリフルオルメ
タンスルホン酸トリメチルシリルエステルを加え、室温
にて１８時間攪拌、塩化メチレンにて希釈し、希重曹水
、ついで食塩水にて洗滌後、減圧下溶媒留去し、残漬を
６−のエタノールに溶解し、３３−のＫＦを加え、室温
にて１時間攪拌。酢酸エチルを加え、食塩水にて洗滌後
、減圧下溶媒留去。残渣をシクロヘキサン：酢酸エチル
−１：２の系にテシリヵゲル分取ＴＬＯに付しＲｆ　＝
　０．２に対応する所望化合物８５０■を得た。

融点　１０９℃ ＨＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）δｐｐｍ　？　０．０
８　（ＯＨ５Ｘ２　）　、　０．８７　（ｔｅｒｔ−ブ
チル基）　＋　１．２５　（ｏＩ（３、ｄ、　Ｊ　＝　
６　Ｈ２）　、　２．８７　（Ｉ　Ｈ、ｄ、ａ　、　Ｊ
　＝５　、２　Ｈ２）　、　３．１〜３．６６　（２Ｈ
、ｍ　）、　３．８〜４．６６　（６Ｈｌ　ｍ　）　、
　６．４６　（Ｉ　Ｈ、Ｎｕ　）元素分析　Ｃ４６Ｈ２
ＢＮ２０．８１として計算値　ａ　、　５３．９１　；
　Ｈ、７，９２；　Ｎ　、　７．８６実測値　ａ　、　
５４．１６　；　Ｈ、８，０３；　Ｎ　、　７．７４参
考例２４ （３Ｂ、４Ｒ）　−ａ　−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル］−１（（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチ
ル−２−７’ロペニル］−４−［（フェニルチオ）カル
ボニルメチル〕−２−アゼチジノン（３Ｒ，４Ｒ８）　
−４−アセトキシ−３−〔但）−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル〕−１−［（Ｒ）−１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル’）−２−メチル
プロブ−２−エニル〕−２−アゼチジノン８３１１１１
？　（０，１６０ｍｍｏｌｅ）と１−フェニルチオ−１
−（）リメチルシリルオキシ）エチレン５４■（０，２
４ｍｍｏｌｅ）を乾燥塩化メチレン３−に溶かし、トリ
フルオルメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル６
　ｍｇ　（０，０２７ｍｍｏｌｅ　’）を加え、窒素雰
囲気下７２時間静置する。反応終了後、反応液を希重曹
水にあけてクロロホルムで抽出する。クロロホルムを留
去して得られる残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマ
トグラフィー〔展開溶媒：ヘキサン−酢酸（４：１））
により精製し、目的物８６１９　（収（９４） 率８８チ）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル、　ＯＨＣ１５ｃｍ−”　：　１７５０
　（Ｓｈ）　＋ｄｘ １７４０　、１６９５ 比旋光度　〔α〕貨−５０°（０＝１．０４　、　ａＨ
ｅｚ５）ＮＭＲスペクト＃　（ａｎｃｚ５）δｐｐｍ　
：　０．０３　（３Ｈ。

８　）　ｒ　００６　（３Ｈ＋　ｓ　）　＋　０−８５
　（９Ｈｙ　８　）　＋１．１８　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ
　＝　６　Ｈｚ　）　、　１．８５　（３Ｈ。

ｂｒ、ｓ　）、　２．８６（ＩＨ，ｄｅｌ、、Ｊ＝１５
　、７Ｈ２）　、　３．００　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ、　Ｊ　
−５、２，５Ｈｚ　）　。

３．２０　（Ｉ　Ｈ、ｄ、ｄ　、　Ｊ　＝　１５　、５
．５　Ｈ２）　、　３．９〜４．６　（２Ｈ、ｍ　）　
、　４．７８　（Ｉ　Ｈ、８）　、　４．８７（Ｉ　Ｈ
、ｂｒ、ｓ　）　、　５．０２　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ。）　
、　５．２０（２Ｈ、ｓ　）　、　７．３６　（５Ｈ、
ｓ　）　、　７．４５　（２Ｈｔ　’　）　＋　８１６
　（２Ｈ、ｄ　）参考例２５ （３ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−
プロペニル］−４−４（フェニルチオ）カルボニルメチ
ル］−２−アゼチジノン（９５） ００ＰＮＢ （３Ｂ　＋　４　Ｒ）　３−［％）　１　ｔ　ｅ　ｒ　
ｖ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−１−４（Ｒ
）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２
−メチル−２−プロペニル）−４−［（フェニルチオ）
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン８６■を塩化メ
チレン１．５　ｍｌに溶かし、トリエチルアミン１５■
を加えて室温下１時間静置する。溶媒を留去して得られ
る残留物をベンゼン−酢酸エチル（２０：１）混合溶媒
に溶かし、シリカゲル１ｇのカラムを通して精製する。

目的物８４ｍｙ（収率９８％）を油状物として得た。

ＩＲスベクトルｖＣＨＣ１５ｃｍ−’　：　１７５０　
、１７１５（Ｓｈ、）ａＸ ６２５ 比旋光度　〔α〕背＋４６“　Ｃ０＝ｔ３２．　ｃＨａ
ｔ３］ＮＭＲスベクトル（ＯＤＯｔ５）δｐｐｍ　：　
０．００　（３Ｈ。

Ｓ　）　、　０．０５　（３Ｈ、８）　Ｉ　Ｏ，８Ｂ　
（９ＨＩ　Ｓ　）　１（９６） １．２５　（３Ｈ、ａ　、Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　、２
．００　（３Ｈ。

ｓ　）　、２．２０　（３Ｈ、ｓ　）　、２．９０　（
Ｉ　Ｈ、ｄ、　。

Ｊ　＝　６　、　２．５　Ｈｚ　）　、２．９５　（２
Ｈ、ｄ　、Ｊ　＝　６．５Ｈ２）　、４．１５　（Ｉ　
Ｈ、ｍ　）　、４．４０　（Ｉ　Ｈ、ｔｄ。

Ｊ　＝　６．５　、　２．５　Ｈｚ　’）　、５．２６
　（２Ｈ、Ｓ　）　、７．３３（５Ｈ、ｂｒ、）　、７
．５２　（２Ｈ、ａ、　）　、８．１７　（２Ｈ，ａ） 参考例２６ （３Ｂ、４Ｒ）　−３−〔但）−１−ヒドロキシエチル
］−ｔ−［１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）　−２−１チル−１−プロペニル〕−４−［（７ｚ＝
ルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン ００ＰＮＢ （３Ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−１−［（Ｒ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル〕−２−メチ
ル−２−フロベニル、１−４−［（フェニルチオ）カル
ボニルメチル〕−２−アセチジノン６４　ｍｇ　（０，
１０４ｍｍ０１ｅ　）をアセトニトリ／ｌ／　１．５　
ｍｌに溶かし、−１５℃で攪拌しながら三弗化ホウ素エ
ーテル錯体１５　ｍ９　（０，１０６ｍｍ：っ］、ｅ　
）を加える。

３０分後反応液に酢酸エチルを加えて煽釈し、希重曹水
で洗う。溶媒を減圧上留去し、得られる残留物をシリカ
ゲルの薄層クロマトグラフィーしベンゼン−酢酸エチル
（２：　３　’）　：］テＮ、ｌＩして、目的物４Ｅｌ
ｌ１７（収率９２％）を油状物として得た。

ＩＲスヘク）　／ｌ／　ｖ盟”：５ｃｙｎ−１：　３４
Ｂ０　、　ＩＴ４Ｂ　。

１７２Ｇ（Ｓｈ、）、　１７００（Ｓｈ、）　、　１６
２５ＮＭＲスベクトル（ｃＤｃｔ５）δｌ）ｐｍ　：　
１．２６　（３Ｈ。

ｄ　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　１．９９　（
３Ｈ、ｓ　）　、　２．２３（３Ｈ、Ｓ　）　、　〜２
．９５　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　２．９７　（２Ｈ、ｄ
、　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ）　、　３．９−４．５
　（２Ｈ。

ｍ　）　、　５．２４　（２Ｈ、ｓ　）　、　７．３５
　（５Ｈ、ｂｒ。

ｓ　）　、　７．４９　（２Ｈ、６）　、　８．１７　
（２Ｈ、ｄ、　）（９８） 参考例２７ （３”＋４Ｒ）　Ｉ　Ｃ’　−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル］−３
−［但）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル］−４−４（フェニルチオ）カルボニル
メチルクー２−アゼチジノン （３８，４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−ヒドロキシエ
チル］−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）−２−１チル−１−プロペニル〕−４−［（フェ
ニルチオ）カルボニルメチルクー２−アゼチジノン４４
■（０，０８８ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン２ｍ／！に
溶かし、０℃で攪拌しながら、４−ジメチルアミノピリ
ジン３２１ｎ９　（０，２６ｍｍｏｌｅ）ついでｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル（９９） クロリド５７１ｎ９　（０，２６ｍｍｏｌｅ　）を加え
る。同温度で３時間攪拌したのち、希Ｍ僧水にあけクロ
ロホルムで抽出する。クロロホルム層を希塩酸、希Ｍ曹
水で順次洗い、乾燥後溶媒を箱去する。

残留物をシリカゲルの薄層クロマトグラフィー〔展開溶
媒：ペンセンー酢酸エチル（３：１）〕により精製して
目的物２１１＋１？（収イ４３５ｑｂ）を油状物として
得た。

ＩＲ：ｘヘク）　／ｌ／　ｖＣＨＣ’５　ｃｍ−”　：
　１７５６　、１７２０ａｘ （Ｓｈ、）　、　ＨＯＧ（１３ｈ、’）　、　１６２５
ＮＭＲスペクト、ｎ、　（ＣＤＯｔｓ’）δｐｐｍ　：
　１．４１　（３Ｈ。

ｄ、　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　’）　、　１．９６
　（３Ｈ、Ｓ　）　、　２．２３（３Ｈ、ｓ　）　、　
２．９１　（２Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ）　、
　３．１１　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ、　、　Ｊ　＝　８．５　
、２．５　Ｈｚ　）　。

４．３１　（Ｉ　Ｈ、ｔ＋ｊ　、　Ｊ　＝　６．５　、
２．５　Ｈｚ）　、　５．０８Ｃ２Ｈ、８）　、　５．
２３　（２Ｈ、８）　、　５．１　（ＩＨ、ｍ　）　、
　７．３２　（５Ｈ、ｓ　）　、　７．３９　（２Ｈ。

ｄ　）　、　７．４９　（２Ｈ、ｄ、　）　、　８．１
５　（４Ｈ、ｄ、　）参考例２８ （ａｓ、４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−ｔ−（ｐ−二
トロペンジルオキシオキサリル）−４−［（フェニルチ
オ）カルボニルメチルクー２−アゼチジノン １）（３Ｓ、４Ｒ）−１−［１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル］−
ａ−ＣＦ）−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル］−４−［（フェニルチオ）カルボニ
ルメチル］−２−７ゼチジノン９７■を塩化メチレン１
ｏ−に溶かし、−７８℃でオゾンを吹き込む。反応液が
青味を帯びたら、窒素ガスを吹き込んで過剰のオゾンを
追い出す。ジメチルスルフィド０．１−を加えて反応液
を約５分間で室温に戻した後、減圧下濃縮する。残留物
をベンゼンに溶がし２回水洗し、乾燥後溶媒を留去して
、目的物９３　ｔｎｙ　（収率１００　％　）を固体と
して得た。ベンゼン−酢酸エチル混合溶媒より再結晶を
おこない融点１２９−１３０℃を有する純品を得た。

元素分析値　０ｓｏＨ２５０＋２Ｎｓ””として計１り
値：　０　、５５３０　；　Ｈ、３８７；　Ｎ　、　６
４５　；　Ｓ　、　４９２実測価：　ｃ　、　５５．４
９　；　Ｈ、３，９２；　Ｎ　、　６．３０　；　Ｓ　
、　４．８７エＲスペクト／ｌ／　ｖＱＲＯ］Ｃｒｎ−
’　Ｈ１Ｂ１０　、１７４８　。

１７２Ｂ　、　１７００　、１６９０（Ｓｈ、）比旋光
度　〔α］、、　−４８（０＝１．０２　、　ｔＨｅｚ
、）ＮＭＲスペクト＃　（ＯＤＯｔ、）δｐＩ）ｍ　：
　１．４３　（３Ｈ。

（］、　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　３．１２　
（Ｉ　Ｈ、ａｄ　、　Ｊ　＝１６　、８　Ｈ２’）　、
　３．５３　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ、　Ｊ　＝　１６　。

４　Ｈｚ　）　、　３．６６　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ　、　Ｊ
　＝　７　、３．’５　Ｈ２’）　、　４．５５　（Ｉ
　Ｈ、ｍ　）　、　５．１１　（２Ｈ、Ｓ　）　。

５．３５　（２Ｈ、ｓ　）　、　〜５．２　（Ｉ　Ｈ、
ｍ　）　、　７．５２（４Ｈ、ｄ）　、　８．１２　（
２Ｈ、ｄ　）　、　８．１６　（２Ｈ、ｄ−） Ｉｆ）　（３６，ＪＲ）　−ａ　−［（Ｒ）−１−（ｐ
−二トロペンジルオキシカルボニルオキシ〕エチル］−
４（１０２） −［（フェニルチオ）カルボニルメチル）−２−アゼチ
ジノン１．００　、！？　（２，２５ｍｍｏｌｅ）を塩
化メチレン２０−に溶かし、０℃で攪拌しながらジイン
プロピルエチルアミン３５０　ｍｙ　（２，７１ｍｍｏ
ｌｅ）ついでｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロ
リド６６０１４ｇ　（２，７１ｍｍｏｌｅ　）を加える
。１５分後さらにジイソプロピルエチルアミン２３０ｍ
＋９（１，７８ｍｍ０１ｅ　）とｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリルクロリド４３３■（１，７８ｍｍｏｌｅ
）を加えて１５分間同温度で攪拌する。反応終了後、０
１Ｍ−リン酸緩衝液（ｐＨ７，１）　３０　ｍｌを加え
て有機層を分離し、水層をさらにクロロホルムで抽出す
る。有機層を一諸にし溶媒を留去する。残留物をベンゼ
ン−酢酸エチル（１：　１　）　混合ｆａ媒５０−に溶
かし００２Ｎ−塩酸、水、５チ重曹水、飽和食塩水の順
に洗浄する。乾燥後、溶媒を留去して結晶性の目的物１
．４７　ｇ　（収率１００％）を得た。ベンゼン−酢酸
エチル混合溶媒から再結晶をおこない融点１２９−１３
０　’Ｃを有する純品を得た。

（１０３） 参考例２９ （３Ｂ、４Ｒ）−３（（ト））−１−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−１−［１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロポ
キンホスホラニリテンメチル］−４−［（７ｆｆ−ニル
チオ）カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （３Ｂ、４Ｒ）　−３−［但）−１−（ｐ−二トロベン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシオキサリル）−４−（（フェニルチ
オ）カルボニルメチル］−２−アゼチジノン１４７■（
０，２２５ｍｍｏｌｅ）と亜リン酸トリイソプロピ／Ｉ
／　２３４　ｙａ９　（１，１３ｍｍｏｌｅ　）をベン
ゼン３　ｍｌに溶かし、窒素気流下７０℃で１．５時間
攪拌する。溶剤を留去して得られる残留物をローバーカ
ラムＡ　（Ｋ、メルク社製）を用いて精製する。ベンゼ
ン−酢酸エチル（３：１）混合溶剤で溶出して目的物１
６１１ｇ（収率８５係）を油状物として得た。

ＩＲスヘク）　／ｌ／　ｖＣＨ”　ｃｍ−’　：　１７
４８　、１７００　。

ａｘ ６３０ 参考例３０ （ａｓ、４Ｒ）　−３−［：に）−１−ヒドロキシエチ
ル］−４−［１’ｌ２−（ｐ−二トロベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル）−１
−Ｉｌｌ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル〕−
２−メチル−１−７’ロペニル〕−２−アゼチジノン ０ＯＰＮＢ （３ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−［［２−（ｐ
−二トロベンジルオキシヵルボニルアミノ）エチルチオ
〕カルボニルメチル］−１−（１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル〕
−２−アゼチジノン１５０　ｙ、ｆ　（０，１９８ｍｍ
ｏｌｅ　）をアセトニトリル５　ｍＩＩに溶かし、水冷
攪拌下三弗化ホウ素エーテル錯体２８　ｍ９　（０，１
９７ｍｍＯ’１８　）を加える。２０分後２反応液に酢
酸エチル１０＋＋＋／を加え１漕水で洗浄する。乾燥後
、溶媒を留去して目的物１２５１１ｇ（収率９Ｂ％）を
油状物として得た。

ＩＲスヘク）＃　ｌ１０Ｈ”　ｃｍ−’　：　３４５０
　、３４００　。

ａｘ １７４７　、１７２０　、１７００（Ｓｈ、’）　、　
１６８ＯＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ３）δｐｐｍ　：
　１２５　（３Ｈ。

ｄ、　、　Ｊ　−６Ｈ２）　、　１．９４　（３Ｈ、８
）、　２．１’８（３Ｈ、ｓ　）　、　２．５〜３．６
　（７Ｈ、ｍ　）　、　３．８−４．５　（２Ｈ、ｍ　
）　、　５．１３　（２Ｈ、ｓ　）　。

５．２２　（２Ｈ、ｓ　）　、　５．４　（Ｉ　Ｈ、ｂ
ｒ　）　、　７．４２（２Ｈ、ｄ　）　、　７．５０　
（２Ｈ、ｃｌ　）　、　８．１４　（４Ｈ１ｄ） （１０Ｂ） 参考例３１ （３日＋４Ｒ）　−４Ｃ〔２−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ）エテルチオ〕カルボニルメチル
）−１−［１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）−２−メチル−１−プロペニル］−３−［（イ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル］−２−アゼチジノン （３Ｓ、４Ｒ）　−３−〔（Ｒ）　−１−ヒドロキシエ
チル］−４−〔〔２−（ｐ−二トロベンジルオキシカル
ボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル］−１−
［：１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２
−メチル−１−プロペニルクー２−アゼチジノン１２５
　ｒｕｇ　（０，１９４ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン
４−に溶かし、０℃で攪拌しなか（１０７） ら４−ジメチルアミノピリジン７　ｉ　Ｍｇ　（０，ｓ
ａｍｍｏｌｅ　）ついでｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルクロリド１２６■（０，５８ｍｍｏｌｅ　）を加
える。

反応液を室温にして１時間攪拌する。塩化メチレンを加
えて希釈し、飽和食塩水で洗浄して溶媒を留去する。残
留物をローバーカラムＢを用イ”’ｉ（精ｆｆ−１る。

ヘキサン−酢酸二ｆ　＃　（２：　３　）混合溶媒で溶
出して目的物８２ｍ＋！？［収率５１係）を油状物とし
て得た。工ＲおよびＮＭＲスペクトルは実施例１１で述
べる化合物のそれと一致した。

参考例３２ （３Ｂ、４Ｒ）　−４−Ｃ［２−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチ
ル］−３−（：（Ｒ）−１−（ｐ−二トロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−二トロペン
ジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン （ｔｏｅ） （３８＋４Ｒ）　−４−ＣＣ２−（ｐ−二トロベンジル
オキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチ
ル）−１−［１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−１−プロペニル］−３−［（Ｒ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル〕−２−ｙゼチジノン３１１ｇを塩化メチレン１５コ
に溶し一７８℃でオゾンを５分間通じる。同温度で１５
分間靜装した後、窒素ガスを通じて過剰のオゾンを追い
出す。ジメチルスルフィド５０ｍｇを加えて反応液を約
１０分間で室温にしたのち、溶媒を留去する。残留物を
ベンゼンに溶かし、２回水洗したのち乾燥し減圧下溶媒
を留去して目的物２７ｍｙ（収率９０チ）を油状物とし
て得た。

ＩＲスヘク）　ルｖＣＨ”’ｃｒｒＬ−’　７１８０Ｂ
　、　１７４９　。

ｄｚ １７１Ｂ（ｂｒ、）　ｔ　１７００（ａｈ、）　＋　１
６８２（Ｓｈ−）（１ｎＱ） ＮＭＲスペクト＃　（ＣＤＣ７，）δｐｐｍ　：　１．
４０　（３Ｈ。

ｄ、、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ）、２．７−３．７　（
７Ｈ、ｍ　）　。

４．５　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、５．１３　（２Ｈ、ｓ　
）　、５．１９（２Ｈ、ｓ　）　、５．３５　（２Ｈ、
ｓ　）　、４．９−５．４（２Ｈ、ｍ　）　、７．４３
　（２Ｈ、ｄ　）　、７．４６　（２Ｈ、ｄ　）　、７
．５０　（２Ｈ、ｃｌ　）、　８．１５　（２Ｈ。

ｄ）　、８．１７　（４Ｈ、ａ　） 参考例３３ （３８，４Ｒ）　−４−Ｃ［２−（ｐ−二トロベンジル
オキシカルポニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチ
ル〕　３−４（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシヵルボニル）トリイソプロボキシホスホ
ラニリテンメチル〕−２−アゼチジノン （１１０） （３Ｂ、４Ｒ）　−４−〔Ｃ２−（ｐ−二トロベンジル
オキシ力ルポニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチ
ル］−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−二トロベンジ
ルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン１６５　＊９
　（０，２０７ｍｍｏ］、ｅ　）と亜すン酸トリイソプ
ロビル２１５　ｍ９　（１，０４ｍｍｏｌｅ　）をトル
エン３　ｍｌ中、窒素気流下８０℃で１．５時間加熱攪
拌する。溶剤を留去して得られる残留物をローバーカラ
ムＡ　（Ｅ、メルク社製）を用いて精ｉする。ベンゼン
−酢酸エチル（１：１）？１溶剤で溶出して、目的物１
８２■（収率８９　％　）を油状物として得た。

ＩＲＸヘク）　Ａ、ｖＣ””５　ａｍ−’　：　３４５
０　、１７４５ａｘ （ｂｒ、）　、　１６８２　、１６３２参考例３４ （ＳＲ，６Ｂ”）　−２−（：　２−　（Ｔ）−二トロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチオ）−６−
［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕カルバペンー２−エム−（１１１） ３−カルボン酸　ｐ−ニトロベンジルエステル（３Ｓ、
４Ｒ）　−４−〔〔２−（ρ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル］−３
−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル］−１−Ｉ１１−（ｐ−二トロベンジ
ルオキシ力ルボニル）トリイソプロピルオキシホスホラ
ニリテンメチル〕−２−アゼチジノン４８１ｇとハイド
ロキノン３　ｍｇをキシレン５−中、窒素気流下１２０
℃で１３時間加熱する。キシレンを減圧上留去して得ら
れる残留物をローバーカラムＡを用いて精製する。クロ
ロホルム−酢酸工ｆル（２：１）混合溶媒で溶出して得
られる粗結晶をベンゼン−酢酸エチルから再結晶して融
点１４８−１５０℃の無色プリズム晶１９ｘｙ（収率５
１チ）を得た。

元素分析値　０Ｒ４Ｈ！１１ｃｈ６Ｎ５Ｂとして計算値
：　０　、５３３３　；Ｈ，４，０８；Ｎ、　９．１５
　；８　、４．１９実測値：　Ｃ、５３１’９　；Ｈ、
４，０７；　Ｎ　、　９．１３　；　Ｅ！　、　４．４
３工Ｒスペクトル　ν”””　！−’　：　３４５０　
、１７８０　。

ａｘ １７４０（Ｓｈ、）　、　１７１８　、１７００（Ｓｈ
。）比旋光度　［α］９＋６６　（（３−０，８１、ｃ
Ｈｅｚ５）ＮＭＲスペクトル（ＯＤｏ　ｔ　５　）δｐ
ｐｍ　７１．４７　（３Ｈ＋ｄ　、　Ｊ　−６Ｈｚ　）
　、　２．７〜３．７　（７Ｈ、ｍ　）　。

４．２Ｇ　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　〜５．１　（Ｉ　Ｈ
、ｍ　）　。

５．１６　（２Ｈ、Ｂ　）　、　５．２２　（２Ｈ、Ｓ
　）、　５．１８（Ｉ　Ｈ、ａ　、　Ｊ　＝　１４　Ｈ
ｚ　）　、　５．４７　（Ｉ　Ｈ、ａ、　Ｊ　＝　１４
　Ｈｚ　）　、　７．４５　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．
４９　（２Ｈ、ｄ　）　、　７．６０　（２Ｈ、ｄ）、
　８．２０　（６Ｈ、ａ） 参考例３５ （３Ｂ、４Ｒ）　−ａ−Ｃ（Ｒ）　−１−ヒドロキシエ
チル）−４−［［：（Ｓ）−１−［Ｎ−（ｐ−二トロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル］ピロリジ
ン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−ｔ−［ｔ−（
ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル）−２−メチル−
１−プロペニル］−２−アゼチジノン （３Ｓ、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル］−４−［（Ｅ＋）−
１−（Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル］ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル）−１−［１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）−２−メチル−１−プロペニルツー２−アゼ
チジノン５１１１１１１？（０，６２ｍｍ０１ｅ　）を
アセトニトリル２０ｍ１Ｋ溶かし、水冷攪拌下三弗化ホ
ウ素エーテル銘体１７６■（１，２４ｍｍ０１ｅ　）を
加える。反応液を室温にして２５時間後、酢酸エチルを
加えて希釈し重曹水で洗浄する。乾燥後溶媒を留去して
４６２ｍｙｃ収率１０５％）の目的物を得た。

（１１４） ＣＨＯｌ、５　−１　。

工Ｒスペクトル　ν　口　、　３５００　、１７４９　
。

ａｘ １７１８　、　１６７４ ＭＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）δｐｐｍ　：　１．２
４　（３Ｈ。

ａ　、Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　、１．９４　（３Ｈ、ｓ
　）　、２．１９（３Ｈ、ｓ　）　、２．２８　（３Ｈ
、ｓ　）　、１．７−２．５（２Ｈ１ｍ　）、２８７　
（２Ｈ、ｄ　、Ｊ−６５Ｈ２）　、３．１〜４．５　（
８Ｈ、ｍ　）　、５．１５　（２Ｈ。

ｓ　’）　、　５．２２　（２Ｈ、ｓ　）　、　７．４
９　（２Ｈ、ａ　）　、　’７．５１　（２Ｈ、ｄ　）
　、８．１３　（２Ｈ、ｄ　）　、８．１７（２Ｈ＋　
ａ　） 参考例３６ （３８，４Ｒ）−４−［［（Ｓ）−１−［Ｎ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−１−Ｉ
ｌｌ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−
メチル−１−プロペニル］−３−［但）−１−（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−２−
アゼチジノン （１１５） ０ＯＰＮＢ （３８，４Ｒ）　−３−〔（６）−１−ヒドロキシエチ
ル）−４−［［（Ｓ）−１−［”−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）アセトイミドイル］ピロリジン−
３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−［１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−
プロペニルツー２−アゼチジノン５６　ｒＡ９　（０，
０７９ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン１．５−に溶かし、
０℃で攪拌しなから４−ジメチルアミノピリジン２９１
１９　（０，２４ｒｎｍｏ’ｌｅ　）ついでｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルクロリド５１ｍｇ　（０，２
４ｍｍｏｌｅ　）を加える。反応液を室温に戻して３時
間攪拌する。塩化メチレンを加えて希釈し、食塩水で洗
浄する。乾燥後溶媒を留去し、得られる残留物をシリカ
ゲルの分収用薄層クロマトグラフィーし展開溶媒；ヘキ
サン−酢酸エチル（１：Ｓ）］で精製して目的物３０ｍ
ｙ　（収率４３チ）を油状物として得た。出発原料９ｉ
ｙ（１４チ）が回収された。

工Ｒｘベクトルｖ０Ｈ０”　ｃｍ−’　：　１７５６　
、１７２０（Ｓｈ、）。

ａｘ ６７７ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ４５）δｐｐｍ　：　１．４
１（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ　）　、　１．９４　（３Ｈ、
ｓ　）　、　２．２１（３Ｈ、８）　、　２．２７　（
３Ｈ、Ｂ　）　、　１．７−２．５（２Ｈｔ　ｍ　）　
、　２．８１　（２）１　、　ｄ、　、　Ｊ　−６，５
Ｈｚ）　、　３．０６　（Ｉ　Ｈ、ｄａ　、　Ｊ　＝　
７．５　、２　Ｈｇ　）　。

３．２〜４．１　（５Ｈ、ｍ　）　、　４．２６　（Ｉ
　Ｈ、ｔｄ　。

Ｊ　＝　６．５　、２　Ｈｚ）　、　〜５．１　（Ｉ　
Ｈ、ｍ　）　、　５．１８（４Ｈ、ｓ　）　、　５．２
３　（２Ｈ、ｓ　）　、　７．４６　（２Ｈ、ｉｉ　）
　、　７．５０　（４Ｈ、ｔｌ　）　、　８．１３　（
２Ｈ。

ｄ）、［１Ｂ（４Ｈ，，１） 参考例３７ （３Ｒ，４Ｒ）　−１−（ヒドロキシ（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）メチル）−４−［［（Ｓ）−１
−１１Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル］−３−１）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン （３８，４Ｒ）−４−［［（Ｓ）−１−［Ｎ−（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ヒ
ロリシン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−３−’
Ｃ但）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル〕−２−アゼチジノン９５０■（１，４５
ｍｍｏｌｅ）、ｐ−ニトロベンジルグリオキシレート水
和Ｔｈ　４Ｂ２１１９　（２，１７ｍｍｏｌｅ　’）、
モレキュラーシープ−４Ａ９ｇ、トリエチルアミン１８
　ｍｇ　（０，１７ｍｍｏコ−ｅ　）、テトラヒドロフ
ラン２０ｔｄの混合物を室温で３時間攪拌する。反応終
了後、反応液を１過し、Ｐ液より溶媒を留去する。得ら
れた残留物をローバーカラムＢを用いて精製する。ベン
ゼン−酢酸エチ（１１８） ル（１：５）混合溶媒で溶出して目的物９７０■（収率
７７チ）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル　ν０Ｈ”’ａｍ−’　：　３４００　
、１７４Ｂ　。

ａｘ ６７５ ＮＭＲスペクト／Ｉ／　（ＣＤＣ４５）δｐｐｍ　：　
１．３７　（３Ｈ。

ｄ　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　１．７〜２．
５　（２Ｈ、ｍ　）　１２．２７　（３Ｈ、ｓ　）　ｒ
　２７−３２　（３Ｈ＋　ｍ　）　＋３．３〜４．３　
（６Ｈ、ｍ　）　、　５．１５ｃｕａｄ５．２７　（２
Ｈ。

８　）　、　５．１９　（４Ｈ、Ｓ　）、　４．８−５
．６　（２Ｈ。

ｍ　）　、　７．５１　（４Ｈ、ｄ　’）　、　７．５
３　（２Ｈ、ｄ　）　。

８．１７　（２Ｅ（、ａ　）、　８．２０　（４Ｈ、ａ
　）参考例３８ （３Ｓ、４Ｒ）−４−［：（Ｓ）−ｔ−［Ｎ−（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−３−〔
但）　−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル］−１−［＋ｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリル〕−２−アゼチジノン （１１９） １）　（３Ｂ、４Ｒ）−４−［［：（Ｓ）−１−［Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミド
イル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］
−１−Ｃ１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）
−２−メチル−１−プロペニル］−３−［伸）−１−（
ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕
−２−アゼチジノン３４■（０，０３８ｍｍｏｌｅ　）
を塩化メチレン１０ｒｄＫ溶かし、−７８℃でオゾンを
３分間吹き込む。同温度で１０分間靜装したのち審累ガ
スを吹き込んで過剰のオゾンを追い出す。ジメチルスル
フィド５０１ｇを加えて反応液を約１０分間で室温に戻
し、氷−水にあける。クロロホルム層を分離し水洗乾燥
後溶媒を留去して目的物３３　ｍｇ　（収率１ｏｏ　％
　’）を油状物として得た。

ａｎａｚ３　−１　。

工Ｒスペクトル　ν　α　、　１８１０　、１７５３　
。

ａｘ １６８２（ｂｒ、） ＮＭＲスペクト／ｌ／　（ＣＤＣ４５）δｌ）Ｉ）ｍ　
：　１．４２　（３Ｈ。

６　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）、　１．８−２．５
　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．２６　（３ＨＴ　８　）　、２．８〜４２　（８Ｈ
Ｔ　ｍ　）　＋〜４．５　（Ｉ　Ｉ（、ｍ　）　、５．
１７　（２Ｈ、８）　、５．２１（２）１　、　８　）
　ｔ　５．３了　（２Ｈ，ｓ）、〜　５２　（１Ｈ、ｍ
　’）　、　７．５２　（６Ｈ、ｂｒ、　（１）　、　
８．１５　（２Ｈ＋　ａ　’）　＋　ａｌｓ　（４Ｈ、
ａ　）１１）塩化メチレン５−にオキサリルクロリド１
１０禦９　（０，８７ｍｍｏｌｅ）を溶かし、窒素気流
下−１８℃でジメチルスルホキシド１３７　ｘ９　（１
，７５ｍｍｏｌｅ）を加える。１０分間攪拌したのち（
３Ｒ，ＪＲ）　−１−（ヒドロキシ（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）メチル）−４−〔〔（Ｓ）−ｔ−
（ｗ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセト
イミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル］−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシ）エチル）　−２−７セチジノ：ｙ
　５００　ｍｇ　（０，５７７ｍｍｏｌｅ　）を塩化メ
チレン５−に溶かした溶液を約２分間で加える。５分間
攪拌した後、トリエチルアミン２５Ｇ　ｌ１１９　（２
，４８ｍｍｏｌｅ　）を加えさらに１５分間攪拌する。

０．１Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ７，１）約３０７！を加え
て攪拌し、塩化メチレンで抽出する。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を留去する。

得られた残留物をシリカゲル１ｏｇｖ用いるカラムクロ
マトグラフィーに付す。ベンゼン−酢酸エチル（２：１
〜１：１）混合溶媒で手早く溶出して目的物３５０　ｖ
ｎｙ　（収率７０％）を油状物として得た。工Ｒおよび
ＮＭＲスペクトルは上で得られた化合物のそれと一致し
た。

参考例３９ （３Ｂ、４Ｒ）−４−［〔（Ｅｌ）−１−［Ｎ−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−３−
［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチルＥ−１−［：１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）トリイソプロポキシホスホラニリデ
ンメチル〕−２−アゼチジノン （１２２） ００ＰＮＢ （３Ｓ、４Ｒ）　−’　ＣＣ（Ｓ）　−’　−ＣＮ−（
ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）−
３−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル］−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキサリル）−２−アゼチジノン４３０■（０，４９
７ｍｎｏｏｌｅ　）、亜リン酸トリイソプロピル５１７
　ｔｎ９　（２，４９ｍｍｏｌｅ）をトルエン１０ｍｇ
に溶かし、窒素気流下９０℃で２時間加熱する。溶媒を
減圧下留去して得られる残留物をローバーカラムを用い
て精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール（
３０＋１０１）混合溶媒で溶出して目的物４４７１１１
？　（収率８５チ）を油状物として得た。工ＲおよびＮ
ＭＲスペクトルは実施例１３で述べる化合物のそれと一
致した。

（１２３） 参考例４０ （５Ｒ＋６８）　−２−〔（Ｓ）　’　ＣＮ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ）−６−１［）−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕カルバ
ペンー２−エム−３−カルボン酸　ｐ−ニトロベンジル
エステル（ａｓ、４Ｒ’）−４−［［（Ｓ）−ｔ−［Ｎ
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミ
ドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル
］−３−４（ロ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシ）エチル］−１−［１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）トリイソプロポキシホスホラ
ニリデンメチル〕−２−アゼチジノン１００■、ハイド
ロキノン６１Ｉ９をトルエン１〇−中、窒素気流下１１
０℃で２４時間加熱する。減圧下トルエンを留去して得
られる残留物を、ローバーカラムＡを用いる液体りシマ
トゲラフイーで分離精製する。クロロホルム−酢酸エチ
ル−メタノール（１０：３０　：１）混合溶媒で溶出し
、目的物４１■（収率５２％）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル　シ０ＨＯｔ５α−’　：　１７８０　
、１７４４　。

ａｘ １６９０（ａｈ、）　、　１６７６ 比旋光度　〔α〕ゎ＋６８　（０＝［１，１？　、　ａ
Ｈａｔ５）ＮＭＲスペクトル（ＯＤＯｔ５）δｐｐｍ　
？　１．４８　（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　２．３１　（３Ｈ
、ｓ　）　、　１．８〜２．６　（２Ｈ、ｍ　）　、　
３．０〜４．５　（９Ｈ、ｍ　）　。

５．１６　（２Ｈ、ｓ　）　、　５．２０　（２Ｈ、ｓ
　）　、　５．１４（Ｉ　Ｈ＋　ｄ、　＋　Ｊ−１４Ｈ
ｚ　’）　１５．４３　（Ｉ　Ｈ、ａ、Ｊ−１４Ｈ２）
、　〜５．２（ＩＨ，ｍ）、７．５０（４Ｈ、ｄ　）　
、　７．５７　（２Ｈ、ｄ　）　、　８．１７　（６Ｈ
＋　ａ　） 参考例４１ （ＳＲ，６Ｂ）　−２−［（Ｓ）−１−（アセトイミド
イル）ピロリジン−３−イルチオ］−６−４（Ｒ）−１
−ヒドロキシエチル〕カルバベン−２−エム−３−カル
ボン酸 （ＳＲ，ａＳ）　−２−［（８）−１−［Ｎ−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ］−６−［但）−ン酸　ｐ−ニ
トロベンジルエステル４ａｓ巧ｅテトラヒドロフラン２
５−および０．１　Ｍ−リン酸緩衝液（＋）Ｈ７，１）
　２５　ｍｌの混合溶液に溶かし、１０％パラジウム−
炭素１．４ｇを加え、常圧水素下、７０分間攪拌する。

反応終了後、触媒をｉ：Ｔ過して除き、Ｐ液に上記緩衝
液１５ｍｅを加えて酢酸エチルで洗浄する。水層を室温
減圧下、約−まで濃縮したのち、ＨＰ２０ＡＧ（三菱化
成（１２６） 社製）１５づを用いるカラムクロマトグラフィーに付し
、３％アセトン−水で溶出するフラクションを集め、保
給乾燥をおこなって白色粉末状の目的物１１ｓｇｙ（収
率５８％）を得た。

ＩＲｘヘク）　Ａ、ｖＫＢｒｃｒｎ−’　？　３４００
　、１７６０　。

１Ｉａｘ ６７５ ＮＭＲＸベクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　：　１．２９　
（３”　＋　ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈｚ　）　、　１
．８〜２．７　（２Ｈ、ｍ　）　。

２．２９　（３Ｈ、ｓ　）　、　３．２２　（２Ｈ、ｄ
、　’：ｆ＝９．５Ｈｚ）。

３、う　へ　４．４（１？Ｈ７罹　ン 参溝側４２ （ＳＲ，６Ｂ）　−２−［（Ｒｉ　１−　（アセトイミ
ドイル）ピロリジン−３−イルチオ］−６−１［）−１
−ヒドロキシエチル〕カルバペン−２−エム−３−カル
ボン酸 （１２７） 実施例１４で述べる（３Ｂ、４Ｒ）　−４−［［（ハ）
）−１−ＣＮ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カル
ボニルメチル］−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−二トロペン
ジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−１−１：１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロ
ポキシホスホラニリデンメチル〕−２−アゼチジノンを
参考例４０で述べた方法にしたがって激化反応に付し、
得られた（ＳＲ，６ｓ）−２−［Ｉ（Ｒ）−１−〔Ｎ　
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミ
ドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−６−［（Ｒ）−
１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルポニルオキシ）エ
チル〕カルバペンー２−エム−３−カルボン酸　ｐ−ニ
トロベンジルエステルを参考例４１で述べた方法によっ
て保護基を除去し、融点２０８〜２１０℃（分！”ｌを
有する白色結晶の目的物に導いた。

ＩＲｘヘク）　ルｖＫＢｒｃｍ−’　：　３４００　、
１７６０　。

ａｘ ６７５ ＮＭＲＸベクトル（Ｄ２０）δｐｐｍ　：　１．２９　
（３Ｈ。

ｄ、Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、１．８〜２．７　（２
Ｈ、ｍ　）　。

２．２９　（３Ｈ、ｓ　）　、２．９〜４．４　（１０
Ｈ、ｍ）実施例１ （３Ｓ、４Ｒ）　−１−〔ｐ−メトキシベンジル〕−４
−ＩＩ［：（Ｓ）−１−ＣＮ−（ｐ−二トロベンジルオ
キシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−
イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−〔（ロ）−１−（
ｐ−二トロペンジルオキシカルポニルオキシ）エチル〕
−２−アゼチジノン参考例７で得られたアゼチジノン体
２１９■（０，３９ｍｍｏｌ）　を乾燥塩化メチレン５
ｍ１Ｋ溶解させ、室温下撹拌し、（８）−３−メルカプ
ト−１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）アセトイミドイル〕ピロリジン２５０　Ｈ９（０，７
７ｍｍｏ１）　を添加し、さらに触媒量のトリエチルア
ミンを添加後、同温にて一夜反応させる。

反応終了後、溶媒を留去し、ローバーカラムに付し、酢
酸エチルで溶出すると、目的とするアゼチジノン体２７
６　Ｈ９（９１，５％）が得られた。

０５７Ｈ５９Ｎ５０１２Ｓ ＮＭＲスペクトル（ＣＤ　ＯＬ５　）δｐｐｍ　：１．
３９　（３Ｈ、ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈ２）　、　２．１３
　（３Ｈ。

ａ　、　Ｊ　＝　３．７　Ｈ２）　、　３．６　（２Ｈ
、ｍ　）　、　３．６　（ＩＨ，ｍ）、３．２〜５．２
（１０Ｈ，ｍ、（３Ｈ。

８　、３．７３　）　）　、　５．１９　（２ＨＩ　Ｓ
　）　？　５．２１　（２Ｈ、ｓ　）　、　６．６〜ｙ
、７　（２Ｈ、ｍ　）　＋　７．４〜８３（４Ｈ，ｍ） 実施例２ （３ｓ、４Ｒ）−４−ｆｌｕ（Ｅｌ）−１−［ＩＮ−（
ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイ
ル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル］−
３−［Ｒ）−１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン（１３Ｇ） 参考例８で得られたアゼチジノン体１１５■（０・２８
　ｍｍｏｌ　）を乾燥塩化メチレン５ｒｎｌに溶解し、
（Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン
１２５　Ｈ９（０，３８６ｍｍｏｌ　）を添加し、室温
にて攪拌下、トリエチルアミン触媒量を加えて、−夜攪
拌反応させる。

反応終了後、溶媒を留去しローバーカラムによシ、酢酸
エチルで溶出すると目的とするアゼチジノン化合物が１
６８　ｍｙ　（９８，０％）得られた。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　：１．４２
　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６−辷Ｈ２）　、　２．２
８　（３Ｈ、ａ　、　Ｊ　−３，６Ｈ２）　、　８．８
　（２Ｈ、ｄ、　、　Ｊ＝　６．５　Ｈｚ　）　、　３
．５　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　７．２　）　、　１．５〜４
．２（７Ｈ、ｍ　）　、　５．０４　（Ｉ　Ｈ、ｔｌ　
、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）５．１８　（２Ｈ＋　ｓ　
）　＋　５．２２　（２Ｈ９ｓ　）　＠　６．Ｔ（１３
１） （Ｉ　Ｈ、ｓ　）　、７．４〜８．３　（８Ｈ、ｍ　）
実施例３ （３８，４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）−１−（アリルオキシ
カルボニルオキシ）エチル）−１−〔ｐ−メトキシベン
ジル）−４−［［（Ｅｌ）−１−［：Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル］ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチ
ジノン 参考例１５で得られたアゼチジノン体４６１１１１？（
０，９８［１１０１）を乾燥塩化メチレン５−に溶解し
、（Ｅ３）−３−メルカプト−１−ＩＮＮ−（ｐ−二ト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン９６９１１９　（３ｍｍｏｌ　）　を添加し、さ
らに触媒量のトリエチルアミンを添加後、室温下−夜装
置する。

反応終了後、溶媒を留去し装置をローバーカラムクロマ
トに付し、酢酸エチルで溶出すると目的とするアゼチジ
ノン体５４６■（１６７％）が得られた。

ＮＭＲＸベクトル（ＣＤＣｌ５）δｐｐｍ　：１．４　
（３Ｈ、ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　２．９　
（３Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　３．６　Ｈ２）　、　２．６〜２．８　
（２Ｈ、ｍ　）　。

３〜３．２　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　３．２〜４．５　
（１０Ｈ、ｍ）　１　３．７５　（３Ｈ、８）　、５．
０　（Ｉ　Ｈ、ｔ　、　Ｊ＝　７．０　Ｈ２）　、　５
．１８　（２Ｈ、ｓ　）　、　５．２４〜５．５（２Ｈ
１ｍ）、５．６〜６０８（１８９ｍ）、６．７〜８．２
　（８Ｈ、ｍ　） 実施例４ （３Ｂ、４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）−１−（アリルオキシ
カセトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボ
ニルメチル〕−２−アゼチジノン参考例１６で得られた
アゼチジノン体１１５ｉ９（０，２６ｍｍｏｌ　）、（
Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン１
２５　ｍｇ　（０，３８６ｍｍｏｌ）を乾燥塩化メチレ
ン５−に溶解し、触媒量のトリエチルアミンを添加後、
室温下−夜反応させる。溶媒を留去し、ローバーカラム
クロマトに付し、酢酸エチルで溶出すると、目的とする
アセチジノン体１６８ｉｙ（９８％）が得られた。

ＮＭＲスヘクト／ｌ／　（ＯＤａ　１５　）δｐｐｍ　
：１．３８　（３Ｈ、ｃ］、　、　Ｉ　＝　６．５　Ｈ
２）　、　２．２６　（３Ｈ。

ｅＬ　、　Ｊ　＝　３．６　Ｈｚ　）　、　２．７〜３
．１　（３Ｈ、ｍ　）　。

３．２〜４．４　（８Ｈ、ｍ　）　、　４．５〜４．６
２　（２Ｈ、ｍ（１３４） （Ｉ　Ｈ、８）　、７．３６〜８．２　（４Ｈ、ｍ　）
実施例５ （３８，４Ｒ’）　−３−［：　（Ｒ）　−１−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−［（Ｓ
）−１−（≠＝ｐ−ニトロベンジルオキシ力ルポニルビ
ロリジン−３−イル）チオカルボニルメチルクー２−ア
ゼチジノン 参考例１７で得られたアゼチジノン体１９１■（０，５
０ｍｍｏｌ　’）を乾燥塩化メチレン５−に溶解させ、
室温下攪拌し、（Ｓ）−３−メルカプト−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン１５９１Ａ
９　（０，５６ｍｍｏｌ　）を添加し、でらに触媒量の
トリエチルアミンを添加後、リフラックスにて３　ｂｒ
反応させたのち一夜反応させる。

反応終了後、溶媒を留去し、残置を酢酸エチル４０ｍ／
！に溶解し、水（１０ｍ／Ｘ２）、飽和食塩水（１３５
） で順次、洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。

硫酸マグネシウムを１去し、酢酸エチルを減圧にて留去
し、得られた油状物をローバーカラムクロマトに伺［７
、酢酸エチルで溶出すると、目的とするアゼチジノン体
２５３１９　（９１，２％　）　カ得られた。

Ｃ２５Ｈ５ｙＮｓＯｙＢＢｉ 融点９８〜１００℃ ＮＭＲスペクトル　δｐｐｍ　： ０．０７　（６Ｈ、Ｓ　）、　０．８７　（９Ｈ、Ｓ　
）　、　１．１７（３Ｈ、ｄ−、Ｊ　＝　６　Ｈ２）、
　１．６７〜２．６２　（３Ｈ、ｍ　）　、　２．７０
〜４．２７　（９Ｈ、ｍ　）　＋　５．１８　（２Ｈ、
ｓ　）　、　６．３０　（Ｉ　Ｈ、ｂｓ　）　、　７．
４７　（２Ｈ，６，、Ｊ＝８Ｈ２）、８．１７（２Ｈ，
ｄ、Ｊ−８Ｈ２） 工Ｒスペクト／ｌ／　（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：１６０
０　、１７００　、１７７０　、３０００〜３３００実
施例６ （３８，４Ｒ）　−３−（Ｒ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル）−４−［Ｉ［１１Ｓ）−ｉ
−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル　ピロリジン−３−イルコチオカルボニル
メチル〕−２−アセチジノン参考例１７で得られたアゼ
チジノン体３Ｂ２１１９（１，０１ｍｍｏｌ）を乾燥塩
化メチレン１０−に溶解させ、室温下攪拌し、（８）−
３−メルカプト−１−［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン３５７　
Ｉｌｇ（１，１０ｍｍｏ１）を添加し、さらに触媒量の
トリエチルアミンを添加後、同温にて２ｈｒ反応させた
のち、３ｈｒリフラツクスさせる。反応終了後、溶媒を
留去し、残虐を酢酸エチル４０−に溶解し水（１０ｒｎ
ｌＸ２）、飽和食塩水で順次、洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。硫酸マグネシウムをＰ去し、酢酸エチル
を減圧にて留去し、得られた油状物をローバーカラムク
ロマトに付し、酢酸エチルで溶出すると目的とするアゼ
チジノン体５１４翼９　（８６，１チ）が得られた。

ＮＭＲスペクトル　δｐｐｍ　： ０．０８　（６Ｈ、Ｓ　）　、　０．８８　（９Ｈ、８
）　、　１．２０（３Ｈ、ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　
１．８２〜２．５８（６Ｈ、ｍ　、　（３Ｈ、ｓ　、　
２．３０　）　）　、　２．７２〜４．３３（９Ｈ、ｍ
　）　、　５．２０　（２Ｈ、ｓ　）　、　６．２８　
（ＩＨ、ｂｓ、　）　、　７．５３　（２Ｈ、（］、　
、　Ｊ　＝　８　Ｈ２）　。

８．１８　（２Ｈ、ｄ、　、　Ｊ　＝　８　Ｈ２）工Ｒ
スペクトル　ｃＩＬ−’　：　（ＫＢｒ）１６００　、
１６４Ｇ　、　１６９０　、１７６０　、３０５０〜３
５００実施例７ （３Ｅ＋、４Ｒ）　−３−［（Ｒ）　−ｔ　−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル：３−４−［
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）　ヒロＩ
Ｊジンー３−イル）チオカルボニルメチル−２−アゼチ
ジノン 参考例２２で得られたチアゾリジン誘導体２４４■を３
−メルカプト−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ピロリジン２５６■を５艷の塩化メチレンに溶解
し、トリエチルアミン１０１１１７を加え、１０時間室
温にて攪拌。塩化メチレンを加え、水洗、希重曹水にて
洗滌。水洗後ＭｙＢＯ４にて乾燥。溶媒留去後、シクロ
ヘキサン：酢酸エチル＝１＝１にてＲｆ＝　０．５に対
応する所望の首記化合物２６０■を得た。ＮＭＲスペク
トルは実施例５で得られた化合物のそれに一致した。

実施例８ （３Ｓ＋４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−（ｔａｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−４−［１−（
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリシン−３
−イル〕チオカルボニルメチル−２−アゼチジノン れたオキサゾリジン誘導体２５０■と３−メルカプ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジ
ン３００１９よシ所望の首記化合物１２０■を得た。Ｎ
ＭＲスペクトルは実施例５で得られた化合物のそれに一
致した。

実施例９ （３Ｂ、４Ｒ）　−３−Ｃ，（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル］−４−［［：２−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチル
チオ〕カルボニルメチル］−１−１：１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペ
ニルツー２−アゼチジノン！ チルシリルオキシエチル］−１−（１−（ｐ　−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）　−２−メｆルー１−プロ
ペニル］−４−［（フェニルチオ）カルボニルメチルヨ
ー２−アゼチジノン１６６Ｉｆ？　（０，２４９ｍｍｏ
ｌｅ　）、２−（ｐ−＝ト日ヘンシルオキシカルボニル
アミノ）エタンチオール１３９■（０，５４ｍｍｏｌｅ
　）、トリエチルアミン５５ｍｇ　（ｏ、ｓ４　ｍｍｏ
ｌｅ　）を塩化メチレン３Ｂ−に溶かし、窒素雰囲気上
室温で一晩静置する。減圧下溶媒を留去して得られる残
留物をローバーカラムＢを用いて精製する。ヘキサン−
酢酸エチル（１ｉ２）混合溶媒で浴出して目的物１５６
ｍｇ（収率７６％）を油状物として得た。

０ＨＯｔ５　−＋　。

ＩＲスペクトル　ν　儒　、　３４６０　、１７４Ｂ　
。

ａｘ １７２０　、１６８５ ＮＭＲスペクトル（ａＤａｚ、）δｐＩ）ｍ　：　０．
００　（３Ｈ。

ｓ　）　、　０．０４　（３Ｈ、ｓ　）　、　０．８４
　（９Ｈ、ｓ　）　。

１．２１　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６　Ｈ２）　１１
．９５　（３Ｈ。

ｓ　）　、　２．１５　（３Ｈ、ｓ　）　、　２．８７
　（２Ｈ、ｄ。

Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　２．８〜３．５　（５Ｈ
、ｍ　）　、　４．１３（Ｉ　Ｈ、ｍ　）　、　４．３
５　（Ｉ　Ｈ、ｔｄ　、　Ｊ　＝　６．５　。

２．５　Ｈｚ　）、５．１４　（２Ｈ、ｓ　）　、５．
２４　（２Ｈ。

ｓ　）　、５．３７　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、）　、７．４３
　（２Ｈ。

ａ）、７．５１（２Ｈ，＋ａ）、８．１３（２，Ｈ，ａ
）。

８．１７　（２ｒｌ　、ｄ　） 実施例１０ （３Ｂ、４Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−［［（Ｓ）−
１−［Ｎ−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニ
ルメチル］−１−４１−（ｐ−二トロベンジルオキシカ
ルボニル）−２−メチル−１−フロベニル〕−２−アゼ
チジノン■ チルシリルオキシエチル］−１−Ｃ１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）−２−メチ（１４２） ルー１−プロペニル］−４−［（フェニルチオ）カルボ
ニルメチルシー２−アゼチジノン４９１１ｆ？　（ｆｌ
、８０２　ｍｍｏｌｅ　）、（Ｓ）−３−メルカプト−
１−４Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
セトイミドイル〕ピロリジン５１８■（１，６０ｍｍｏ
ｌｅ　）　％　トリエチルアミン１６２　＋９　（１，
６０ｍｍｏｌｅ）を塩化メチレン１０−に溶かし、窒素
雰囲気下室温で１．５時間静置する。減圧下溶媒を留去
して得られる残留物をローバーカラムＢｉ用いて精製す
る。ベンゼン−酢ｅエチル（２：３）混合溶媒で溶出し
て目的物５１１■（収率７７％）を油状物として得た。

０ＨＯ４−＋　。

工Ｒスペクトル　ν　α　、　１７４７　、１７２０　
。

ａｘ ６７６ ＮＭＲｙ、　ヘク）　Ａ＝　（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　
ｊ　０．００　（３Ｈ。

ｓ　）　ｓ　００４　（３Ｈ＋　ｓ　）　＋　０−８５
　（９Ｈ＋　’　）　＋１．２０　（３Ｈ、ｄ　、　Ｊ
　＝　６　Ｈｚ　）　、　１．９４　（３Ｈ。

ｓ　）　、　２．１６　（３Ｈｇ　Ｂ　）　＋　２．２
６　（３Ｈ＊　Ｓ　）　＋ＬＴ　〜２．５　（２Ｈ、ｍ
　）　、　２．８２　（２Ｈ、ｂｒ、ｄ　。

Ｊ　＝　７　Ｈｚ　）　、　３．１〜４．５　（８Ｈ、
ｍ　）　＊　５−’４（１４３） （２Ｈ，ｓ）、５．２２（２Ｈ，ｓ　）、７．４６（２
Ｈ、ｄ、）　、７．４９　（２）１　、ｄ　）　、８．
１０　（２Ｈ。

ｄ）、８．１４（２Ｈ，ｄ） 実施例１１ （３Ｅ１，４Ｒ）　−４−［ＩＩＩ　２−　（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ）エチルチオ〕カル
ボニルメチル］−１−（１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル］−３−
［（ロ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル］−２−アゼチジノン オキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニル］−
３（（Ｒ）−１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ）エチル］−４−［（（１４４） フェニルチオ）カルボニルメチルシー２−アゼチジノン
２’１　＋９　（０，０３２ｍｍｏｌｅ　）、２−（ｐ
−二トロペンジルオキシカルボニルアミノ）エタンチオ
ール１６　Ｉｆ？　（０，０６３ｍｍｏｌｅ　）、トリ
エチルアミン６２９　（０−Ｏ６ｍｏｏｓｅ　）を塩化
メチレン０．４−に溶かし窒素雰囲気下室温で３時間静
置する。

反応液をクロロホルムでうすめ水洗する。乾燥後溶媒を
留去し残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラフ
ィー〔展開溶媒：ヘキサンー酢酸エチル（２：３）］で
精製し、目的物１７ｍｙ　（収率６６％）を油状物とし
て得た。

ＩＲＸヘク）　ルｖＣＨＣｔ５ａｍ−’　：　３４６０
　、１７５３　。

ａｘ １７２１　、１７００（Ｓｈ、）　、　１６８２比旋光
度　〔α］、　＋８．５°（０＝　０．８６　＋　Ｃｕ
Ｃｌ２）ＮＭＲ；ｘ、ベクトル（ＣＤＣｌ２）δＩ）ｐ
ｍ　：　１．４２　（３Ｈ。

ｄ、＋　Ｊ−６Ｈｚ）　＋　１．９７　（３Ｈｔ　ｓ　
）　＋　２−２３（３Ｈ、ｓ　）、　２．８４　（２Ｈ
、ｃｌ　、　Ｊ　−６，５Ｈｚ）　＋　２．７〜３７　
（５Ｈ、ｍ　）　＊　４，２７　（Ｉ　Ｈ。

＋４　、　Ｊ　＝　６．５　、２　Ｈｚ　）　、　４．
８〜５．５　（２Ｈ。

ｍ　）　ｔ　５．１６　（２ＨＴ　８　’　）　＋　５
．１９　（２Ｈ＋　ｓ）　＋５．２３　（２Ｈ、８）　
、７．４６　（４Ｈ、ｂｒ、ｄ　）　。

７．５１　（２Ｈ、ｄ　）　、８．１８　（６Ｈ、ｄ　
）実施例１２ （３８，ＪＲ）　−４−［［２−（ｐ−ニトロベンジル
オキ７カルボニルアミノ〕エチルチオ〕カルボニルメチ
ル］−３−［（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシ）エチル〕−１−〔Ｉ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）トリイソプロボキシホスホ
ラニ！Ｊ　ｙ　ンＪチル〕−２−アゼチジノン ００ＰＮＢ ジルオキシカルボニルオキシ）エチル）−ｔ　−［１−
（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル）トリインプロ
ポキンホスホラニリデンメチル〕−４−〔（フェニルチ
オ）カルボニルメチル（１４６） 〕−２−アゼチジノン５２翼９　（０，０６２ｍｍｏｌ
ｅ　）、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）エタンチオール３２１Ａ９　（０，１２５ｍｍｏ
’ｌｅ　）　。

トリエチルアミン１３　ｍ９　（０，１３ｍｍｏｌｅ　
’）を塩化メチレン１−に溶かし、窒素雰囲気上室温で
２４時間静置する。減圧下溶媒を留去し、ローバーカラ
ムＡを用いる液体クロマトグラフィーで分離精製する。

ベンゼン−酢酸エチル（１：１）混合溶媒で溶出し、目
的物４８＋１１１？（収率７９係）を油状物として得た
。

ＩＲスペクトル　ν０Ｈ”’ｃｒｎ−’　：　３４５０
　、１７４５（ｂｒ、’）。

ａｘ １１３８２　、１６３２ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐＨ）ｍ　：　１．
３３　（１８Ｈ。

ａ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．４２（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６Ｈｚ　
）　、　２．７〜３．５　（７１（、ｍ　）　、　３．
５〜４．２　（ＩＨ、ｍ　）　、　４．３〜５．４　（
５Ｈ、ｍ　）　、　５．１２　（４Ｈ、ｓ　）　、　５
．１８　（２Ｈ、ｓ　）　、　７．４３　（６Ｈ。

ｍ　）　、　８．１６　（６Ｈ、ｄ） 実施例１３ （３Ｂ、４Ｒ）−４−［［（Ｓ）−１−［Ｎ−（ｐ−二
（１４７’） トロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピ
ロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）−３−［
（Ｒ）−１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル］−１−［１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）トリイソプロポキシホスホラニリデンメ
チル〕−２−アゼチジノン ００ＰＮＢ ジルオキシカルボニルオキシ）エチル］−１−［１−（
ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）トリイソプロポ
キシホスホラニリデンメチル］−４−［（フェニルチオ
）カルボニルメチルツー２−アゼチジノンフ５６冨９　
（０，８９６ｍｍｏｌｅ）、（Ｂ）−３−メルカプト−
１−１：Ｎ−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）
アセトイミドイル〕ピロリジン５８０１ｇ（０，１８０
ｍｍｏｌｅ　）、トリエチルアミン１ＢＩ　Ｑ　（０，
１７９ｍｍｏｌｅ　）を塩化メチレン１４ｍ／！ｌ／！
：溶かし、蟹累雰囲気下室温で一晩装置する。減圧下溶
媒を留去し、残留物をシリカゲル２０　、！９のカラム
クロマトグラフィーに付−ｊ−。

ベンゼン−酢酸エチル（１：１〜ｔ：１０）混合溶媒で
溶出して得られる粗生成物を次にローバーカラムＢで精
製する。クロロホルム−酢酸エチル−メタノール（１０
：　３０　：　１　）混合溶媒で溶出して目的物４８９
■（収率５１チ）を油状物として得た。

工Ｒスペクトル　シ０ＨＯｔ５α−’　？　１７５０　
、１６７５　。

ａｘ ６３Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ２）δｐｐｍ　＝　１．３
５　（１８Ｈ。

ｄ、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１．４３　（３Ｈ
、ｄ　、　Ｊ　＝　６Ｈ２）　、　２．２４　（３Ｈ、
８）　、　１．７〜２．５　（２Ｈ。

ｍ　）　、　２．６〜３．１　（２Ｈ、ｍ　）　、　３
．１〜４．２　（７Ｈ、ｒｎ　）　、　４．４〜５．３
　（４Ｈ、ｍ　）　、　５．１３　（４Ｈ、ｓ　）　、
　５．１８　（２Ｈ、ｓ　〕、　７．４５（２Ｈ。

ｄ）、７．４８（４Ｈ，ｄ）、８．１３（６Ｈ，ｄ）実
施例１４ （ａｓ、４Ｒ）−４−〔〔（Ｒ）−１−［ＩＮ−（ｐ−
二トロベンジルオキシ力ルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）−３−
［Ｆｔ）−１−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル
オキシ〕エチル］−１−［１−（ｐ−二トロベンジルオ
キシ力ルボニル）トリイソブロポキンホスホラニリテン
メチル〕−２−アゼチジノン ジルオキシカルボニルオキシ）エチル：］−１−［：１
−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル（ロ）−３−
メルカプト−１−ＣＩ−（ｐ−ニトロ（１５［＋） ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン２４８〜９　（０，７７ｍｍｏｌｅ　）、トリエチ
ルアミン７８　Ｈ９（０，７７ｍｍｏｌｅ　）を塩化メ
チレン６−に溶かし、窒素雰囲気上室温で一晩装置する
。減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲル１０．９の
カラムクロマトグラフィーに付す。ベンゼン−酢酸エチ
ル（１：１０）混合溶媒で溶出して得られる粗生成物を
ついでローバーカラムＢを用いて精製する。クロロホル
ム−酢酸エチル−メタノール（１ｏ　：　３０　：　１
　）混合溶媒で溶出して目的物２３１■（収率５６％）
を油状物として得た。

ＩＲｘヘク）Ａ／　ｖＣＨ”３ｃｍ−’　：　１７５０
．１６７５゜ａｘ ６３５ ＮＭＲスペクトｋ　（ＣＤＯＡ、）δｌ）ｐｍ　：　１
．３５　（［Ｉ　Ｉ（。

ｄ　、　Ｊ　＝　６．５　Ｈ２）　、　１．４３　（３
Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　６Ｈ２）　、　２．２４　（３Ｈ
、ｓ　）　、　１．７〜２．５　（２Ｈ。

ｍ　）　、　２．６〜３．１　（２Ｈ、ｍ　）　、　３
．１〜４．２（７Ｈ、ｍ　）　、　４．４〜５．３　（
４Ｈ、ｍ　）　、　５．１３　（４ＩＩ　、　ｓ　）　
、　５．１８　（２Ｈ、ｓ　）　、　７．４５　（２Ｈ
。

（１５１） ａ）、７．４８　（４Ｈ、ａ　）　、８．１３　（６Ｈ
、ａ　）特許出願人　三共株式会社 代理人　弁理士樫出庄治 ２０５：００ ２０７：００　） （Ｃ０７Ｄ　４０３／１２ ２０５：００ ２３３：００　） （Ｃ０７Ｄ　４０３／１２ ２０５：００ ２４１：００　） （Ｃ０７Ｄ　４０３／’１２ ２０５：００ ２５１：００　） （Ｃ０７Ｄ　４０５／１２ ２０５：００ ３０７：００　） （Ｃ０７Ｄ　４０９／１２ ２０５：００ ３３３：００　） （Ｃ０７Ｄ　４１３／１２ ２０５：００ ２６３：００　） （Ｃ０７Ｄ　４１７１０６ ２０５：００ ２７７：００　） ０発　明　者　平井功− 東京部品用区広町１丁目２番５８ 号三共株式会社化学研究所内 ０発　明　者　汐崎正生 東京部品用区広町１丁目２番５８ 号三共株式会社化学研究所内 ０発　明　者　小林赳夫 東京部品用区広町１丁目２番５８ 号三共株式会社化学研究所内 ０発　明　者　丸山洋 東京部品用区広町１丁目２番５８ 号三共株式会社生産技術研究所 内 手　続　補　正　書（方式） ■、事件の表示 昭和５８年特許願第１２７１４４　号 ２、発明の名称 アゼチジノン誘導体の製造法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　〒１０３　東京都中央区日本橋本町３丁目ｊ番地
の６名称　（１８５）三共株式会社 代表者　取締役社長　河村喜典 ４、代理人 居所　〒１４０　東京部品川区広町１丁目２番５８号三
共株式会社内 ６、補正により増加する発明の数　なし７、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ８、補正の内容　別紙の通り １、　明細書第４５頁第５行目の「第１図」の文字を削
除する。

２　同第４６頁第３行目の「第１図」を「上記反応式」
と訂正する。

３　同第４１頁第９行目の「第２自」の文字を削除する
。

４、　同第４１頁下から２行目の［菓２しＩＪを「上記
反応式」と訂正する。

５　同第４８頁第９行目の「第３図」の文字全削除する
。

６　同第４９頁第３行目の「第３図」を「上記反応式」
と訂正する。

７、　同第５１頁第１行目の１第４図」の文字を削除す
る。

８　同第５２頁第４行目の「第４図」を「上記反応式」
と訂正する。

９、　同第５３頁第９行目の「（第５図）」の文字を削
除する。

１０、同第５４頁第１０行目の「第５図」の文字を削除
する。

１１　同第５５頁第１３行目の「第６図」の文字を削除
する。

１２　同第５６頁第３行目の１第６図」ヲ「上記反応式
」と訂正する。

以上 手続補正１．（自発） 昭和５９年５月２１日 ・１゛、。

特許庁長官　若杉和夫殿 １、　事件の表示 昭和５８年特許願第１２７１４４号 ２、　発明の名称 アゼチジノン誘導体の製造法 ３　補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所〒１０３　東京都中央区日本橋本町３丁目１番地の
６名称　（１８５）三共株式会社 代表者　取締役社長　河　村　喜　典 ４代理人 居所〒１４０　東京部品川区広町１丁目２香５８号三共
株式会社内 ６、　補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ７　補正の同各　別紙の通り １、　明細畳第４６頁下から第４行の 「０−シリルケチ」を「０−シリルケチ」と訂正する。

２　明細書第５６頁第６行乃至第８行の「化合物（ｘｘ
工Ｘ）（式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，およびＲは前述１〜だもの
と同意義を示す。）に常法に従って」を削除する。

３、　明細書第５６頁第１２行の 「スホニリデン化」を「スホラニリデン化」と訂正する
。

４、　明細書第５８頁第１２行の ［ボニル）−Ｎ−Ｊを［ボニルメチル）　−Ｎ　−Ｊと
訂正する。

５、　明細書第５９頁第４行の ［ジシクロへキシルカルポジイド」を「ジシクロへキシ
ルカルボジイミド］と訂正する。

６　明細書第５９頁第６行の 「尿素を沖去し、」を「尿素化合物を戸去し、」と訂正
する。

７、　明細書第６０頁第６行の ［３Ｓ、４Ｒ）−Ｊをｒ（３Ｂ、４ｓ）−Ｊ　と訂正す
る。

８　明細書第６０負第１１行の 「リチウムービスートリメチルシラジド」を［リチウム
ヘキサメチルジシラジド」と訂正スる。

９　明細＊ｗ６１頁第３行第３第４行の「リチウムービ
スートリメチルジシラジド」を［リチウムへキサメチル
ジシラジド」と訂正する。

１０　明細書第６１頁第７行乃至第８行の［リチウムー
ビスートリメチルジシラジド］を「′リチウムヘキサメ
チルジシラジド」と訂正する。

１１、明細書第６２頁第７行の ｒ（３Ｂ、４Ｒ）−Ｊを［３８，４８）−Ｊ　と訂正す
る。

１２、明細書第６４頁第２行の ｒ（３Ｅｌ、４Ｂ）−Ｊをｒ（３Ｒ，４Ｒ）−Ｊと　訂
正する。

１３、明細書第６５頁第１３行の ｒ（３８，４Ｒ）−Ｊをｒ（３Ｒ，ｔｉ’ｔ）−Ｊと訂
正する。

１４　明細書第６６画第４行の ｒ（３０ｒ）Ｊをｒ　（３０ｍｍｏｌ）　Ｊと訂正する
。

１５、明細書第６７貞下から第４行の ｒ−１−）リメチルシジルオキシエチ」を「−１−（ト
リメチルシリルオキシ）エチ」と訂正する。

１６　明細書第５６頁第６行の 「スる（Ｒ）　−４−〔（フェニルチオ）カルボニルメ
」ヲ「する４−〔（フェニルチオ）カルボニルメ」と訂
正する。

１７、明細書第６９頁第６行乃至第１行の「セリツクア
ンモニウムナイトライド」を「セリツクアンモニウムナ
イトレート］と訂正する。

１８　明細書第７０頁第２行の ｒ、Ｊ＝６．４８Ｊをｒ　、　、Ｔ＝６．５Ｈ２Ｊと訂
正する。

１９、明細書第７０負第４行の ｒ（１ｔＨ，ｍ）Ｊを「（ＩＨ９ｍ）Ｊと訂正する。

２θ、明細書第７０頁第５行の ［４９〜ｓ、ａ　（３Ｈ、−ＣＨ２＋ＮＯ２＋　ｓＪを
［５１５（２Ｈ，−ＣＨ２舎ＮＯ２，Ｓ）Ｊ　と訂正す
る。

２１、明細書第７０頁第６行の ｒｌＨ，ｍ）Ｊをｒ　４．９〜５．３　（Ｉ　Ｈ，ｍ月
と訂正する。

２２、明細書第１０頁第１２行の ｒ（３８，４Ｒ）−Ｊをｒ（３ｓ、４ｓ）−Ｊ　と訂正
する。

２３　明細書第７２頁第２行の ｒ（３Ｂ、４Ｒ）　−Ｊを［３Ｂ、４８）−Ｊと訂正す
る。

２４　明細書第７３貢第３行乃至第５行のｒｌ、２５（
３１（、ｄ、、Ｊ＝６．５Ｈ２）、２．７（ＩＨ，Ｓ）
。

３〜３．３（ＩＨ，ｍ）、３．７５（３Ｈ，Ｓ）＋　３
．８〜４．８（４Ｈ，ｍ）、５．１８（２Ｈ，Ｊをｒｌ
、２５（’３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６．５Ｈｚ　）、　３−２５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ　＝
３．ｏ　、　４．５Ｈ２）。

３．７５　（３Ｈ，Ｓ　）　、　３．ｆｌ−４，８（Ｉ
Ｈ、ｍ）　、　４．１．４．７（７Ｈ，ＡＢ−ｑ、Ｊ＝
１５Ｈ２）、４．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３、［１Ｈ２）
、５．１８（２Ｈ，Ｊ　と訂正する。

２５、明細書第１４頁第１８行の ［（３ｓ、４Ｒ）−Ｊをｒ（３Ｅ！、４８）−ｊと訂正
する。

２６　明細書第１５頁第４行の ｒ　（２ｍｍｏｌ）乾燥塩化メチレン」をｒ　（２ｎ＋
ｍｏｌ）を乾燥塩化メチレン」と訂正する。

２７、明細書第７５頁下から第４行の 「ロード−カラム」を「ローバーカラム」と訂正する。

２８、明細書第７６頁第１行乃至第４行の［１，３５（
２Ｈ，ａ、６．５Ｈ２）、１．４２（９Ｈ，Ｓ）。

３．２〜３．９２（ＩＨ，ｍ）、３．７５（３Ｈ，Ｓ）
、３．８〜３．９２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝３．ＯＨ２）　
、　４．０〜４．９（４Ｈ，ｍ）　、　４．９〜５．５
　（２ＨＪを［１，３５（３Ｈ。

ａ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１４２（９Ｈ，Ｓ）、３．２〜
３．４（ＩＨ，ｍ）、’３．７５　（３Ｈ，８）、３．
５〜４．０（２Ｈ，ｍ）。

４．０　、４．７５　（２Ｈ、ＡＢ−ｑ　、　Ｊ＝ｉ　
６Ｈ２）　４．５〜４．７（２Ｈ，ｍ）、４．９〜５．
５（２ＨＪ　と訂正する。

２９　明細書第７６頁第９行の ｒ（３Ｂ、４Ｒ）−Ｊをｒ（３８，４Ｂ）−ｊ　と訂正
する。

３０　明細書第７６頁第１０行の ｒ　３−　Ｃ（Ｒ）　−１−アリルオキシカルボニルオ
キシ」をｒ　３−　［（Ｒ）　−１−（アリルオキシカ
ルボニルオキシ−１と訂正する。

３１　明細書第１７頁第８行乃至第１０行の「ＮＭＲス
ペクトル　δｐｐｍ　： １．４２　（２Ｈ，ｄ−、Ｊ＝６．０Ｈｚ　）、　３．
１１〜３．３　（ＩＨ。

ｍ　）、　３．６〜３．８　（３Ｈ，Ｓ）、　３．８〜
Ｊを［ＮＭＲスペクトｐｖ　（ＣＤＣ４３）　δｐｐｍ
　：１．４５　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、３．［
１〜３．３　（ＩＨ，ｍ）。

３．８（３Ｈ，Ｅｌ）、３．８〜」と訂正する。

３２　明細−１Ｍ１−第１７頁下から第４行のｒ（３８
，４Ｒ）−ＪをｒＣ３Ｒ９４Ｒ）−Ｊと訂正する。

３３　明細Ｗ、第７８貞下から第３行乃至第７９貞第１
行の ［ＮＭＲスペクトルδｐｐｍ　： １．４　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈ２）、３４　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝６．４Ｈ２）、３．７５　（３Ｈ，Ｓ）、３
．９〜１６２　（９Ｈ。

ｍ）、６６〜７゜ａ（２Ｈ，ｍ）Ｊを ［ＮＭＲスペクト、Ａ／　（ＣＤＣｌ２）　δｐｐｍ　
：１．４　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、Ｃ９５（３
Ｈ，５）１３．３　（１Ｈ，ａ、Ｊ＝６．５Ｈ２）、３
．７５　（３Ｈ，８）＋４．１　、　４．５　（２Ｈ，
ＡＢ−ｑ　、Ｊ＝１５Ｈ２）　、４．４〜４．７（２Ｈ
，ｍ）　４．９〜５．２（ＩＨ，ｍ）、５．１〜５．５
（２Ｈ。

ｍ　）、５．６〜６．１　（ＩＨ，ｍ）、５．８５　（
ＩＨ，８）、６．８〜７．３ｒ４Ｈ，ｍ）、ｌと訂正す
る。

３４　明細書第７９頁下から第１行乃至第８ｏ頁第１行
の ［フェニルチオアセテートのＯ−シリルケテンアセター
ル」を［１−フェニルチオ−１−（）　ＩＪメチルシリ
ルオキシ）エチレン」と訂正する。

３５、明細書第８０頁第１２行乃至第１６行のｒ　１．
３９　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈ２）　、　２．８　
（２Ｈ，ａｄ。

Ｊ＝３．０．Ｊ＝９Ｈ２）、３．１　ｒｔＨ，ｄａ、Ｊ
＝２．５Ｈｚ。

、Ｔ＝６．５Ｈ２）　、　３．７５　（３Ｈ，Ｓ　）　
、　３．８〜４．６２　（６Ｈ。

ｍ　）、４．８〜５．４　（２Ｈ，ｍ）、　５．６〜７
．１　（ＩＨ，ｍ）、Ｊを ［１，３９（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６５Ｈ２）、２．８　（２
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝　７．５Ｈ２）、３．１　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．
５．７．５Ｈｚ）。

３．７５　（３Ｈ，Ｓ）、３．８〜４．２（ＩＨ，ｍ）
、４．１．４．５（２Ｈ，ＡＢ−ｑ　、Ｊ＝１４Ｈｚ）
、４．５〜４．７　（２Ｈ，ｍ）。

４．８〜５．２　（ＩＨ，ｍ）、５．１〜５．４　（２
Ｈ，ｍ）、５．６〜ｙ、ｔ（＋Ｈ，ｍ）Ｊと訂正する。

３６　明細書第８１頁第３行の と訂正する。

３７　明細書第８１頁第７行の ［クアンモニウムナイトライト８２２ｍり（１５ｍｍｏ
ｘ　）　Ｊを［クアンモニウムナイトレート８２２１Ｋ
）（１，５ｍｍｏ１）Ｊ　と訂正する。

３８　明細書第８１頁下から第２行の ［ＮＭＲスペクトルδｐｐｍ　：　Ｊを［ＮＭＲスペク
トル（ＣＤＣ１５）δｐｐｍ　：Ｊ　と訂正する。

３９　明細書第８２貞第１行乃至第２行の［３Ｈ，ｍ）
、３．８〜４．２（２Ｈ，ｍ）、　４．４〜４．７（９
） （２Ｈ，ｍ）、　４．８〜５．５１Ｈ＋ｍ）ｌをｒ　（
３Ｈ，ｍ）、　３．８〜４．２　（ＩＨ，ｍ）、４．４
〜４．７（２Ｈ，ｍ）、　４．１１〜５．２　（ＩＨ，
ｍ）、５．１〜５．４　（２Ｈ１ｍ）　ｌ　Ｊ　と訂正
する。

４０　明細書第８３貢下から第１行乃至第８４頁第４行
の ［ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　：　０．
０７（６ＨＩＳ）Ｉ　Ｏ，８７（９Ｈ，Ｓ）、１．２０
（３Ｈｌ　ｄＩＪ＝６）、２．７〜３．３　（３Ｈ，ｍ
）、　３．８〜４．４　（２Ｈ。

ｍ）、６．１２　（ＩＨ，’ｂｓ）、７．３８（５Ｈ，
Ｓ）Ｊを［ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　
：　０．０Ｂ（６Ｈ＋ＳＬ　（１８８（９Ｈ，”）、　
１２１　（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６ＨＩＪ）、２．７〜３．２
（３Ｈ，ｍ）、４．０　（ＩＨ，ｍ）。

４．１８（ＩＨ，ｍ）、６．１０　（ＩＨ，ｂｒ）７．
４　（５Ｈ，Ｓ）Ｊと訂正する。

４１、明細書第８５頁第１４行の ［ａ、ａ、　、Ｔ＝ｓ）、」を［Ｈ２ｄ、Ｊ−６Ｈ２）
、」と訂正する。

４２、明細書第８７頁第５行乃至第１１行のＣＨＣｌ５
　−１゜ ［工Ｒスペクトル（ｃＨｅ／３）ν　ｉｎａＸＣｍ。

（１０） １７７０ＣｒｒＬ−’ ＮＭＲ，（ベクトル（ＣＤＣ１５）δｐｌ）ｍ　：　１
．４３　（３Ｈ。

ｄ、Ｊ＝６）、２．９〜３．３（３Ｈ，ｎｎ）、３．８
〜４．２（ＩＨ，ｍ）、４７〜５．４（ＩＨ，ｍ）、５
．１３　（２ＨＩＳ）１６．４０（ＩＨ，ｔ：＋θ）、
７．３３　（５Ｈ，Ｓ）、７．７５　（４Ｈ。

Ａ２Ｂ２ｑ、Δδ＝４４Ｈ２，、Ｔ＝９　）Ｊ　ｋＣＨ
Ｃ１５−１ ［工Ｒスペクトルν　削　：３４１０．＋７６２゜ａＸ １７５１１（ｓｈ、）、１６９Ｏ ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δＴ）Ｔ）ｍ　：　１
．４７　（３Ｈ。

ａ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　〜１０（２Ｈ，ｄ−１ｉｋｅ）。

３．１３（ＩＨ，ｄｄ、、Ｊ＝７，２Ｈ２）、４０２　
（ＩＨ、ａａａ。

Ｊ＝８．６，２Ｈ２）、〜５．１　（ＩＨ，ｍ）、５．
１９（２Ｈ。

Ｓ　）、６．３２　（ＩＨ，ｂｒ、８）、７．３５　（
５Ｈ，８）。

７．４３　（２Ｈ，＋１１）、８．＋５１Ｈ，ａ）ｊと
訂正する。

４３　明細書第８１頁第３行の ｒ（３Ｒ，４Ｒ８）−Ｊをｒ（３Ｒ，４Ｒ）−Ｊ　と訂
正する。

４４　明細書第１２９貞第３行と紀４行の間に以下の字
句を追加する。

［参考例４３ （ａ　ｓ　、　４　Ｒ）　−３−Ｃ（Ｒ）　−ｔ　−（
）リメチルシリルオキシ）エチル］−１−（ｐ−＝）ロ
ペンジルオキシオキザリル）　−４−〔Ｃ（Ｓ）−１−
［Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル〕アセト
イミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン 実施例１５で得られたアゼチジノン体２０２（３，６３
ｍＭ）　に乾燥塩化メチレン３０　ｍｌを加えてとかし
一３０℃に冷却する。これに攪拌しながらトリエチルア
ミン１．０１　ｍｌ（７，２６ｍＭ）を加え、ついでｐ
−ニトロベンジルオキシオキザリルクロライド１．５　
ｔ　（６，１５ｍＭ）を乾燥塩化メチレン１５ｍ１にと
かした溶液を満願する。満願に１０分を要する。満願後
同温度で１５分攪拌を続け、溶媒を減田で留去し、残留
物にベンゼン５０　ｍ／を加え、不溶物（トリエチルア
ミン塩酸塩）を沖去し、ｐ液を濃縮し、残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトに附［７、ベンゼン：酢酸エチル（
２：１）で溶出し目的物のフラクションヲ集め、濃縮、
乾燥すると目的物２２６ｆが油状物として得られた。（
収率８２チ） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ１３）δｐｐｍ　：　０．０
７（９Ｈ、Ｓ　）　１．１８　（３Ｈ，ｄ、、Ｔ＝５Ｈ
ｚ）。

２．２８　（３Ｈ，Ｓ）　１．６〜２．７　（２Ｈ，ｍ
）　７．８〜４．８（１０Ｈ，ｍ）　５．１８　（２Ｈ
，Ｓ　）　５．３８　（２Ｈ，Ｓ　）７．３０〜８．３
０　（８Ｈ、ｍ） 参考例４４ （３Ｓ　、　４　Ｂ　）　−３−Ｃ（Ｒ）　−ｔ　−（
）リメチルシリルオキシ）エチル］−１−（ｐ−二トロ
ベンジルオキシオキサリル）　−４−Ｃ［（Ｒ）−１−
［Ｎ−（ｐ−二トロペンジルオキシヵルボニル〕アセト
イミドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン （１３） 実施例１６で得られたアゼチジノン体２．Ｏｖ（３，６
３ｍ　ｍｏｌ）を参考例４３の場合と同様に反応せしめ
、処理すると、目的物２．２１Ｆが油状物として得られ
た。（収率８０．３％） ＮＭＲスペクト／ｌ／（ＣＤＣ１５）　δｐｐｍ　：　
０．０７（９Ｈ，Ｓ）、　１．２０　（３Ｈ，ｄ、、　
、Ｔ＝６Ｈ２）　２．３０（３Ｈ，Ｓ）　１．８〜２．
５５　（２Ｈ，ｍ）、　３．０〜４．９０（ＩＯＨ，ｍ
）５．２０　（２Ｈ，Ｓ）、５．４０　（２Ｈ，Ｓ）７
．４０〜８．３７　（８Ｈ，ｍ） 参考例４５ （５Ｒ、ｓ　Ｓ　）　−２−［（Ｒ）　−ｔ　−［Ｎ　
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミ
ドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕−ｓ　−〔（Ｒ）
　−１−（）リメチルシリルオキシ）エチル〕カルバペ
ンー２−エム−３−カルボン酸　ｐ−ニトロベンジルエ
ステル （１４） 参考例４４で得られたアゼチジノン体１．０２（１，３
２ｍ　ｍｏｌ　）　、に亜リン酸トリエチル１．３７ｍ
ｅ　（７，９ｍ　ｍＯ］、　）　、およびトルエン８０
ｍ１を加え１５時間攪拌還流する。ついで冷却し２、溶
媒をＸ＆　ＩＦ留去ｌ−１、残留物をシリカゲルカラム
クロマトに附し、ベンゼン−酢酸エテル（１：２）混合
溶媒で溶出して目的物８１７ｍ’ｌ（収率８５３％）が
油状物として得られた。これにイソプロピルエーテルを
加えると結晶化する。この結晶を戸集乾燥すると融点１
４６〜１４９℃を有する純品を得た。

工ＲスペクトルνＣＨＣ／３−１・ ｍａ、ｘ　ｃｒｎ、１７００゜ １６８［１゜ ＮＭＲスペクトＡ／　（ＣＤＣ１３）　δｐｐｍ　：　
０．１４（９Ｈ，Ｓ）１．’２７　（３Ｈ，ｄ−、Ｊ＝
６Ｈ２）、２．２６（３Ｈ，Ｓ）、１．７〜２．６　（
２Ｈ，ｍ）、　２．８〜４．４ｒｌＯＨ，ｍ）、５．１
５（２Ｈ，Ｓ）、５．１６（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝　１４Ｈｚ）、５．４０　（ＩＨ，ｄ、、Ｊ＝１４
Ｈｚ）、７．４７（２Ｈ，ｄ）、７．５６　（２Ｈ，ｄ
）、８．１３　（４Ｈ，ｄ）参考例４６ （５Ｒ，６Ｓ）−２−［（Ｓ）−１−［Ｎ−（ｐ−二ト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン−３−イルチオ］−６−（ｆｔ）　−１−（）リ
メテルシリルオキシ）エチル〕カルバベンー２−エム−
３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル 参考例４３で得られたアゼチジノン体１．０１（１，３
２ｍ　ｍｏｌ　）を参考例４５と同様に反応せしめ、同
様に処理すると目的物８２４ｍ９が油状物として得られ
る。収率８６チ、これをベンゼン−イソプロピルエーテ
ルより再結晶すると融点９５〜９６℃　を有する純品が
得られる。

〔α］Ｄ：＋７９°（Ｃ＝０．７２　、　ＣＨＣ／３）
■Ｒｖｎｕｊｏｌ　−１゜ ｍａｘ　（ｍ　・　１７Ｂ１，１６９３，１６７ＯＮＭ
Ｒスペクトル（ＣＤＣ１５）　δｐｐｍ　：　０．１５
（９Ｈ，Ｓ）、１．２７（３Ｈｔｌ、Ｊ＝６Ｈｚ）、２
４８（３Ｈ，Ｓ）、１．９〜２．６（２Ｈ，ｍ）　３．
０〜４．５　（ＩＯＨ。

ｍ）、５．１７　（２Ｈ，Ｓ）　５．１８（ＩＨ，ｄ　
Ｊ＝１３．５Ｈ２）、５．４４　（ＩＨｄ、Ｊ−１３，
５Ｈｚ）、７．５１　。

７．６０（２Ｈ各ａ）、８．１７　（４Ｈ，ｄ）Ｊ４５
　明細書第１３０頁第９行乃至第１４行のｒｌ、３９ｒ
３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．１３（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝３．７Ｈ２）、３．６（２Ｈ，ｍ）、３．６　（Ｉ
Ｈ，ｍ）、３．２〜５．２　（ＩＯＨ，ｍ、（３Ｈ，Ｓ
、３．７３））、５．１９　（２Ｈ，Ｓ）、５．２１（
２Ｈ，Ｓ）、６．６〜７．２　（２Ｈ，ｍ）。

７．４〜８．３　（４Ｈ，ｍ）Ｊを ［Ｃ３９（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈ２）、１．７〜２．
５（２Ｈ。

ｍ）、　２．２５　（３Ｈ，Ｓ　）、　２．６〜２．８
　（２Ｈ，ｍ）　。

３．１　（ＩＨ、ｂｒ、ｄ、、　Ｊ＝８Ｈ２）、　３．
２〜４．０　（６Ｈ。

ｍ）、３．７３　（３Ｈ，Ｓ）、４．１０（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝ｔｓＨ２）、　４．５０（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝１
５ｆ（Ｚ）、　４．９〜５．３（ＩＨ，ｍ）、５．１９
　（２Ｈ，Ｓ）、５．２２　（２Ｈ，Ｓ）。

６．７５　（２Ｈ，ｄ）、７．１０（２Ｈ，ｄ）、７．
５０（４８゜（１１） ｄ）、８．１５　（２Ｈ，ｄ）、８．２０　（２Ｈ，ｄ
）Ｊと訂正する。

４６　明細書第１３１頁第１４行乃至第１６行のｒ３Ｈ
，ｄ、Ｊ＝３．６Ｈ２）、８．８（２Ｈ，（１，Ｊ＝６
．５Ｈ２）。

３．５　（ＩＨ，ｄ、　７．２　）、１．５〜４．２（
７Ｈ，ｍ）、　５．０４（ＩＨ，ａ、　、Ｔ＝６．５Ｈ
２）Ｊをｒ３Ｈ，Ｓ）、１．５〜２．６　（２Ｈ，ｍ）
、２．９０　（２Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ）、　３．０５　（ＩＨ，ｂｒ、
ｄ、　Ｊ＝７Ｈ２）。

３、２〜４．２　（６Ｉ（、ｍ）、　４．９〜５．３　
（ＬＨ，ｍ）Ｊと訂正する。

４７、明細書第１３３頁第７行乃至涼１３行のｒ　１．
４　（３Ｈ，ａ、　、Ｔ＝６．５’Ｈ２）、　２．９　
（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．６Ｈ２）、２．６〜２．８（２
Ｈ，ｍ）、３〜３．２　（ＩＨ。

ｍ　）、３２〜４．５　（ＩＯＨ，ｍ）、３．７５（３
Ｈ，８）。

５０（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．１８　（２Ｈ
，Ｓ）。

５．２４〜５．５　（２Ｈ，ｍ）、５．６〜６．０８　
（ＩＨ，ｍ）。

ｓ、ｙ　〜８２　（８Ｈ，ｍ）　Ｊを ｒｌ、３８（３Ｈ，ｄ、、Ｊ＝６Ｈ２）、２．２７　（
３Ｈ，Ｓ）。

１．７〜２．６　（２Ｈ，ｍ）、２．（＋〜２．９（２
Ｈ，ｍ）、３．１（ＩＨ，ｂｒ、ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３
．２〜４．５　（６Ｈ，ｍ）１（１Ｂ） ３．７６　（３Ｈ，Ｓ）、４．５〜４．７　（２Ｈ，ｍ
）、４．８５〜１２０　（Ｉ　ＨＴ　ｍ　）　−４８０
〜５−５０　（２Ｈｒ　ｍ　）　、５．６〜６．２　（
ＩＨ，ｍ）、６．８２　（２Ｈ，ｄ）、７．５２　（２
Ｈ。

ａ）、８．１５　（２Ｈ，ｄ）Ｊと訂正する。

４８　明細書第１３４ｍ下から第５行乃至第１３５頁第
１行の ｒ　１．３８（３Ｈ，ｄ、、Ｊ＝６．５Ｈ２）、２．２
６　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝３．６Ｈ２）、２．７〜３１（３Ｂ２ｍ）、３．２
〜４．４（８Ｈ，ｍ）、４．５〜４．６２　（２Ｈ，ｍ
）、４．８〜５．４　（５Ｈ。

〜６．０Ｂ　（ＩＨ，ｍ）、６．１８　（ＩＨ，Ｓ）、
７．３６〜８．２（４Ｈ，ｍ）Ｊを ［１，３８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２）、２．２６　（３
Ｈ，Ｓ）。

１．８〜２．６　（２Ｈ，ｍ）、２．７〜３．０　（２
Ｈ，ｍ）、３．０（ＩＨ，ｂｒ、ｄ、Ｊ＝６．５Ｈ２）
、　３．２〜４．２　（６Ｈ，ｍ）。

４．５〜４．７　（２Ｈ、ｍ）、　４．９〜５．１　（
Ｉ　Ｈ，ｍ）、　５．１２（２Ｈ，Ｓ）、５．１〜５．
４　（２Ｈ，ｍ）、５．６〜６．１（ＩＨ＋ｍ）＋ｓ。

１７　（ＩＨ，ｂｒ、８）、７．４８（２Ｈ，ｄ）８．
１５（２Ｈ，（１）Ｊと訂正する。

４９　明細書第１３５頁第５行の ｒＮ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルピロＪをｒ
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルピロ」と訂正する
。

５０　明細書第１３６頁第１０行乃至第１５行の［０，
０７ｒ６Ｈ，Ｓ）、０．８７　（９Ｈ，Ｓ）、１．１７
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、１．６７〜２．６２（３Ｈ
，ｍ）、２．７０〜４．２７　（９Ｈ，ｍ）、５．１８
　（２Ｈ，Ｓ）、６．３０　（ＩＨ。

ｂｓ　）、７．４７Ｃ２Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　
８．１７　（２Ｈ，ｔｌ、。

Ｊ＝８Ｈ２）Ｊを ｒｏ、０Ｂ（６Ｈ，８）、０．８８　（９Ｈ，Ｓ）、１
．１９　（３Ｈ，ｄ、Ｊ：６Ｈ２）、１．７〜２．５　
（２Ｈ，ｍ）、２．７−”−３，０（２Ｈ，ｍ）、３．
５３（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）、３．２〜４．４　（６
Ｈ，ｍ）、　５．１９　（２Ｈ，Ｓ）、　６．１５　Ｃ
％）１゜ｂｒ、ｓ　）、　７．４２　（２Ｈ，ａ）、　
８．２０　（２Ｈ，ｄ）Ｊと訂正する。

５１、明細書第１３８頁第３行乃至第９行の［ＮＭＲス
ペクトル　δｐｐｍ　：　０．０Ｂ　（６Ｈ，Ｓ）。

０．８８　（９Ｈ，Ｓ）、１．２０　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６Ｈ２）。

１．８２〜２．５８　（６Ｈ，ｍ（３Ｈ，Ｓ、２．３０
））、２．７２〜４．３３　（９Ｈ，ｍ）、５．２０　
（２Ｈ，Ｓ）、６．２８　（ＩＨ。

ｂｓ、）、７．５３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．１
８　（２Ｈ。

ｃｌ　、　Ｊ：８Ｈ２）　Ｊを ［ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ／３）　δｐｐｍ　：　０
．０９（６Ｈ，Ｓ）、０．８８　（９Ｈ，Ｓ）、１．２
０　（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈ２）、　２．２９　（３
Ｈ，Ｓ）、１．５〜２．５（２Ｈ，ｍ）。

２．７〜３．０　（２Ｈ，ｍ）、３．３〜４．４　（８
Ｈ，ｍ）、５．１８（２Ｈ，Ｓ）、　６．２７　（１Ｈ
，ｈｒ、ｓ　）、　７．５２　（２Ｈ，ｄ、）。

８．１７　（２Ｈ，ｄ）Ｊと訂正する。

５２、明細書第１３９頁第２行の 「２２４１ｎｇを３−メルカプト−」をｒ　２２４　ｎ
＋９を（Ｓ）−ａ−メルカプト−」と訂正する。

５３、明細書第１３９良下から第５行乃至下から第３行
の ［−４−（１−（ｐ−＝）ロベンジルオキシ力ルボニル
）ピロリジン−３−イル〕チオカルボニルメチル−２−
ア」をｒ−４−［（Ｓ）−ｔ−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシヵルボニルビロリジン−３−イル）チオカルボニル
メチル〕−２−ア」と訂正する。

（２１） ５４、明細書第１４０頁第２行の 「２５０Ｊｎ９と３−メルカ」を１２５０　ｍ９と（Ｓ
）−３−メルカ」と訂正する。

５５、明細書第１５２頁第２行と第３行の間に以下の字
句を追加する。

［実施例１５ （３Ｓ＊　４　Ｒ）　−４−（［（”　）　−１（Ｎ−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミド
イル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル）
　−３−［（Ｒ）　−１−（）リメチルシリルオキシ）
エチル〕−２−アゼチジノン参考例１８で得られたアゼ
チジノン体２．　ｓ　ｓ　ｔ（０，０１モル）に乾燥塩
化メチレン５０ｍ７を加え、氷水浴中、攪拌下、トリエ
チルアミン３．４７ｍ／（０，０２５モル）およびトリ
メチルシリルクロライド３．１４ｍ１（０，０２５モ＃
　）を加え、３０分攪（２２） 拌を続ける。

反応終了後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を戸去し
、Ｐ液を減圧濃縮する。残留物にヘキサン１００ｍ＋７
？を加え、更に析出した結晶を沖去し、Ｐ液を濃縮する
。残留物に乾燥塩化メチレン４Ｇｍｌを加えてとかし、
これにトリエチンアミｙ２．１ｍ／（０，０１５モル）
および（Ｓ）　−３−メ　ルカプト−１−［Ｎ−（ｐ−
二トロペンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕
ピロリジン４．８！Ｍ’（０，０１５モル）を添加し、
室温で一夜攪拌反応せしめる。ついで溶媒を留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトに附し、ベンゼン：酢
酸エチル＝１：１で溶出すると目的とするアゼチジノン
体５．３１９が得られた。（収率９６．５係） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣ，ｄ３）δｐｐｍ　：　０．
０１（９Ｈ，Ｓ）、１．２０（３Ｈ，＋１．Ｊ＝６Ｈ２
）、２．３０（３Ｈ，Ｓ）、１．８０〜２．６７（２Ｈ
，ｍ）、２．７０〜３、０７　ｒ３Ｈ，ｍ）、　３．２
３〜４．３７　（６Ｈ，ｍ）　５．２３（２Ｈ，Ｓ）、
６．７３　（ＩＨ，Ｓ）、７．６３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９
Ｈ２）、８．２７　（２Ｈ，ｄ、、Ｔ＝９Ｈ２）実施例
１６ （３Ｂ　、　４　Ｒ）　−４−（Ｃ（Ｒ）、−１（Ｎ　
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセトイミ
ドイル〕ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル
）　−３−（（Ｒ）　−＋　−（）リメチルシリルオキ
シ）エチル〕−２−アゼチジノン参考例１８で得られた
アゼチジノン体２６５２（０，０１モル）を用い、先の
実施例１５と同様にトリメチルシリル化反応を行い、つ
いでトリエチルアミン２．１ｍ１（０，０１５モル）お
よび（Ｒ）−３−メルカプト−１−（Ｎ−（ｐ−二トロ
ペンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ヒロリ
ジン４．８５Ｆ（０，０１５モル）を添加し、同様に反
応せしめ、処理すると目的化合物５．２５　ｆが得られ
た。（収率９５８３チ） ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌｊ　３　）δｐｐｍ：０．
０１（９Ｈ，Ｓ）、１．２１　（３Ｈ，（１，Ｊ＝６Ｈ
２）、２．３０（３Ｈ９Ｓ）、１８０〜２．６０　（２
Ｈ，ｍ）、２．７７〜３．０７　（３Ｈ、ｍ）、３．３
６〜４．３７　（６Ｈ，ｍ）、５．２４（２Ｈ，Ｓ）、
６．７　（ＩＨ，Ｓ）、７．６０　（２Ｈ，ｅＬ、Ｊ＝
　９Ｈｚ）、８．２３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２）Ｊ以
上 （２５）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中　Ｒ１は水素原子又は水酸基の保護基を、Ｒ２お
   よびＲ３は同−又は異なる水素原子又は低級アルキル基
   を、Ｘは酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はセレニウム
   原子を、Ｘが窒素原子の場合はＸＲ’が活性アミド基を
   、Ｒ４はアリール基又は芳香族複素環基を、Ｒ５は水素
   原子、アミド基の保護基、若しくは置換基を示す。〕を
   有する化合物に、一般式 ％式％（） 〔式中、Ｒ６はアルキル基、置換アルキル基、シクロア
   ルキル基、置換シクロアルキル基、アルケニル基、置換
   アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、脂肪
   族複素環基、アラルキル基、アリール基又は芳香族複素
   環基を示す。〕を有する化合物を反応させることを特徴
   とする、一般式 〔式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ，Ｒ中嗜舎毒は前述したものと
   同意＠を示す。）？：有する化合物の製造法。