JPS6322065A - アゼチジノン誘導体 - Google Patents
アゼチジノン誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
目 的
カルバペネム゛訪導体が優れた抗菌活性を示すことは知
られており、その合成法は種々報告されている。発明者
等もその合成法を検討しペニシリン訪導体を出発物質と
してカルバペネム肪導体を合成する場合、アゼチジノン
誘導体(1)が重要な中間体であることを見い出し本発
明を完成した。
られており、その合成法は種々報告されている。発明者
等もその合成法を検討しペニシリン訪導体を出発物質と
してカルバペネム肪導体を合成する場合、アゼチジノン
誘導体(1)が重要な中間体であることを見い出し本発
明を完成した。
構成
本発明は、式
を有するアゼチジノン誘導体に関する。
(nAは水素原子またはカルボキシ基の保護基を示す。
)を示し、R2は水X原子または水酸基の保藤基を示し
、R3は水酸基、アルコキシ基、アラルコキシ基、置換
基を有してもよいアリールチオ基または置換基を有して
もよいヘテロアリールチオ基を示す。
、R3は水酸基、アルコキシ基、アラルコキシ基、置換
基を有してもよいアリールチオ基または置換基を有して
もよいヘテロアリールチオ基を示す。
R2の水酸基の保護基は特に限定されることなく一般的
なアルコール性水酸基の保護基であり、たとえばトリメ
チルシリル、t−ブチルジメチルシリル、トリフェニル
シリル、t−7’トキシジメチルシリルもしくはt−ブ
トキシフェニルシリルなどのトリ置換シリル基:ベンジ
ル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジルモジくは
4−メトキシベンジルなどのアラルキル基;ベンジルオ
キシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル
、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、アリルオヤシ
カルポニル、2−クロルアリルオキシカルボニル、2−
メチルアリルオキシカルボニル、2,2.2−ト+)ク
ロルエトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ジ
フェニルメトキシカルボニルもしくは2−(トリメチル
シリル)エトキシカルボニルなどの置換オキシカルボニ
ル基;テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、1−エ
トキシエチルもしくは2−(トリメチルシリル)エトキ
シメチルなどのエーテル基またはクロルア七チル基があ
げられる。
なアルコール性水酸基の保護基であり、たとえばトリメ
チルシリル、t−ブチルジメチルシリル、トリフェニル
シリル、t−7’トキシジメチルシリルもしくはt−ブ
トキシフェニルシリルなどのトリ置換シリル基:ベンジ
ル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジルモジくは
4−メトキシベンジルなどのアラルキル基;ベンジルオ
キシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル
、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、アリルオヤシ
カルポニル、2−クロルアリルオキシカルボニル、2−
メチルアリルオキシカルボニル、2,2.2−ト+)ク
ロルエトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ジ
フェニルメトキシカルボニルもしくは2−(トリメチル
シリル)エトキシカルボニルなどの置換オキシカルボニ
ル基;テトラヒドロピラニル、メトキシメチル、1−エ
トキシエチルもしくは2−(トリメチルシリル)エトキ
シメチルなどのエーテル基またはクロルア七チル基があ
げられる。
R3のアルコキシ基は、たとえばメトキシ、エトキシま
たはt−ブトキシがあげられる。
たはt−ブトキシがあげられる。
R3のアラルコキシ基は、たとえばベンジルオキシまた
は4−メトキシベンジルオキシがあげられる。
は4−メトキシベンジルオキシがあげられる。
R3の置換基を有してもよい了り−ルチオ基の置換基を
有してもよいアリール基は、たとえばフェニル、4−ニ
トロフェニル、3−カルボキシフェニル、2−ヒドロキ
シフェニル、4−メトキシフェニル、3−エトキシカル
ボニルメチルフェニル、1−ナフチルまたは2−ナフチ
ルがあげられ;ヘテロアリールチオ基のへテロアリール
基は、たとえばピリジル、ピリミジニル、トリアジニル
、チェニル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリルが
あげられ、これらのへテロアリール基はアルキル基、ア
ルコキシ基、アミノ基、アルキルア)1、ジアルキルア
ミノ基、水酸基、アルカノイルオキシ基、ニトロ基、ノ
蔦ロゲン原子またはアルコキシカルボニル基のような置
換基を1〜3個有してもよい。
有してもよいアリール基は、たとえばフェニル、4−ニ
トロフェニル、3−カルボキシフェニル、2−ヒドロキ
シフェニル、4−メトキシフェニル、3−エトキシカル
ボニルメチルフェニル、1−ナフチルまたは2−ナフチ
ルがあげられ;ヘテロアリールチオ基のへテロアリール
基は、たとえばピリジル、ピリミジニル、トリアジニル
、チェニル、フリル、チアゾリルまたはイミダゾリルが
あげられ、これらのへテロアリール基はアルキル基、ア
ルコキシ基、アミノ基、アルキルア)1、ジアルキルア
ミノ基、水酸基、アルカノイルオキシ基、ニトロ基、ノ
蔦ロゲン原子またはアルコキシカルボニル基のような置
換基を1〜3個有してもよい。
上記アルキル基は、たとえばメチル、エチル、プロピル
基があげられ;アルコキシ基は、たとえばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシがあげられ;アルキルアミノ基は、
たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミン
があげられ;ジアルキルアミノ基は、たとえばジメチル
アミノ、ジエチルアミノがあげられ:アルカノイルオキ
シ基は、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシがあ
げられ;ハロゲン原子は、たとえば弗素、塩素、臭素が
あげられ:アルコキシカルボニル基は、たとえば、メト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルがあげられる。
基があげられ;アルコキシ基は、たとえばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシがあげられ;アルキルアミノ基は、
たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミン
があげられ;ジアルキルアミノ基は、たとえばジメチル
アミノ、ジエチルアミノがあげられ:アルカノイルオキ
シ基は、たとえばアセトキシ、プロピオニルオキシがあ
げられ;ハロゲン原子は、たとえば弗素、塩素、臭素が
あげられ:アルコキシカルボニル基は、たとえば、メト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルがあげられる。
R4のカルボキシ基の保護基は、特に限定されることは
なく一般的なカルボキシ基の保護基であり、たとえばメ
チル、t−ブチル、ベンジル、ジフェニルメチル、4−
ニトロベンジル、2−ニトロベンジル、アリル、2−1
0ルアリル、2.2.2− )リクロルエチル、2.2
.2− トリブロムエチルまたは2−(トリメチルシリ
ル)エチルがあげられる。
なく一般的なカルボキシ基の保護基であり、たとえばメ
チル、t−ブチル、ベンジル、ジフェニルメチル、4−
ニトロベンジル、2−ニトロベンジル、アリル、2−1
0ルアリル、2.2.2− )リクロルエチル、2.2
.2− トリブロムエチルまたは2−(トリメチルシリ
ル)エチルがあげられる。
好適なR2は、水素原子、トリ置換シリル基または置換
オキシカルボニルがあげられる。
オキシカルボニルがあげられる。
好適なR3は、水酸基、メトキシ、ベンジルオキシ、置
換基を有してもよいフェニルチオまたは置換基を有して
もよいピリジルチオがあげられる。
換基を有してもよいフェニルチオまたは置換基を有して
もよいピリジルチオがあげられる。
好適すn’は、ベンジル、4−ニトロベンジル、2−ニ
トロベンジルまたはアリルがあげられる。
トロベンジルまたはアリルがあげられる。
アゼチジノン誘導体(1)は、その不★炭素に由来する
種々の立体異性体が存在するが式(1)はそれらの一つ
の立体異性体またはそれらの混合物を示す。好ましくは
1’R,3S、 4Rの絶対配位を有するものである。
種々の立体異性体が存在するが式(1)はそれらの一つ
の立体異性体またはそれらの混合物を示す。好ましくは
1’R,3S、 4Rの絶対配位を有するものである。
アゼチジノン誘導体(1)は下に示す式に従って合成さ
れる。
れる。
上記式中R2,13およびR4は、前述したものと同意
義を示す。
義を示す。
ペニシリン誘導体から既知の方法(B、 G。
Christensen et al、、 J、 Or
g、 Chem、 42.296G(1977))で得
られる化合物(2)を常法に従って酸化するとスルホキ
シド(3)が得られる、これと亜リン酸トリメチルとを
酢酸の存在下反応させるとアセトキシアゼチジノン(4
)が得られる、これを塩基で処理すると二重結合の移動
したアセトキシアゼチジノン(51が得られる。これに
トリメチルシリル酢酸誘導体(6)または酢酸誘導体の
トリメチルシリルエノールエーテル(7)をトリフルオ
ルメタンスルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在
下反応させるとアゼチジノン誘導体(1つが得られる。
g、 Chem、 42.296G(1977))で得
られる化合物(2)を常法に従って酸化するとスルホキ
シド(3)が得られる、これと亜リン酸トリメチルとを
酢酸の存在下反応させるとアセトキシアゼチジノン(4
)が得られる、これを塩基で処理すると二重結合の移動
したアセトキシアゼチジノン(51が得られる。これに
トリメチルシリル酢酸誘導体(6)または酢酸誘導体の
トリメチルシリルエノールエーテル(7)をトリフルオ
ルメタンスルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在
下反応させるとアゼチジノン誘導体(1つが得られる。
一方アセトキシアゼチジノン(4)とトリメチルシリル
酢酸誘導体(6)または酢PJt誘導体のトリメチルシ
リルエノールエーテル(7)とをトリフルオルメタンス
ルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在下反応させ
るとアゼチジノン誘導体(1′)が得られる。アゼチジ
ノン誘導体(1′)を塩基で処理すると二重結合の移動
したアゼチジノン誘導体(1つが得られる。
酢酸誘導体(6)または酢PJt誘導体のトリメチルシ
リルエノールエーテル(7)とをトリフルオルメタンス
ルホン酸のトリメチルシリルエステルの存在下反応させ
るとアゼチジノン誘導体(1′)が得られる。アゼチジ
ノン誘導体(1′)を塩基で処理すると二重結合の移動
したアゼチジノン誘導体(1つが得られる。
なおR3が水酸基である化合物(1)は、R3がベンジ
ルオキシ基である化合物(1′つのベンジル基を還元的
に除去するかあるいはR3がアルコキシ、アラルコキシ
、アリールチオ基である化合物(1′つをアルカリ加水
分解することによって得られる。
ルオキシ基である化合物(1′つのベンジル基を還元的
に除去するかあるいはR3がアルコキシ、アラルコキシ
、アリールチオ基である化合物(1′つをアルカリ加水
分解することによって得られる。
発明の効果
アゼチジノン誘導体(1′)および(1“)は、次に示
す反応式に従ってカルバペネム誘導体(9)へ導くこと
ができる。
す反応式に従ってカルバペネム誘導体(9)へ導くこと
ができる。
(1’) (1“)玉記式中R
’、 12. R’およびR4は、前述したものと同意
義を示す。
’、 12. R’およびR4は、前述したものと同意
義を示す。
すなわちアゼチジノン誘導体(1勺を 塩基で処理する
とαβ−不飽和カルボン酸エステル(1“)が得られ、
これをオゾン酸化するとα−ケトカルボン酸エステル(
8)が得られる。次いでこれを亜リン酸トリエチルの存
在下、加熱するとカルバペネム誘導体(9)が得られる
。
とαβ−不飽和カルボン酸エステル(1“)が得られ、
これをオゾン酸化するとα−ケトカルボン酸エステル(
8)が得られる。次いでこれを亜リン酸トリエチルの存
在下、加熱するとカルバペネム誘導体(9)が得られる
。
このカルバペネムの合成法において出発物質であるアゼ
チジノン誘導体(1′)は、 ペニシリン誘導体から導
かれるアセトキシアゼチジノン(4)とトリメチルシリ
ル酢酸エステル誘導体(6)または酢酸誘導体のトリメ
チルシリルエステルエーテ/I/T7)との反応で得ら
れる。
チジノン誘導体(1′)は、 ペニシリン誘導体から導
かれるアセトキシアゼチジノン(4)とトリメチルシリ
ル酢酸エステル誘導体(6)または酢酸誘導体のトリメ
チルシリルエステルエーテ/I/T7)との反応で得ら
れる。
従って本発明により、ペニシリン誘導体を出発物質とし
【カルバペネム誘導体を合成することが可能となった。
【カルバペネム誘導体を合成することが可能となった。
以下に実施例および参考例をあげ本発明を具体的に示す
。
。
実施例1
メチル)−2−アゼチジノン
(3R,4R)−4−アセトキシ−3−C(R,)=1
− (tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル
’:l−1−(1−メトキシカルボニル−2−メチル−
1−プロペニル)−2−アゼチジン71.04 fl
(2,61mm01e )、 トリメチルシリル酢触ベ
ンジルエステル1.741 (7,84m mole
)を塩化メチレン12m1に溶かし、ついでトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステ# 50
x9 (0,23mmoj )を加え、呈温でT目間放
置する。反応液を重曹水にあげ有機層をわけ、水洗、乾
燥後、溶媒を留去する。得られた残留物をローバーカラ
ム−B(g、メルク社製)を用いる液体クロマトグラフ
ィーで分離精製する。
− (tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル
’:l−1−(1−メトキシカルボニル−2−メチル−
1−プロペニル)−2−アゼチジン71.04 fl
(2,61mm01e )、 トリメチルシリル酢触ベ
ンジルエステル1.741 (7,84m mole
)を塩化メチレン12m1に溶かし、ついでトリフルオ
ロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステ# 50
x9 (0,23mmoj )を加え、呈温でT目間放
置する。反応液を重曹水にあげ有機層をわけ、水洗、乾
燥後、溶媒を留去する。得られた残留物をローバーカラ
ム−B(g、メルク社製)を用いる液体クロマトグラフ
ィーで分離精製する。
ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混合溶媒で溶出し、出
発原料アゼチジノン109 rtg(8,6%)を回収
して、ついで目的物693■(収率55%)を油状物と
して得た。
発原料アゼチジノン109 rtg(8,6%)を回収
して、ついで目的物693■(収率55%)を油状物と
して得た。
IRスヘク)ルv”””3ax−’ : 1740(b
r、)aX NMRスペクトル(CnCjs) ’ppm ”0.0
9 (6H,S)、 0.89 (9H,S)、 1.
23 (31(。
r、)aX NMRスペクトル(CnCjs) ’ppm ”0.0
9 (6H,S)、 0.89 (9H,S)、 1.
23 (31(。
d、 J=6.5Hz)、 1.85 (3H,S)、
2.10 (3H,S)。
2.10 (3H,S)。
2.67 (2H,d、 J=7)Tz)、 2.85
(IH,dd、 J=6.5.2.5Hz)、 3.
64 (3H,S)、 3.9〜4.5 (2H。
(IH,dd、 J=6.5.2.5Hz)、 3.
64 (3H,S)、 3.9〜4.5 (2H。
m)、 4.90 (IH,d、 J=12Hz)、
5.06 (IH,d。
5.06 (IH,d。
J=12Hz)、 7.28 (5H,s)実施例2
ルホニルー2−メチルー1−プロペニル)−2−アゼチ
ジノン (38,4R) −a−[(R)−1−(tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル)−1−(1−メト
キシカルボニル−2−メチル−1−プロペニル)−4−
(ベンジルオキシカルボニルメチル)−2−アゼチジノ
ン1.18yを酢酸エチル26m1に溶かし、10%パ
ラジウム−炭素soomgを加え、常圧水素下、1.5
時間攪拌した。
ジノン (38,4R) −a−[(R)−1−(tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル)−1−(1−メト
キシカルボニル−2−メチル−1−プロペニル)−4−
(ベンジルオキシカルボニルメチル)−2−アゼチジノ
ン1.18yを酢酸エチル26m1に溶かし、10%パ
ラジウム−炭素soomgを加え、常圧水素下、1.5
時間攪拌した。
反応終了後、触媒を戸去し、P′P&、から溶媒を留去
して目的物960η(収率99%)を無色油状物として
得た。
して目的物960η(収率99%)を無色油状物として
得た。
IRスベクトヤ 、 CHCム備−1=aX
〜3300.1734.1715
NMRスペクトル(cocI5 )δppm :0.1
0 (6H,S )、 0.90 (9H,S
)、 1.26(3I(、d、 J=6Hz )t
1.94 (3H,S )。
0 (6H,S )、 0.90 (9H,S
)、 1.26(3I(、d、 J=6Hz )t
1.94 (3H,S )。
2.18 (3H,S ) 、 2.71 (
2H,d、 J=71(z )。
2H,d、 J=71(z )。
Z94 (1Hs dd+ J==5.5. 2
.5Hz ) + 3.76(3Hs s )
t 4.Q 〜4−5 (2Hs m)実施例3 ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−1−[(R)
−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−メチル−2−フロベニ# ’:] −4−アゼチジノ
ン (3R,4R3) −4−アセトキシ−3−((R)−
1−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル
)−1−C(R)−1−(p−ニトロペンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチルプロブ−2−エニル〕−2−ア
ゼチジノン83 m+9 (0,160mmoje )
と1−フェニルチオ−1−(トリメチルシリルオキシ)
エチレン541#g(0,24mmoje )を乾燥塩
化メチレン3 dに溶かし、トリフルオルメタンスルホ
ン酸 トリメチルシリルエステル6■(0,027mm
ole )を加え、窒素雰囲気下64時間靜装する。反
応終了後、反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽
出する。クロロホルムを留去して得られる残留物をシリ
カゲルの分取用薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒:ヘ
キサンー酢酸エチル(4:1)]により精製し、目的物
86tIg(収率88%)を油状物として得た。
.5Hz ) + 3.76(3Hs s )
t 4.Q 〜4−5 (2Hs m)実施例3 ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−1−[(R)
−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2
−メチル−2−フロベニ# ’:] −4−アゼチジノ
ン (3R,4R3) −4−アセトキシ−3−((R)−
1−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル
)−1−C(R)−1−(p−ニトロペンジルオキシカ
ルボニル)−2−メチルプロブ−2−エニル〕−2−ア
ゼチジノン83 m+9 (0,160mmoje )
と1−フェニルチオ−1−(トリメチルシリルオキシ)
エチレン541#g(0,24mmoje )を乾燥塩
化メチレン3 dに溶かし、トリフルオルメタンスルホ
ン酸 トリメチルシリルエステル6■(0,027mm
ole )を加え、窒素雰囲気下64時間靜装する。反
応終了後、反応液を希重曹水にあけてクロロホルムで抽
出する。クロロホルムを留去して得られる残留物をシリ
カゲルの分取用薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒:ヘ
キサンー酢酸エチル(4:1)]により精製し、目的物
86tIg(収率88%)を油状物として得た。
IRスヘ/)# l/””’ = : 175G
(Sh、)。
(Sh、)。
C奪
ax
1740、1895
比旋光度 〔α]D−50°(C=1.04. CHC
J3 )NMRスペクトル(cncz3)699m :
0.03 (3)1゜s)、o、◎6 (3H,S
”) 、 0.85 (9H,S ) 。
J3 )NMRスペクトル(cncz3)699m :
0.03 (3)1゜s)、o、◎6 (3H,S
”) 、 0.85 (9H,S ) 。
1.18 (3H,d、 J=6Hz ) 、 L8
5 (3H。
5 (3H。
br、s )、 2.116 (IH,dd、J
=15.7Hz )。
=15.7Hz )。
3.00 (IH,dd、 J=5. 2.5Hz
) 、 3.20 (IH。
) 、 3.20 (IH。
dd、 J=15. 5.5)fz )、、 3.
9〜4.6 (2H,m )+4.78 (IH,
S )、 4.87 (IH,br、s )15.
02 (IH,br、)、 5.20 (2H,
S )+7.36 (5H,S L 7.45
(2H,d )、 8.16(2H,d ) 実施例4 ジノン 澹 (38,4R) −3−((R) −1−(tert−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−1−((R)
−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−((フェニルチオ)カ
ルボニルメチル〕−2−アゼチジノン86岬を塩化メチ
レン1.5dに溶かし、トリエチルアミン15ηを加え
て室温下1時間静置する。溶媒を留去して得られる残留
物をベンゼン−酢酸エチル(20: 1 ) 混合溶
媒に溶かし、シリカゲル1fのカラムを通して精製する
。目的物84Wg(収率98%)を油状物として得た。
9〜4.6 (2H,m )+4.78 (IH,
S )、 4.87 (IH,br、s )15.
02 (IH,br、)、 5.20 (2H,
S )+7.36 (5H,S L 7.45
(2H,d )、 8.16(2H,d ) 実施例4 ジノン 澹 (38,4R) −3−((R) −1−(tert−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル〕−1−((R)
−1−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−((フェニルチオ)カ
ルボニルメチル〕−2−アゼチジノン86岬を塩化メチ
レン1.5dに溶かし、トリエチルアミン15ηを加え
て室温下1時間静置する。溶媒を留去して得られる残留
物をベンゼン−酢酸エチル(20: 1 ) 混合溶
媒に溶かし、シリカゲル1fのカラムを通して精製する
。目的物84Wg(収率98%)を油状物として得た。
IRスペクトル νCH”’5 as−’ : 17
50.1715ax (sh、)、 1625 比旋光度 〔α)、+46°(C=1.32. CHC
J3 〕NMRスペクトル(cDct5 )δpprn
: o、oo (3H*5)、 0.05 (3H
,S)、 0.86 (9L sLl、25 (3H
,d、 J=6H1) 、 2.00 (3H,S
) 。
50.1715ax (sh、)、 1625 比旋光度 〔α)、+46°(C=1.32. CHC
J3 〕NMRスペクトル(cDct5 )δpprn
: o、oo (3H*5)、 0.05 (3H
,S)、 0.86 (9L sLl、25 (3H
,d、 J=6H1) 、 2.00 (3H,S
) 。
2.20 (3H,S ’) 、 2.90 (IH
,dd、 J=8゜2.5Hz ) 、 2.95
(2H,d、 J=6.5)Iz ) 。
,dd、 J=8゜2.5Hz ) 、 2.95
(2H,d、 J=6.5)Iz ) 。
4.15 (IH,m ) 、 4.40 (IH,
td、 J=6.5゜2.5Hz )、 5.26
(2)1. S )、 7.33 (5)!
。
td、 J=6.5゜2.5Hz )、 5.26
(2)1. S )、 7.33 (5)!
。
bra )t 7.52 (2H,d )1 1
1.17 (2H。
1.17 (2H。
d )
実施例5
ル〕−2−アゼチジノン
(38,JR)−3−C(R)−1−(tert−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル)−1−((R) −
1−(p−ニトロベンジルオキシカルボ二A/ ) −
2−メチル−2−プロペニル〕−4−〔(フェニルチオ
)カルボニルメチル]−2−−アゼチジノン64 q
(0,104mmoje )をアセトニトリル1.5g
/に溶かし、−15℃で撹拌しながら三弗化糸つ素エー
テル錯体15 q (0,106mmoJe )を加え
る。30分後、反応液に酢酸エチルを加えて希釈し、希
重曹水で洗う。溶媒を減圧下留去し、得られる残留物を
シリカゲルの範層クロマトグラフィー〔ベンゼン−酢酸
エチル(2:3))で精製して、目的物48η(収率9
2%)を油状物として得た。
ルジメチルシリルオキシ)エチル)−1−((R) −
1−(p−ニトロベンジルオキシカルボ二A/ ) −
2−メチル−2−プロペニル〕−4−〔(フェニルチオ
)カルボニルメチル]−2−−アゼチジノン64 q
(0,104mmoje )をアセトニトリル1.5g
/に溶かし、−15℃で撹拌しながら三弗化糸つ素エー
テル錯体15 q (0,106mmoJe )を加え
る。30分後、反応液に酢酸エチルを加えて希釈し、希
重曹水で洗う。溶媒を減圧下留去し、得られる残留物を
シリカゲルの範層クロマトグラフィー〔ベンゼン−酢酸
エチル(2:3))で精製して、目的物48η(収率9
2%)を油状物として得た。
IRスペクトル VCH”3 = : 3480.
1748゜0画 ax 1720 (sh、)、 1700 (sh、)、 1
625NMRスペクトル(cDck3)δppm :
1.26 (3H。
1748゜0画 ax 1720 (sh、)、 1700 (sh、)、 1
625NMRスペクトル(cDck3)δppm :
1.26 (3H。
d、 J=6.5H2) 、 1.99 (3H,S
) 、 2.23(3I(、S )、 〜2.9
5 (IH,m )、 2.97(2H,d、 J=
6.5Hz ) 、 3.9−4.5 (2H。
) 、 2.23(3I(、S )、 〜2.9
5 (IH,m )、 2.97(2H,d、 J=
6.5Hz ) 、 3.9−4.5 (2H。
m L 5.24 (2H,s )t 7.
35 (5H,br。
35 (5H,br。
S)、 7.49(2H,d)、 8.17(2H
,d)実施例6 ンジルオキシカルボニルオキシ)エチル〕−4(38,
4R) −3−((R) −1−ヒドロキシエチル]−
1−(1−(4−二トロペンジルオキシカルボニル)−
2−メfルー1−プロペニル1−4−C(フェニルチオ
)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノy 44 n
(0,088mmoj!e )を塩化メチレン2Mlに
溶かし、0℃で攪拌しながら、4−ジメチルアミノピリ
ジン32119 (0,2Etmmoje )ついで4
−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド57■(0
,26mmole )を加えろ。
,d)実施例6 ンジルオキシカルボニルオキシ)エチル〕−4(38,
4R) −3−((R) −1−ヒドロキシエチル]−
1−(1−(4−二トロペンジルオキシカルボニル)−
2−メfルー1−プロペニル1−4−C(フェニルチオ
)カルボニルメチル〕−2−アゼチジノy 44 n
(0,088mmoj!e )を塩化メチレン2Mlに
溶かし、0℃で攪拌しながら、4−ジメチルアミノピリ
ジン32119 (0,2Etmmoje )ついで4
−ニトロベンジルオキシカルボニルクロリド57■(0
,26mmole )を加えろ。
同温度で3時間攪拌したのち、希′M舒水にあけクロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層を希塩酸、希重σ水
で順次洗い、乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲ
ルの薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒:ベンゼンー酢
酸エチル(3:1)〕により精製して目的物2111?
(収率35%)を油状物として得た。
ホルムで抽出する。クロロホルム層を希塩酸、希重σ水
で順次洗い、乾燥後溶媒を留去する。残留物をシリカゲ
ルの薄層クロマトグラフィー〔展開溶媒:ベンゼンー酢
酸エチル(3:1)〕により精製して目的物2111?
(収率35%)を油状物として得た。
IRスペクトル VCH”’S a−’: 1758.
1720aX (sh、)、 1700(sh、)、 1625NMR
スペクトル(CDCJ3 )δppm : 1゜41
(3)I。
1720aX (sh、)、 1700(sh、)、 1625NMR
スペクトル(CDCJ3 )δppm : 1゜41
(3)I。
d、 J=6.5Hz )、 1.96 (3H,s
)t 2..23(3H,S ) 、 2.91
(2H,d、 J=6.5Hz ) 。
)t 2..23(3H,S ) 、 2.91
(2H,d、 J=6.5Hz ) 。
3.11 (IH,dd、 J=ll、5.2.5Hz
) 、 4.31(11(、td、 J==6.5
.2.5Hz ) 、 5.OB (2H。
) 、 4.31(11(、td、 J==6.5
.2.5Hz ) 、 5.OB (2H。
S )、 5.23 (2H,S )I 5.1
(1H,m)。
(1H,m)。
7.32 (5H,s )、 7.39 (2H,d
)、 7.49(2H,d )y 8.15 (4
H,d )実施例T −1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−C(4ゼチジノン (3R,4R8) −4−アセトキシ−3−1m (R
)−1−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チル〕−1−C’(R) −1−(4−ニトロベンジル
オキシカルボニル)−2−メチル−2−グロペニル〕−
2−アゼチジノンISQ tlg(0,29mmoje
)と1−(4−ピリジルチオ)−1−(トリメチルシ
リルオキシ)エチレン130 M(0,58mmoje
)を乾燥塩化メチレフ 5 mlに浴かし、トリフル
オルメタンスルホン敵トリメチルシリルエステル140
N (0,63mmole ) を加え、窒素雰囲
気下65時間靜装する。反応終了後、反応液を希xvi
水にあけてクロロホルムで抽出−jる。クロロホルムを
留去して得られる残留物をシリカゲルの分取用薄層クロ
マトグラフイー〔展開溶媒:ヘキサンー酢酸エチル(2
:1))により精製し、目的物129 q (収率73
51)を油状物として得た。
)、 7.49(2H,d )y 8.15 (4
H,d )実施例T −1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル)−2−
メチル−2−プロペニル〕−4−C(4ゼチジノン (3R,4R8) −4−アセトキシ−3−1m (R
)−1−(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)エ
チル〕−1−C’(R) −1−(4−ニトロベンジル
オキシカルボニル)−2−メチル−2−グロペニル〕−
2−アゼチジノンISQ tlg(0,29mmoje
)と1−(4−ピリジルチオ)−1−(トリメチルシ
リルオキシ)エチレン130 M(0,58mmoje
)を乾燥塩化メチレフ 5 mlに浴かし、トリフル
オルメタンスルホン敵トリメチルシリルエステル140
N (0,63mmole ) を加え、窒素雰囲
気下65時間靜装する。反応終了後、反応液を希xvi
水にあけてクロロホルムで抽出−jる。クロロホルムを
留去して得られる残留物をシリカゲルの分取用薄層クロ
マトグラフイー〔展開溶媒:ヘキサンー酢酸エチル(2
:1))により精製し、目的物129 q (収率73
51)を油状物として得た。
CHCj3 −1 ・
IRスペクトル νmax as 、 175G(
sh、)。
sh、)。
IT4Q、 1705
NMRスペクト# (CDCJ3)599m : Q、
03 (3H,S ) 。
03 (3H,S ) 。
0.06 (3H,S )、 0.115 (9)I
、 S )、 1.18(3Bw a t J=6H
z ) s tss (3Ht br、 s ) s
2Jg (IH,dd、 J=15.7Hz ) 、
3.0o (IJdd、 J=5.2.5H2) 、
3.20 (IH,dd、 J=15゜s、sHz
L 19〜4.6 (2H,m )t tys
(111゜S)、 4.87 (1)I、 br、s
)、 5.02 (IH,br、 )+5.20
(2H,S L 7.33 (2Hj m )?
7.45(2H,d)、 8.16 (2H,d)、
8.61 (2H。
、 S )、 1.18(3Bw a t J=6H
z ) s tss (3Ht br、 s ) s
2Jg (IH,dd、 J=15.7Hz ) 、
3.0o (IJdd、 J=5.2.5H2) 、
3.20 (IH,dd、 J=15゜s、sHz
L 19〜4.6 (2H,m )t tys
(111゜S)、 4.87 (1)I、 br、s
)、 5.02 (IH,br、 )+5.20
(2H,S L 7.33 (2Hj m )?
7.45(2H,d)、 8.16 (2H,d)、
8.61 (2H。
m)
参考例1
ルオキシカルボニル)−2−メチル−2−プロ6α−(
(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕ペニシラン酸 4−ニトロベンジルエステル 1β
−オキシ)”511■(1,00mmoJe )をトル
エン30*tに溶かし、亜リン酸トリメチル744 W
(6,00mmoJe )、 酢酸240 sF (
4,00mmoje )を加えて90℃で5時間加熱す
る。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、残留物をシリカ
ゲル10fを用いるカラムクロマトグラフィーに付す。
(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチ
ル〕ペニシラン酸 4−ニトロベンジルエステル 1β
−オキシ)”511■(1,00mmoJe )をトル
エン30*tに溶かし、亜リン酸トリメチル744 W
(6,00mmoJe )、 酢酸240 sF (
4,00mmoje )を加えて90℃で5時間加熱す
る。反応終了後、溶媒を減圧下留去し、残留物をシリカ
ゲル10fを用いるカラムクロマトグラフィーに付す。
ベンゼン−酢酸エチル(20: 1 )混合溶媒で溶出
して標記物479 +9(収率32%)を油状物として
得た。生成物は4Bおよび4s配位を有する二異性体の
約1=1の混合物である。
して標記物479 +9(収率32%)を油状物として
得た。生成物は4Bおよび4s配位を有する二異性体の
約1=1の混合物である。
cH”s−’ : 176B (Sh、)。
IRスペクトル νmax 3
T45
NMRスペクトル(CDCム)δppm、(4R)−異
性体:0.02 (3H,S L o、os (3H
,8)、 0J4(9H,s L 1.26 (3
)f、 d、 J=8Hz Ll、83 (3L
hr、s )、 1.99 (3H,S L
l、09 (IH,dd、 J=4.5.1.5Hz
) 、 4.2(111,m)、 4.80 (I
H,S )s tss (Ill。
性体:0.02 (3H,S L o、os (3H
,8)、 0J4(9H,s L 1.26 (3
)f、 d、 J=8Hz Ll、83 (3L
hr、s )、 1.99 (3H,S L
l、09 (IH,dd、 J=4.5.1.5Hz
) 、 4.2(111,m)、 4.80 (I
H,S )s tss (Ill。
br、s )t s、oo (IH,br、 )、
5.20 (2B。
5.20 (2B。
8 ) 、 6.42 (IL d、 J=1.5H
z ) 、 7.45(2b、a)、 a、1s(
za、a) ;(4s) ′−異性体: 0.
04 (3H,S ) 、 o、oa (3)!。
z ) 、 7.45(2b、a)、 a、1s(
za、a) ;(4s) ′−異性体: 0.
04 (3H,S ) 、 o、oa (3)!。
S )I Q、84 (9H,S )t 1.34
(3B、 d。
(3B、 d。
J=6Hz )、 2.08 (3H,S ) t
135 (IH。
135 (IH。
dd、 J=8.4.5H1”) 、 4.2 (I
I(、m ’) 14.75 (IH,S )、 4
.89 (IH,br、s L5.00 (IH,br
、 )、 5.20 (2)11 S >M6.17
(IH,d、 J=4.5I(z ) 、 7.4
5 (2H,d )+8.16 (2)1. d ) 参考例2 (38,4R) −3−C(R)−1−(t−プチルチ
ジノン (38,4R) −3−((R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル)−1−(1−(4−ニド
、ロペンジルオキシカルボニル)−2−メチル−1−プ
ロペニル”)−4−[(7エ二ルチオ)カルボニルメチ
ル〕−2−アゼチジノ7199 m+9を塩化メチレフ
25 mlに溶かし、−78℃でオゾンを吹き込む。
I(、m ’) 14.75 (IH,S )、 4
.89 (IH,br、s L5.00 (IH,br
、 )、 5.20 (2)11 S >M6.17
(IH,d、 J=4.5I(z ) 、 7.4
5 (2H,d )+8.16 (2)1. d ) 参考例2 (38,4R) −3−C(R)−1−(t−プチルチ
ジノン (38,4R) −3−((R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル)−1−(1−(4−ニド
、ロペンジルオキシカルボニル)−2−メチル−1−プ
ロペニル”)−4−[(7エ二ルチオ)カルボニルメチ
ル〕−2−アゼチジノ7199 m+9を塩化メチレフ
25 mlに溶かし、−78℃でオゾンを吹き込む。
反応液が青味を帯びたら、窒素ガスを吹き込んで過剰の
オゾンを追い出す。ジメチルスルフィド0.2dを加え
て反応液を約5分間で室温に戻した後、減圧下濃縮する
。残留物をベンゼン−ヘキサン(1:1)混合溶媒に溶
かし2回水洗し、乾燥後溶媒を留去して、標記物192
智(収率100%)を油状物として得た。
オゾンを追い出す。ジメチルスルフィド0.2dを加え
て反応液を約5分間で室温に戻した後、減圧下濃縮する
。残留物をベンゼン−ヘキサン(1:1)混合溶媒に溶
かし2回水洗し、乾燥後溶媒を留去して、標記物192
智(収率100%)を油状物として得た。
CHCl3−1゜
IRスペクトル νmax cm 、 18(15
,1757゜1699、1609.1522.1344
NMRスペクトル(CD(J3)δppm ニー0.0
2 (3H,S L 0.04 (3)f、 S )
、 0.08(9H,s L 1.14 (3H,
d、 J=6Hz )s3.11°(1)(、da、
J=:15.8Hz ) 、 3.35(1H,t、
J=3Hz ) 、 3.43 (1H,dd、
J=15、4Hz ) 、 4.29 (qd、 J
=6.3Hz ) 。
,1757゜1699、1609.1522.1344
NMRスペクトル(CD(J3)δppm ニー0.0
2 (3H,S L 0.04 (3)f、 S )
、 0.08(9H,s L 1.14 (3H,
d、 J=6Hz )s3.11°(1)(、da、
J=:15.8Hz ) 、 3.35(1H,t、
J=3Hz ) 、 3.43 (1H,dd、
J=15、4Hz ) 、 4.29 (qd、 J
=6.3Hz ) 。
4.64 (IH,ddd、 J=8.4.3Hz )
、 5.37(2H,s L 7.52 (2H
,d、 J=8Hz )。
、 5.37(2H,s L 7.52 (2H
,d、 J=8Hz )。
8.16 (2)T、 d、 J=8Hz )参考例3
ルジメチルシリルオキシ)エチル〕−2−((3S、
4R)−3−((R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル)−1−(4−二トロペンジルオキシ
オキサリル)−4−C(゛フェニルチオ)カルボニルメ
チル)−2−7ゼチジノン114■(0,194mmo
je )と亜リン酸トリエチル258 ff19 (1
,55mmole )のトルエン10耐溶液を窒素気流
下100℃で18時間攪拌する。
4R)−3−((R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル)−1−(4−二トロペンジルオキシ
オキサリル)−4−C(゛フェニルチオ)カルボニルメ
チル)−2−7ゼチジノン114■(0,194mmo
je )と亜リン酸トリエチル258 ff19 (1
,55mmole )のトルエン10耐溶液を窒素気流
下100℃で18時間攪拌する。
溶剤を留去して得られる残渣をローバーカラム〔展開溶
剤:ヘキサン−アセトン(3,5: 1 ) ]で精製
し、標記物95 Mg(収率88%)を結晶として得た
。
剤:ヘキサン−アセトン(3,5: 1 ) ]で精製
し、標記物95 Mg(収率88%)を結晶として得た
。
ujoL
IRスペクトル ν ax−’ : 1777、1
697.1524ax NMRスペクトル(CDCl5)δppm :0.06
(6H,S )、 0.83 (9H,S )、
1.15(3H,d、 J=6Hz ) 、 2.
63 (2H,d、 J:10Hz ) 、 3.0
5 (IH,dd、 J=4.2Hz ) 、 4.
04(1)I、dd、J=10.2H2)、 4.1
9 (IH,dQIJ=4.6Hz )、 5.2
2 (IH,d、J=14Hz )。
697.1524ax NMRスペクトル(CDCl5)δppm :0.06
(6H,S )、 0.83 (9H,S )、
1.15(3H,d、 J=6Hz ) 、 2.
63 (2H,d、 J:10Hz ) 、 3.0
5 (IH,dd、 J=4.2Hz ) 、 4.
04(1)I、dd、J=10.2H2)、 4.1
9 (IH,dQIJ=4.6Hz )、 5.2
2 (IH,d、J=14Hz )。
5.50 (IH,d、 J=14Hz
) 、 7.2 〜7.7 (5)T。
) 、 7.2 〜7.7 (5)T。
m ) v 7.64 (2Ht
d 、 J=411(z ) + 8.
19 (2I($d、J=9Hz )
d 、 J=411(z ) + 8.
19 (2I($d、J=9Hz )
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するアゼチジノン誘導体。 上記式中、R^1は▲数式、化学式、表等があります▼
または▲数式、化学式、表等があります▼ 基(R^4は水素原子またはカルボキシ基の保護基を示
す。)を示し、R^2は水素原子または水酸基の保護基
を示し、R^3は水酸基、アルコキシ基、アラルコキシ
基、置換基を有してもよいアリールチオ基または置換基
を有してもよいヘテロアリールチオ基を示す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61289698A JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61289698A JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57158604A Division JPS5951286A (ja) | 1982-08-24 | 1982-09-10 | カルバペネム誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6322065A true JPS6322065A (ja) | 1988-01-29 |
JPS6334147B2 JPS6334147B2 (ja) | 1988-07-08 |
Family
ID=17746586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61289698A Granted JPS6322065A (ja) | 1986-12-04 | 1986-12-04 | アゼチジノン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6322065A (ja) |
-
1986
- 1986-12-04 JP JP61289698A patent/JPS6322065A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6334147B2 (ja) | 1988-07-08 |
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