JPS5947654U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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JPS5947654U
JPS5947654U JP1983128511U JP12851183U JPS5947654U JP S5947654 U JPS5947654 U JP S5947654U JP 1983128511 U JP1983128511 U JP 1983128511U JP 12851183 U JP12851183 U JP 12851183U JP S5947654 U JPS5947654 U JP S5947654U
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JP
Japan
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cathode body
magnet device
sputtered
magnetic field
model registration
Prior art date
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Application number
JP1983128511U
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English (en)
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JPS6028689Y2 (ja
Inventor
ヤン・ビセル
コルネリス・ビレム・ベルグ−ト
Original Assignee
エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン
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Publication date
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Publication of JPS6028689Y2 publication Critical patent/JPS6028689Y2/ja
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図および第２図はそれぞれ本考案装置の管状陰極体
の一例の部分断面図、第３図は本考案装置の管状陰極体
の他の例の一部内部を示す縦断面図、第４図および第５
図はそれぞれ第３゜図の陰極体の横断面の一例を示す断
面図、第６図は本考案装置の一例の路線図、第７図は本
考案装置の一例の主要部の断面図である。 ２・・・磁力線、６・・・管状陰極体、７・・・磁気デ
ィスク、８・・・軟鉄円板、９・・・電子トラップ、１
０・・・陽極、１１・・・永久磁気リング、１２・・・
陽極、１３・・・管、１４・・・磁気ディスク、１５・
・・水導入管、１６・・・空隙、１７・・・水排出口、
１８・・・導入口ミ１９・・・Ｑ　　ＩＪソング鎖装置
、２０・・・磁石装置、２１・・・ホルダ、２２・・・
ガラス板、２３・・・ハウジング、２４・・・陰極体、
２５・・・直流電源、２６・・・陽極、２７・・・ガス
排出凸、２８・・・ガス導入口、２９．３０・・・接続
管、３１・・・基板、３２・・・サイクロイド軌道、３
３・・・電子トラップの移動方向を示す矢、３４・・・
駆動装置、３５・・・クロム、３６・・・銅、３７・・
・ガラス管、３８・・・陽極。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　スパッタリングすべき材料をその表面に有する管状
    陰極体と陽極とを容器内に備え、互に対向している北極
    および南極を有していて前記陰極体内で軸線方向に移動
    できかつ磁界を生じこの磁界により前記陰極体表面用の
    電子トラップを決めるための多数の磁石を有する磁石装
    置を前記陰極体内に備えたスパッタリング装置において
    、　　　　　　　　　　　　　　　　′　　　−前記磁
    石装置が多数の磁気ディスクを備え、これらの磁気ディ
    スクの間に軟鉄ディスクを設けたことを特徴とするスパ
    ッタリング装置。 ２　陰極体表面をスパッタリングすべき数種類の材料か
    ら構成した実用新案登録請求の範囲第１項記載の装置。
JP1983128511U 1976-07-07 1983-08-22 スパツタリング装置 Expired JPS6028689Y2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7607473 1976-07-07
NL7607473A NL7607473A (nl) 1976-07-07 1976-07-07 Verstuifinrichting en werkwijze voor het ver- stuiven met een dergelijke inrichting.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5947654U true JPS5947654U (ja) 1984-03-29
JPS6028689Y2 JPS6028689Y2 (ja) 1985-08-30

Family

ID=19826537

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8035277A Pending JPS536282A (en) 1976-07-07 1977-07-05 Spattering process and apparatus
JP1983128511U Expired JPS6028689Y2 (ja) 1976-07-07 1983-08-22 スパツタリング装置

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8035277A Pending JPS536282A (en) 1976-07-07 1977-07-05 Spattering process and apparatus

Country Status (14)

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JP (2) JPS536282A (ja)
AT (1) AT352493B (ja)
AU (1) AU506847B2 (ja)
BR (1) BR7704375A (ja)
CA (1) CA1081656A (ja)
CH (1) CH618289A5 (ja)
DE (1) DE2729286A1 (ja)
ES (1) ES460405A1 (ja)
FR (1) FR2358020A1 (ja)
GB (1) GB1587566A (ja)
IT (1) IT1076083B (ja)
NL (1) NL7607473A (ja)
SE (1) SE7707729L (ja)
ZA (1) ZA773538B (ja)

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AU2668877A (en) 1979-01-04
DE2729286A1 (de) 1978-01-12
AT352493B (de) 1979-09-25
ATA482777A (de) 1979-02-15
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CA1081656A (en) 1980-07-15
SE7707729L (sv) 1978-01-08
ES460405A1 (es) 1978-05-01
AU506847B2 (en) 1980-01-24
CH618289A5 (en) 1980-07-15
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BR7704375A (pt) 1978-05-16
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FR2358020B1 (ja) 1982-11-12
ZA773538B (en) 1979-01-31
IT1076083B (it) 1985-04-22
FR2358020A1 (fr) 1978-02-03
JPS536282A (en) 1978-01-20
GB1587566A (en) 1981-04-08

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