JPH0679559B2 - 光学活性アゼチジノン誘導体の製法 - Google Patents
光学活性アゼチジノン誘導体の製法Info
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- JPH0679559B2 JPH0679559B2 JP60121479A JP12147985A JPH0679559B2 JP H0679559 B2 JPH0679559 B2 JP H0679559B2 JP 60121479 A JP60121479 A JP 60121479A JP 12147985 A JP12147985 A JP 12147985A JP H0679559 B2 JPH0679559 B2 JP H0679559B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は光学活性な3−(1−アシルオキシエチル)−
2−アゼチジノン誘導体(dl体)をバチルス属に属する
細菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に
属する糸状菌を利用して光学活性な3−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−アゼチジノン誘導体へ導く製法に関す
るものである。
2−アゼチジノン誘導体(dl体)をバチルス属に属する
細菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に
属する糸状菌を利用して光学活性な3−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−アゼチジノン誘導体へ導く製法に関す
るものである。
本発明によって得られる光学活性な3−(1−ヒドロキ
シエチル)−2−アゼチジノン誘導体は抗菌活性を有す
るカルバペネム及びペネム誘導体へ導く重要中間体であ
る。
シエチル)−2−アゼチジノン誘導体は抗菌活性を有す
るカルバペネム及びペネム誘導体へ導く重要中間体であ
る。
光学活性な3−(1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチ
ジノン誘導体の製法に関しては種々知られているが、い
ずれも工程数が多く反応操作が煩雑である。本発明者等
は、容易に得られるdl−3−(1−アシルオキシエチ
ル)−2−アゼチジノン(1)をバチルス属に属する細
菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に属
する糸状菌を利用して選択的に加水分解し光学活性な3
−(1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチジノン(2)
が効率よく得られることを見いだし本発明を完成した。
ジノン誘導体の製法に関しては種々知られているが、い
ずれも工程数が多く反応操作が煩雑である。本発明者等
は、容易に得られるdl−3−(1−アシルオキシエチ
ル)−2−アゼチジノン(1)をバチルス属に属する細
菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に属
する糸状菌を利用して選択的に加水分解し光学活性な3
−(1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチジノン(2)
が効率よく得られることを見いだし本発明を完成した。
一般式 におけるR1はアシル基(たとえばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリルまたはベンゾイル基である)で
あり、R2は置換基を有してもよいアルキニル基を〔たと
えばエチニルまたはプロパルギル基であって以下に示す
同一もしくは異なる置換基を1〜3個有してもよい。そ
の置換基はアルキル基(たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、イソプロピルまたはt−ブチルなど)、
−SR4基(式中、R4はアルキル基(たとえばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソプロピルまたはt−ブチ
ルなど)またはフェニル基を示す。)〕などである。R3
はアルケニル基(たとえばビニルまたはアリル基であ
る。)、置換基を有してもよいフェニル基、〔その置換
基はアルキル基(たとえばメチル、エチル、プロピル、
ブチル、イソプロピルまたはt−ブチルなど)、アルコ
キシ基(たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシまたはt−ブトキシなど)などである。〕、置換
基を有してもよいベンジル基〔その置換基はアルキル基
(たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプ
ロピルまたはt−ブチルなど)、アルコキシ基(たとえ
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシまたはt
−ブトキシなど)などである。〕またはベンズヒドリル
基などである。
プロピオニル、ブチリルまたはベンゾイル基である)で
あり、R2は置換基を有してもよいアルキニル基を〔たと
えばエチニルまたはプロパルギル基であって以下に示す
同一もしくは異なる置換基を1〜3個有してもよい。そ
の置換基はアルキル基(たとえばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、イソプロピルまたはt−ブチルなど)、
−SR4基(式中、R4はアルキル基(たとえばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソプロピルまたはt−ブチ
ルなど)またはフェニル基を示す。)〕などである。R3
はアルケニル基(たとえばビニルまたはアリル基であ
る。)、置換基を有してもよいフェニル基、〔その置換
基はアルキル基(たとえばメチル、エチル、プロピル、
ブチル、イソプロピルまたはt−ブチルなど)、アルコ
キシ基(たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシまたはt−ブトキシなど)などである。〕、置換
基を有してもよいベンジル基〔その置換基はアルキル基
(たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプ
ロピルまたはt−ブチルなど)、アルコキシ基(たとえ
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシまたはt
−ブトキシなど)などである。〕またはベンズヒドリル
基などである。
一般式(1)を有する化合物のうち好適化合物はR1がア
シル基(たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリルまたはベンゾイル基である)であり、R2は置換
基を有してもよいアルキニル基であって、その置換基は
−SR4基(式中、R4は前述したものと同意義を示す。)
であり、R3がアルケニル基、置換基を有してもよいフェ
ニル基または置換基を有してもよいベンジル基もしくは
ベンズヒドリル基などである。
シル基(たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリルまたはベンゾイル基である)であり、R2は置換
基を有してもよいアルキニル基であって、その置換基は
−SR4基(式中、R4は前述したものと同意義を示す。)
であり、R3がアルケニル基、置換基を有してもよいフェ
ニル基または置換基を有してもよいベンジル基もしくは
ベンズヒドリル基などである。
本発明の不斉加水分解に供給されるバチルス属に属する
細菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に
属する糸状菌は、数多い成書と経験とにより選ぶことが
できる。
細菌、ピチア属に属する酵母またはアスペルギルス属に
属する糸状菌は、数多い成書と経験とにより選ぶことが
できる。
この目的達成のために有効な前述した細菌、酵母、糸状
菌は以下のごとくである。
菌は以下のごとくである。
Bacillus subtilis SANK 76759(IAM 1069) 〔酵母〕 Pichia farinosa SANK 58062 (IAM 4303) Pichia terricola SANK 51684 (FERM 8001) 〔糸状菌〕 Aspergillus niger SANK 13658 (ATCC 9142) これらの前述した細菌、酵母、糸状菌を供試する場合の
実験方法は、次に示すA法およびB法に大別できる。
実験方法は、次に示すA法およびB法に大別できる。
A法−前述した供試細菌、酵母、糸状菌が良好な生育を
示す任意の培地に当該菌株を接種し、1〜2日間培養
(通常は回転振とう培養−往復振とう培養でも可−)の
後、旺盛な発育の見られる時期に20〜150mg%の基質を
添加(微細粉末として直接培地に添加するか、水とよく
混和する任意の有機用培0.5〜2.0%の範囲に溶解させて
添加する)し、同一条件で培養を続けて加水分解を終了
させる、いわゆる生育菌体法である。
示す任意の培地に当該菌株を接種し、1〜2日間培養
(通常は回転振とう培養−往復振とう培養でも可−)の
後、旺盛な発育の見られる時期に20〜150mg%の基質を
添加(微細粉末として直接培地に添加するか、水とよく
混和する任意の有機用培0.5〜2.0%の範囲に溶解させて
添加する)し、同一条件で培養を続けて加水分解を終了
させる、いわゆる生育菌体法である。
例えば、グルコース2%、ポリペプトン1%、酵母エキ
ス0.1%の各濃度で水道水100mlに溶かし、500ml三角フ
ラスコに分注し、120℃、15lbs、にて20分間高圧殺菌す
る。冷却後、菌を同一培地で3日間培養した培養液を3m
l接種し、28℃にて回転振とうする。1日後、旺盛な生
育の見られる時期に、基質を適当量、適当な水溶性溶媒
に溶かした液を加え、2日間培養を続ける。反応終了時
のpHは7.8〜8.9、酵母あるいは糸状菌でpH4.8〜5.7であ
る。培養液を酢酸エチルで抽出し、粗生成物が得られ
る。
ス0.1%の各濃度で水道水100mlに溶かし、500ml三角フ
ラスコに分注し、120℃、15lbs、にて20分間高圧殺菌す
る。冷却後、菌を同一培地で3日間培養した培養液を3m
l接種し、28℃にて回転振とうする。1日後、旺盛な生
育の見られる時期に、基質を適当量、適当な水溶性溶媒
に溶かした液を加え、2日間培養を続ける。反応終了時
のpHは7.8〜8.9、酵母あるいは糸状菌でpH4.8〜5.7であ
る。培養液を酢酸エチルで抽出し、粗生成物が得られ
る。
B法−前述した供試細菌、酵母、糸状菌が良好な生育を
示す任意の培地に当該菌株を接種し、2〜4日間培養
(通常回転振とう培養−往復振とう培養でも可−)し、
菌体を遠心集菌後、生理食塩水で2回洗浄する。こうし
て得た湿菌体1〜5gを、1〜5%の水道水溶液に懸濁さ
せ、0.5〜2時間回転振とう機(あるいは往復振とう
機)にかけて馴化させた後、A法と同様にして基質を添
加し、同一条件で加水分解を終了させる、いわゆる菌体
懸濁法である。ここでは水道水のかわりに、蒸溜水やpH
5.0〜7.0の緩衝液、例えば燐酸緩衝液を用いても同様の
結果が得られる。
示す任意の培地に当該菌株を接種し、2〜4日間培養
(通常回転振とう培養−往復振とう培養でも可−)し、
菌体を遠心集菌後、生理食塩水で2回洗浄する。こうし
て得た湿菌体1〜5gを、1〜5%の水道水溶液に懸濁さ
せ、0.5〜2時間回転振とう機(あるいは往復振とう
機)にかけて馴化させた後、A法と同様にして基質を添
加し、同一条件で加水分解を終了させる、いわゆる菌体
懸濁法である。ここでは水道水のかわりに、蒸溜水やpH
5.0〜7.0の緩衝液、例えば燐酸緩衝液を用いても同様の
結果が得られる。
なお、A法における接種菌体、B法における湿菌体のか
わりに容易に入手可能な生菌体、例えば市販されている
製パン用イーストなどは、目的達成のために手軽に供試
しうるものである。
わりに容易に入手可能な生菌体、例えば市販されている
製パン用イーストなどは、目的達成のために手軽に供試
しうるものである。
B法は加水分解終了後の注出操作において、菌体懸濁液
から来る夾雑物がA法に比べて少なく、従つて目的物質
の単離、精製が容易であり、かつ収率が良い。さらに、
A法の生育菌体法では目的とする一次(加水分解)反応
に次いで二次反応が起こりやすく、B法の菌体懸濁法で
は反応が単純化され、目的物質のみを効率よく得ること
ができる。
から来る夾雑物がA法に比べて少なく、従つて目的物質
の単離、精製が容易であり、かつ収率が良い。さらに、
A法の生育菌体法では目的とする一次(加水分解)反応
に次いで二次反応が起こりやすく、B法の菌体懸濁法で
は反応が単純化され、目的物質のみを効率よく得ること
ができる。
例えば、市販のパン用イースト2g(湿菌体)を3gシヨ糖
を含む20mlの水道水に懸濁し、0.5〜2時間、28℃で回
転振とう培養する。ついで適量の基質をメタノールなど
の水溶性溶倍に溶かして添加し、加水分解反応を行う。
反応開始後1〜2日後、反応の経時変化をTLCで確認
し、基質残存の認められる場合には蔗糖1gを追加し、加
水分解反応を終了させる。反応液を酢酸エチルで抽出
し、粗生成物が得られる。
を含む20mlの水道水に懸濁し、0.5〜2時間、28℃で回
転振とう培養する。ついで適量の基質をメタノールなど
の水溶性溶倍に溶かして添加し、加水分解反応を行う。
反応開始後1〜2日後、反応の経時変化をTLCで確認
し、基質残存の認められる場合には蔗糖1gを追加し、加
水分解反応を終了させる。反応液を酢酸エチルで抽出
し、粗生成物が得られる。
なお、A法およびB法において前述に細菌、酵母、糸状
菌の培養に供しうる培地は、微生物の旺盛な生育が見ら
れるものであれば全て本目的を達しうる。これらの培地
には天然培地、半合成培地、合成培地などがあるが、加
水分解活性の高い菌体を得るためには、天然培地を用い
るのが望ましい。天然培地の一例として、グルコース1
〜5%、ペプトン1〜3%、酵母エキス0.05〜0.5%pH
6.5の組成の培地などがある。この場合微生物種によつ
てはグルコールを蔗糖または麦芽糖、液糖など他の糖源
に、ペプトン、酵母エキスも同様に、大豆粉、フアーマ
メデアなど他の窒素源にかえることもできる。さらに炭
素源、窒素源以外に無機塩(例えばFeSO4・7H2O,MgSO4
・7H2O,ZnSO4・7H2Oなど)を0.001〜0.1%添加すること
で、菌体の加水分解活性が高まることがある。
菌の培養に供しうる培地は、微生物の旺盛な生育が見ら
れるものであれば全て本目的を達しうる。これらの培地
には天然培地、半合成培地、合成培地などがあるが、加
水分解活性の高い菌体を得るためには、天然培地を用い
るのが望ましい。天然培地の一例として、グルコース1
〜5%、ペプトン1〜3%、酵母エキス0.05〜0.5%pH
6.5の組成の培地などがある。この場合微生物種によつ
てはグルコールを蔗糖または麦芽糖、液糖など他の糖源
に、ペプトン、酵母エキスも同様に、大豆粉、フアーマ
メデアなど他の窒素源にかえることもできる。さらに炭
素源、窒素源以外に無機塩(例えばFeSO4・7H2O,MgSO4
・7H2O,ZnSO4・7H2Oなど)を0.001〜0.1%添加すること
で、菌体の加水分解活性が高まることがある。
一方、微生物菌体ではなく、酵素のみ用いても、目的を
達成することができる有効な酵素は、微生物ないしは動
物細胞由来のもので、リパーゼを始めとするエステラー
ゼやアミノアシラーゼなどであり、これらによる反応で
は、加水分解が立体選択的に進行するものが多い。例え
ば、エステラーゼ(Carboxylic−ester hydrorase,EC
3.1.1.1,例えばブタ肝臓由来の市販品、PLE)リパーゼ
(Triacylglycerol acylkydrolase,EC3.1.1.3,例えばA
spergillus oryzaeまたはAspergillus niger由来の市
販品) アミノアシラーゼ(N−Amino−acid aminohydro las
e,EC3.5.1.14,例えばAspergillus属の糸状菌より調製さ
れた市販品) などの酵素である。また、精製されたこれら標品のかわ
りに、市販品として安価に入手可能な粗精製品を用いる
ことでも目的を達しうる。例えばタカジアスターゼCは
Aspergillus oryzae由来の粗酵素標品で、リパーゼを
含んでいるので精製標品のリパーゼのかわりに用いるこ
とができる。
達成することができる有効な酵素は、微生物ないしは動
物細胞由来のもので、リパーゼを始めとするエステラー
ゼやアミノアシラーゼなどであり、これらによる反応で
は、加水分解が立体選択的に進行するものが多い。例え
ば、エステラーゼ(Carboxylic−ester hydrorase,EC
3.1.1.1,例えばブタ肝臓由来の市販品、PLE)リパーゼ
(Triacylglycerol acylkydrolase,EC3.1.1.3,例えばA
spergillus oryzaeまたはAspergillus niger由来の市
販品) アミノアシラーゼ(N−Amino−acid aminohydro las
e,EC3.5.1.14,例えばAspergillus属の糸状菌より調製さ
れた市販品) などの酵素である。また、精製されたこれら標品のかわ
りに、市販品として安価に入手可能な粗精製品を用いる
ことでも目的を達しうる。例えばタカジアスターゼCは
Aspergillus oryzae由来の粗酵素標品で、リパーゼを
含んでいるので精製標品のリパーゼのかわりに用いるこ
とができる。
酵素を用いる方法は、微生物菌体による方法に比べて培
養のための装置や操作が不要であり、反応時に一次(加
水分解)反応以外の反応がほとんど起こらず、微生物菌
体由来の夾雑物もないため目的物質の抽出精製が容易で
ある点などの利点がある。
養のための装置や操作が不要であり、反応時に一次(加
水分解)反応以外の反応がほとんど起こらず、微生物菌
体由来の夾雑物もないため目的物質の抽出精製が容易で
ある点などの利点がある。
例えば、ブタ肝臓エステラーゼ(PLE)500単位をpH8.0
の緩衝液(例えば燐酸緩衝液)50mlに溶かし、水とよく
混和する溶媒(例えばアルコール、ジメルホルムアミド
など)少量に溶かした適量の基質を添加し、撹拌しなが
ら35℃にて2〜24時間反応させる。反応の経時変化をTL
Cで確認し、反応終了後、反応液を酢酸エチルなどの溶
媒で注出し、粗生物が得られる。
の緩衝液(例えば燐酸緩衝液)50mlに溶かし、水とよく
混和する溶媒(例えばアルコール、ジメルホルムアミド
など)少量に溶かした適量の基質を添加し、撹拌しなが
ら35℃にて2〜24時間反応させる。反応の経時変化をTL
Cで確認し、反応終了後、反応液を酢酸エチルなどの溶
媒で注出し、粗生物が得られる。
基質は溶媒に溶かして添加するほか、直接投入する方法
もある。いずれにおいても、必要に応じて0.01〜0.1%
の界面活性剤(例えばTriton X−100,Span80など)や
水を混和する有機溶媒(例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、アセトンなど)を適量添加する
ことにより酵素反応をより効率的に行うことができる。
もある。いずれにおいても、必要に応じて0.01〜0.1%
の界面活性剤(例えばTriton X−100,Span80など)や
水を混和する有機溶媒(例えばジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、アセトンなど)を適量添加する
ことにより酵素反応をより効率的に行うことができる。
一般式(2)(式中、R2およびR3は前述したものと同意
義を示す)を有する化合物は、以下のようにして得られ
る一般式(1)を有する化合物をアルコール、アセトン
もしくはジメルホルムアミドに溶かすか、または直接前
述した細菌、酵母、糸状菌の培地または酵素液に添加し
て、反応においてはA法またはB法により1〜4日間、
酵素法においては2〜24時間反応させる。この間、TLC
などにより化合物(1)の化合物(2)への変換を確認
する。適当時間後、適当な溶媒、例えば酢酸エチル、エ
ーテルなどの溶媒て抽出し、抽出物をカラムクロマトグ
ラフイー、TLC、または再結晶法などにより、目的とす
る光学活性なアゼチジノン誘導体(2)を分離精製す
る。
義を示す)を有する化合物は、以下のようにして得られ
る一般式(1)を有する化合物をアルコール、アセトン
もしくはジメルホルムアミドに溶かすか、または直接前
述した細菌、酵母、糸状菌の培地または酵素液に添加し
て、反応においてはA法またはB法により1〜4日間、
酵素法においては2〜24時間反応させる。この間、TLC
などにより化合物(1)の化合物(2)への変換を確認
する。適当時間後、適当な溶媒、例えば酢酸エチル、エ
ーテルなどの溶媒て抽出し、抽出物をカラムクロマトグ
ラフイー、TLC、または再結晶法などにより、目的とす
る光学活性なアゼチジノン誘導体(2)を分離精製す
る。
本発明の出発物質である化合物(1)は特願昭59−2659
62号に開示された方法により得られる。すなわちScheme
1に従つて化合物(3)から4工程で(1)が得られる 式中R1、R2およびR3は前述したものと同意義を示し、X
はハロゲン原子などを示す。
62号に開示された方法により得られる。すなわちScheme
1に従つて化合物(3)から4工程で(1)が得られる 式中R1、R2およびR3は前述したものと同意義を示し、X
はハロゲン原子などを示す。
化合物(3)を脱水剤の存在下アミンの反応させること
によりシツフの塩基(4)ができる。これとジケテンの
反応により化合物(5)が得られる。これを還元し化合
物(6)としてアシル化することにより化合物(1)が
得られる。
によりシツフの塩基(4)ができる。これとジケテンの
反応により化合物(5)が得られる。これを還元し化合
物(6)としてアシル化することにより化合物(1)が
得られる。
本発明によつて得られる化合物はScheme2に従つてカル
バペネムへ導くことができる。
バペネムへ導くことができる。
すなわち化合物(7)の水酸基を保護しついてアセチレ
ンのチオフエニル化をすると化合物(8)が得られる。
化合物(8)の窒素原子の保護基をT Fukuyama等(J.
Am.Chem.Soc.102 2122(1980))の方法に従つて除去
しついで特開昭60−19763号の方法により化合物(9)
が得られる。化合物(9)からカルバペネム(10)へ導
く方法は特開昭59−46265号及び特開昭59−51286号に示
されている。
ンのチオフエニル化をすると化合物(8)が得られる。
化合物(8)の窒素原子の保護基をT Fukuyama等(J.
Am.Chem.Soc.102 2122(1980))の方法に従つて除去
しついで特開昭60−19763号の方法により化合物(9)
が得られる。化合物(9)からカルバペネム(10)へ導
く方法は特開昭59−46265号及び特開昭59−51286号に示
されている。
つぎに実施例および参考例をあげて本発明を説明する。
実施例1 (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(60mg)をPichia farinosa
SANK 58062(IAM 4303)と伴にB法により30℃で24時
間振とう培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得ら
れる粗生績体(76mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフ
イー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1、UVランプ検
出、Rf=0.32)により精製すると目的化合物21mgが得ら
れた。
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(60mg)をPichia farinosa
SANK 58062(IAM 4303)と伴にB法により30℃で24時
間振とう培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得ら
れる粗生績体(76mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフ
イー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1、UVランプ検
出、Rf=0.32)により精製すると目的化合物21mgが得ら
れた。
〔α▲〕24゜ D▼−135゜(C=1,CHcl3) NMR(CDcl3),δppm:1.27(3H,d,J=6Hz),2.55(1H,
d,J=2Hz),3.38(1H,dd,J=2及び4Hz),3.75(3H,
s),4.1〜4.5(1H,m),4.60(1H,t,J=2Hz),6.75−7.6
0(4H,A2B2型) 実施例2 (3R,4R)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(60mg)を実施例1と同様に反
応、処理すると目的化合物13mgが得られた。
d,J=2Hz),3.38(1H,dd,J=2及び4Hz),3.75(3H,
s),4.1〜4.5(1H,m),4.60(1H,t,J=2Hz),6.75−7.6
0(4H,A2B2型) 実施例2 (3R,4R)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(60mg)を実施例1と同様に反
応、処理すると目的化合物13mgが得られた。
Rf=0.32(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1) 〔α▲〕24 D▼+77゜(C=1,CHcl3) mp 96〜105゜ NMR(CDcl3)δppm:1.37(3H,d,J=6Hz),2.55(1H,d,J
=2Hz),3.40(1H,dd,J=2,4Hz),3.75(3H,s),3.9〜
4.4(1H,m),4.45(1H,t,J=2Hz),6.75〜7.6(4H,A
2B2) 実施例3 (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(500mg)をBacillus s
ubtilis SANK 76759 (IAM 1069)と伴にA法によ
り28℃で24時間振とう培養する。培養液を酢酸エチルで
抽出して得られる粗生績体(518mg)をシリカゲル薄層
クロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的化合物148mgが得られた。この
ものをエーテルから再結晶を行つた。
=2Hz),3.40(1H,dd,J=2,4Hz),3.75(3H,s),3.9〜
4.4(1H,m),4.45(1H,t,J=2Hz),6.75〜7.6(4H,A
2B2) 実施例3 (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(500mg)をBacillus s
ubtilis SANK 76759 (IAM 1069)と伴にA法によ
り28℃で24時間振とう培養する。培養液を酢酸エチルで
抽出して得られる粗生績体(518mg)をシリカゲル薄層
クロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的化合物148mgが得られた。この
ものをエーテルから再結晶を行つた。
〔α▲〕24 D▼−200゜(C=1,CHcl3) mp 133゜ NMRは実施例1で得られた化合物のそれと一致した。
実施例4 (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(120mg)をAspergillus
niger SANK 13658 (ATCC 9142)と伴にA法によ
り28℃で48時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽
出して得られる粗生積体(108mg)をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的化合物21mgが得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(120mg)をAspergillus
niger SANK 13658 (ATCC 9142)と伴にA法によ
り28℃で48時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽
出して得られる粗生積体(108mg)をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的化合物21mgが得られた。
〔α▲〕24゜ D▼−87゜(C=1,CHcl3) NMRは実施例1で得られた化合物のそれと一致した。
実施例5. (3R,4R)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(128mg)をBacillus s
ubtilis SANK 76569 (IAM 1069)と伴にA法によ
り28℃で36時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽
出して得られる粗生積体(219mg)をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的物18mgが得られた。このもの
をエーテルにより再結晶を行つた。
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(128mg)をBacillus s
ubtilis SANK 76569 (IAM 1069)と伴にA法によ
り28℃で36時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽
出して得られる粗生積体(219mg)をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/
1)により精製すると目的物18mgが得られた。このもの
をエーテルにより再結晶を行つた。
〔α▲〕24゜ D▼+170゜(C=1,CHcl3) mp 128゜ 実施例6. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(80mg)をBacillus su
btilis SANK 76759と伴にA法により28℃で48時間振
とう培養する。培養液を酢酸エチル抽出して得られる粗
生積体(164mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフイー
(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,UVランプ検出,Rf
=0.02)により精製すると目的化合物10mgが得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−エチニル−2−アゼチジノン(80mg)をBacillus su
btilis SANK 76759と伴にA法により28℃で48時間振
とう培養する。培養液を酢酸エチル抽出して得られる粗
生積体(164mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフイー
(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,UVランプ検出,Rf
=0.02)により精製すると目的化合物10mgが得られた。
〔α▲〕23゜ D▼−19.5゜(C=1,CHcl3) NMR(CDcl3)δppm:1.24(3H,d,J=6Hz),2.39(1H,d,J
=2Hz),3.22(1H,dd,J=2,5Hz),3.70(3H,s),3.9〜
4.4(1H,m),3.95(1H,d,J=15Hz),4.59(1H,d,J=15H
z),6.70〜7.25(4H,A2B2型) 実施例7. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン(168mg)をPichia farin
osa SANK 58062 (IAM 4303)と伴にB法により28
℃で48時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽出し
て得られる粗生積体(179mg)をシリカゲル薄層クロマ
トグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1)に
より精製すると目的化合物13mgが得られた。
=2Hz),3.22(1H,dd,J=2,5Hz),3.70(3H,s),3.9〜
4.4(1H,m),3.95(1H,d,J=15Hz),4.59(1H,d,J=15H
z),6.70〜7.25(4H,A2B2型) 実施例7. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン(168mg)をPichia farin
osa SANK 58062 (IAM 4303)と伴にB法により28
℃で48時間振とう培養する。培養液を酢酸エチル抽出し
て得られる粗生積体(179mg)をシリカゲル薄層クロマ
トグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1)に
より精製すると目的化合物13mgが得られた。
〔α▲〕24゜ D▼−8゜(C=1,CHcl3) NMRは実施例6で得られた化合物のそれと一致した。
実施例8. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン(38mg)をPichia fariuo
sa SANK 58062 (IAM 4303)と伴にB法により28℃
で48時間振とう培養する。培養液を実施例1と同様に処
理すると目的化合物5mgが得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン(38mg)をPichia fariuo
sa SANK 58062 (IAM 4303)と伴にB法により28℃
で48時間振とう培養する。培養液を実施例1と同様に処
理すると目的化合物5mgが得られた。
〔α▲〕24゜ D▼−120゜(C=0.5,CHcl3) NMRは実施例1で得られた化合物のそれと一致した。
実施例9. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(31mg)をPichia farinosa
SANK 58062 (IAM 4303)と伴にA法により28℃で48
時間培養する。培養液を実施例6と同様に処理すると目
的化合物4mgが得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン(31mg)をPichia farinosa
SANK 58062 (IAM 4303)と伴にA法により28℃で48
時間培養する。培養液を実施例6と同様に処理すると目
的化合物4mgが得られた。
〔α▲〕24゜ D▼−16゜(C=0.4,CHcl3) NMRは実施例6で得られた化合物のそれと一致した。
実施例10. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン(110mg)
をBacillus subtilis SANK 76759 (IAM 1069)と
伴にA法により28℃で3日間培養する。培養液を酢酸エ
チルで抽出して得られる粗生積体(138mg)をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチ
ル=1/1,Rf≒0.5)により精製すると目的化合物22mgが
得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン(110mg)
をBacillus subtilis SANK 76759 (IAM 1069)と
伴にA法により28℃で3日間培養する。培養液を酢酸エ
チルで抽出して得られる粗生積体(138mg)をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチ
ル=1/1,Rf≒0.5)により精製すると目的化合物22mgが
得られた。
〔α▲〕24゜ D▼−123゜(C=1,CHcl3) NMR(CDcl3)δppm:1.35(3H,d,J=6Hz),〜2.25(1H,
s),3.41(1H,dd,J=6,2.5Hz),3.71(3H,s),4.28(1
H,q,J=6Hz),4.75(1H,d,J=2.5Hz),6.6〜7.6(9H,
m) 実施例11. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン(160mg)
をBacillus subtilis SANK 76759 (IAM 1069)と
伴に1日おきに1%のブルコール添加しながらA法によ
り28℃で4日間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出し
て得られる粗生積体(92mg)をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,UVラン
プ検出,Rf≒0.4)により精製すると目的化合物13mgが得
られた。
s),3.41(1H,dd,J=6,2.5Hz),3.71(3H,s),4.28(1
H,q,J=6Hz),4.75(1H,d,J=2.5Hz),6.6〜7.6(9H,
m) 実施例11. (3S,4S)−1−(4−メトキシベンジル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン(160mg)
をBacillus subtilis SANK 76759 (IAM 1069)と
伴に1日おきに1%のブルコール添加しながらA法によ
り28℃で4日間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出し
て得られる粗生積体(92mg)をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,UVラン
プ検出,Rf≒0.4)により精製すると目的化合物13mgが得
られた。
〔α▲〕24゜ D▼−54゜(C=1,CHcl3) NMR(CDcl3)δppm:1.28(3H,d,J=6.5Hz),〜2.4(1
H,s),3.71(3H,s),3.30(1H,dd,J=4,2Hz),4.07(1
H,d,J=15Hz),4.60(1H,d,J=15Hz),4.0〜4.3(1H,
m),4.28(1H,d,J=2Hz),6.7〜7.5(9H,m) 実施例12. (3R,4R)−1−アリル−3−〔(1S)−1−ヒドロキ
シエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジ
ノン dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−〔(1R*)−
1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン(520mg)をBacillus subtili
s SANK 76759 (IAM 1069)と伴にA法により28℃
で3日間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得ら
れる粗生積体(250mg)をシリカゲル薄層クロマトグラ
フイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,Rf≒0.4)
により精製すると目的化合物43mgが得られた。
H,s),3.71(3H,s),3.30(1H,dd,J=4,2Hz),4.07(1
H,d,J=15Hz),4.60(1H,d,J=15Hz),4.0〜4.3(1H,
m),4.28(1H,d,J=2Hz),6.7〜7.5(9H,m) 実施例12. (3R,4R)−1−アリル−3−〔(1S)−1−ヒドロキ
シエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジ
ノン dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−〔(1R*)−
1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチ
ニル−2−アゼチジノン(520mg)をBacillus subtili
s SANK 76759 (IAM 1069)と伴にA法により28℃
で3日間培養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得ら
れる粗生積体(250mg)をシリカゲル薄層クロマトグラ
フイー(シクロヘキサン/酢酸エチル=1/1,Rf≒0.4)
により精製すると目的化合物43mgが得られた。
〔α▲〕24゜ D▼゜−3゜(C=1,CHcl3) NMR(CDcl3)δppm:1.29(3H,d,J=6Hz),3.31(1H,dd,
J=2.5,5Hz),3.4〜4.4(2H,m),4.47(1H,d,J=2.5H
z),4.9〜6.0(4H,m),7.1〜7.5(5H,m) 実施例13. (3R,4R)−1−ベンツヒドリル−3−〔(1S)−1−
ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル−2
−アゼチジノン(90mg)をBacillus subtilis SANK
76759 (IAM 1069)と伴にA法により28℃で3日間培
養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生積
体(110mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフイー(シ
クロヘキサン/酢酸エチル=1/1,Rf≒0.35)により精製
すると目的化合物9.4mgが得られた。
J=2.5,5Hz),3.4〜4.4(2H,m),4.47(1H,d,J=2.5H
z),4.9〜6.0(4H,m),7.1〜7.5(5H,m) 実施例13. (3R,4R)−1−ベンツヒドリル−3−〔(1S)−1−
ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル−2
−アゼチジノン(90mg)をBacillus subtilis SANK
76759 (IAM 1069)と伴にA法により28℃で3日間培
養する。培養液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生積
体(110mg)をシリカゲル薄層クロマトグラフイー(シ
クロヘキサン/酢酸エチル=1/1,Rf≒0.35)により精製
すると目的化合物9.4mgが得られた。
〔α〕D+2.8゜(C=0.94,CHcl3) NMRは参考例6で得られた化合物のそれと一致した。
実施例14. (3S,4S)−1−ベンツヒドリル−3−〔(1S)−ヒド
ロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル
アゼチジノン(40mg)をBacillus subtilis SANK 76
759 (IAM 1069)と伴に28℃で3日間培養する。培養
液を実施例13と同様に処理すると目的化合物10mgが得ら
れた。
ロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル
アゼチジノン(40mg)をBacillus subtilis SANK 76
759 (IAM 1069)と伴に28℃で3日間培養する。培養
液を実施例13と同様に処理すると目的化合物10mgが得ら
れた。
〔α▲〕24゜ D▼−52゜(C=1,CHcl3) NMRは参考例6で得られたS*化合物のそれと一致し
た。
た。
実施例15. (3S,4S)−1−ベンツヒドリル−3−〔(1R)−ヒド
ロキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼ
チジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニル
チオエチニル−2−アゼチジノン(160mg)を実施例13
と同様に培養,処理すると目的化合物6.5mgが得られ
た。
ロキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼ
チジノン dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニル
チオエチニル−2−アゼチジノン(160mg)を実施例13
と同様に培養,処理すると目的化合物6.5mgが得られ
た。
〔α〕D−13゜(C=0.65,CHcl3) NMR(CDCl3)δppm:1.28(3H,d,J=6Hz),〜2.8(1H,
s),3.351H,dd,J=3,5Hz),4.2(1H,m),4.34(1H,d,J
=3Hz),6.04(1H,s),7.2〜7.4(15H,m) 実施例16. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
S)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン アミノアシラーゼ(N−Acylaminoacid aminohydrolas
e EC 3.5.1.14)500単位を5μg/mlの塩化コバルトを
含む蒸溜水またはリン酸緩衝液(PH7.0)50mlに溶か
す。これにdl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフ
エニル)−3α−〔(1R*)アセトキシエチル〕−4−
エチル〕−2−アゼチジノン49mgを0.05%のTriton100
とゝもに加える。この溶液を30℃で2日間撹拌する。反
応液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生積体を実施例
1と同様に処理すると目的化合物10mgが得られた。
s),3.351H,dd,J=3,5Hz),4.2(1H,m),4.34(1H,d,J
=3Hz),6.04(1H,s),7.2〜7.4(15H,m) 実施例16. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
S)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン アミノアシラーゼ(N−Acylaminoacid aminohydrolas
e EC 3.5.1.14)500単位を5μg/mlの塩化コバルトを
含む蒸溜水またはリン酸緩衝液(PH7.0)50mlに溶か
す。これにdl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフ
エニル)−3α−〔(1R*)アセトキシエチル〕−4−
エチル〕−2−アゼチジノン49mgを0.05%のTriton100
とゝもに加える。この溶液を30℃で2日間撹拌する。反
応液を酢酸エチルで抽出して得られる粗生積体を実施例
1と同様に処理すると目的化合物10mgが得られた。
〔α▲〕22゜ D▼−40゜(C=1,CHCl3) NMRは実施例1で得られた化合物のそれと一致した。
実施例17. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン ブタ肝臓由来のエステラーゼ(Caboxylicester hydrol
ase EC 3.1.1.1)500単位を0.1Mリン酸緩衝液(PH7.
0)に溶かし、これにdl−3,4−トランス−1−(4−メ
トキシフエニル)−3α−〔(1R*)−1−アセトキシ
エチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン60mgを加
え、ついでアセトンを加えアセトンの5%水溶液とす
る。この溶液を35℃で1日間撹拌する。反応液を実施例
1と同様に処理すると目的化合物12mgが得られた。
R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン ブタ肝臓由来のエステラーゼ(Caboxylicester hydrol
ase EC 3.1.1.1)500単位を0.1Mリン酸緩衝液(PH7.
0)に溶かし、これにdl−3,4−トランス−1−(4−メ
トキシフエニル)−3α−〔(1R*)−1−アセトキシ
エチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン60mgを加
え、ついでアセトンを加えアセトンの5%水溶液とす
る。この溶液を35℃で1日間撹拌する。反応液を実施例
1と同様に処理すると目的化合物12mgが得られた。
〔α▲〕22゜ D▼−85゜(C=1,CHCl3) NMRは実施例1で得られた化合物のそれと一致した。
参考例1. dl−1−アリル−3−アセチル−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン プロパルギル アルデヒド1gを塩化メチレン20mlに溶解
し、0.87mlのアリルアミン及び無水硫酸マグネシウム4g
を加え、20℃,20分間撹拌。ろ過後、ろ液にイミダゾー
ル1.56gを加えて、窒素雰囲気下−20℃とし、ついでジ
ケテン1.76mlを同温にて加える。
ゼチジノン プロパルギル アルデヒド1gを塩化メチレン20mlに溶解
し、0.87mlのアリルアミン及び無水硫酸マグネシウム4g
を加え、20℃,20分間撹拌。ろ過後、ろ液にイミダゾー
ル1.56gを加えて、窒素雰囲気下−20℃とし、ついでジ
ケテン1.76mlを同温にて加える。
約1.5時間かけて反応温度を20℃にする。反応液を水洗
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去後、残渣
をシリカゲルラピツト・クロマトグラフイー(塩化メチ
レン)に付し、Rf=0.4辺の目的化合物691mgを得た。
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥。溶媒留去後、残渣
をシリカゲルラピツト・クロマトグラフイー(塩化メチ
レン)に付し、Rf=0.4辺の目的化合物691mgを得た。
Bp 95〜105゜/0.03mmHg(油浴温度) NMR(CDCl3)δ:2.28(3H,s),2.56(1H,d,J=2Hz),2.
3〜4.3(2H),4.24(1H,d,J=2Hz),4.54(1H,t,J=2H
z),4.95〜6.15(3H,m) IR(Liq.)cm-1:1760,1712,2110 参考例2. dl−1−ベンツヒドリル−3−アセチル−4−エチニル
−2−アゼチジノン プロパルギルアルデヒド1gを無水ベンゼン20mlに溶解
し、2.82gのベンツヒドリルアミン及び無水硫酸マグネ
シウム2gを加え20分間撹拌。ろ過後、溶媒を留去し、残
渣を無水塩化メチレン30mlに溶解し、1.57gのイミダゾ
ールを加え窒素雰囲気下−20℃に冷却する。ついで1.76
mlのジケテンを−20゜〜−10℃で加え、ゆつくりと反応
温度を15℃とする(約1.5時間)。20mlの塩化メチレン
を加え、反応液を水洗し、抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル ラピツト
クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=3:
1)により精製すると目的化合物3.2mgが得られた。
3〜4.3(2H),4.24(1H,d,J=2Hz),4.54(1H,t,J=2H
z),4.95〜6.15(3H,m) IR(Liq.)cm-1:1760,1712,2110 参考例2. dl−1−ベンツヒドリル−3−アセチル−4−エチニル
−2−アゼチジノン プロパルギルアルデヒド1gを無水ベンゼン20mlに溶解
し、2.82gのベンツヒドリルアミン及び無水硫酸マグネ
シウム2gを加え20分間撹拌。ろ過後、溶媒を留去し、残
渣を無水塩化メチレン30mlに溶解し、1.57gのイミダゾ
ールを加え窒素雰囲気下−20℃に冷却する。ついで1.76
mlのジケテンを−20゜〜−10℃で加え、ゆつくりと反応
温度を15℃とする(約1.5時間)。20mlの塩化メチレン
を加え、反応液を水洗し、抽出液を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル ラピツト
クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=3:
1)により精製すると目的化合物3.2mgが得られた。
Rf=0.35(シクロヘキサン:酢酸エチル=2:1) NMR(CDCl3)δ:2.21(3H,s),2.32(1H,d,J=2Hz),4.
22(1H,J=2Hz),4.45(1H,t,J=2Hz),5.86(1H,s),
7.28(10H,s) IR(Liq.)cm-1:2120,1760,1720 参考例3. dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−(1−ヒドロ
キシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−1−アリル−3−アセチル−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン400mgをメタノール5mlに溶解し、氷冷下86mg
のNaBH4をゆつくり加え、同温にて20分間撹拌後酢酸エ
チルを加え希塩酸水を加え、有機層を水洗3回、無水Mg
SO4にて乾燥後溶媒留去。得られる残渣をシリカゲルラ
ピツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=1:1,Rf=0.3近辺)により目的化合物300mgが得られ
た。
22(1H,J=2Hz),4.45(1H,t,J=2Hz),5.86(1H,s),
7.28(10H,s) IR(Liq.)cm-1:2120,1760,1720 参考例3. dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−(1−ヒドロ
キシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン dl−1−アリル−3−アセチル−4−エチニル−2−ア
ゼチジノン400mgをメタノール5mlに溶解し、氷冷下86mg
のNaBH4をゆつくり加え、同温にて20分間撹拌後酢酸エ
チルを加え希塩酸水を加え、有機層を水洗3回、無水Mg
SO4にて乾燥後溶媒留去。得られる残渣をシリカゲルラ
ピツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=1:1,Rf=0.3近辺)により目的化合物300mgが得られ
た。
NMR(CDCl3)δ:1.25(1.25H,d,J=6.5),1.29(1.75H,
d,J=6.5Hz),2.45(1H,m),3.0〜3.8(4H,m),3.8〜4.
3(3H,M),6.1(3H,m), NMRの1.25と1.29のシグナルの比からR*/S*=1/1.4で
あることが明らかとなつた。
d,J=6.5Hz),2.45(1H,m),3.0〜3.8(4H,m),3.8〜4.
3(3H,M),6.1(3H,m), NMRの1.25と1.29のシグナルの比からR*/S*=1/1.4で
あることが明らかとなつた。
なお本反応をNaBH4の代りにK−セレクトライドを用い
ても同様な結果が得られた。
ても同様な結果が得られた。
参考例4. dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−(1−ベンゾ
イルオキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例3により得たS*:R*≒1.4:1の混合物のアルコ
ール体800mgを20mlの無水テトラヒドロフランに溶解
し、トリフエニルホスフイン2.34g及び安息香酸1gを加
える。この溶液に室温にてアゾジカルボン酸ジエチル93
3mgを加え、そのまゝ30分間撹拌。酢酸エチルを加え水
洗2回、MgSO4にて乾燥。溶媒留去後シリカゲル ラピ
ツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=5:1)により精製すると目的化合物917mgが得られた。
イルオキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例3により得たS*:R*≒1.4:1の混合物のアルコ
ール体800mgを20mlの無水テトラヒドロフランに溶解
し、トリフエニルホスフイン2.34g及び安息香酸1gを加
える。この溶液に室温にてアゾジカルボン酸ジエチル93
3mgを加え、そのまゝ30分間撹拌。酢酸エチルを加え水
洗2回、MgSO4にて乾燥。溶媒留去後シリカゲル ラピ
ツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=5:1)により精製すると目的化合物917mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.50(1.25H,d,J=6.5Hz),1.54(1.75
H,d,J=6.5Hz),2.54(1H),3.3〜3.8(3H,m),3.9〜4.
4(3H,m),4.9〜6.1(3H,m),7.2〜7.6(3H,m),7.8〜
8.1(2H,m) NMRの1.50と1.54のシグナルの比からR*/S*=1/1.4で
あることが明らかとなつた。
H,d,J=6.5Hz),2.54(1H),3.3〜3.8(3H,m),3.9〜4.
4(3H,m),4.9〜6.1(3H,m),7.2〜7.6(3H,m),7.8〜
8.1(2H,m) NMRの1.50と1.54のシグナルの比からR*/S*=1/1.4で
あることが明らかとなつた。
参考例5. dl−3,4−トランス−1−アリル−3α−〔(1R*)−
ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル
−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ア
リル−3α−〔(1S*)−ベンゾイルオキシエチル〕−
4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン626mgをテトラヒドロフラン10m
lに溶解し、氷冷下n−ブチルリチウムヘキサン液(1.6
2mモル/ml)2.4mlを加える。そのまゝ30分間撹拌後−78
℃に冷却する。この溶液に参考例4で合成したベンゾイ
ル体(R*,S*のまざり)917mgの10mlテトラヒドロフ
ラン溶液を加え、更に−78℃にて一時間撹拌する。つい
で、J.Am.Chem.Soc.,99,4405(1977)の方法で合成した
フエニルベンゼンチオスルホネート(φSSO2φ)972mg
の10mlテトラヒドロフラン溶液を加える。−78℃にて一
時間撹拌。酢酸エチルを加えついて塩化アンモニウム水
を加える。酢酸エチルにて抽出後、抽出液を飽和食塩水
にて水洗。MgSO4にて乾燥、溶媒留去後シリカゲルラピ
ツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=10:1)により精製し目的のR*体520mgおよびS*体2
00mgが得られた。
ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル
−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ア
リル−3α−〔(1S*)−ベンゾイルオキシエチル〕−
4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン626mgをテトラヒドロフラン10m
lに溶解し、氷冷下n−ブチルリチウムヘキサン液(1.6
2mモル/ml)2.4mlを加える。そのまゝ30分間撹拌後−78
℃に冷却する。この溶液に参考例4で合成したベンゾイ
ル体(R*,S*のまざり)917mgの10mlテトラヒドロフ
ラン溶液を加え、更に−78℃にて一時間撹拌する。つい
で、J.Am.Chem.Soc.,99,4405(1977)の方法で合成した
フエニルベンゼンチオスルホネート(φSSO2φ)972mg
の10mlテトラヒドロフラン溶液を加える。−78℃にて一
時間撹拌。酢酸エチルを加えついて塩化アンモニウム水
を加える。酢酸エチルにて抽出後、抽出液を飽和食塩水
にて水洗。MgSO4にて乾燥、溶媒留去後シリカゲルラピ
ツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=10:1)により精製し目的のR*体520mgおよびS*体2
00mgが得られた。
R*体:油状物質,Rf=0.23(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.52(CH3,d,J=6.5Hz),3.54(1H,d,
d,J=6.5,2.5Hz),3.6〜4.4(2H,m),4.51(1H,d,J=2.
5Hz),5.0〜6.0(4H,m),7.1〜7.6(8H,m),7.9〜8.2
(2H,m) IR(Liquid)cm-1:1760,1720 S*体:mp70〜1℃ Rf=0.31(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.55(CH3,d,J=6.5Hz),3.3〜4.1(3
H,m),4.29(1H,d,J=2.5Hz),4.9〜6.1(4H,m),7.1〜
7.6(8H,m),7.9〜8.2(2H,m) IR(Nujol)cm-1:1760,1720 参考例6. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
S*)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−
アゼチジノン 参考例2のdl−1−ベンツヒドリル−3−アセチル−4
−エチニル−2−アゼチジノン1.8gを30mlのメタノール
に溶解し、−20℃にてNaBH4250mgを加え同温にて5分間
撹拌。希塩酸水及び酢酸エチルを加え、生成物を酢酸エ
チル抽出。水洗後、MgSO4にて乾燥。溶媒留去後、シリ
カゲルラピツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:
酢酸エチル=1:1)により精製すると目的化合物1.7gが
得られた。
d,J=6.5,2.5Hz),3.6〜4.4(2H,m),4.51(1H,d,J=2.
5Hz),5.0〜6.0(4H,m),7.1〜7.6(8H,m),7.9〜8.2
(2H,m) IR(Liquid)cm-1:1760,1720 S*体:mp70〜1℃ Rf=0.31(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.55(CH3,d,J=6.5Hz),3.3〜4.1(3
H,m),4.29(1H,d,J=2.5Hz),4.9〜6.1(4H,m),7.1〜
7.6(8H,m),7.9〜8.2(2H,m) IR(Nujol)cm-1:1760,1720 参考例6. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
S*)−1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−
アゼチジノン 参考例2のdl−1−ベンツヒドリル−3−アセチル−4
−エチニル−2−アゼチジノン1.8gを30mlのメタノール
に溶解し、−20℃にてNaBH4250mgを加え同温にて5分間
撹拌。希塩酸水及び酢酸エチルを加え、生成物を酢酸エ
チル抽出。水洗後、MgSO4にて乾燥。溶媒留去後、シリ
カゲルラピツトクロマトグラフイー(シクロヘキサン:
酢酸エチル=1:1)により精製すると目的化合物1.7gが
得られた。
これをジエチルエーテルから再結晶すると目的化合物が
600mgが結晶として得られた。
600mgが結晶として得られた。
mp 105゜ NMR(CDCl3)δ:1.29(3H,d,J=6Hz),2.32(1H,d,J=
2.5Hz),3.26(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.89(1H,t,J=2.5
Hz),3.8〜4.2(1H,m),5.93(1H,s),7.1〜7.4(10H,
m) 参考例7. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−アセトキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼ
チジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリ
ル−3α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン 参考例6で得たR*及びS*のまざりのアルコール体1g
をピリジン5ml及び無水酢酸5mlに溶解し15時間放置。酢
酸エチルエステルを加え、希塩酸水、及び飽和食塩水に
て洗滌後、溶媒留去。残渣をシリカゲルラピツトクロマ
トグラフイー(塩化メチレン:酢酸エチル=40:1)によ
り精製すると目的のS*体400mgおよびR*体250mgが得
られた。
2.5Hz),3.26(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.89(1H,t,J=2.5
Hz),3.8〜4.2(1H,m),5.93(1H,s),7.1〜7.4(10H,
m) 参考例7. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−アセトキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼ
チジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリ
ル−3α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン 参考例6で得たR*及びS*のまざりのアルコール体1g
をピリジン5ml及び無水酢酸5mlに溶解し15時間放置。酢
酸エチルエステルを加え、希塩酸水、及び飽和食塩水に
て洗滌後、溶媒留去。残渣をシリカゲルラピツトクロマ
トグラフイー(塩化メチレン:酢酸エチル=40:1)によ
り精製すると目的のS*体400mgおよびR*体250mgが得
られた。
S*体:mp123゜, Rf=0.64(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.35(3H,d,J=6Hz),1.88(CH3,s),
2.40(1H,d,J=2Hz),3.40(1H,t,J=2.5Hz),3.74(1
H,t,J=2.5Hz),5.13(1H,dq,J=6.5,3Hz),5.92(1H,
s),7.28(10H,s) IR(Nujol)cm-1:1710,1735,1600 R*体:油状物 Rf=0.45(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.30(3H,d,J=6Hz),1.92(3H,s),2.
38(1H,d,J=D2Hz,3.36(1H,dd,J=2.5,5.5Hz),4.01
(1H,t,J=2Hz),5.14(1H,q,J=5.5Hz),5.92(1H,
s),7.28(10H,s) IR(Liq.)cm-1:1770,1740 参考例8. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル
−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ベ
ンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキ
シエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例6で得た592mgのアルコール体(R*及びS*の
まざり)を、10mlのテトラヒドロフランに溶解し、1.05
gのトリフエニルホスフイン及び440mgの安息香酸を加え
る。
2.40(1H,d,J=2Hz),3.40(1H,t,J=2.5Hz),3.74(1
H,t,J=2.5Hz),5.13(1H,dq,J=6.5,3Hz),5.92(1H,
s),7.28(10H,s) IR(Nujol)cm-1:1710,1735,1600 R*体:油状物 Rf=0.45(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.30(3H,d,J=6Hz),1.92(3H,s),2.
38(1H,d,J=D2Hz,3.36(1H,dd,J=2.5,5.5Hz),4.01
(1H,t,J=2Hz),5.14(1H,q,J=5.5Hz),5.92(1H,
s),7.28(10H,s) IR(Liq.)cm-1:1770,1740 参考例8. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル
−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−ベ
ンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキ
シエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例6で得た592mgのアルコール体(R*及びS*の
まざり)を、10mlのテトラヒドロフランに溶解し、1.05
gのトリフエニルホスフイン及び440mgの安息香酸を加え
る。
この溶液に氷冷下アゾジカルボン酸ジエチル417mgを加
え、氷冷剤をとりのぞきそのまゝ10分間撹拌。酢酸エチ
ルを加え、水洗3回。MgSO4にて乾燥後溶媒留去し、残
渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー(シクロヘ
キサン:酢酸エチル=10:1)により精製すると目的のR
*体348mgおよびS*体117mgが得られた。
え、氷冷剤をとりのぞきそのまゝ10分間撹拌。酢酸エチ
ルを加え、水洗3回。MgSO4にて乾燥後溶媒留去し、残
渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー(シクロヘ
キサン:酢酸エチル=10:1)により精製すると目的のR
*体348mgおよびS*体117mgが得られた。
R*体:mp111゜ NMR(CDCl3)δ:1.45(3H,d,J=6Hz),2.40(1H,d,J=2
Hz),3.55(1H,dd,J=2.5及び6Hz),4.15(1H,t,J=2H
z),5.41(1H,q,J=6Hz),5.94(1H,s),7.1〜7.5(13
H,m),7.7〜7.95(2H,m) S*体:油状物 NMR(CDCl3)δ:1.50(3H,d,J=6Hz),2.38(1H,d,J=2
Hz),3.55(1H,t,J=2.5Hz),3.86(1H,t,J=2.5Hz),
5.44(1H,dq,J=6,2.5Hz),5.90(1H,s),7.1〜7.5(13
H,m),7.7〜7.96(2H,m) 参考例9. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニル
チオエチニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トラ
ンス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−ベ
ンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル−
2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン0.22mlを無水テトラヒドロフラ
ン10mlに溶解し、0.56mlのn−ブリチルリチウムヘキサ
ン液(1.62mモル/ml)を加え、30分間氷冷下撹拌する。
−78℃に冷却し、参考例8で合成したR*のベンゾイル
体348mgのテトラヒドロフラン溶液を加える。1時間−7
8℃で撹拌後270mgのフエニルベンゼンチオスルホネート
を加え、−78℃にて30分間撹拌後、酢酸エチルついで塩
化アンモニウム水溶液を加える。有機層を水洗後MgSO4
にて乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=5:1)によ
り精製すると目的のR*体370mgが得られた。
Hz),3.55(1H,dd,J=2.5及び6Hz),4.15(1H,t,J=2H
z),5.41(1H,q,J=6Hz),5.94(1H,s),7.1〜7.5(13
H,m),7.7〜7.95(2H,m) S*体:油状物 NMR(CDCl3)δ:1.50(3H,d,J=6Hz),2.38(1H,d,J=2
Hz),3.55(1H,t,J=2.5Hz),3.86(1H,t,J=2.5Hz),
5.44(1H,dq,J=6,2.5Hz),5.90(1H,s),7.1〜7.5(13
H,m),7.7〜7.96(2H,m) 参考例9. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエニル
チオエチニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トラ
ンス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−ベ
ンゾイルオキシエチル〕−4−フエニルチオエチニル−
2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン0.22mlを無水テトラヒドロフラ
ン10mlに溶解し、0.56mlのn−ブリチルリチウムヘキサ
ン液(1.62mモル/ml)を加え、30分間氷冷下撹拌する。
−78℃に冷却し、参考例8で合成したR*のベンゾイル
体348mgのテトラヒドロフラン溶液を加える。1時間−7
8℃で撹拌後270mgのフエニルベンゼンチオスルホネート
を加え、−78℃にて30分間撹拌後、酢酸エチルついで塩
化アンモニウム水溶液を加える。有機層を水洗後MgSO4
にて乾燥。溶媒留去後、残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=5:1)によ
り精製すると目的のR*体370mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.46(3H,d,J=6Hz),3.61(1H,dd,J=
2.5,6Hz),4.42(1H,d,J=2.5Hz),5.50(1H,q,J=6H
z),6.06(1H,s),7.15〜7.7(13H,m),7.8〜8.0(2H,
m) IR(Liquid)cm-1:1760,1720,1600,1580 参考例8で得られたS*ベンゾイル体86mgを用いてR*
ベンゾイル体の場合と同様に反応、処理すると目的のS
*体90mgが得られた。
2.5,6Hz),4.42(1H,d,J=2.5Hz),5.50(1H,q,J=6H
z),6.06(1H,s),7.15〜7.7(13H,m),7.8〜8.0(2H,
m) IR(Liquid)cm-1:1760,1720,1600,1580 参考例8で得られたS*ベンゾイル体86mgを用いてR*
ベンゾイル体の場合と同様に反応、処理すると目的のS
*体90mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.53(3H,d,J=6Hz),3.60(1H,t,J=
2.5Hz),4.11(1H,d,J=2.5Hz),5.54(1H,dq,J=6.5,
2.5Hz),6.03(1H,s),7.1〜7.6(18H,m),7.8〜8.1(2
H,m) 参考例10. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−アセトキシエチル〕−4−フエニルチオエ
チニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−
1−ベンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−アセトキ
シエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジ
ノン 参考例7で得られたR*体82mgを用いて参考例9と同様
に反応、処理すると目的のR*体95mgが得られた。
2.5Hz),4.11(1H,d,J=2.5Hz),5.54(1H,dq,J=6.5,
2.5Hz),6.03(1H,s),7.1〜7.6(18H,m),7.8〜8.1(2
H,m) 参考例10. dl−3,4−トランス−1−ベンツヒドリル−3α−〔(1
R*)−1−アセトキシエチル〕−4−フエニルチオエ
チニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−
1−ベンツヒドリル−3α−〔(1S*)−1−アセトキ
シエチル〕−4−フエニルチオエチニル−2−アゼチジ
ノン 参考例7で得られたR*体82mgを用いて参考例9と同様
に反応、処理すると目的のR*体95mgが得られた。
mp 120゜ Rf=0.41(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.30(3H,d,J=6Hz),1.93(3H,s),3.
39(1H,dd,J=2.5,6.5Hz),4.20(1H,d,J=2.5Hz),5.1
6(1H,q,J=6Hz),5.97(1H,m),7.0〜7.4(15H,m) 参考例7で得られたS*体140mgを用いて参考例9と同
様に反応、処理すると目的のS*体110mgが得られた。
39(1H,dd,J=2.5,6.5Hz),4.20(1H,d,J=2.5Hz),5.1
6(1H,q,J=6Hz),5.97(1H,m),7.0〜7.4(15H,m) 参考例7で得られたS*体140mgを用いて参考例9と同
様に反応、処理すると目的のS*体110mgが得られた。
Rf=0.48(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.38(3H,d,J=6Hz),1.92(3H,s),3.
45(1H,t,J=2.5Hz),3.99(1H,d,J=2.5Hz),5.15(1
H,d,q J=6,3Hz),5.99(1H,s),7.1〜7.5(15H,m) 参考例11. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル−3
α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチニ
ル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−
(4−メトキシフエニル−3α−〔(1R*)−1−アセ
トキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例1および2の方法に準じて得られるdl−3,4−ト
ランス−1−(4−メトキシフエニル−3α−(1−ヒ
ドロキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン
(特願昭56−265962の参考例12に記載)270mg(R*と
S*の混合物)をピリンジ300mg及び無水酢酸300mgに溶
解し15時間室温に放置。氷水にあけ、酢酸エチルにて抽
出。希塩酸水及び水洗後MgSO4にて乾燥。溶媒留去後残
渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー(塩化メチ
レン)により精製すると目的のS*体85mgおよびR*体
180mgが得られた。
45(1H,t,J=2.5Hz),3.99(1H,d,J=2.5Hz),5.15(1
H,d,q J=6,3Hz),5.99(1H,s),7.1〜7.5(15H,m) 参考例11. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル−3
α−〔(1S*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチニ
ル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−1−
(4−メトキシフエニル−3α−〔(1R*)−1−アセ
トキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン 参考例1および2の方法に準じて得られるdl−3,4−ト
ランス−1−(4−メトキシフエニル−3α−(1−ヒ
ドロキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン
(特願昭56−265962の参考例12に記載)270mg(R*と
S*の混合物)をピリンジ300mg及び無水酢酸300mgに溶
解し15時間室温に放置。氷水にあけ、酢酸エチルにて抽
出。希塩酸水及び水洗後MgSO4にて乾燥。溶媒留去後残
渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー(塩化メチ
レン)により精製すると目的のS*体85mgおよびR*体
180mgが得られた。
S*体:Rf=0.34(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.42(3H,d,J=6.5Hz),2.0(CH3,s),
2.55(1H,d,J=2Hz),3.57(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.76
(3H,s),4.31(1H,t,J=2.5Hz),5.30(1H,dq,J=6.5,
5Hz),6.7〜7.6(4H,A2B2型) R*体:Rf=0.26(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.40(3H,d,J=6.5Hz),2.0(3H,s),
2.55(1H,d,J=2Hz),3.45(1H,dd,J=6.5,2Hz),3.76
(3H,s),4.50(1H,t,J=2Hz),5.27(1H,q,J=6.5H
z),6.7〜7.6(4H,A2B2型) 参考例12. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エ
チニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−
1−(4−メトキシフエニル)−3α−〔(1R*)−1
−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼ
チジノン 参考例1および2の方法に準じて得られるdl−3,4−ト
ランス−1−(4−メトキシフエニル−3α−(1−ヒ
ドロキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン
(特願昭59−265962号の参考例12に記載)を分別再結晶
法および母液のクロマトグラフイーにより精製すると1S
*−ヒドロキシエチル体(再結晶法)および1R*−ヒド
ロキシエチル体(クロマト法)が得られた。
2.55(1H,d,J=2Hz),3.57(1H,dd,J=5,2.5Hz),3.76
(3H,s),4.31(1H,t,J=2.5Hz),5.30(1H,dq,J=6.5,
5Hz),6.7〜7.6(4H,A2B2型) R*体:Rf=0.26(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.40(3H,d,J=6.5Hz),2.0(3H,s),
2.55(1H,d,J=2Hz),3.45(1H,dd,J=6.5,2Hz),3.76
(3H,s),4.50(1H,t,J=2Hz),5.27(1H,q,J=6.5H
z),6.7〜7.6(4H,A2B2型) 参考例12. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エ
チニル−2−アゼチジノンおよびdl−3,4−トランス−
1−(4−メトキシフエニル)−3α−〔(1R*)−1
−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼ
チジノン 参考例1および2の方法に準じて得られるdl−3,4−ト
ランス−1−(4−メトキシフエニル−3α−(1−ヒ
ドロキシエチル)−4−エチニル−2−アゼチジノン
(特願昭59−265962号の参考例12に記載)を分別再結晶
法および母液のクロマトグラフイーにより精製すると1S
*−ヒドロキシエチル体(再結晶法)および1R*−ヒド
ロキシエチル体(クロマト法)が得られた。
こゝに得られた1S*−ヒドロキシエチル体570mgを無水
テトラヒドロフラン20mlに溶解。更にトリフエニルホス
フイン1.1g及び安息香酸500mgを加え、氷冷下700mgのア
ゾジカルボン酸ジエチルを加える。寒剤をのぞき、室温
にて3時間撹拌。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルラピツドクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸
エチル=5:1)により精製すると目的のR*体500mgが得
られた。
テトラヒドロフラン20mlに溶解。更にトリフエニルホス
フイン1.1g及び安息香酸500mgを加え、氷冷下700mgのア
ゾジカルボン酸ジエチルを加える。寒剤をのぞき、室温
にて3時間撹拌。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルラピツドクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸
エチル=5:1)により精製すると目的のR*体500mgが得
られた。
mp101゜(エーテルから再結晶) Rf=0.5(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.55(3H,d,J=6.5Hz),2.55(1H,d,J
=2.5Hz),3.6(1H,dd,J=6.5,2.5Hz),3.70(3H,s),
4.6(1H,t,J=2.5Hz),5.46(1H,q,J=6.5Hz),6.7〜7.
6(7H,m),7.8〜8.0(2H,m) IR(Nujol)cm-1:3280,2140,1745,1720,1608,1590 1S*−ヒドロキシエチル体500mgを無水塩化メチレン中
2.5当量のトリエチルアミン及び触媒量のジメチルアミ
ノピリジンの存在下2.5当量の安息香酸クロリドと10時
間〜15時間反応させる。反応液に水を加え、有機層を分
離する。有機層を希塩酸水にて二度洗滌後、水洗。MgSO
4にて乾燥後溶媒留去すると目的のS*体500mgが得られ
た。
=2.5Hz),3.6(1H,dd,J=6.5,2.5Hz),3.70(3H,s),
4.6(1H,t,J=2.5Hz),5.46(1H,q,J=6.5Hz),6.7〜7.
6(7H,m),7.8〜8.0(2H,m) IR(Nujol)cm-1:3280,2140,1745,1720,1608,1590 1S*−ヒドロキシエチル体500mgを無水塩化メチレン中
2.5当量のトリエチルアミン及び触媒量のジメチルアミ
ノピリジンの存在下2.5当量の安息香酸クロリドと10時
間〜15時間反応させる。反応液に水を加え、有機層を分
離する。有機層を希塩酸水にて二度洗滌後、水洗。MgSO
4にて乾燥後溶媒留去すると目的のS*体500mgが得られ
た。
Rf=0.61(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.59(3H,d,J=6.5Hz),2.55(1H,d,J
=2.5Hz),〜3.7(1H,S),3.70(3H,s),4.38(1H,t,J
=2.5Hz),5.53(1H,d.q,J=6.5,3Hz) 参考例13. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−ホルミルオキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン 参考例12に示した方法で得られるdl−3,4−トランス−
1−(4−メトキシフエニル−3α−〔(1S*)−1−
ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン
100mgをテトラヒドロフラン3mlに溶解し、ぎ酸70mg及び
トリフエニルホスフイン230mgを加える。ついで氷冷下1
50mgのアゾジカルボン酸ジエチル150mgを加える。反応
液を室温にて5時間撹拌後、溶媒留去し残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1,Rf=0.4)により精製すると目的化合物50mgが
得られた。
=2.5Hz),〜3.7(1H,S),3.70(3H,s),4.38(1H,t,J
=2.5Hz),5.53(1H,d.q,J=6.5,3Hz) 参考例13. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1R*)−ホルミルオキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン 参考例12に示した方法で得られるdl−3,4−トランス−
1−(4−メトキシフエニル−3α−〔(1S*)−1−
ヒドロキシエチル〕−4−エチニル−2−アゼチジノン
100mgをテトラヒドロフラン3mlに溶解し、ぎ酸70mg及び
トリフエニルホスフイン230mgを加える。ついで氷冷下1
50mgのアゾジカルボン酸ジエチル150mgを加える。反応
液を室温にて5時間撹拌後、溶媒留去し残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1,Rf=0.4)により精製すると目的化合物50mgが
得られた。
mp 79℃(ジエチルエーテルから再結晶) NMR(CDCl3)δ:1.46(3H,d,J=6.5Hz),2.54(1H,d,J
=2.5Hz),3.49(1H,dd,J=6.5,2.5Hz),3.74(3H,s),
4.48(1H,t,J=2.5Hz),5.38(1H,q,J=6.5Hz),6.75〜
7.55(4H,A2B2型),7.98(1H,s) 参考例14. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−(1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−
アゼチジノン 参考例1および2の方法に準じて合成されるdl−3,4−
トランス−1−(4−メトキシベンジル)−3−アセチ
ル−4−エチニル−2−アゼチジノン(特願昭59−2659
62の参考例4に記載)460mgをテトラヒドロフラン6ml及
びメタノール3mlの混合液に溶解し、0℃にてNaBH460mg
を加える。10分後酢酸エチルを加え、さらに希塩酸水を
加える。有機層を分離し、水洗後、MgSO4にて乾燥。溶
媒留去後残渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー
(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1,Rf≒0.3)により
精製すると目的化合物460mgが得られた。
=2.5Hz),3.49(1H,dd,J=6.5,2.5Hz),3.74(3H,s),
4.48(1H,t,J=2.5Hz),5.38(1H,q,J=6.5Hz),6.75〜
7.55(4H,A2B2型),7.98(1H,s) 参考例14. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−(1−ヒドロキシエチル)−4−エチニル−2−
アゼチジノン 参考例1および2の方法に準じて合成されるdl−3,4−
トランス−1−(4−メトキシベンジル)−3−アセチ
ル−4−エチニル−2−アゼチジノン(特願昭59−2659
62の参考例4に記載)460mgをテトラヒドロフラン6ml及
びメタノール3mlの混合液に溶解し、0℃にてNaBH460mg
を加える。10分後酢酸エチルを加え、さらに希塩酸水を
加える。有機層を分離し、水洗後、MgSO4にて乾燥。溶
媒留去後残渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイー
(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1,Rf≒0.3)により
精製すると目的化合物460mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.24(1H,d,J=6.0Hz),1.28(2H,d,J
=6.5Hz),2.39(1H,d,J=2Hz),3.70(3H,s),3.2〜3.
4(1H,m),3.7〜4.2(2H,m),4.59(1H,d,J=15Hz),6.
70〜7.25(4H,A2B2型) 1.24と1.28のシグナルの比からR*/S*=1/2であるこ
とが明らかとなつた。
=6.5Hz),2.39(1H,d,J=2Hz),3.70(3H,s),3.2〜3.
4(1H,m),3.7〜4.2(2H,m),4.59(1H,d,J=15Hz),6.
70〜7.25(4H,A2B2型) 1.24と1.28のシグナルの比からR*/S*=1/2であるこ
とが明らかとなつた。
参考例15. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エ
チニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*とS*の混合物)3gを
80mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、6gのトリフエ
ニルホスフイン及び2.8gの安息香酸を加える。氷冷下2.
41gのアゾジカルボン酸ジエチルを加え、5分間撹拌す
る。反応後に酢酸エチルを加え有機層を水洗、MgSO4で
乾燥後、溶媒留去して得られる残渣をシリカゲルラピツ
トクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=
4:1)により精製するとR*とS*の化合物2.35gが得ら
れた。
3α−〔(1R*)−ベンゾイルオキシエチル〕−4−エ
チニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*とS*の混合物)3gを
80mlの無水テトラヒドロフランに溶解し、6gのトリフエ
ニルホスフイン及び2.8gの安息香酸を加える。氷冷下2.
41gのアゾジカルボン酸ジエチルを加え、5分間撹拌す
る。反応後に酢酸エチルを加え有機層を水洗、MgSO4で
乾燥後、溶媒留去して得られる残渣をシリカゲルラピツ
トクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=
4:1)により精製するとR*とS*の化合物2.35gが得ら
れた。
当該生成物は更にシリカゲル分取用薄層クロマトグラフ
イーにより、塩化メチレンを展開溶媒として用いる事に
よりR*を分離することが出来る。
イーにより、塩化メチレンを展開溶媒として用いる事に
よりR*を分離することが出来る。
R*体: NMR(CDCl3)δ:1.43(CH3,d,J=6Hz),2.51(1H,d,J=
2Hz),3.49(1H,dd,J=6,2Hz),3.73(3H,s),3.8〜4.3
(2H,m),4.70(1H,d,J=15Hz),5.40(1H,q,J=5Hz),
6.6〜7.6(7H,m),7.6〜7.9(2H,m) 参考例16. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノンおよび3,4
−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−3α−
〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエ
ニルチオエチニル−2−アゼチジノン 0.71mlのヘキサメチルジシラザンをテトラヒドロフラン
10mlに溶解し、氷冷下n−ブチルリチウムヘキサン液2.
1ml(1.62mモル/ml)を加え30分間撹拌後、−78℃に冷
却する。この溶液に参考例15にて合成したベンゾイル体
(R*,S*のまざり)1gの10mlTHF溶液を加え、同温に
て1時間撹拌する。ついでフエニルベンゼンチオスルホ
ネート767mgの10mlTHF溶液を加え更に1時間撹拌する。
酢酸エチルついで塩化アンモニウム水溶液を加え、有機
層を分離する。水洗後MgSO4にて乾燥。
2Hz),3.49(1H,dd,J=6,2Hz),3.73(3H,s),3.8〜4.3
(2H,m),4.70(1H,d,J=15Hz),5.40(1H,q,J=5Hz),
6.6〜7.6(7H,m),7.6〜7.9(2H,m) 参考例16. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノンおよび3,4
−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−3α−
〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル〕−4−フエ
ニルチオエチニル−2−アゼチジノン 0.71mlのヘキサメチルジシラザンをテトラヒドロフラン
10mlに溶解し、氷冷下n−ブチルリチウムヘキサン液2.
1ml(1.62mモル/ml)を加え30分間撹拌後、−78℃に冷
却する。この溶液に参考例15にて合成したベンゾイル体
(R*,S*のまざり)1gの10mlTHF溶液を加え、同温に
て1時間撹拌する。ついでフエニルベンゼンチオスルホ
ネート767mgの10mlTHF溶液を加え更に1時間撹拌する。
酢酸エチルついで塩化アンモニウム水溶液を加え、有機
層を分離する。水洗後MgSO4にて乾燥。
溶媒留去後残渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイ
ー(シクロヘキサン:酢酸エチル=10:1)によりR*体
及びS*体を分離精製すると R*体:570mgが得られた油状物質 Rf=0.4,(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.45(3H,d,J=6Hz),3.54(1H,dd,J=
6,2.5Hz),3.72(3H,s),4.05(1H,d,J=15Hz),4.66
(1H,d,J=15Hz),4.37(1H,d,J=2Hz),5.48(1H,q,J
=6Hz),6.6〜7.6(12H,m),7.75〜8.05(2H,m) S*体:180mgが得られた。mp85℃(ジエチルエーテルか
ら再結晶) NMR(CDCl3)δ:1.54(1H,d,J=6Hz),3.5〜3.8(1H,
m),3.74(3H,s),4.0(1H,d,J=15Hz),4.72(1H,d,J
=15Hz),4.12(1H,d,J=2.5Hz),5.50(1H,qd,J=6,3H
z),6.5〜7.7(12H,m),7.75〜8.05(2H,m) IR(Nujol)cm-1:1755,1732 参考例17. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル)−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノンおよびdl−
3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−3α
−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル)−4−フ
エニルチオエチニル−2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン0.4mlを無水テトラヒドロフラ
ン10mlに溶解し、氷冷下1.18mlのn−ブチルリチウムヘ
キサン液(1.62mモル/ml)を加える。30分間室温にて撹
拌後−78℃に冷却し、参考例12で得られたS*ベンゾイ
ルオキシ体560mgの無水テトラヒドロフラン溶液を加
え、−78℃で1時間撹拌する。ついでフエニルベンゼン
チオスルホネート430mgの5mlテトラヒドロフラン溶液を
加え、−78℃にて2.5時間撹拌。酢酸エチルついで飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を分離する。水
洗後MgSO4にて乾燥。溶媒留去後、生成物をシリカゲル
クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=5:
1,Rf=0.3)により精製すると目的のS*体630mgが得ら
れた。
ー(シクロヘキサン:酢酸エチル=10:1)によりR*体
及びS*体を分離精製すると R*体:570mgが得られた油状物質 Rf=0.4,(塩化メチレン:酢酸エチル=20:1) NMR(CDCl3)δ:1.45(3H,d,J=6Hz),3.54(1H,dd,J=
6,2.5Hz),3.72(3H,s),4.05(1H,d,J=15Hz),4.66
(1H,d,J=15Hz),4.37(1H,d,J=2Hz),5.48(1H,q,J
=6Hz),6.6〜7.6(12H,m),7.75〜8.05(2H,m) S*体:180mgが得られた。mp85℃(ジエチルエーテルか
ら再結晶) NMR(CDCl3)δ:1.54(1H,d,J=6Hz),3.5〜3.8(1H,
m),3.74(3H,s),4.0(1H,d,J=15Hz),4.72(1H,d,J
=15Hz),4.12(1H,d,J=2.5Hz),5.50(1H,qd,J=6,3H
z),6.5〜7.7(12H,m),7.75〜8.05(2H,m) IR(Nujol)cm-1:1755,1732 参考例17. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−〔(1S*)−1−ベンゾイルオキシエチル)−4
−フエニルチオエチニル−2−アゼチジノンおよびdl−
3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−3α
−〔(1R*)−1−ベンゾイルオキシエチル)−4−フ
エニルチオエチニル−2−アゼチジノン ヘキサメチルジシラザン0.4mlを無水テトラヒドロフラ
ン10mlに溶解し、氷冷下1.18mlのn−ブチルリチウムヘ
キサン液(1.62mモル/ml)を加える。30分間室温にて撹
拌後−78℃に冷却し、参考例12で得られたS*ベンゾイ
ルオキシ体560mgの無水テトラヒドロフラン溶液を加
え、−78℃で1時間撹拌する。ついでフエニルベンゼン
チオスルホネート430mgの5mlテトラヒドロフラン溶液を
加え、−78℃にて2.5時間撹拌。酢酸エチルついで飽和
塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を分離する。水
洗後MgSO4にて乾燥。溶媒留去後、生成物をシリカゲル
クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=5:
1,Rf=0.3)により精製すると目的のS*体630mgが得ら
れた。
Rf=0.4(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.59(3H,d,J=6Hz),3.70(3H,s),
〜3.7(1H),4.62(1H,d,J=2.5Hz),5.55(1H,dq,J=
6.35Hz),6.7〜7.6(12H,m),7.8〜8.0(2H,m) 参考例12で得られたR*ベンゾイルオキシ体をS*ベン
ゾイルオキシ体と同様に反応、処理すると目的のR*体
が得られた。
〜3.7(1H),4.62(1H,d,J=2.5Hz),5.55(1H,dq,J=
6.35Hz),6.7〜7.6(12H,m),7.8〜8.0(2H,m) 参考例12で得られたR*ベンゾイルオキシ体をS*ベン
ゾイルオキシ体と同様に反応、処理すると目的のR*体
が得られた。
Rf=0.28(塩化メチレン) NMR(CDCl3)δ:1.56(3H,d,J=6Hz),3.64(1H,dd,J=
6,2.5Hz),3.72(3H,s),4.81(1H,d,J=2.5Hz),5.51
(1H,q,J=6Hz),6.7〜7.6(12H,m),7.8〜8.0(2H,m) IR(Liq.)cm-1:1750,1712,1600,1580 参考例18. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル)−4−
エチニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*とS*のまざり)440m
gを無水テトラヒドロフランに溶解しトリフエニルホス
フイン890mg及びぎ酸0.2mgを加える。氷冷下354mgのア
ゾジカルボン酸ジエチルを加え、10時間室温にて撹拌。
酢酸エチルを加え、有機層を水洗。MgSO4にて乾燥後、
溶媒留去。残渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイ
ー(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1)により精製す
ると目的化合物168mgが得られた。
6,2.5Hz),3.72(3H,s),4.81(1H,d,J=2.5Hz),5.51
(1H,q,J=6Hz),6.7〜7.6(12H,m),7.8〜8.0(2H,m) IR(Liq.)cm-1:1750,1712,1600,1580 参考例18. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−ホルミルオキシエチル)−4−
エチニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*とS*のまざり)440m
gを無水テトラヒドロフランに溶解しトリフエニルホス
フイン890mg及びぎ酸0.2mgを加える。氷冷下354mgのア
ゾジカルボン酸ジエチルを加え、10時間室温にて撹拌。
酢酸エチルを加え、有機層を水洗。MgSO4にて乾燥後、
溶媒留去。残渣をシリカゲルラピツトクロマトグラフイ
ー(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1)により精製す
ると目的化合物168mgが得られた。
Rf=0.33(塩化メチレン:酢酸エチル=40:1) NMR(CDCl3)δ:1.35(3H,d,J=6Hz),2.48(1H,d,J=2
Hz),3.33(1H,dd,J=6,2Hz),3.74(3H,s),3.90(1H,
t,J=2Hz),3.95(1H,d,J=15Hz),4.62(1H,d,J=15H
z),5.21(1H,q,J=6Hz),6.6〜7.3(4H,A2B2型),7.89
(1H,s) 参考例19. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*S*のまざり)200mg
を用いて参考例7と同様に反応、処理しシリカゲルラピ
ツドクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=1:1)により精製すると目的化合物200mgが得られた。
Hz),3.33(1H,dd,J=6,2Hz),3.74(3H,s),3.90(1H,
t,J=2Hz),3.95(1H,d,J=15Hz),4.62(1H,d,J=15H
z),5.21(1H,q,J=6Hz),6.6〜7.3(4H,A2B2型),7.89
(1H,s) 参考例19. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシベンジル)−
3α−〔(1R*)−1−アセトキシエチル〕−4−エチ
ニル−2−アゼチジノン 参考例14で得られた化合物(R*S*のまざり)200mg
を用いて参考例7と同様に反応、処理しシリカゲルラピ
ツドクロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル
=1:1)により精製すると目的化合物200mgが得られた。
Rf=0.56(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1) NMR(CDCl3)δ:1.32(3H,d,J=6Hz),1.95(3H,s),2.
45(1H,d,J=2.5Hz),3.32(1H,dd,J=6,2.5Hz),3.75
(3H,s),3.92(1H,d,J=15Hz),4.70(1H,d,J=15H
z),3.92(1H,t,J=2.5Hz),5.20(1H,q,J=6Hz),6.7
〜7.3(4H,A2B2型) 参考例20. 1−(4−メトキシフエニル)−3−アセチル−4−
(2,2−ジエトキシエチル)−2−アゼチジノン ジエトキシプロピルアルデヒド2gをベンゼン30gに溶解
し1.68gのp−アニシジン及び5gの無水硫酸マグネシウ
ムを加える。室温にて20分間撹拌。ろ過後、減圧下溶媒
留去する。残渣を塩化メチレン20mlに溶解し、これにイ
ミダゾール1.12gを加える。全系を−30゜とし1.25mlの
ジケテンを加え、2時間かかり反応温度を−30゜から10
℃とする。
45(1H,d,J=2.5Hz),3.32(1H,dd,J=6,2.5Hz),3.75
(3H,s),3.92(1H,d,J=15Hz),4.70(1H,d,J=15H
z),3.92(1H,t,J=2.5Hz),5.20(1H,q,J=6Hz),6.7
〜7.3(4H,A2B2型) 参考例20. 1−(4−メトキシフエニル)−3−アセチル−4−
(2,2−ジエトキシエチル)−2−アゼチジノン ジエトキシプロピルアルデヒド2gをベンゼン30gに溶解
し1.68gのp−アニシジン及び5gの無水硫酸マグネシウ
ムを加える。室温にて20分間撹拌。ろ過後、減圧下溶媒
留去する。残渣を塩化メチレン20mlに溶解し、これにイ
ミダゾール1.12gを加える。全系を−30゜とし1.25mlの
ジケテンを加え、2時間かかり反応温度を−30゜から10
℃とする。
塩化メチレンを加え、水洗後MgSO4にて乾燥。粗生成物
をシリカゲルのラピツトクロマトグラフイー(シクロヘ
キサン:酢酸エチル=3:1)により精製すると目的化合
物930mgが得られた。
をシリカゲルのラピツトクロマトグラフイー(シクロヘ
キサン:酢酸エチル=3:1)により精製すると目的化合
物930mgが得られた。
Rf=0.45(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1) NMR(CDCl3)δ:1.15(3H,d,J=6.5Hz),1.21(3H,t,J
=6.5Hz),1.5〜2.2(1H,m),2.35(COCH3,s),3.4〜3.
9(5H,m)4.21(1H,d,J=2.5Hz),4.4〜4.85(2H,m),
6.8〜7.5(4H,A2B2型) 参考例21. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ヒドロキシエチル)−4−(2,2−ジエト
キシエチル)−2−アゼチジノン 参考例20で得られた化合物600mgをテトラヒドロフラ
ン:メタノール=10:1の混合溶媒15mlに溶解し、−20℃
にて150mgのNaBH4を加え、同温にて5分間撹拌する。酢
酸エチルついで希塩酸を加え、有機層を分離する。MgSO
4にて乾燥後減圧下溶媒留去。残渣をクロマトグラフイ
ー(酢酸エチル:シクロヘキサン=2:1)により精製す
ると目的化合物463mgが得られた。
=6.5Hz),1.5〜2.2(1H,m),2.35(COCH3,s),3.4〜3.
9(5H,m)4.21(1H,d,J=2.5Hz),4.4〜4.85(2H,m),
6.8〜7.5(4H,A2B2型) 参考例21. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ヒドロキシエチル)−4−(2,2−ジエト
キシエチル)−2−アゼチジノン 参考例20で得られた化合物600mgをテトラヒドロフラ
ン:メタノール=10:1の混合溶媒15mlに溶解し、−20℃
にて150mgのNaBH4を加え、同温にて5分間撹拌する。酢
酸エチルついで希塩酸を加え、有機層を分離する。MgSO
4にて乾燥後減圧下溶媒留去。残渣をクロマトグラフイ
ー(酢酸エチル:シクロヘキサン=2:1)により精製す
ると目的化合物463mgが得られた。
NMR(CDCl3)δppm:1.02〜1.04(9H,m),1.55〜2.60(2
H,m),3.13(1H,dd,J=2.5,6Hz),3.27〜3.87(5H,m),
3.82〜4.32(2H,m),4.60(1H,d,J=5.5Hz),3.72(3H,
s),6.7〜7.3(4H,A2B2型) 参考例22. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−(2,2−
ジエトキシエチル)−2−アゼチジノン 参考例21で得られた化合物230mgを1mlの無水塩化メチレ
ンに溶解し、ピリジン0.2mlついで安息香酸クロリド150
mgを加え20時間室温にて撹拌。反応液を常法に従つて処
理し得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(シ
クロヘキサン:酢酸エチル=2:1)により精製すると目
的物260mgが得られた。
H,m),3.13(1H,dd,J=2.5,6Hz),3.27〜3.87(5H,m),
3.82〜4.32(2H,m),4.60(1H,d,J=5.5Hz),3.72(3H,
s),6.7〜7.3(4H,A2B2型) 参考例22. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−(2,2−
ジエトキシエチル)−2−アゼチジノン 参考例21で得られた化合物230mgを1mlの無水塩化メチレ
ンに溶解し、ピリジン0.2mlついで安息香酸クロリド150
mgを加え20時間室温にて撹拌。反応液を常法に従つて処
理し得られる残渣をシリカゲルクロマトグラフイー(シ
クロヘキサン:酢酸エチル=2:1)により精製すると目
的物260mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.60(2.25H,d,J=6Hz),1.55(0.75H,
d,J=6Hz),3.70(3H,s),5.25〜5.75(1H,m),6.7〜7.
7(7H,m),4.69(1H,t,J=5.5Hz),7.85〜8.25(2H,m) 参考例23. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−(2−ホ
ルミルエチル)−2−アゼチジノン 参考例22で得られた化合物260mgをテトラヒドロフラン8
mlと水2の混合溶媒に溶かし、氷冷下1mlの濃塩酸を
加える。2時間撹拌後、酢酸エチルを加え、水洗。乾燥
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1)によ
り精製すると目的化合物140mgが得られた。
d,J=6Hz),3.70(3H,s),5.25〜5.75(1H,m),6.7〜7.
7(7H,m),4.69(1H,t,J=5.5Hz),7.85〜8.25(2H,m) 参考例23. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−(2−ホ
ルミルエチル)−2−アゼチジノン 参考例22で得られた化合物260mgをテトラヒドロフラン8
mlと水2の混合溶媒に溶かし、氷冷下1mlの濃塩酸を
加える。2時間撹拌後、酢酸エチルを加え、水洗。乾燥
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチル=1:1)によ
り精製すると目的化合物140mgが得られた。
Rf=0.3(酢酸エチル:シクロヘキサン1:1) NMR(CDCl3)δ:1.56(3H,d,J=6Hz),1.54(3H,d,J=6
Hz),2.5〜3.5(3H,m),3.72(3H,s),4.10〜4.55(2H,
m),5.4〜5.8(1H,m),6.7〜7.5(7H,m),7.7〜8.0(2
H,m),9.74(1H,br,s) 参考例24. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−カルボキ
シメチル−2−アゼチジノン 参考例23で得られた化合物140mgをアセトン2mlに溶解
し、ジヨーンズ試薬(100mg)により室温で3分間酸化
する。反応液を酢酸エチルで抽出し、水洗、MgSO4で乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシクロヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1の系にて分取用シリカゲルTLCに付
しRf=0.1付近より目的化合物91mgが得られた。
Hz),2.5〜3.5(3H,m),3.72(3H,s),4.10〜4.55(2H,
m),5.4〜5.8(1H,m),6.7〜7.5(7H,m),7.7〜8.0(2
H,m),9.74(1H,br,s) 参考例24. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−カルボキ
シメチル−2−アゼチジノン 参考例23で得られた化合物140mgをアセトン2mlに溶解
し、ジヨーンズ試薬(100mg)により室温で3分間酸化
する。反応液を酢酸エチルで抽出し、水洗、MgSO4で乾
燥する。溶媒を留去して得られる残渣をシクロヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1の系にて分取用シリカゲルTLCに付
しRf=0.1付近より目的化合物91mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:1.51(1H,d,J=6Hz),1.54(2H,d,J=6
Hz),2.3〜3.5(3H,m),3.70(3H,s),4.0〜4.4(2H,
m),5.3〜5.7(1H,m),6.7〜7.5(7H,m),7.7〜8.0(2
H,m),8.96(1H,br.s) 参考例25. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−フエニル
チオカルボニルメチル−2−アゼチジノン 参考例24で得られた化合物90mgをジメチルホルムアミ
ド:アセトニトリル=1:1の混合溶媒し、カルボニルジ
イミダゾライド60mgを加え室温で30分間撹拌する。反応
液に60mgのチオフエノールを加え2時間撹拌する。反応
液に酢酸エチルを加え、希水酸化ナトリウム水、水の順
で洗う。乾燥後溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1 Rf≒0.3)により精製すると目的物70mgが得ら
れた。
Hz),2.3〜3.5(3H,m),3.70(3H,s),4.0〜4.4(2H,
m),5.3〜5.7(1H,m),6.7〜7.5(7H,m),7.7〜8.0(2
H,m),8.96(1H,br.s) 参考例25. dl−3,4−トランス−1−(4−メトキシフエニル)−
3α−(1−ベンゾイルオキシエチル)−4−フエニル
チオカルボニルメチル−2−アゼチジノン 参考例24で得られた化合物90mgをジメチルホルムアミ
ド:アセトニトリル=1:1の混合溶媒し、カルボニルジ
イミダゾライド60mgを加え室温で30分間撹拌する。反応
液に60mgのチオフエノールを加え2時間撹拌する。反応
液に酢酸エチルを加え、希水酸化ナトリウム水、水の順
で洗う。乾燥後溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフイー(シクロヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1 Rf≒0.3)により精製すると目的物70mgが得ら
れた。
参考例26. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン 実施例3により得たR配位のハイドロキシエチル体90mg
をDMF3mlに溶解し、t−ブチルジメチルシリルクロリド
160mg及びイミダゾール36mgを加え10時間放置。酢酸エ
チルを加え、水洗。MgSO4にて乾燥後、溶媒留去。シク
ロヘキサン:酢酸エチル=2:1にてRf=0.65の部分をク
ロマトグラフイーにより分離する。目的化合物100mgが
得られた。
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4−
エチニル−2−アゼチジノン 実施例3により得たR配位のハイドロキシエチル体90mg
をDMF3mlに溶解し、t−ブチルジメチルシリルクロリド
160mg及びイミダゾール36mgを加え10時間放置。酢酸エ
チルを加え、水洗。MgSO4にて乾燥後、溶媒留去。シク
ロヘキサン:酢酸エチル=2:1にてRf=0.65の部分をク
ロマトグラフイーにより分離する。目的化合物100mgが
得られた。
〔α▲〕24゜ D▼゜−112゜(c=1,CHCl3) NMR(CDCl3)δ:0.06(6H,s),0.76(9H,s),1.26(3H,
d,J=6Hz),2.47(1H,d,J=2.5Hz),3.29(1H,dd,J=3,
2.5Hz),3.75(3H,s),4.27(1H,dq,J=6,3Hz),4.52
(1H,t,J=2.5Hz),6.75〜7.55(4H,A2B2型) 参考例27. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4−
フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン 参考例26により得たシリル体60mgを無水テトラヒドロフ
ラン2mlに溶解し、−78℃にてブチルリチウム液0.25ml
(1ml中1.6ミリモルブチルリチウムを含むヘキサン液)
を−78℃にて加え30分撹拌。ジフエニルジスルイド75mg
の1mlテトラヒドロフラン液を加え、−78℃〜40゜に2
時間半撹拌。酢酸エチルを加え、有機層を水洗3回。Mg
SO4にて乾燥後シクロヘキサン:酢酸エチル5:1の系にて
シリカゲル薄層クロマトグラフイーに付しRf=0.55の目
的化合物38mgが得られた。
d,J=6Hz),2.47(1H,d,J=2.5Hz),3.29(1H,dd,J=3,
2.5Hz),3.75(3H,s),4.27(1H,dq,J=6,3Hz),4.52
(1H,t,J=2.5Hz),6.75〜7.55(4H,A2B2型) 参考例27. (3S,4S)−1−(4−メトキシフエニル)−3−〔(1
R)−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−4−
フエニルチオエチニル−2−アゼチジノン 参考例26により得たシリル体60mgを無水テトラヒドロフ
ラン2mlに溶解し、−78℃にてブチルリチウム液0.25ml
(1ml中1.6ミリモルブチルリチウムを含むヘキサン液)
を−78℃にて加え30分撹拌。ジフエニルジスルイド75mg
の1mlテトラヒドロフラン液を加え、−78℃〜40゜に2
時間半撹拌。酢酸エチルを加え、有機層を水洗3回。Mg
SO4にて乾燥後シクロヘキサン:酢酸エチル5:1の系にて
シリカゲル薄層クロマトグラフイーに付しRf=0.55の目
的化合物38mgが得られた。
NMR(CDCl3)δ:0.08(6H,s),0.76(9H,s),1.30(3H,
d,J=6Hz),3.37(1H,t,J=3Hz),3.74(3H,s),4.3(1
H,dq,J=6,3Hz),4.77(1H,d,J=2Hz),6.75〜7.5(9H,
m) 〔α▲〕24゜ D▼゜−96゜(c=1,CHCl3) 参考例28. (3S,4S)−3−〔(1R)−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−フエニルチオエチニル−2−アゼ
チジノン 参考例27で得たチオフエニル化体60mgを2mlのアセトニ
トリルに溶解し、氷冷下240mgのセリツクアンモニウム
ナイトライトの2ml水溶液をゆつくり加える。10分間撹
拌。酢酸エチルを加え、水洗。常法通り後処理し、シク
ロヘキサン:酢酸エチル=2:1の系でRf=0.54の部分を
単離精製する。目的化合物30mgが得られた。
d,J=6Hz),3.37(1H,t,J=3Hz),3.74(3H,s),4.3(1
H,dq,J=6,3Hz),4.77(1H,d,J=2Hz),6.75〜7.5(9H,
m) 〔α▲〕24゜ D▼゜−96゜(c=1,CHCl3) 参考例28. (3S,4S)−3−〔(1R)−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル)−4−フエニルチオエチニル−2−アゼ
チジノン 参考例27で得たチオフエニル化体60mgを2mlのアセトニ
トリルに溶解し、氷冷下240mgのセリツクアンモニウム
ナイトライトの2ml水溶液をゆつくり加える。10分間撹
拌。酢酸エチルを加え、水洗。常法通り後処理し、シク
ロヘキサン:酢酸エチル=2:1の系でRf=0.54の部分を
単離精製する。目的化合物30mgが得られた。
mp 76゜ 〔α▲〕24゜ D▼46゜(c=1,CHCl3) NMR(CDCl3)δ:0.08(6H,s),0.89(9H,s),1.26(3H,
d,J=6Hz),3.40(1H,br.t,J=3Hz),4.31(1H,dq,J=
6,4Hz),4.59(1H,d,J=2.5Hz),6.2(1H,s),7.32(5
H,m)
d,J=6Hz),3.40(1H,br.t,J=3Hz),4.31(1H,dq,J=
6,4Hz),4.59(1H,d,J=2.5Hz),6.2(1H,s),7.32(5
H,m)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 (C12P 41/00 C12R 1:685)
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 [式中、R1はアシル基を示し、R2は置換基を有してもよ
いアルキニル基を、R3はアルケニル基、置換基を有して
もよいフェニル基、置換基を有してもよいベンジル基ま
たはベンズヒドリル基を示す。]を有する化合物(dl
体)をバチルス属に属する細菌、ピチア属に属する酵母
又はアスペルギルス属に属する糸状菌を利用して選択的
に加水分解し一般式 [式中、R2およびR3は前述したものと同意義を示す。]
を有する光学活性な化合物へ導くことを特徴とするβ−
ラクタム化合物の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121479A JPH0679559B2 (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光学活性アゼチジノン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121479A JPH0679559B2 (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光学活性アゼチジノン誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61280295A JPS61280295A (ja) | 1986-12-10 |
JPH0679559B2 true JPH0679559B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=14812168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60121479A Expired - Fee Related JPH0679559B2 (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 光学活性アゼチジノン誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0679559B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4142444B2 (ja) | 2001-03-07 | 2008-09-03 | 第一三共株式会社 | 2−アゼチジノン誘導体の製造方法 |
ATE406364T1 (de) | 2003-03-07 | 2008-09-15 | Schering Corp | Substituierte azetidinon-derivate, deren pharmazeutische formulierungen und deren verwendung zur behandlung von hypercholesterolemia |
ES2318274T3 (es) | 2003-03-07 | 2009-05-01 | Schering Corporation | Compuestos de azetidinona sustituida, formulaciones y uso de los mismos para el tratamiento de hipercolesterolemia. |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS549295A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-24 | Merck & Co Inc | Ooderivative of chenamycin |
JPS5946265A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-03-15 | Sankyo Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
-
1985
- 1985-06-06 JP JP60121479A patent/JPH0679559B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS549295A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-24 | Merck & Co Inc | Ooderivative of chenamycin |
JPS5946265A (ja) * | 1982-08-24 | 1984-03-15 | Sankyo Co Ltd | アゼチジノン誘導体の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61280295A (ja) | 1986-12-10 |
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