DE19727647A1 - Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkörpers mittels Kathodenzerstäubung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Be­ schichten eines Substratkörpers mittels Kathoden­ zerstäubung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, eine in diese Vorrichtung einsetzbare Magnetron- Zerstäubungskathode sowie eine Anordnung mit meh­ reren, individuell ansteuerbaren Zerstäubungska­ thoden, die ebenfalls für einen Einsatz in der Vorrichtung nach Anspruch 1 geeignet ist.

Es sind zahlreiche Vakuum-Beschichtungsanlagen be­ kannt, in denen ein Substrat mittels Kathodenzer­ stäubung beschichtet wird. Als Zerstäubungsein­ richtung werden Zerstäubungskathoden, auch Sput­ terkathoden genannt, im Magnetron- oder Diodentyp eingesetzt. Herkömmliche Sputterkathoden weisen ein Target aus dem zu zerstäubenden Material auf, dessen zu zerstäubende Oberfläche im wesentlichen flach ist. Es sind beispielsweise ringförmige, im wesentliche flache Targetformen bekannt, die etwa 800 mm lang und etwa 400 mm breit sind. Derartig geformte Targetflächen sind geeignete größerem im wesentlichen ebene Flächen zu beschichten. Den be­ kannten Sputterkathoden mit relativ großen und flachen Targetflächen haftet jedoch der Nachteil an, daß mit ihnen stark strukturierte Substrate, beispielsweise Öffnungen und Hohlräume aufweisende Lampenrohlinge im Kfz-Bereich, nicht gleichmäßig oder sogar gar nicht beschichtet werden können. Eine Beschichtung mittels Kathodenzerstäubung kann daher bei stark strukturierten Substraten kaum oder gar nicht angewendet werden.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung bereitzustellen, mit der komplexe und stark strukturierte Substrate gleichmäßig be­ schichtet werden können.

Dieses technische Problem löst die Erfindung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, den Merkmalen des Anspruchs 9 bzw. mit den Merkmalen des Anspruchs 12.

Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.

Die Erfindung geht aus von einer Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkörpers mittels einer Kathodenzerstäubung, die im wesentlichen eine Va­ kuumkammer, wenigstens einen in der Vakuumkammer gehaltenen Substratkörper und wenigstens eine im Abstand zum Substratkörper angeordnete Zerstäu­ bungskathode mit einem zu zerstäubenden Target aufweist. Damit in einer solchen Vorrichtung auch Substratkörper mit wenigstens einer zu beschich­ tenden Fläche, die wenigstens einen Hohlraum fest­ legt, beschichtet werden können, weist die oder jede Zerstäubungskathode ein zu zerstäubendes Tar­ get auf, dessen zu zerstäubende Fläche im wesent­ lichen der zu beschichtenden Substratfläche ange­ paßt ist. Um eine homogene Schichtdicke auf dem Substrat abscheiden und sogar Hinterschneidungen in dem Substrat beschichten zu können, läßt sich die Zerstäubungskathode in den Hohlraum einbrin­ gen. Je nach der Form des zu beschichtenden Substrats können mehrere, in ihren Abmessungen re­ lativ kleine Zerstäubungskathoden vorgesehen sein, deren wirksame Targetflächen wiederum im wesentli­ chen der zu beschichtenden Form des Substrats an­ gepaßt sind.

Zweckmäßigerweise sind die Zerstäubungskathoden auf einer Halteeinrichtung, die insbesondere als Halteplatte ausgebildet ist, lösbar montiert. Jede Zerstäubungskathode kann an dem dem Target ent­ fernten Ende rohrförmig ausgebildet und in einer Öffnung in der Halteeinrichtung eingesetzt sein. Der Abstand zwischen der Halteeinrichtung und dem Target der Zerstäubungskathode ist dadurch verän­ derbar.

Ist die Halteeinrichtung Teil einer Wand der Vaku­ umkammer, werden die Zerstäubungskathoden vakuum­ dicht in den Öffnungen der Halteeinrichtung gehal­ ten und aus der Vakuumkammer herausgeführt.

Um eine gleichmäßigere Beschichtung der Substrat­ fläche zu erreichen, ist die Zerstäubungskathode und der Substratkörper relativ zueinander beweg­ bar. Da die Zerstäubungskathoden vakuumdicht aus der Vakuumkammer herausgeführt sind, ist es vor­ teilhaft, den Substratkörper beispielsweise auf einen bewegbaren Haltetisch anzubringen.

Da die effektive Targetfläche der Zerstäubungska­ thode der zu beschichtenden Substratfläche ange­ paßt ist, kann auch der Energieverbrauch der Be­ schichtungsanlage verringert werden. Sind mehrere einzelne Zerstäubungskathoden zur Beschichtung ei­ ner strukturierten Substratfläche vorgesehen, kann der Energieverbrauch weiter dadurch verringert werden, daß eine einzige Stromversorgungseinrich­ tung vorgesehen ist, die über einstellbare Lei­ stungsteiler die angeschalteten Zerstäubungskatho­ den unabhängig voneinander ansteuern kann.

Gemäß einer Ausführungsform bildet die zu be­ schichtende Fläche des Substratkörpers wenigstens einen zylindrischen, jeweils von einer Seite her zugänglichen Hohlraum. Die daran angepaßte Target­ fläche ist daher ebenfalls im wesentlichen zylin­ drisch ausgebildet, und zwar mit einer zu zerstäu­ benden Mantelfläche und einer zu zerstäubenden Stirnfläche, wobei der Außenumfang des Targets kleiner ist als der Innenumfang des jeweiligen zu beschichtenden Hohlraums. Der Durchmesser eines solchen Targets liegt etwa zwischen 70 mm und 100 mm und ist somit im Verhältnis zu den bekannten ebenen, großflächigen Targets (mit einer Länge von etwa 800 mm und einer Breite von 400 mm) relativ klein.

Nach einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung kann die Zerstäubungskathode als Magnetron- Zerstäubungskathode ausgebildet sein. Sie ist durch ein im wesentlichen zylinderförmiges Target mit einer zu zerstäubenden Mantelfläche und einer zu zerstäubenden Stirnfläche gekennzeichnet ist, wobei in dem Target ein Hohlraum zur Aufnahme ei­ ner Magneteinrichtung ausgenommen ist.

Um bei einer zylindrischen, im wesentlichen be­ cherförmigen Targetfläche eine höhere Targetaus­ nutzung in der Nähe der Stirnfläche zu erreichen, verjüngt sich der Hohlraum von dem, der Stirnflä­ che gegenüberliegenden offenen Targetende zur Stirnfläche hin, wobei die in dem Hohlraum ange­ ordnete Magneteinrichtung im wesentlichen T-förmig ausgebildet ist. Das kürzere Querteil der Ma­ gneteinrichtung befindet sich in der Nähe des der Stirnfläche abgewandten Targetendes.

Gemäß einem weiteren Gesichtspunkt der Erfindung ist eine Anordnung aus mehreren, individuell an­ steuerbaren Zerstäubungskathoden vorgesehen, deren zu zerstäubende Targetflächen im wesentlichen der Form eines zu beschichtenden Substratkörpers ange­ paßt sind. Auf diese Weise ist es möglich, belie­ big strukturierte Substratflächen gleichmäßig zu beschichten. Die Flexibilität der Anordnung wird dadurch verbessert, daß die individuellen Zerstäu­ bungskathoden lösbar auf einer Halteplatte mon­ tiert sind.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Ausfüh­ rungsbeispiele in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine stark vereinfachte Darstellung einer Beschichtungsanlage mit einem drei Hohl­ räume aufweisenden, zu beschichtenden Sub­ stratkörper und einer in einem Abstand da­ zu gehaltenen Anordnung aus drei Zerstäu­ bungskathoden, deren Targetflächen jeweils der Form eines zugeordneten Hohlraums an­ gepaßt sind;

Fig. 2 die in Fig. 1 gezeigte Beschichtungsanla­ ge, wobei die Anordnung aus Zerstäubungs­ kathoden in die Hohlräume des zu beschich­ tenden Substratkörpers eingebracht ist;

Fig. 3 eine Halteplatte mit vier montierten Zer­ stäubungskathoden zur Beschichtung eines entsprechend geformten Substratkörpers;

Fig. 4 eine erfindungsgemäße becherförmige Magne­ tron-Zerstäubungskathode im Maßstab 1 : 1, die in Fig. 1 und 2 dargestellt ist;

Fig. 5 eine Stromversorgungseinrichtung zur unab­ hängigen Ansteuerung der in Fig. 1-4 dar­ gestellten Zerstäubungskathoden.

In Fig. 1 ist teilweise eine Wand 10, 15 einer Va­ kuumkammer 20 einer auf der Kathodenzerstäubung beruhenden Beschichtungsanlage im Schnitt darge­ stellt. Der dargestellte Wandbereich 15 dient gleichzeitig als Halteplatte für drei erfindungs­ gemäße Zerstäubungskathoden 30, 40 und 50, die in­ nerhalb der Vakuumkammer 20 positioniert sind. Je­ de der gezeigten Zerstäubungskathoden weist einen Positionier- und Haltestab 37, 47 und 57 auf, der jeweils durch eine entsprechende Öffnung oder Boh­ rung in der Wand 15 hindurchgesteckt ist. Die Va­ kuumkammer 20 muß an den Öffnungen vakuumdicht ab­ gedichtet sein. Die besondere Ausgestaltung der Zerstäubungskathoden wird weiter unten noch aus­ führlich beschrieben. Ein mit 60 bezeichneter Substratkörper ist im Abstand gegenüber den Zer­ stäubungskathoden 30, 40 und 50 angeordnet. Bei dem Substratkörper 60 handelt es sich beispiels­ weise um einen Lampenrohling, der drei Hohlräume 70, 80 und 90 aufweist, die jeweils einer Zerstäu­ bungskathode 30, 40 bzw. 50 unmittelbar gegenüber angeordnet sind. Jeder Hohlraum 70, 80, 90 ist durch eine zu beschichtende Mantelfläche 72, 82 bzw. 92 und eine zu beschichtende Stirnfläche 74, 84 bzw. 94 begrenzt. Es sei darauf hingewiesen, daß in Abhängigkeit von der strukturierten Fläche des Substratkörpers 60 auch mehrere Zerstäubungs­ kathoden einem Hohlraum zugeordnet sein können. In unserem Beispiel ist der Substratkörper 60 auf ei­ nem nicht dargestellten Haltetisch angeordnet, der dreidimensional bewegbar ist. Der Antriebsmecha­ nismus des Haltetisches ermöglicht eine langsame und kontinuierliche Bewegung des Substratkörpers 60, so daß eine gleichmäßige Beschichtung jedes Hohlraums 70, 80 und 90 gewährleistet ist. Anstatt den Substratkörper 60 zu bewegen, ist es möglich, die einzelnen Zerstäubungskathoden 30, 40 und 50 in Richtung des Substratkörpers 60 zu verschieben. Wie in Fig. 1 dargestellt ist, ist jedem Hohlraum 70, 80 und 90 eine Zerstäubungskathode 30, 40 bzw. 50 zugeordnet. Um die zu beschichtende Mantel- und Stirnfläche jedes Hohlraums gleichmäßig beschich­ tet zu können, weist jede der Zerstäubungskathoden 30, 40 und 50 an einem Ende ihres Positionier- und Haltestabes 37, 47 bzw. 57 ein im wesentlichen be­ cherförmiges Target 32, 42, 52 auf. Jedes Target 32, 42 und 52 ist von einer zu zerstäubenden Man­ telfläche 33, 43 bzw. 53 und einer zu zerstäuben­ den Stirnfläche 34, 44 bzw. 54 begrenzt. Auf diese Weise ist die zu zerstäubende Fläche jedes Targets im wesentlichen der zu beschichtenden Fläche des ihm zugeordneten Hohlraums 70, 80 bzw. 90 ange­ paßt. Die Außenabmessung jedes Targets 32, 42 bzw. 52 ist kleiner bemessen als der jeweilige Hohl­ raum, so daß das Target jeder Zerstäubungskathode 30, 40 und 50 vollständig in den ihr zugeordneten Hohlraum 70, 80 bzw. 90 einführbar ist. Dieser Zu­ stand ist in Fig. 2 dargestellt. Fig. 2 zeigt au­ ßerdem, daß die Hohlräume 70, 80 und 90 verschie­ dene Abmessungen und auch hinsichtlich ihrer rela­ tiven Lage zueinander verschieden sein können. Dementsprechend können die einzelnen Zerstäubungs­ kathoden unterschiedlich geformt sowie einen un­ terschiedlichen Abstand zur Wand 15 aufweisen. Ob­ wohl in Fig. 1 und 2 nur Zerstäubungskathoden mit jeweils einem etwa becherförmigen Target darge­ stellt sind, ist es leicht einzusehen, daß belie­ big andere Targetformen, beispielsweise trapezför­ mige oder pyramidenförmige Rotationskörper verwen­ det werden können.

Dank der an die zu beschichtenden Flächen des Substratkörpers 60 angepaßten zu zerstäubenden Targetflächen kann nicht nur eine wesentlich homo­ genere Schichtdicke erreicht, sondern auch der Energieverbrauch der Beschichtungsanlage deutlich verringert werden. Der Energieverbrauch kann wei­ ter dadurch verringert werden, daß eine an sich bekannte zentrale Stromversorgungseinrichtung 100 bereitgestellt wird, an die über einen einstellba­ ren Leistungsverteiler 110 die in den Fig. 1 und 2 gezeigten Zerstäubungskathoden 30, 40 und 50 über Steuerleitungen 111, 112 und 113 angeschaltet sind. Diese Stromversorgungseinrichtung ist in

Fig. 5 dargestellt. Mit Hilfe eines an die Strom­ versorgungseinrichtung 100 anschaltbaren Perso­ nalcomputers oder Anlagenrechners 120 kann für je­ de Zerstäubungskathode die optimale Leistung be­ rechnet werden. Jede angeschaltete Zerstäubungska­ thode 30, 40 und 50 ist damit individuell ansteu­ erbar.

Die erfindungsgemäßen Zerstäubungskathoden können, wie in Fig. 3 dargestellt ist, auch in einer vor­ bestimmten Matrix auf einer Halteplatte 215, die Teil einer Wand der Vakuumkammer 20 sein kann, montiert sein. Vorzugsweise ist die Halteplatte 215 eine Lochplatte, in die die Zerstäubungskatho­ den 230, 240, 250 und 260 mittels eines Positio­ nier- und Haltestiftes lösbar eingesteckt sind. Die Targetflächen der Zerstäubungskathoden 230, 240 und 250 bilden beispielsweise ein gleich­ schenkliges Dreieck, mit dem ein Hohlraum mit ei­ nem dreieckigen Querschnitt beschichtet werden kann. Die auf der Halteplatte 215 links unten mon­ tierte Zerstäubungskathode 260 dient beispielswei­ se zur Beschichtung eines kreiszylinderförmigen Hohlraums, wie er in Fig. 1 und 2 gezeigt ist. Die in Fig. 3 dargestellte Anordnung kann daher dazu verwendet werden, einen Substratkörper homogen zu beschichten, der zwei verschieden geformte Hohl­ räume aufweist. Werden mehrere einzelne, in ihrer Abmessung relativ kleine Zerstäubungskathoden flä­ chig angeordnet, können auch flache Substratflä­ chen beschichtet werden. Der flexible Einsatz der erfindungsgemäßen Zerstäubungskathoden wird bei­ spielsweise dadurch erreicht, daß die Zerstäu­ bungskathoden jeweils ein Target mit einer zu zer­ stäubenden Mantelfläche und mit einer zu zerstäu­ benden Stirnfläche aufweisen.

In Fig. 4 ist als Beispiel für die in Fig. 1 bis 3 dargestellten Zerstäubungskathoden eine Zerstäu­ bungskathode 140 dargestellt, die nach dem Magne­ tron-Prinzip arbeitet. Die Magnetron-Zerstäubungs­ kathode 140 weist ein Target 160 auf, das aus ei­ nem etwa becherförmigen Drehkörper als Beschich­ tungsmaterial besteht. Das becherförmige Target 160 enthält demzufolge eine zu zerstäubende Man­ telfläche 162 und zu zerstäubende Stirnfläche 164, die einen ebenen Mittelbereich und zwei schräg da­ zu abfallende Seitenbereiche umfaßt, die in die Mantelfläche 162 übergehen. Das Target 160 ist auf der der Stirnfläche 164 gegenüberliegenden Seite geöffnet. Die Öffnung erstreckt sich mit einem konstantem Durchmesser über eine vorbestimmte Län­ ge in Richtung zur Stirnfläche 164 und bildet ei­ nen ersten Hohlraumbereich 166, der mit einem In­ nengewinde zum Aufschrauben auf eine Halterung 150 versehen ist. Die Halterung 150 weist dazu einen scheibenförmigen Abschnitt 152 auf, der vollstän­ dig in den Hohlraumbereich 166 eingeschraubt ist. Danach verkleinert sich der Durchmesser der Öff­ nung sprungartig, wodurch in dem Target 160 eine Schulter ausgebildet wird. Ein zweiter Hohlraumbe­ reich 167 erstreckt sich mit dem verringerten Durchmesser über eine vorbestimmte Länge in Rich­ tung zur Stirnfläche 164. An den zweiten Hohlraum­ bereich 167 schließt sich ein dritter Hohlraumbe­ reich 168 mit einer sich stetig zur Stirnfläche 164 hin verjüngenden Querschnittsfläche an.

Zwischen der Halterung 150 und dem Target 160 ist ein Dichtungsring 180 eingelegt, der die Hohlraum­ bereiche 167 und 168 gegen die Vakuumkammer 20 ab­ dichtet.

In dem aus den Abschnitten 168 und 167 bestehenden Hohlraum ist ein etwa T-förmiger Magnet 170 ange­ ordnet. Das Fußende des T-förmigen Magneten 170 befindet sich an der Stirnfläche 164, wohingegen das kürzere Querstück 174 des Magneten 170 in dem zweiten Abschnitt 167 des Hohlraums angeordnet ist und von der Halterung 150 abgestützt wird. Der Ma­ gnet 170 ist derart ausgebildet, daß in der Nähe der Stirnfläche 164 der Nordpol und im Querstück 174 der Südpol liegt. Auf diese Weise wird er­ reicht, daß das Targetmaterial vornehmlich in dem abgeschrägten Bereich der Stirnfläche 164 abgetra­ gen wird, in dem aufgrund des sich zur Stirnfläche 164 hin verjüngenden Hohlraumbereichs 168 eine Ma­ terialanhäufung gebildet hat. Beliebige, dem Fach­ mann bekannte Magneteinrichtungen können zum Ein­ satz kommen. Ein ringförmiger Isolator 190 iso­ liert das Target 160 und die Halterung 150 gegen eine rohrförmige Anode 130, an der ein positives elektrisches Potential einer Stromversorgungsein­ richtung angelegt ist. Die Anode 130 ist an ihrem einen Ende als Flansch 135 ausgebildet, auf dem der ringförmige Isolator 190 aufliegt. Der Außen­ durchmesser des Targets 160, des Isolators 190 und des Flansches 135 ist gleich groß. In den ringför­ migen Isolator 190 sind an gegenüberliegenden Sei­ ten jeweils eine Ringnut 192 und 194 ausgenommen, in die jeweils ein O-Ring eingelegt ist.

Die rohrförmige Anode 130 dient einmal als Posi­ tionier- und Haltestab für die Zerstäubungskathode 160, der beispielsweise in eine entsprechende Öff­ nung in der Wand 15 der Vakuumkammer einführbar ist.

Die Halterung 150 weist einen rohrförmigen Ab­ schnitt 155 auf, der koaxial innerhalb der Anode 130 verläuft und durch die Öffnung in der Wand 15 hindurchgeführt ist. An dem rohrförmigen Abschnitt 155 ist ein elektrisch negatives Potential ange­ legt, so daß die Halterung 150 als Kathode wirkt. Der rohrförmige Abschnitt 155 der Halterung 150 bildet einen ersten Abschnitt eines Kühlmittelka­ nals 200, der durch den scheibenförmigen Abschnitt 152 der Halterung 150 in den Hohlraum mündet. Die rohrförmige Anode 130 und der rohrförmige Ab­ schnitt 155 der Halterung 150 bilden zusammen den zweiten Teil des Kühlmittelkanals 210, wobei das dem Flansch 135 abgewandte Ende der rohrförmigen Anode 130 als Wasserauslaß dient. Das Target 160 ist beispielsweise über die Targethalterung 150 und über den ringförmigen Isolator 190 mit dem Flansch 135 verschraubt, indem eine geeignete Mut­ ter an dem rohrförmigen Abschnitt 155 der Halte­ rung 150 angreift und die Halterung 150 in Rich­ tung zum Flansch 135 zieht.

Um einen elektrischen Kontakt zwischen der auf ne­ gativem Potential liegenden Halterung 150 und der auf positivem Potential liegenden Anode 130 zu vermeiden, ist beispielsweise das Anodenrohr 130 innen mit einer Isolierschicht überzogen. Aller­ dings sind andere Konstruktionen zur elektrischen Isolation dem Fachmann bekannt.

Bezugszeichenliste

10

Vakuumkammerwand

15

Vakuumkammerwand

20

Vakuumkammer

30

Zerstäubungskathode

32

Target

33

Targetmantelfläche

34

Targetstirnfläche

37

Positionier- und Haltestab

40

Zerstäubungskathode

42

Target

43

Targetmantelfläche

44

Targetstirnfläche

47

Positionier- und Haltestab

50

Zerstäubungskathode

52

Target

53

Targetmantelfläche

54

Targetstirnfläche

57

Positionier- und Haltestab

60

Substratkörper

70

Hohlraum

72

Hohlraummantelfläche

74

Hohlraumstirnfläche

80

Hohlraum

82

Hohlraummantelfläche

84

Hohlraumstirnfläche

90

Hohlraum

92

Hohlraummantelfläche

94

Hohlraumstirnfläche

100

Stromversorgungseinrichtung

110

Leistungsverteiler

111

Steuerleitung

112

Steuerleitung

113

Steuerleitung

120

PC oder Anlagenrechner

130

Anode

135

Anodenflansch

140

Zerstäubungskathode

150

Halterung

152

scheibenförmiger Abschnitt

155

Malterungsabschnitt

160

Target

162

Targetmantelfläche

164

Targetstirnfläche

166

Hohlraumbereich

167

Hohlraumbereich

168

Hohlraumbereich

170

Magnet

174

Querstück des Magneten

180

Dichtungsring

190

Isolator

192

Ringnut

194

Ringnut

200

Kühlmittelkanal

210

Kühlmittelkanal

215

Halteplatte

230

Zerstäubungskathode

240

Zerstäubungskathode

250

Zerstäubungskathode

260

Zerstäubungskathode

Claims (13)

1. Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkör­ pers mittels Kathodenzerstäubung, umfassend eine Vakuumkammer (20), wenigstens einen in der Vakuumkammer (20) gehaltenen Substratkör­ per (60), wenigstens eine im Abstand zum Substratkörper (60) angeordnete Zerstäubungs­ kathode (30, 40, 50; 230, 240, 250, 260) mit einem zu zerstäubenden Target (32, 42, 52), dadurch gekennzeichnet, daß der Substratkörper (60) wenigstens eine zu beschichtende Fläche (72, 74; 82, 84; 92, 94) aufweist, die wenig­ stens einen Hohlraum (70, 80, 90) festlegt, daß das zu zerstäubende Target (32, 42, 52) im wesentlichen der zu beschichtenden Substrat­ fläche (72, 74; 82, 84; 92, 94) angepaßt und in den Hohlraum (70, 80, 90) einbringbar ist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Halteeinrichtung (15), insbesondere eine Halteplatte, an der die oder jede Zer­ stäubungskathode (30, 40, 50; 230, 240, 250, 260) lösbar montiert ist, wobei der Abstand zwischen der Zerstäubungskathode (30, 40, 50; 230, 240, 250, 260) und der Halteeinrichtung (15) veränderbar ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Zerstäubungskathode (30, 40, 50) eine rohrförmige Anode (37, 47, 57) auf­ weist, an deren einem Ende elektrisch isoliert das Target (32, 42, 52) angeordnet ist, wobei die Anode (37, 47, 57) in einer entsprechenden Öffnung in der Halteeinrichtung (15) ver­ schiebbar montiert ist.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2 und/oder 3, da­ durch gekennzeichnet, daß die Halteeinrichtung (15) Teil einer Wand der Vakuumkammer (20) ist und die Zerstäubungskathode (30, 40, 50) vaku­ umdicht aus der Vakuumkammer (20) herausge­ führt ist.

5. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü­ che 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die oder jede Zerstäubungskathode (30, 40, 50) und der Substratkörper (60) relativ zueinander be­ wegbar sind.

6. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü­ che 1 bis 5, gekennzeichnet durch eine Strom­ versorgungseinrichtung (100) mit einem ein­ stellbaren Leistungsteiler (110) zur unabhän­ gigen Speisung der Zerstäubungskathoden (30, 40, 50).

7. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü­ che 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die zu beschichtenden Flächen (72, 74; 82, 84, 92, 94) des Substratkörpers (60) wenigstens einen zylindrischen, jeweils von einer Seite her zu­ gänglichen Hohlraum (70, 80, 90) bilden, und daß jedem Hohlraum (70, 80, 90) wenigstens ei­ ne Zerstäubungskathode (30, 40, 50) mit einem an die Form des Hohlraums angepaßten Target (32, 42, 52) zugeordnet ist, dessen Außenum­ fang kleiner ist als der Innenumfang des je­ weiligen Hohlraums (70, 80, 90).

8. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü­ che 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser des Targets etwa zwischen 70 mm und 100 mm liegt.

9. Magnetron-Zerstäubungskathode zum Einsatz in einer Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch ein im wesentli­ chen zylinderförmiges Target (160) mit einer zu zerstäubenden Mantelfläche (162) und einer zu zerstäubenden Stirnfläche (164), wobei in dem Target (160) ein Hohlraum (166, 167, 168) ausgebildet ist, in dem eine Magneteinrichtung (170) angeordnet ist.

10. Magnetron-Zerstäubungskathode nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Hohlraum (168) sich von dem, der Stirnfläche (164) gegenüber­ liegenden offenen Targetende zur Stirnfläche (164) hin verjüngt, und daß die Magneteinrich­ tung (170, 174)) im wesentlichen T-förmig aus­ gebildet ist.

11. Magnetron-Zerstäubungskathode nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch eine rohrförmige An­ odeneinrichtung (130), eine Einrichtung (152) zum Halten des Targets (160), die als rohrför­ mige Verlängerung (155) koaxial in der Anoden­ einrichtung (130) verläuft und mit dieser ei­ nen ersten Teil eines Kühlmittelkanals (210) bildet, der in den Hohlraum (168) mündet.

12. Magnetron-Zerstäubungskathode nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Halteein­ richtung (150, 152, 155) mit dem elektrisch negativen Anschluß einer Spannungsversorgungs­ einrichtung verbunden ist, wobei die rohrför­ mige Verlängerung (155) der Halteeinrichtung den zweiten Teil des Kühlmittelkanals (200) bildet und daß die Halteeinrichtung (150) und die Anodeneinrichtung (130) voneinander elek­ trisch isoliert sind.

13. Anordnung zum Einsatz in einer Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, umfassend mehrere, individuell ansteuerbare Zerstäubungskathoden (230, 240, 250, 260), de­ ren Targetflächen im wesentlichen der Form ei­ nes zu beschichtenden Substratkörpers angepaßt sind.