JP2503247B2 - アゼチジノン誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（Ｉ）を有する新規なアゼチジノン誘
導体に関するものである。

〔式中、R¹は水素原子または水酸基の保護基を、R²は水
素原子、R³は水素原子、低級アルキル基またはアリール
基を、Ｘは酸素原子または硫黄原子を、Ｙはイミノ基も
しくはアルキルイミノ基、酸素原子または硫黄原子を、
R⁴はアルキル基、置換基を有するアルキル基、アラルキ
ル基、脂環式複素環置換アルキル基、脂環式複素環基、
アリール基、または芳香族複素環基を、R⁵はカルボキシ
基が保護されたオキサロ基を示す。〕を有するアゼチジ
ノン誘導体。

R¹の水酸基の保護基としてはβ−ラクタム系抗生物質
誘導体の反応に使用される水酸基の保護基なら特に限定
はないが、好適にはホルミル、アセチル、クロルアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイ
ルのようなアシル基；トリメチルシリル、ｔ−ブチルジ
メチルシリル、トリフェニルシリルなどのシリル基；ベ
ンジル、ｐ−ニトロベンジルのようなアラルキル基；ベ
ンジルオキシカルボニル、ｐ−ブロムベンジルオキシカ
ルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−
ニトロベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカルボ
ニル、２−クロルアリルオキシカルボニル、２−メチル
アリルオキシカルボニル、2,2,2−トリブロムエトキシ
カルボニル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニル、
ｔ−ブトキシカルボニル、２−（トリメチルシリル）エ
トキシカルボニル、などのアルコキシカルボニル基、テ
トラヒドロピラニル、メトキシメチル、１−エトキシエ
チル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチルなどの
エーテル基があげられる。

R³のアルキル基はメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピルなどの炭素数１乃至３個の低級アルキル基があげ
られ、R³のアリール基は、フエニル基があげられる。

Ｙはアルキルイミノ基のアルキル基としてメチル、エ
チル、ｔ−ブチルなどの炭素数１乃至４個のアルキル基
またはベンジル、ｐ−ニトロベンジルなどのアラルキル
基があげられる。

R⁴のアルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ｔ−ブチルなどを示す。置換基を有する
アルキル基としての水酸基が保護された直鎖状もしくは
分枝状ヒドロキシアルキル基としては（水酸基の保護基
としは特に限定はなく一般的なアルコール性水酸基の保
護基を用いることができる。好ましくはメチル、エチ
ル、プロピルなどのアルキル基、ベンジル、ｐ−ニトロ
ベンジルなどのアラルキル基、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ベンゾイルなどのアシル基、ベンジルオキ
シカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルな
どのアルコキシカルボニル基、トリメチルシリル、ｔ−
ブチルジメチルシリルなどのトリアルキルシリル基があ
げられる。）２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシ
プロピル基、２−ビドロキシ−１−メチルエチル基、も
しくは３−ヒドロキシ−１−メチルプロピル基などのヒ
ドロキシアルキル基があげられる。置換基を有するアル
キル基としてのアミノ基の保護された直鎖状または分枝
状アミノアルキル基としは（アミノ基の保護基としては
特に限定はなく一般的なアミンの保護基を用いることが
できる。好ましくはホルミル、アセチル、クロルアセチ
ル、プロピオニル、ベンゾイルなどのアシル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニル、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルなど
のアルコキシカルボニル基があげられる。）２−アミノ
エチル、２−アミノ−１−メチルエチル、２−アミノ−
１−エチルエチル、３−アミノプロピル、３−アミノ−
１−メチルプロピル、２−アミノ−２−メチルエチルま
たは２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル、２−（Ｎ−メチ
ルアミノ）−１−メチルエチルなどのアミノアルキル基
があげられる。置換基を有するアルキル基としての水酸
基がアミノアルキル基で修飾された直鎖状または分枝状
アミノアルキルオキシとしてはアルキル基（アミノ基が
保護されていてもよく、そのアミノ基の保護基に特に限
定はないが好ましいものとしては前述したものがあげら
れる。）、２−（２−アミノエトキシ）エチル、２−
（２−アミノエトキシ）−１−メチルエチル、２−（３
−アミノプロポキシ）エチル、３−（２−アミノエトキ
シ）プロピル、３−（２−アミノエトキシ）−１−メチ
ルプロピルなどがあげられる。R⁴のアラルキル基として
はベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｍ−ニトロベンジ
ル、ｏ−メチルベンジル、ｐ−ブロムベンジルもしくは
ｐ−アミノベンジルなどがあけられる。R⁴のアリール基
としてはフエニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ｐ−
ニトロフエニル、ｍ−カルボキシフエニル、ｏ−ヒドロ
キシフエニル、ｐ−メトキシフエニルもしくはｍ−エト
キシカルボニルフエニルがあげられる。R⁴の脂環式複素
環基としては環炭素鎖に窒素原子、酸素原子、硫黄原
子、スルフイニル基、スルホニル基またはカルボニル基
が介在していてもよい置換若しくは非置換の４員環乃至
８員環を形成する環状脂肪族アミン残基があげられ、そ
の環炭素原子に結合する置換基はアルキル基、アルコキ
シアルキル基、シアノアルキル基、ハロゲノアルキル
基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子、
アシルオキシ基、アシルアミノ基、シアノ基、アジド
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、アルキルチオ基、アルキルスルフイニル基、
アルキルスルホニル基またはニトロ基からなる群から選
択されたものであり、その環窒素原子に結合する置換基
はアルキル基、アルケニル基、アルキニ基、シクロアル
キル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基、アシル基、フエナシル基、スルフオ基；アル
コキシスルホニル基、アルキルスルホニル基、アルケニ
ルスルホニル基、アルキニルスルホニル基、シクロアル
キルスルホニル基、シクロアルキルアルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基；アラルキルスルホニル基、
ヘテロアリールスルホニル基、ヘテロアラルキルスルホ
ニル基、 （式中、R¹⁰は水素原子または低級アルキル基を、R¹¹は
水素原子又はイミノ基の保護基を示す） （式中、R¹²およびR¹³は同一または異なって水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、Ｚは酸素原子、硫黄原子ま
たは低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ基を
示す。）、アルコキシカルボニル基またはアラルキルオ
キシカルボニル基からなる群から選択されたものであっ
て、脂環式複素環基として好適には置換基を有してもよ
いアゼチジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホ
リニル、テトラヒドロピリミジニル、チアゾリジニル、
オキサゾリジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、イミダ
ゾリジニルまたはオクタヒドロアゾシニルなどであって
その環炭素原子に結合する置換基は好適には例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペン
チルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキル
基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チルシクロヘキシルのようなシクロアルキル基、例えば
メトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、ｎ−ブトキシメチル、メト
キシエチル、３−メトキシプロピル、２−メトキシプロ
ピル、４−エトキシブチルのような低級アルコキシアル
キル基、例えばメトキシカルボニルメチル、エトキシカ
ルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボニルメチル、ベン
ジルオキシカルボニルエチル、メトキシカルボニルプロ
ピルなどのアルコキシカルボニルアルキル基、例えばシ
アノメチル、シアノエチル、３−シアノプロピル、２−
シアノプロピル、４−シアノブチルのようなシアノ低級
アルキル基、例えばトリフルオロメチル、２−フルオロ
エチル、2,2,2−トリフルオロエチル、２−クロロエチ
ル、２−ブロモエチル、３−フルオロプロピル、２−フ
ルオロプロピル、４−クロロブチル、３−フルオロブチ
ルのようなハロゲノ低級アルキル基、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イ
ソブトキシ、sec−ブトキシ、ｔ−ブトキシのような直
鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルコキシ基、水酸基、ア
ミノ基、例えば弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲ
ン原子、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、イソブチリルオキシのような低級脂肪族ア
シルオキシ基、例えばアセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、ブチリルアミノ、イソブチリルアミノのような低
級脂肪族アシルアミノ基、シアノ基、アジド基、カルボ
キシル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、se
c−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルのよ
うな低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、例
えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオのような直鎖状
若しくは分枝鎖状の低級アルキルチオ基、例えばメチル
スルフイニル、エチルスルフイニル、プロピルスルフイ
ニル、イソプロピルスルフイニル、ブチルスルフイニ
ル、イソブチルスルフイニルのような直鎖状若しくは分
枝鎖状の低級アルキルスルフイニル基、例えばメチルス
ルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イ
ソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチル
スルホニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アル
キルスルホニル基またはニトロ基からなる群から選択さ
れたものであり、その環窒素原子に結合する置換基は好
適には例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、イソペンチルのような直鎖状若しくは分枝鎖
状の低級アルキル基、例えばビニル、アリル、１−プロ
ペニル、イソプロペニル、２−ブテニル、２−ペンテニ
ルのような低級アルケニル基、例えばエチニル、２−プ
ロピニル、２−ブチニル、４−ペンチニルのような低級
アルキニル基、例えばシクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルのよ
うなシクロ低級アルキル基、例えばシクロプロピルメチ
ル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シク
ロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、２−シクロ
ペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、３−シク
ロペンチルプロピル、２−シクロペンチルプロピル、３
−シクロヘキシルプロピル、２−シクロヘキシルプロピ
ル、４−シクロペンチルブチル、３−シクロヘキシルブ
チルのような低級シクロアルキルアルキル基、例えばフ
エニル、ナフチルのようなアリール基、例えばベンジ
ル、フエネチル、３−フエニルプロピルのようなアラル
キル基、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、アクリロイル、メタアクリロイ
ル、クロトノイル、イソクロトノイル、プロピオロイ
ル、メチルプロピオロイルのような低級脂肪族アシル
基、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブタンカ
ルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサン
カルボニルのような低級シクロアルカンカルボニル基、
例えばシクロプロピルアセチル、シクロブチルアセチ
ル、シクロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチ
ル、３−シクロペンチルプロピオニル、３−シクロヘキ
シルプロピオニル、４−シクロペンチルブチリル、４−
シクロヘキシルブチリルのような低級シクロアルキルア
ルカノイル基、例えばベンゾイル、１−ナフトイル、２
−ナフトイルのような芳香族アシル基、例えばフエニル
アセチル、１−ナフチルアセチル、３−フエニルプロピ
オニル、ヒドラトロポイル、シンナモイル、フエニルプ
ロピオロイルのような芳香族アシル基、例えばフロイ
ル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、４−
チアゾールカルボニル、５−ピリミジンカルボニル、２
−ピラジンカルボニルのような複素環アシル基、例えば
２−チエニルアセチル、３−（２−チエニル）プロピオ
ニル、４−チアゾリルアセチル、２−ピリジルアセチ
ル、４−ピリジルアセチル、５−ピリミジルアセチルの
ような複素環脂肪族アシル基、例えば１−アジリジンカ
ルボニル、１−アゼチジンカルボニル、３−アゼチジン
カルボニル、１−ピロリジンカルボニル、２−ピロリジ
ンカルホニル、３−ピロリジンカルボニル、１−ピペリ
ジンカルボニル、２−ピペリジンカルボニル、４−ピペ
リジンカルボニル、４−モルホリンカルボニルのような
ヘテロシクリルカルボニル基若しくは例えば１−アジリ
ジニルアセチル、１−アゼチジニルアセチル、３−アゼ
チジニルアセチル、１−ピロリジニルアセチル、２−ピ
ロリジニルアセチル、３−ピロリジニルアセチル、３−
（２−ピロリジニル）プロピオニル、ピペリジノアセチ
ル、２−ピペリジニルアセチル、４−ピペリジニルアセ
チル、モルホリノアセチルのようなヘテロシクリル脂肪
族アシル基等のアシル基、フエナシル基、スルフオ基、
例えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル、プロ
ポキシスルホニル、イソプロポキシスルホニルのような
低級アルコキシスルホニル基、例えばメチルスルホニ
ル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホ
ニルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の低級アルキルス
ルホニル基、例えばアリルスルホニル、イソプロペニル
スルホニル、２−ブテニルスルホニルのような低級アル
ケニルスルホニル基、例えばエチニルスルホニル、２−
プロピニルスルホニル、２−ブチニルスルホニルのよう
な低級アルキニルスルホニル基、例えばシクロプロピル
スルホニル、シクロブチルスルホニル、シクロペンチル
スルホニル、シクロヘキシルスルホニルのような低級シ
クロアルキルスルホニル基、例えばシクロプロピルメチ
ルスルホニル、シクロブチルメチルスルホニル、シクロ
ペンチルメチルスルホニル、シクロヘキシルメチルスル
ホニル、２−シクロペンチルエチルスルホニル、２−シ
クロヘキシルエチルスルホニル、３−シクロペンチルプ
ロピルスルホニル、２−シクロペンチルプロピルスルホ
ニルのような低級シクロアルキルスルホニル基、例えば
フエニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル、２−ナ
フチルスルホニルのようなアリールスルホニル基、例え
ばベンジルスルホニル、フエネチルスルホニル、３−フ
エニルプロピルスルホニル、２−フエニルプロピルスル
ホニルのようなアラルキルスルホニル基、例えば２−チ
エニルスルホニル、４−チアゾリルスルホニル、２−ピ
リジルスルホニル、４−ピリジルスルホニルのようなヘ
テロアリールスルホニル基、例えば２−チエニルメチル
スルホニル、３−（２−チエニル）プロピルスルホニ
ル、４−チアゾリルメチルスルホニル、２−ピリジルメ
チルスルホニル、４−ピリジルメチルスルホニルのよう
なヘテロアラルキルスルホニル基、 （式中、R¹⁰は水素原子または例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基を、R
¹¹は水素原子または例えばアリルオキシカルボニル、２
−メチルアリルオキシカルボニル、２−クロルアリルオ
キシカルボニル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニ
ル、2,2,2−トリブロムエトキシカルボニルのようなア
ルコキシカルボニル基または例えばｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル、ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルのようなアラルキルオキシカルボニル基を示す。） （式中、R¹²およびR¹³は同一または異なって水素原子ま
たは例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルの
ような低級アルキル基を示し、Ｚは酸素原子、硫黄原子
または例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル
のような低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ
基を示す。）、例えばメトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル、2,2,2−トリクロルエ
トキシカルボニル、2,2,2−トリブロムエトキシカルボ
ニルのような低級アルコキシカルボニル基または例えば
ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｏ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカ
ルボニル基からなる群から選択されたものである。

R⁴の脂環式複素環置換アルキル基として複素環は前述
した脂環式複素環であってその環炭素原子、窒素原子に
結合する置換基は前述したものと同意義を示し、アルキ
ル基はメチル、１−置換エチル、２−置換エチル、１−
置換プロピルなどの低級アルキル基である。

R⁴の芳香族複素環基としては置換基を有してもよいピ
リジル、ピリミジル、トリアジニル、チエニル、フリ
ル、チアゾリルまたはイミダゾリルなどがあげられ、そ
の置換基としてはメチル、エチル、プロピルなどのアル
キル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどのアルコ
キシ基、アミノ基、メチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノなどのアルキルアミノ基、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノなどのジアルキルアミノ基、水酸基、ア
セトキシ、プロピオニルオキシなどの低級アルカノイル
オキシ基、ニトロ基、弗素、塩素、臭素などのハロゲン
原子、例えばメトキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニルなどのアル
コキシカルボニル基である。

R⁵はカルボキシ基が保護されたオキサロ基（カルボキ
シ基の保護基としては特に限定はなくβ−ラクタム系抗
生物質で用いられるカルボキシ基の保護基を示す。好ま
しくはメチル、エチル、ｔ−ブチルなどの低級アルキル
基、ベンツヒドリル基、ベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル、ｏ−ニトロベンジルなどのアラルキル基、アリル、
２−クロルアリル、２−メチルアリルなどのアルケニル
基、2,2,2−トリクロルエチル、2,2,2−トリブロムエチ
ルなどのハロゲン化アルキル基、２−（トリメチルシリ
ル）エチル基などがあげられる。）があげられる。

一般式（Ｉ）の立体配位に関しては特に限定はないが
好適にはチエナマイシンの5,6,8位と同様な配位を有す
るものに導ける立体配位を有するアゼチジノン誘導体で
ある。R⁴に不斉炭素のある場合その立体配位は特に限定
はない。

一般式（Ｉ）を有するアゼチジノンのうち特に好適に
はR¹はｔ−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、１
−エトキシエチル、クロルアセチル、トリメチルシリ
ル、パラニトロベンジルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル基であり、R²は水素原子、
R³は水素原子またはメチル基であり、ＸおよびＹは酸素
原子または硫黄原子であり、R⁴はベンジル、フエニル、
２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エ
チル、２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−１−
メチルエチル、２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）アミノエチル、２−アセトアミドエチル、２−ア
セトアミド−１−メチルエチル、２−〔２−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ）エトキシ〕−１−
メチルエチル、１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ピロリジン−３−イル、１−アセチルピロリジン
−３−イル、１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン−３−イル、
１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホ
ルムイミドイル〕ピロリジン−３−イル、3,4,5,6−テ
トラヒドロ−２−メチル−1,3−ピリミジン−５−イ
ル、3,4,5,6−テトラヒドロ−２−メチル−３−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−1,3−ピリミジン
−５−イル、１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）ピロリジン−３−イル〕エチル、１−（１−
アセチルピロリジン−３−イル）エチル、１−〔１−
〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ホルム
イミドイル〕ピロリジン−３−イル〕エチル、１−〔１
−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アセ
トイミドイル〕ピロリジン−３−イル〕エチル、１−
〔４−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキサカルボニル）
ホルムイミドイル〕モルホリン−２−イル〕エチル、１
−〔４−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アセトイミドイル〕モルホリン−２−イル〕エチ
ル、１−〔４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）モルホリン−２−イル〕エチル、１−（４−アセチ
ルモルホリン−２−イル）エチル、ピリジン−２−イ
ル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イル、２−チ
エニル、３−チエニル、1,2,4−トリアゾール−３−イ
ル、チアゾール−２−イルなどであり、R⁵は水素原子、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル、アリルオ
キシオキサリル、ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリル基などである。

一般式（Ｉ）を有する化合物は一般式（II）を有する
化合物に （式中、R¹およびR⁵は前述したものと同意義を示し、R⁶
は脱離基であり、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピ
オニルオキシなどの低級アシルオキシ基；ベンゾイルオ
キシ、ナフトイルオキシ、ｐ−メトキシベンゾイルオキ
シなどのアリールカルボニルオキシ基；メタンスルホニ
ルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシなどのスルホ
ニルオキシ基；アセチルチオ、プロピオニルチオ、ベン
ゾイルチオ、ｏ−メチルベンゾイルチオなどのアシルチ
オ基；塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子を示
す。） 一般式（III）を有する化合物を反応させることによ
り製造される。

（式中、R²,R³,X,Y,R⁴は前述したものと同意義を示す。
R⁷,R⁸および8⁹は同一または異なるメチル、エチル、ｔ
−ブチル、フエニル基を示す。） 化合物（II）と（III）の反応はトリフルオロメタン
スルホン酸トリアルキルシリルエステル例えばトリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル、また
は三弗化ホウ素エーテル錯体、ヨウ化亜鉛、四塩化チタ
ン、塩化第二錫、塩化アルミニウムなどからえられた触
媒の存在下に、非プロトン性の溶媒例えばヘキサン、ベ
ンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロルホルム、1,2
−ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
アセトニトリルまたはジエチルエーテル中で行われる。
反応温度は−20℃〜80℃であり、反応時間は１時間〜７
日間である。R⁵がトリメチルシリル基の場合は反応終了
後、水で処理することによりあるいはアルコール中フッ
化カリで処理することにより、容易にＮ−シリル基を脱
離せしめることができる。

また一般式（Ｉ）においてR¹が水酸基の保護基の場
合、常法に従って保護基を除去することによりR¹が水素
原子のものを得ることができる。

α−シリル酢酸エチル（III）と４位ヘテロ置換アゼ
チジノン化合物（II）をトリフルオロメタンスルホン酸
トリメチルシリルエステルの存在下に反応せしめ、アゼ
チジノンの４位に酢酸エステル基を導入するこの新しい
方法は以下に示す特徴を有する。最近（A.G.M.Barrett
and P.Quayle,Chem.Comm,1981,1076）４−アセトキシア
ゼチジノン化合物にシリルエノールエーテルあるいはＯ
−シリルケテンアセタールを反応せしめ、アゼチジノン
の４位に炭素−炭素結合を生成せしめる新しい方法が開
発された。この反応に用いられるシリルエノールエーテ
ルあるいはＯ−シリルケテンアセタールはケトンあるい
はエステルを強塩基で処理して脱プロトン化し、ついで
トリメチルクロルシランでシリル化して得られるもので
ある。

この方法では出発物のケトンあるいはエステルがその
分子中に塩基に不安定な官能基を有する場合、目的とす
るシリルエノールエーテルあるいはＯ−シリルケテンア
セタールを合成することは通常、困難である。また一般
にシリルエノールエーテルあるいはＯ−シリルケテンア
セタールは容易に加水分解を受けてもとのケトンあるい
はエステルに戻りやすく、取扱いに注意を要する。

本発明者らは、α−シリル酢酸やα−シリルプロピオ
ン酸から容易に導かれるそのエステル、チオエステル、
あるいはアミドが上述のＯ−シリルケテンアセタールと
全く同様にアゼチジノンの４位で炭素−炭素結合を形成
することを見い出した。本反応に用いるα−シリルカル
ボン酸エステル、チオエステル、あるいはアミドはα−
シリルカルボン酸塩化物とアルコール、メルカプタン、
あるいはアミンとの反応によってあるいはα−シリルカ
ルボン酸とアルコール、メルカプタン、あるいはアミン
とを適当な縮合剤の存在下、反応せしめることによって
得られる。反応条件が緩和なので、種々の官能基を有す
るα−シリルカルボン酸誘導体を得ることができ、化合
物の安定性もよいので取扱いやすくクロマトグラフイー
による精製も可能である。したがって、A.G.M.Barrett
等の方法では合成困難なアゼチジノン（Ｉ）も適当なα
−シリルカルボン酸誘導体（III）を用いることにより
（II）から一段階で合成することが可能である。

本発明によって得られる一般式（Ｉ）を有する新規ア
ゼチジノン誘導体を第１表に例示する。ただしこれによ
って本発明を限定するものではない。

表中の略号について以下に示す。

PNZ:p−ニトロベンジルオキシカルボニル基 ONZ:o−ニトロベンジルオキシカルボニル基 PNB:p−ニトロベンジル基 ONB:o−ニトロベンジル基 TMS:トリメチルシリル基 本発明によって得られる一般式（Ｉ）を有するアゼチ
ジノン誘導体は下記に示す方法によりカルバペネム誘導
体に導くことができる。

すなわち一般式（Ｉ）のR⁵が水素原子の場合は（IV）
の窒素原子にアルコキシオキサリル基を導入して化合物
（Ｖ）とし、またR⁵が１−アルコキシカルボニル−２−
メチル−２−プロペニル基の場合化合物（VI）を塩基処
理により１−アルコキシカルボニル−２−メチル−１−
プロペニル体（VII）とした後オゾン酸化して化合物
（Ｖ）に導く 〔式中のR¹,R²,R³,R⁴,XおよびＹは前述したものと同一
意義を示す。Ｒはカルボキシ基の保護基を示す。〕 化合物（Ｖ）を亜リン酸トリエチルと反応させること
により、カルパペネム誘導体（VIII）に導くことが可能
である。

必要に応じて化合物（VIII）の水酸基の保護基R¹,R⁴
にアミノ基の保護基を含む場合にはその保護基およびカ
ルボキシ基の保護基Ｒを常法に従って除去すると、チエ
ナマイシンで代表される強力な抗菌活性を示すカルバペ
ネム誘導体が得られる。

以上のことから明らかなように一般式（Ｉ）を有する
化合物は有用なカルバペネム誘導体合成の重要中間体で
ある。

以下に本発明の実施および参考例を示す。

参考例23 （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル〕−４−〔１−〔〔（2S,4S）
−２−カルバモイル−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕カルボニル〕
エチル〕−２−アゼチジノン （3R,4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−（t
ert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン550mg（1.53m
mole）と（2S,4S）−２−〔N,N−ビス（トリメチルシリ
ル）カルバモイル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）−４−〔２−（トリメチルシリル）プロピ
オニルチオ〕ピロリジン1.83g（3.06mmole）を塩化メチ
レン10mlに溶かし、ついでトリフルオロメタンスルホン
酸トリメチルシリルエステル50mg（0.23mmole）を加
え、室温下15時間静置する。反応終了後反応液を重曹水
の中に攪拌しながらあける。有機層をわけ、水洗、乾燥
した後溶媒を留去する。得れた残留物をシリカゲルを用
いるカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸
エチル（1:2）混合溶媒で溶出し、目的物708mg（収率57
％）を油状物として得た。このものはアゼチジノンの４
位側鎖のメチル基の立体配位にもとづく２種の異性体
Ａ，Ｂの混合物である。異性体Ａをクロマトにより分離
した。

異性体Ａのスペクトルデータ NMRスペクトル（d_7-DMF）δppm: 0.08（6H,s）、0.85（9H,s）、1.16（3H,d,J＝6Hz）、
1.23（3H,d,J＝6.5Hz）、2.0〜4.6（10H,m）、5.20（2
H,s）、6.17（1H,br.）、6.67（2H,br.）、7.47（2H,
d）、8.15（2H,d） 実施例 １ （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキサリル）−４−〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イ
ルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン57.7mg
（0.105mmole）とトリエチルアミン33mg（0.33mmole）
の塩化メチレン3ml溶液を氷冷し、窒素気流下、ｐ−ニ
トロベンジルオキシオキサリル クロリド73mg（0.30mm
ole）を加えて、１時間攪拌する。反応液を0.1Mリン酸
緩衝液（pH7.2）にあけ、有機層を飽和食塩水で洗う。
溶剤留去後の残渣をシリカゲル1.3gを用いるカラムクロ
マトグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチル混合溶剤
（12:1〜4:1）で溶出される部分を集め目的物67.8mg
（収率83％）を油状物質として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.03（3H,s）、0.13（3H,s）、0.85（9H,s）、1.23（3
H,d,J＝6Hz）、1.5〜2.5（2H,m）、3.0〜5.0（10H,
m）、5.23（2H,s）、5.43（2H,s）、7.50（2H,d,J＝8H
z）、7.56（2H,d,J＝8Hz）、8.22（4H,d,J＝8Hz） 実施例 ２ （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキサリル）−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメ
チル〕−２−アゼチジノン （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル〕−４−〔（フエニルチオ）カル
ボニルメチル〕−２−アゼチジノン747mg（1.97mmole）
とトリエチルアミン398mg（3.94mmole）の塩化メチレン
20ml溶液を氷冷し、窒素気流下ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキサリルクロリド960mg（3.94mmole）を加え、２時
間攪拌する。反応液に0.1Mリン酸緩衝液（pH7.2）を加
え反応を終結させ、有機層を水洗する。乾燥後、溶剤を
留去し、残渣をシリカゲル15gを用いるカラムクロマト
グラフイーに付す。ヘキサン−酢酸エチル（6:1〜3:1）
で溶出される部分を集め、1.032g（収率89％）の目的物
を油状物質として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: −0.02（3H,s）、0.04（3H,s）、0.08（9H,s）、1.14
（3H,d,J＝6Hz）、3.11（1H,dd,J＝15,8Hz）、3.35（1
H,t,J＝3Hz）、3.43（1H,dd,J＝15,4Hz）、4.29（qd,J
＝6,3Hz）、4.64（1H,ddd,J＝8,4,3Hz）、5.37（2H,
s）、7.52（2H,d,J＝8Hz）、8.16（2H,d,J＝8Hz） 実施例 ３ （3S,4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シオキサリル）−２−アゼチジノン （3S,4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノ）エチルチオ〕カルボニルメチル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリル）−２−アゼチジノン358mg（0.449mmol
e）を塩化メチレン8mlに溶かし、０℃で攪拌しながらト
リエチルアミン184mg（1.82mmole）ついでｐ−ニトロベ
ンジルオキシオキサリルクロリド443mg（1.82mmole）を
加える。同温度で１時間攪拌した後、反応液を0.1Mリン
酸緩衝液（pH7.2）20mlにあけ、有機層を分離し、水層
を塩化メチレンでさらに抽出する。有機層をあわせ、食
塩水で洗浄したのち乾燥し溶媒を留去する。残留物をシ
リカゲル5gを用いるカラムクロマトグラフイーに付し、
ヘキサン−酢酸エチル（1:1）混合溶媒で溶出して目的
物351mg（収率73％）を油状物として得た。ヘキサン−
酢酸エチル（1:3）混合溶媒でさらに溶出して出発原料7
5mg（21％）を回収した。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.40（3H,d,J＝6.5Hz）、2.7〜3.7（7H,m）、4.5（1H,
m）、5.13（2H,s）、5.19（2H,s）、5.35（2H,s）、4.9
〜5.4（2H,m）、7.43（2H,d）、7.46（2H,d）、7.50（2
H,d）、8.15（2H,d）、8.17（4H,d） 実施例 ４ （3S,4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕−１−〔（ｐ−ニトロベンジルオキ
シ）オキサリル〕−２−アゼチジノン （3S,4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕−２−アゼチジノン150mg（0.23mmol
e）をテトラヒドロフラン5mlに溶かし、窒素気流下、−
78℃で攪拌しながら、15％ｎ−ブチルリチウムヘキサン
溶液0.15ml（0.24mmole）を滴下する。２分間攪拌した
後、ｐ−ニトロベンジルオキシオキサリルクロリド84mg
（0.34mmole）を加える。４分間攪拌した後、反応液に
0.1Mリン酸緩衝液（pH7.1）7mlを加え、酢酸エチルで抽
出する。乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル4gを
用いるカラムクロマトグラフイーに付す。ベンゼン−酢
酸エチル（1:5）混合溶媒で溶出して目的物61mg（収率3
1％）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.42（3H,d,J＝6.5Hz）、1.8〜2.5（2H,m）、2.26（3H,
s）、2.8〜4.2（8H,m）、〜4.5（1H,m）、5.17（2H,
s）、5.21（2H,s）、5.37（2H,s）、〜5.2（1H,m）、7.
52（6H,br.d）、8.15（2H,d）、8.19（4H,d） 実施例 ５ （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−〔〔（Ｓ）−
１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジ
ン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−〔〔（Ｓ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチ
ジノン182mg（0.295mmole）を塩化メチレン10mlに溶か
し、０℃で攪拌しながら1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2
〔オクタン110mg（0.98mmole）ついでｐ−ニトロベンジ
ルオキシオキサリルクロリド450mg（1.85mmole）を加え
る。１時間後、反応液を0.1M−リン酸緩衝液（pH7.1）4
0ml中にあけ、塩化メチレンで抽出する。飽和食塩水で
洗浄した後乾燥し、溶媒を留去する。残留物をシリカゲ
ル5gを用いるカラムクロマトグラフイーに付し、10〜1
7.5％酢酸エチル−ベンゼンで溶出して、目的物169mg
（収率69.5％）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.42（3H,d,J＝6.5Hz）、1.5〜2.5（2H,m）、2.7〜4.2
（9H,m）、〜4.5（1H,m）、5.17（2H,s）、5.20（2H,
s）、5.36（2H,s）、7.47（4H,d）、7.52（2H,d）、8.1
8（6H,d） 参考例 １ （3R,4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−１−トリメチ
ルシリル−２−アゼチジノン 窒素気流下氷冷した（3R,4R）−４−アセトキシ−３
−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル〕−２−アゼチジノン50g（0.174mole）とトリエチ
ルアミン24.6g（0.224mole）のテトラヒドロフラン500m
l溶液に、トリメチルクロルシラン26.5g（0.244mole）
を加える。反応温度を室温に戻し２時間攪拌する。析出
した沈澱物をセライトを用いた過により除去し、さら
にエーテルで２回洗浄する。液と洗液を合せ溶剤を留
去し、残渣にエーテルを加え、不溶物を去する。液
の溶剤を留去し、目的物62.3g（収率100％）を半固体状
として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.06（6H,s）、0.26（9H,s）、0.85（9H,s）、1.19（3
H,d,J＝6Hz）、2.03（3H,s）、3.07（1H,dd,J＝3,1H
z）、4.13（1H,dq,J＝3,6Hz）、6.04（1H,d,J＝1Hz） 参考例 ２ （Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
−３−（トリメチルシリルアセチルチオ）ピロリジン 55％水素化ナトリウム182mg（4.16mmole）をヘキサン
で洗ったあと、エーテル5mlに懸濁させ、氷冷攪拌下、
トリメチルシリル酢酸500mg（3.79mmole）を加える。水
素ガスの発生がおさまったら得られた乳濁液に同温度で
攪拌下、塩化オキサリル481mg（3.79mmole）を滴下す
る。15分後、（Ｓ）−３−メルカプト−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン500mg（1.77m
mole）とエチルジイソプロピルアミン229mg（1.77mmol
e）を塩化メチレン5mlに溶かした溶液をゆっくり滴下す
る。30分間同温度で攪拌した後、重曹水にあけ、有機層
をわけ、水洗、乾燥した後、溶媒を留去する。得られる
残留物をローバーカラム−Ｂを用いる液体クロマトグラ
フイー〔クロロホルム−酢酸エチル（10:1）〕で分離精
製し、目的物282mg（収率38％）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.15（9H,s）、2.30（2H,s）、1.7〜2.5（2H,m）、3.54
（2H,t,J＝6.5Hz）、3.1〜4.2（3H,m）、5.20（2H,
s）、7.50（2H,d）、8.17（2H,d） 参考例 ３ トリメチルシリルチオ酢酸Ｓ−フエニルエステル （CH₃）SiCH₂COSC₆H₅ 55％水素化ナトリウム237mg（5.41mmole）をヘキサン
で洗浄し、エーテル6.5mlを加える。この懸濁液に、氷
冷し、攪拌しながらトリメチルシリル酢酸650mg（4.93m
mole）を加える。水素ガスの発生がおさまったら得られ
た乳濁液に同温度で攪拌下、塩化オキサリル626mg（4.9
3mmole）を滴下する。15分後得られた乳濁液に氷冷攪拌
下、チオフエノール253mg（2.30mmole）とジイソプロピ
ルエチルアミン298mg（2.30mmole）の塩化メチレン6.5m
l溶液をゆっくり滴下する。30分間同温度で攪拌した
後、反応液を希重曹水にあけ、分離した有機層を水洗、
乾燥した後、溶媒を留去する。得られる残留物をローバ
ーカラム−Ｂを用いる液体クロマトグラフイー〔ベンゼ
ン−ヘキサン（1:1）〕で分離精製し目的物206mg（収率
40％）を油状物質として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.06（9H,s）、2.34（2H,s）、7.30（5H,s） 参考例 ４ （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボ
ニルメチル〕−２−アゼチジノン 参考例１で述べた（3R,4R）−４−アセトキシ−３−
〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル〕−１−トリメチルシリル−２−アゼチジノン1.10g
（3.06mmole）と、トリメチルシリルチオ酢酸Ｓ−フエ
ニルエステル961mg（4.29mmole）の塩化メチレン20ml溶
液を−20℃に冷却し、窒素気流下トリフルオロメタンス
ルホン酸トリメチルシリルエステル0.07ml（0.32mmol
e）を加える。−10゜〜５℃で4.5時間攪拌した後、水を
加えて反応を終結させる。塩化メチレン層を希重曹水、
飽和食塩水で洗浄する。溶剤留去後の残渣をエタノール
2.5mlに溶かしフッ化カルウム58mg（1.00mmole）を加え
室温で1.5時間攪拌する。反応液を酢酸エチルで希釈
し、水、飽和食塩水で洗い、溶剤を留去する。残渣をロ
ーバーカラム（E.メルク社製）を用いて精製する。ヘキ
サン−酢酸エチル（2:1）混合溶剤で溶出される部分を
集め目的物961mg（収率83％）を結晶として得た。ヘキ
サンから再結晶すると融点94〜95℃の針状晶が得られ
た。

元素分析値:C₁₉H₂₉NO₃SSiとして 計算値:C,60.12;H,7.70;N,3.69;S,8.45 実測値:C,60.11;H,7.72;N,3.67;S,8.54 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.08（6H,s）、0.88（9H,s）、1.21（3H,d,J＝6Hz）、
2.7〜3.2（3H,m）、4.0（1H,m）、4.18（1H,quintet,J
＝6Hz）、6.10（1H,br.s）、7.4（5H,S） 参考例 ５ （3S,4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ）エチルチオ〔カルボニルメチル〕−
３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２−アゼチジノン （3R,4R）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル〕−１−（トリメチルシリル）−２−アゼチジノン30
mg（0.051mmole）とＳ−〔２−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−Ｎ−（トリメチルシリル）ア
ミノ〕エチル〕（トリメチルシリル）エタンチオエート
47mg（0.106mmole）を塩化メチレン0.5mlに溶かし、窒
素気流下トリメチルシリルメタンスルホン酸トリメチル
シリルエステル3mg（0.014mmole）を加える。室温下24
時間放置した後、反応液を５％重曹水に冷却攪拌下あ
け、10分間攪拌する。酢酸エチルで抽出し飽和食塩水で
洗い乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲルの分取
用薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒：ベンゼン−酢酸
エチル（1:2）〕で精製して29mg（収率69％）の目的物
を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.40（3H,d,J＝6Hz）、2.6〜3.6（7H,m）、3.91（1H,
m）、5.13（2H,s）、5.19（2H,s）、4.9〜5.5（2H,
m）、6.67（1H,br.s）、7.45（2H,d）、7.48（2H,d）、
8.16（2H,d）、8.19（2H,d） 参考例 ６ （5R,6S）−６−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−２−〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチ
オ〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニト
ロベンジルエステル （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリル）−４−〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチオ〕
カルボニルメチル〕−２−アゼチジノン190mg（0.25mmo
le）、亜リン酸トリエチル250mg（1.5mmole）、及びハ
イドロキノン10mg（0.09mmole）のトルエン20ml溶液を9
5℃で15時間加熱する。薄層クロマトグラフイー上で原
料が消失し、（3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル〕−１−〔１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）トリエトキシホスホ
ラニリデンメチル〕−４−〔〔（Ｓ）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン−３−イルチ
オ〕カルボニルメチル〕−２−アゼチジノンと目的とす
るカルバペネム化合物が認められる。

溶剤と過剰の亜リン酸トリエチルを減圧下留去し、残
った油状物質に再びトルエン20mlを加え、95℃で57時間
加熱し、ホスホラン化合物の環化反応を終結させる。溶
剤留去後の残渣をローバーカラムを用いて精製する。ベ
ンゼン−酢酸エチル（2:1）混合溶剤で溶出される部分
を集め、目的物151.5mg（収率83％）を油状物質として
得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.07（6H,s）、0.87（9H,s）、1.24（3H,d,J＝6Hz）、
1.6〜2.8（2H,m）、2.8〜4.5（10H,m）、5.14（1H,d,J
＝14Hz）、5.18（2H,s）、5.41（1H,d,J＝14Hz）、7.46
（2H,d,J＝9Hz）、7.61（2H,d,J＝9Hz）、8.17（4H,d,J
＝9Hz） 参考例 ７ （5R,6S）−６−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチル
シリルオキシエチル〕−２−（フエニルチオ）カルバペ
ン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエ
ステル （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリル）−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチ
ル〕−２−アゼチジノン114mg（0.194mmole）と亜リン
酸トリエチル258mg（1.55mmole）をトルエン10mlに溶か
し、触媒量のハイドロキノンを加えて窒素気流下100℃
で18時間加熱する。溶媒を減圧下留去して得られる残留
物をローバーカラム（E.メルク社製）を用いるクロマト
グラフイー〔展開溶媒：ヘキサン−アセトン（3.5:1）
に付し、目的物95mg（収率88％）を固体として得た。ア
セトン−ヘキサン混合溶媒から再結晶を行い、融点144
〜145.5℃の無色針状晶を得た。

元素分析値 C₂₈H₃₄N₂O₆SSiとして 計算値:C,60.62;H,6.18;N,5.05;S,5.78 実測値:C,60.50;H,6.11;N,4.77;S,5.91 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.06（6H,s）、0.83（9H,s）、1.15（3H,d,J＝6Hz）、
2.63（2H,d,J＝10Hz）、3.05（1H,dd,J＝4.2Hz）、4.04
（1H,dd,J＝10,2Hz）、4.19（1H,dq,J＝4,6Hz）、5.22
（1H,d,J＝14Hz）、5.50（1H,d,J＝14Hz）、7.2〜7.7
（5H,m）、7.64（2H,d,J＝9Hz）、8.19（2H,d,J＝9Hz） 参考例 ８ Ｓ−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミ
ノ）エチル〕（トリメチルシリル）エタンチオエート （CH₃）₃SiCH₂COSCH₂CH₂NHPNZ ２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）
エタンチオール512mg（2.00mmole）、トリメチルシリル
酢酸264mg（2.00mmole）、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド455mg（2.20mmole）、４−ジメチルアミノピリジン
10mgをベンゼン10mlに溶かし、窒素気流下室温で5.5時
間攪拌する。水100mgを加えて10分間攪拌し、過剰のジ
シクロヘキシルカルボジイミドを分解する。不溶物を
過して除き、液をシリカゲル3gのカラムに通す。ベン
ゼン−酢酸エチル（1:1）混合溶媒で流し、集めた溶液
を減圧下留去する。残留物をローバーカラムＢを用いる
クロマトグラフイーで精製する、ヘキサン−酢酸エチル
（2:1）混合溶媒で溶出して目的物455mg（収率61％）を
結晶として得た。ヘキサン−ベンゼン混合溶媒より再結
晶して融点49〜50℃を有する純品を得た。

元素分析値 C₁₅H₂₂N₂O₅SSiとして 計算値:C,48.63;H,5.98;N,7.56;S,8.65 実測値:C,48.53;H,6.28;N,7.44;S,8.67 NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.15（9H,s）、2.32（2H,s）、2.6〜3.6（4H,m）、5.18
（2H,s）、〜5.2（1H,br.）、7.48（2H,d）、8.20（2H,
d）、 参考例 ９ Ｓ−〔２−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−Ｎ−（トリメチルシリル）アミノ〕エチル〕
（トリメチルシリル）エタンチオエート Ｓ−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）エチル〕（トリメチルシリル）エタンチオエート
41mg（0.111mmole）、ビス（トリメチルシリル）トリフ
ルオルアセトアミド86mg（0.33mmole）、４−ジメチル
アミノピリジン1mgをテトラヒドロフラン1.3mlに溶か
し、窒素気流下室温で30時間放置する。反応終了後、室
温減圧下溶媒を留去し残留物をベンゼン−酢酸エチル
（10:1）に溶かしシリカゲル300mgのカラムをすばやく
通す。溶媒を減圧下留去して目的物47mg（収率96％）を
油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.13（9H,s）、0.28（9H,s）、2.30（2H,s）、2.7〜3.5
（4H,m）、5.20（2H,s）、7.48（2H,d）、8.19（2H,d） 参考例 10 （5R,6S）−２−〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルアミノ）エチルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−
（ｐ−ニトロパンジルオキシカルボニルオキシ）エチ
ル〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニト
ロベンジルエステル （3S,4R）−４−〔〔２−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノ）エチルチオ〔カルボニルメチル〕
−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシオキサリル）−２−アゼチジノン230mg（0.29mmol
e）と亜リン酸トリエチル287mg（1.73mmole）をトルエ
ン23ml中で窒素雰囲気下90℃で１時間加熱する。減圧下
同温度で溶媒および揮発性物質を留去して得られる残留
物にハイドロキノン8mgとトルエン10mlを加え、窒素雰
囲気下100℃で44時間加熱する。反応終了後、減圧下で
溶媒を留去して得られる残留物をローバーカラムを用い
て精製する。ベンゼン−酢酸エチル混合用媒で溶出して
結晶性の目的物90mg（収率40％）を得た。酢酸エチル−
ベンゼン−ヘキサン混合用媒で再結晶を行い、融点148
〜150℃のプリズム晶を得た。

比旋光度▲〔α〕²⁵ _D▼＋66゜（ｃ＝0.81,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.47（3H,d,J＝6Hz）、2.7〜3.7（7H,m）、4.20（1H,
m）、〜5.1（1H,m）、5.16（2H,s）、5.22（2H,s）、5.
18（1H,d,J＝14Hz）、5.47（1H,d,J＝14Hz）、7.45（2
H,d）、7.49（2H,d）、7.60（2H,d）、8.20（6H,d） 参考例 11 （5R,6S）−６−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）エチル〕−２−〔（Ｓ）−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン
−３−イルチオ〕カルバペン−２−エム−３−カルボン
酸 ｐ−ニトロベンジルエステル （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシ）エチル〕−４−〔〔（Ｓ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシオキサリル）−２−アゼチジノン
128mg（0.155mmole）亜リン酸トリエチル155mg（0.934m
mole）およびハイドロキノン7mg（0.06mmole）をトルエ
ン13mlに溶かし、窒素気流下90゜で1.5時間加熱する。
原料が消失したら溶媒および過剰の亜リン酸トリエチル
を減圧下留去し、得られる残留物をふたたびトルエン13
mlに溶かし、窒素気流下100℃で80時間加熱する。溶媒
を留去し生成物をローバーカラムで分離精製する。酢酸
エチル−ベンゼン（1:1）混合溶媒で溶出して目的物69.
6mg（収率56.6％）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.47（3H,d,J＝6Hz）、1.7〜2.7（2H,m）、2.9〜4.5（1
0H,m）、5.18（2H,s）、5.21（2H,s）、5.19（1H,d,J＝
14Hz）、5.45（1H,d,J＝14Hz）、7.47（4H,d）、7.58
（2H,d）、8.17（6H,d） 参考例 12 （Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）アセトイミドイル−３−（トリメチルシリルアセ
チルチオ）ピロリジン （Ｓ）−３−メルカプト−１−〔Ｎ−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジン
1.40g（4.33mmole）をベンゼン28mlに溶かし10℃でトリ
メチルシリル酢酸574mg（4.34mmole）、N,N′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド980mg（4.75mmole）およびジ
メチルアミノピリジン4mgを加えて13時間攪拌する。水
0.5mlを加えて室温で10分間攪拌した後固体を過して
除く、液をシリカゲル4gのカラムを通し、カラムをさ
らにベンゼン−酢酸エチル（3:2）混合溶媒で流す。溶
出液をあつめて溶媒を減圧下室温で留去して得られる残
留物をローバーカラムＢを用いるクロマトグラフイーで
精製する。酢酸エチル−ベンゼン（1:1）混合溶媒で溶
出して目的物937mg）収率49％）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.16（9H,s）、1.6〜2.8（2H,m）、2.30（5H,s）、3.3
〜4.2（5H,m）、5.17（2H,s）、7.51（2H,d）、8.15（2
H,d） 参考例 13 （3S,4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）トリエトキシホスホラニリデンメチ
ル〕−２−アゼチジノン （3S,4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン−３−イルチオ〕カルボニルメチル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシオ
キサリル）−２−アゼチジノン972mg（1.12mmole）、亜
リン酸トリエチル1.12g（6.75mmole）をトルエン80mlに
溶かし、窒素気流下90℃で２時間加熱する。溶媒を減圧
下留去して得られる残留物をローバーカラムを用いて精
製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノール（30:1
0:1）混合溶媒で溶出して目的物961mg（収率84％）を油
状物として得た。

参考例 14 （5R,6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリジ
ン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕カルバペン
−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエス
テル （3S,4R）−４−〔〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロ
リジン−３−イルチオ〕−カルボニルメチル〕−３−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）トリエチルオキシホスホラニリデンメ
チル〕−２−アゼチジノン197mg、ハイドロキノン20mg
トルエン20mlの混合物を窒素気流下100℃で44時間加熱
した。減圧下溶媒を留去し、残留物をローバーカラムを
用いて精製する。酢酸エチル−クロロホルム−メタノー
ル（30:10:1）混合溶媒で溶出して出発原料16mg（８
％）を回収し、ついで目的物93mg（収率58％）を油状物
として得た。

比旋光度▲〔α〕²⁵ _D▼＋68゜（ｃ＝0.17,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 1.48（3H,d,J＝6.5Hz）、2.31（3H,s）、1.8〜2.6（2H,
m）、3.0〜4.5（9H,m）、5.16（2H,s）、5.20（2H,
s）、5.14（1H,d,J＝14Hz）、5.43（1H,d,J＝14Hz）、
〜5.2（1H,m）、7.50（4H,d）、7.57（2H,d）、8.17（6
H,d） 参考例 15 （5R,6S）−２−〔（Ｓ）−１−（アセトイミドイル）
ピロリジン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−ヒド
ロキシエチル〕カルバペン−２−エム−３−カルボン酸 （5R,6S）−２−〔（Ｓ）−１−〔Ｎ−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アセトイミドイル〕ピロリ
ドン−３−イルチオ〕−６−〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル〕カルバペ
ン−２−エム−３−カルボン酸 ｐ−ニトロベンジルエ
ステル485mgをテトラヒドロフラン25mlおよび0.1M−リ
ン酸緩衝液（pH7.1）25mlの混合溶液に溶かし、10％パ
ラジウム−炭素1.4gを加え、常圧水素下、70分間攪拌す
る。反応終了後、触媒を過して除き、液に上記緩衝
液15mlを加えて酢酸エチルで洗浄する。水層を室温減圧
下、約1/2まで濃縮したのち、HP20AG（三菱化成社製）1
5mlを用いるカラムクロマトグラフイーに付し、３％ア
セトン−水で溶出するフラクシヨンを集め、凍結乾燥を
おこなって白色粉末状の目的物115mg（収率58％）を得
た。

NMRスペクトル（D₂O）δppm: 1.29（3H,d,J＝6.5Hz）、1.8〜2.7（2H,m）、2.29（3H,
s）、3.22（2H,d,J＝9.5Hz）、3.3〜4.4（8H,m） 参考例 16 （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−１−〔（Ｒ）
−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−
メチル−２−プロペニル〕−２−アゼチジノン ６α−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕ペニシラン酸 ｐ−ニトロベンジルエステ
ル１β−オキシド511mg（1.00mmole）をトルエン30mlに
溶かし、亜リン酸トリメチル744mg（6.00mmole）、酢酸
240mg（4.00mmole）を加えて90℃で５時間加熱する。反
応終了後、溶媒を減圧下留去し、残留物をシリカゲル10
gを用いるカラムクロマトグラフイーに付す。ベンゼン
−酢酸エチル（20:1）混合溶媒で溶出して目的物479mg
（収率92％）を油状物として得た。生成物は4Rおよび4S
配位を有する二異性体の約1:1の混合物である。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm:〔（4R）−異性体〕0.02
（3H,s）、0.06（3H,s）、0.84（9H,s）、1.26（3H,d,J
＝6Hz）、1.83（3H,br.s）、1.99（3H,s）、3.09（1H,d
d,J＝4.5,1.5Hz）、4.2（1H,m）、4.80（1H,s）、4.89
（1H,br.s）、5.00（1H,br.）、5.20（2H,s）、6.42（1
H,d,J＝1.5Hz）、7.45（2H,d）、8.16（2H,d）；〔（4
S）−異性体〕0.04（3H,s）、0.08（3H,s）、0.84（9H,
s）、1.34（3H,d,J＝6Hz）、2.08（3H,s）、3.35（1H,d
d,J＝8,4.5Hz）、4.2（1H,m）、4.75（1H,s）、4.89（1
H,br.s）、5.00（1H,br.）、5.20（2H,s）、6.17（1H,
d,J＝4.5Hz）、7.45（2H,d）、8.16（2H,d） 参考例 17 （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−tert
−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−〔−１
−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチ
ル−１−プロペニル〕−２−アゼチジノン （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−２−プロペニル〕−２−アゼチジノ
ン78mgを塩化メチレンに溶かしトリエチルアミン20mgを
加えて室温で50分間静置する。溶媒を減圧下留去し得ら
れる油状物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグラフイ
ー〔展開溶媒：酢酸エチル−ヘキサン（1:4）〕により
精製して、目的物75mg（収率96％）を油状物として得
た。本物質は3,4−トランス異性体し3,4−シス異性体の
1:1混合物である。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 〔トランス異性体〕−0.03（3H,s）、0.03（3H,s）、0.
83（9H,s）、1.27（3H,d,J＝6Hz）、1.97（3H,s）、2.0
1（3H,s）、2.22（3H,s）、3.19（3H,dd,J＝6.5,1.5H
z）、4.1（1H,m）、5.27（2H,s）、6.19（1H,d,J＝1.5H
z）、7.53（2H,d）、8.20（2H,d） 〔シス異性体〕0.06（3H,s）、0.10（3H,s）、0.86（9
H,s）、1.36（3H,d,J＝6Hz）、1.97（3H,s）、2.06（3
H,s）、2.22（3H,s）、3.37（1H,dd,J＝8,4.5Hz）、4.3
（1H,m）、5.27（2H,s）、6.24（1H,d,J＝4.5Hz）、7.5
2（2H,d）、8.20（2H,d） 参考例 18 （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
〔（ｐ−ニトロベンジルオキシ）オキサリル〕−２−ア
ゼチジノン （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
〔１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−
メチル−１−プロペニル〕−２−アゼチジノン156mgを
塩化メチレン25mlに溶かし−78℃に冷却する。オゾンを
15分間通じ、同温度で10分間静置した後、窒素ガスを吹
き込み過剰のオゾンを除く。反応液にジメチルスルフイ
ド0.2mlを加え室温まで温度を上げた後、減圧下溶媒を
留去する。残留物をベンゼン−ヘキサン（1:1）混合溶
媒に溶かし、水洗を２回行った後乾燥し溶媒を留去す
る。油状の目的物149mg（収率100％）を得た。本物質は
3,4−トランス異性体と3,4−シス異性体の1:1混合物で
ある。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 〔トランス異性体〕−0.01（3H,s）、0.07（3H,s）、0.
81（9H,s）、1.28（3H,d,J＝6Hz）、2.08（3H,s）、3.2
7（1H,t,J＝2Hz）、4.3（1H,m）、5.37（2H,s）、6.67
（1H,d,J＝2Hz）、7.53（2H,d）、8.20（2H,d） 〔シス異性体〕0.03（3H,s）、0.08（3H,s）、0.86（9
H,s）、1.29（3H,d,J＝6Hz）、3.56（1H,dd,J＝6.5,5.5
Hz）、4.3（1H,m）、5.37（2H,s）、6.81（1H,d,J＝5.5
Hz）、7.53（2H,d）、8.20（2H,d） 参考例 19 （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−（te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルメチル）−２−アゼ
チジノン （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
〔（ｐ−ニトロベンジルオキシ）オキサリル〕−２−ア
ゼチジノン149mg（0.30mmole）、亜リン酸トリエチル22
4mg）1.35mmole）をトルエン3mlに溶かし、90℃で２時
間加熱した。溶媒を減圧下留去して（3R,4RS）−４−ア
セトキシ−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチル
シリルオキシ）エチル〕−１−〔（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）トルエトキシホスホラニリデンメチ
ル〕−２−アゼチジノンを油状物として得た。

上で得た油状物をテトラヒドロフラン3ml、水1mlに溶
かし、ｐ−トルエンスルホン酸3mgを加え室温で５分間
静置する。酢酸エチルを加えて希釈し水洗、乾燥後溶媒
を留去し、残留物をシリカゲルの分取用薄層クロマトグ
ラフイー〔展開溶媒：酢酸エチル−ベンゼン（1:7）〕
によって精製して目的物118mg（収率82％）を油状物と
して得た。本物質は3,4−トランス異性体と3,4−シス異
性体の1:1混合物である。

NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 〔トランス異性体〕0.04（3H,s）、0.08（3H,s）、0.86
（9H,s）、1.26（3H,d,J＝6Hz）、2.03（3H,s）、3.24
（1H,dd,J＝4.5,1.5Hz）、4.11（2H,s）、4.2（1H,
m）、5.22（2H,s）、5.93（1H,d,J＝1.5Hz）、7.47（2
H,d）、8.19（2H,d） 〔シス異性体〕0.08（3H,s）、0.10（3H,s）、0.86（9
H,s）、1.36（3H,d,J＝6Hz）、2.08（3H,s）、3.44（1
H,dd,J＝8.5,4.5Hz）、3.93（1H,d,J＝18Hz）、4.24（1
H,d,J＝18Hz）、4.3（1H,m）、5.22（2H,s）、6.03（1
H,d,J＝4.5Hz）、7.47（2H,d）、8.19（2H,d） 参考例 20 （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル〕−１−〔（Ｒ）−１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−２−
プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチ
ル〕−２−アゼチジノン （3R,4RS）−４−アセトキシ−３−〔（Ｒ）−１−
（tert−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−
〔（Ｒ）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−２−メチル−２−プロペニル〕−２−アゼチジノ
ン358mg（0.69mmole）、Ｓ−フエニル（トリメチルシリ
ル）エタンチオエート260mg（1.06mmole）、トリフルオ
ロメタンスルホン酸 トリメチルシリルエステル2mg
（0.113mmole）を塩化メチレン12mlに溶かし、窒素雰囲
気下41時間静置する。反応液を氷冷攪拌下希重曹水にあ
けてクロロホルムで抽出する。乾燥後溶媒を留去し残留
物をローバーカラムＢ（E.メルク社製）を用いる液体ク
ロマトグラフイーで分離精製する。ヘキサン−ベンゼン
−酢酸エチル（6:6:1）混合溶媒で溶出して出発原料ア
ゼチジノン67mg（回収19％；シス：トランス＝1:2）、
つづいて目的物301mg（収率71％）を油状物として得
た。

比旋光度▲〔α〕²⁵ _D▼−50℃（ｃ＝1.04,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.03（3H,s）、0.06（3H,s）、0.85（9H,s）、1.18（3
H,d,J＝6Hz）、1.85（3H,br.s）、2.86（1H,dd,J＝15,7
Hz）、3.00（1H,dd,J＝5,2.5Hz）、3.20（1H,dd,J＝15,
5.5Hz）、3.9〜4.6（2H,m）、4.78（1H,s）、4.87（1H,
br.s）、5.02（1H,br.）、5.20（2H,s）、7.36（5H,
s）、7.45（2H,d）、8.16（2H,d） 参考例 21 （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル〕−１−〔１−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニ
ル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２
−アゼチジノン （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（tert−ブチルジメ
チルシリルオキシ）エチル〕−１−〔（Ｒ）１−（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）−２−メチル−２−
プロペニル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチ
ル〕−２−アゼチジノン86mgを塩化メチレン1.5mlに溶
かし、トリエチルアミン15mgを加えて室温下１時間静置
する。溶媒を留去して得られる残留物をベンゼン−酢酸
エチル（20:1）混合溶媒に溶かし、シリカゲル1gのカラ
ムを通して精製する。目的物84mg（収率98％）を油状物
として得た。

比旋光度▲〔α〕²⁵ _D▼＋46℃（ｃ＝1.32,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）δppm: 0.00（3H,s）、0.05（3H,s）、0.86（9H,s）、1.25（3
H,d,J＝6Hz）、2.00（3H,s）、2.20（3H,s）、2.90（1
H,dd,J＝6,2.5Hz）、2.95（2H,d,J＝6.5Hz）、4.15（1
H,m）、4.40（1H,td,J＝6.5,2.5Hz）、5.26（2H,s）、
7.33（5H,br.）、7.52（2H,d）、8.17（2H,d） 参考例 22 （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）エチル〕−１−（４−ニトロベンジルオ
キシオキサリル）−４−〔（フエニルチオ）カルボニル
メチル〕−２−アゼチジノン （3S,4R）−３−〔（Ｒ）−１−（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）エチル〕−１−〔１−（４−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）−２−メチル−１−プロペニ
ル〕−４−〔（フエニルチオ）カルボニルメチル〕−２
−アゼチジノン199mgを塩化メチレン25mlに溶かし、−7
8℃でオゾンを吹き込む。反応液が青味を帯びたら、窒
素ガスを吹き込んで過剰のオゾンを追い出す。ジメチル
スルフイド0.2mlを加えて反応液を約５分間で室温に戻
した後、減圧下濃縮する。残留物をベンゼン−ヘキサン
（1:1）混合溶媒に溶かし２回水洗し、乾燥後溶媒を留
去して、標記物192mg（収率100％）を油状物として得
た。

IRおよびNMRスペクトルは実施例８で得られた化合物
のそれらと一致した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田島 和 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社化学研究所内 (72)発明者 武田 憲子 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社化学研究所内 (56)参考文献 特開 昭55−27169（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−150058（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−123182（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−123985（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−93981（ＪＰ，Ａ) 西独国特許公開2949269（ＤＥ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［式中、R¹は水素原子または水酸基の保護基を、R²は水
   素原子、R³は水素原子、低級アルキル基またはアリール
   基を、Ｘは酸素原子または硫黄原子を、Ｙはイミノ基も
   しくはアルキルイミノ基、酸素原子または硫黄原子を、
   R⁴はアルキル基、置換基を有するアルキル基、アラルキ
   ル基、脂環式複素環置換アルキル基、脂環式複素環基、
   アリール基、または芳香族複素環基を、R⁵はカルボキシ
   基が保護されたオキサロ基を示す。］を有するアゼチジ
   ノン誘導体。