DE19541236A1 - Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten - Google Patents

Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten

Info

Publication number
DE19541236A1
DE19541236A1 DE1995141236 DE19541236A DE19541236A1 DE 19541236 A1 DE19541236 A1 DE 19541236A1 DE 1995141236 DE1995141236 DE 1995141236 DE 19541236 A DE19541236 A DE 19541236A DE 19541236 A1 DE19541236 A1 DE 19541236A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
disc
hollow
lifting arms
motor
lifting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE1995141236
Other languages
English (en)
Inventor
Guenter Dr Braeuer
Reiner Kukla
Ralf Faber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Original Assignee
Leybold AG
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG, Balzers und Leybold Deutschland Holding AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE1995141236 priority Critical patent/DE19541236A1/de
Publication of DE19541236A1 publication Critical patent/DE19541236A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405Magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/342Hollow targets

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Be­ schichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten durch Kathodenzerstäubung mit Hohlkathoden nach dem Magnetron-Prinzip, mit jeweils einem hohlzylindrischen Kathodengrundkör­ per, in dem ein hohles Target mit einer zylindri­ schen Zerstäubungskathode und einer zylindrischen Außenfläche angeordnet ist.
Bekannt ist eine Einrichtung zur Durchführung va­ kuumtechnischer Prozesse in magnetfeldverstärkten elektrischen Entladungen (DD 1 23 952), bestehend aus einer magnetfelderzeugenden Einrichtung und einem Target mit negativem Potential und einer An­ ode, zwischen denen die elektrische Entladung brennt, wobei die magnetfelderzeugende Einrichtung mit ihren Polschuhen ringförmig und konzentrisch zur Kathode ausgebildet ist und entsprechend dem durchzuführenden vakkumtechnologischen Prozeß im Inneren des rohrförmigen Targets oder außen herum angeordnet ist und in Achsenrichtung begrenzte, imhomogene, torusförmige Magnetfelder erzeugt, de­ ren Hauptfeldrichtung im Bereich des Targets par­ allel zu dessen Achsenrichtung gerichtet ist, wo­ bei die Anode bei Anordnung der magnetfelderzeu­ genden Einrichtung im Target dieses rohrförmig um­ gibt und bei Anordnung um das Target in diesem als Rohr oder Vollmaterial angeordnet ist, wobei die magnetfelderzeugende Einrichtung, das rohrförmige Target und die Anode relativ zueinander bewegbar sind.
Bekannt ist weiterhin (DE 38 44 064) eine Kathoden­ zerstäubungsvorrichtung mit einer Hohlkathode nach dem Magnetron-Prinzip mit einem mindestens einen Kühlkanal aufweisenden Kathodengrundkörper mit ei­ ner inneren zylindrischen Aufnahmefläche für ein hohles Target mit einer inneren, gleichfalls im wesentlichen zylindrischen Zerstäubungsfläche und einer zylindrischen Außenfläche, mit einem den Ka­ thodengrundkörper außen umgebenden Magnetsystem mit Magnetpolen für die Erzeugung eines rotations­ symmetrischen, auf dem Umfang und über der Zer­ stäubungsfläche geschlossenen Tunnels aus magneti­ schen Feldlinien mit mindestens einer zur Zerstäu­ bungsfläche im wesentlichen koaxialen und außer­ halb des von der Zerstäubungsfläche umschlossenen Raumes liegenden Anode und mit einem koaxial durch das Target und mindestens eine Anode hindurchge­ führten Transportweg für ein zu beschichtendes Substrat, wobei der Kühlkanal in Richtung auf das Target durch eine zum Kathodengrundkörper gehören­ de Wand mit zylindrischer Innenfläche dicht abge­ schlossen ist, das rohrförmige Target mit derart engem Spiel axial in die zylindrische Innenfläche der Wand eingeschoben ist, daß das Target späte­ stens bei Erreichen seiner Betriebstemperatur im Wärmeschluß an der Wand anliegt, das Magnetsystem aus einem rotationssymmetrischen, zum Target kon­ zentrischen, mit radial einwärts gerichteten Per­ manentmagneten besetzten Magnetjoch besteht und ringförmig geschlossene Polflächen entgegengesetz­ ter Polarität (N, S) aufweist, von denen die einen Polflächen (N) in Achsrichtung diesseits und die anderen Polflächen (S) in Achsrichtung jenseits der Stirnflächen des Targets und in radialer Rich­ tung auf einem Radius liegen, der gleich oder grö­ ßer ist als der Radius der Zerstäubungsfläche und wobei das Magnetsystem durch Isolierabstände auf einem gegenüber dem Target und dem Kathodengrund­ körper einerseits und dem Anodenpotential anderer­ seits frei einstellbaren ("floatenden") Potential haltbar ist.
Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu schaffen, die geeig­ net ist, Substrate, die als Rotationskörper ausge­ bildet sind, beispielsweise Glaskolben, mit einer Vielzahl von Schichten zu versehen, wobei das Schichtpaket aus Wechselschichten gebildet sein soll.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung gelöst mit mindestens zwei Hubarmen, deren Längsachsen sich parallel der Rotationsach­ sen der Hohltargets erstrecken und deren den Hohl­ targets zugewandte Enden jeweils Greifer zum Hal­ ten der Substrate aufweisen, wobei die Hubarme mit ihren den Greifern abgewandten Enden an einer ra­ dial äußeren Partie einer rotierbar gelagerten und motorisch bewegbaren Scheibe oder eines mehrarmig bewegbaren Balkens angelenkt sind, wobei die mit der Scheibe oder dem Balken drehfest verbundene, sich parallel zu den Rotationsachsen erstreckende Scheiben- oder Balkenachse motorisch angetrieben ist und die Hubarme gegenüber der Rotatinsachse der Scheibe oder des Balkens lotrecht motorisch verstellbar sind.
Weitere Einzelheiten und Merkmale sind in den Schutzansprüchen näher beschrieben und gekenn­ zeichnet.
Die Neuerung läßt die verschiedensten Ausführungs­ möglichkeiten zu; eine davon ist in der anhängen­ den Zeichnung rein schematisch näher dargestellt, die eine Vorrichtung zum Beschichten von Glaskol­ ben in perspektivischer Ansicht zeigt.
Die Vorrichtung weist einen zweiarmigen Balken 12 auf, der über einen Kurbelarm 24 am Deckel der Va­ kuumkammer (nicht dargestellt) in Pfeilrichtung G bzw. H schwenkbar gelagert ist. Der Balken 12 ist dazu drehfest mit der Welle 13 eines Motors 18 verbunden, der seinerseits über den Flansch 21 mit dem Kurbelarm 24 verschraubt ist. Der Balken 12 weist an seinen beiden freien Enden rechteckige Öffnungen 25, 26 auf, die durch die als Zahnstangen ausgebildeten Hubarme 8, 9 hindurchgeführt sind, wobei die Hubarme 8, 9 mit Ritzeln 16, 17 im Ein­ griff stehen, die auf den Motorwellen der Hubmoto­ re 14, 15 fest angeordnet sind. Die Hubarme 14, 15 sind an ihren unteren Enden mit Greifern 10, 11 verbunden, die mit Hilfe der Elektromagnete 19, 20 betätigbar sind. Oberhalb der Elektromagnete 19, 20 befindet sich jeweils ein Drehgelenk 22, 23, in dem jeweils ein Antriebsmotor integriert ist, so daß die Greifer 10, 11 mit ihren Betätigungsmagneten 19, 20 jeweils um die Längsachse des Hubarms 8, 9 in Pfeilrichtung E bzw. F drehbar sind. Die Greifer 10, 11 halten im dargestellten Fall Substrate 2, 3 in Gestalt von Glaskolben, und zwar jeweils in ei­ ner Position oberhalb einer Hohlkathode 4 bzw. 5. Für den Beschichtungsvorgang werden die Motore 14, 15 angesteuert, die dann die Zahnstangen bzw. Hubarme 8, 9 in Pfeilrichtung nach unten bewegen, wobei die Substrate 2, 3 in den von den Targets 6 bzw. 7 umschlossenen Kathodenraum abgesenkt wer­ den. Während des anschließenden Beschichtungsver­ fahrens können die Substrate 2, 3 mit Hilfe der Ge­ lenk-Motoren 22, 23 um die Achsen r₁, r₂ gedreht wer­ den, so daß sich eine gleichmäßige Beschichtung auf den Außenflächen der Substrate 2, 3 einstellt. Es ist klar, daß die Targets 6 bzw. 7 aus unter­ schiedlichen Materialien bestehen können, so daß die Substrate 2, 3 durch Anheben in Pfeilrichtung A, anschließendes Verschwenken mit Hilfe des Mo­ tors 18 in Pfeilrichtung C oder D und anschließen­ des Absenken in Pfeilrichtung B nacheinander von unterschiedlichen Hohlkathoden 4, 4′, 5, 5′ beschich­ tet werden können.
Es ist ferner klar, daß an Stelle der in der Zeichnung dargestellten vier Hohlkathoden 4, 4′, 5, 5′ auch sechs oder mehr Hohlkathoden im Schwenkbereich des Balkens 12 mit Hubarmen 8, 9 vorgesehen sein können. Schließlich ist klar, daß auch eine zweite Gruppe von Kathoden neben der in der Zeichnung dargestellten Vier-Kathoden-Gruppe vorgesehen sein kann, wozu dann der Balken 12 mit Hilfe des Kurbelarms 24 in eine zweite oder dritte Position bringbar ist.
Bezugszeichenliste
2 Substrat
3 Substrat
4, 4′, . . . Hohlkathode
5, 5′, . . . Hohlkathode
6, 6′, . . . Hohltarget
7, 7′, . . . Hohltarget
8 Hubarm
9 Hubarm
10 Greifer
11 Greifer
12 Balken
13 Achse, Motorwelle
14 Motor
15 Motor
16 Ritzel
17 Ritzel
18 Schwenkmotor
19 Elektromagnet
20 Elektromagnet
21 Flansch
22 Drehgelenk
23 Drehgelenk
24 Kurbelarm

Claims (12)

1. Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substra­ ten (2, 3) durch Kathodenzerstäubung, mit Hohlkathoden (4, 5) nach dem Magnetron-Prinzip mit jeweils einem hohlzylindrischen Kathoden­ grundkörper, in dem ein hohles Target (6, 7) mit einer zylindrischen Zerstäubungskathode und einer zylindrischen Außenfläche angeord­ net ist, und mit mindestens zwei Hubarmen (8, 9), deren Längsachsen sich parallel der Rotationsachsen (r₁, r₂) der auf einem Kreisbo­ gen in einer Gruppe angeordneten Hohltargets (6, 7) erstrecken und deren den Hohltargets (6, 7) zugewandte Enden jeweils Greifer (10, 11) zum Halten der Substrate (2, 3) auf­ weisen, wobei die Hubarme (8, 9) mit ihren den Greifern (10, 11) abgewandten Enden an einer radial äußeren Partie einer rotierbar gela­ gerten und motorisch bewegbaren Scheibe oder eines mehrarmigen Balkens (12) angelenkt sind, wobei die mit der Scheibe oder dem Bal­ ken (12) drehfest verbundene, sich parallel zu den Rotationsachsen (r₁,r₂) erstreckende Scheiben- oder Balkenachse (13) motorisch an­ getrieben ist und die Hubarme (8, 9) gegenüber der Bewegungsebene der Scheibe oder des Bal­ kens (12) in vertikaler Richtung motorisch verstellbar sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die an der radial äußeren Par­ tie der Scheibe oder des Balkens (12) ange­ ordneten Hubarme (8, 9) als lotrecht zur Ebene der Scheibe oder des Balkens (8, 9) verschieb­ bare Teleskoparme oder als Gewindespindeln oder Zahnstangen ausgebildet sind, die mit an der Scheibe oder dem Balken (13) drehbar ge­ lagerten Gewindemuttern oder Ritzeln zusam­ menwirken und mit Motoren (14, 15) gekuppelt sind, die je nach Bewegungsrichtung (A bzw. B) der Hubarme (8, 9) die Gewindemuttern oder Ritzel (16, 17) im einen oder anderen Drehsin­ ne antreiben.
3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, da­ durch gekennzeichnet, daß die Scheibe oder der Balken (12) mit der Welle (13) eines ortsfest gehaltenen Motors (18) drehfest ver­ bunden ist, wobei das Gehäuse des Motors (18) an der Wand der Prozeßkammer abgestützt ist oder vice versa.
4. Vorrichtung nach den vorhergehenden Ansprü­ chen, dadurch gekennzeichnet, daß eine Viel­ zahl von zu einer Gruppe zusammengefaßten Hohlkathoden (4, 4′, . . .; 5, 5′, . . .) gleichmäßig auf einem Kreisbogen verteilt vorgesehen sind, wobei die einander jeweils gegenüber­ liegend angeordneten Hohlkathoden (4, 5 bzw. 4′, 5′) mit Targets (6, 7 bzw. 6′, 7′) aus un­ terschiedlichen Werkstoffen ausgestattet sind.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß jeder Hubarm (8, 9) an seinem der Hohlkathode (4, 5, . . . ) zugekehrten Ende gabel­ förmig ausgeformt ist, wobei jeder der ein­ zelnen Zinken oder Gabelarme mit einem eige­ nen Greifer (10, 11, . . . ) ausgestattet ist, wo­ bei jeder der Hubarme gleichzeitig mehrere Substrate (2, 3, . . . ) hält und führt.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Hubarm (8, 9) mit einem den Greifer (10, 11) betätigenden Motor, beispielsweise einem Elek­ tromagneten (19, 20) mit Kraftübertragungs­ glied, ausgestattet ist.
7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß die Drehbewegung (in Pfeilrichtung C oder D) der Scheibe oder des Balkens (12) in einzelnen, von Pausen unterbrochenen Bewe­ gungsschritten erfolgt, wobei jeder Bewe­ gungsschritt jedes von den Hubarmen (8, 9) ge­ haltene Substrat (2, 3) zur nächstfolgenden Hohlkathode (4, 5 bzw. 4′, 5′) fördert, wobei jedem Bewegungsschritt ein Absenken der Substrate (in Pfeilrichtung B) folgt und ein Anheben (in Pfeilrichtung A) vorausgeht.
8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß zwischen Motorwelle (13) und der Scheibe oder dem Balken (12) oder zwischen Motorgehäuse (18) und dem Befestigungsflansch (21) eine Hubeinrichtung angeordnet ist, die eine Verstellung der Scheibe oder des Balkens (12) in lotrechter Richtung (A oder B) ge­ stattet.
9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß die Greifer (10, 11) mit den Hubarmen (8, 9) über Lager oder Gelenke (22, 23) verbun­ den sind, die ein Drehen der Greifer (10,11) um die Längsachsen der Hubarme (in Pfeilrich­ tung E, F) gestatten.
10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß der Flansch (21) über einen Kurbel­ arm (24) am Deckel der Vakuumkammer gehalten ist, der ein Verschwenken der gesamten Vor­ richtung aus dem Bereich einer Gruppe von Hohlkathoden (4, 4′, . . .; 5, 5′, . . .) in den Be­ reich einer anderen Gruppe von Hohlkathoden ermöglicht.
11. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß die Kathoden einer Gruppe von auf einem Kreisbogen angeordneten Kathoden, die jeweils benachbart sind, mit Targets aus ver­ schiedenen Werkstoffen versehen sind.
12. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vor­ hergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß die die Hubarme (8, 9) bewegenden Mo­ tore (14, 15) zu unterschiedlichen Zeiten an­ gesteuert werden, so daß die Verweilzeiten der Substrate (2, 3) in den Kathoden (4, 5, . . . ) unterschiedlich bemessen sind.
DE1995141236 1995-11-06 1995-11-06 Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten Withdrawn DE19541236A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995141236 DE19541236A1 (de) 1995-11-06 1995-11-06 Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1995141236 DE19541236A1 (de) 1995-11-06 1995-11-06 Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19541236A1 true DE19541236A1 (de) 1997-05-07

Family

ID=7776692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1995141236 Withdrawn DE19541236A1 (de) 1995-11-06 1995-11-06 Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19541236A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19722624A1 (de) * 1997-05-30 1998-12-03 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets
DE19727647A1 (de) * 1997-06-12 1998-12-17 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkörpers mittels Kathodenzerstäubung
CN112481596A (zh) * 2020-11-27 2021-03-12 厦门大学 一种工件旋转装置和离子束物理气相沉积装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228901A2 (de) * 1985-12-24 1987-07-15 Vg Instruments Group Limited Wafer-Verschiebungsvorrichtung
EP0342279A1 (de) * 1987-03-30 1989-11-23 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Plasmagerät
US5178743A (en) * 1989-06-15 1993-01-12 Microelectronics And Computer Technology Corporation Cylindrical magnetron sputtering system
DE4235674A1 (de) * 1992-10-22 1994-04-28 Balzers Hochvakuum Kammer für den Transport von Werkstücken in Vakuumatmosphäre, Kammerkombination und Verfahren zum Transportieren eines Werkstückes

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228901A2 (de) * 1985-12-24 1987-07-15 Vg Instruments Group Limited Wafer-Verschiebungsvorrichtung
EP0342279A1 (de) * 1987-03-30 1989-11-23 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Plasmagerät
US5178743A (en) * 1989-06-15 1993-01-12 Microelectronics And Computer Technology Corporation Cylindrical magnetron sputtering system
DE4235674A1 (de) * 1992-10-22 1994-04-28 Balzers Hochvakuum Kammer für den Transport von Werkstücken in Vakuumatmosphäre, Kammerkombination und Verfahren zum Transportieren eines Werkstückes

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19722624A1 (de) * 1997-05-30 1998-12-03 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets
DE19722624C2 (de) * 1997-05-30 2001-08-09 Je Plasmaconsult Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Niedertemperatur-Plasmajets
DE19727647A1 (de) * 1997-06-12 1998-12-17 Leybold Ag Vorrichtung zum Beschichten eines Substratkörpers mittels Kathodenzerstäubung
CN112481596A (zh) * 2020-11-27 2021-03-12 厦门大学 一种工件旋转装置和离子束物理气相沉积装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0354294B1 (de) Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten
EP0300995B1 (de) Stabförmige Magnetron- bzw. Sputterkathodenanordnung, Sputterverfahren, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und rohrförmiges Target
EP1722005B1 (de) Verfahren zum Betreiben einer Sputterkathode mit einem Target
EP0525295B1 (de) Magnetron-Zerstäubungskathode für Vakuumbeschichtungsanlagen
DE4039101C2 (de) Ortsfeste Magnetron-Zerstäubungskathode für Vakuumbeschichtungsanlagen
EP1775353B1 (de) Beschichtungsanlage und Verfahren zum Betrieb einer Beschichtungsanlage
DE3331245A1 (de) Ebene magnetron-zerstaeubungsvorrichtung
DE19846781A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Präzisionsgußteilen durch Schleudergießen
DE4117969A1 (de) Vakuumbehandlungsanlage
EP1476891B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum beschichten eines substrates mit magnetischen oder magnetisierbaren werkstoffen
EP2015981B1 (de) Vorrichtung zum bearbeiten von bauteilen einer kraftfahrzeugkarosserie
DE19715245C2 (de) Vakuumbehandlungsvorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten
DE102006017455A1 (de) Rohrkathode
DE19541236A1 (de) Vorrichtung zum Beschichten der Oberflächen von als Rotationskörper ausgeformten Substraten
DE69838937T2 (de) Magnetronsputtervorrichtung in form eines bleches
WO1999033093A1 (de) Vakuumbehandlungsanlage
DE19705394A1 (de) Vorrichtung zum Halten eines flachen Substrats
DE19714655C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Konditionieren einer Vakuumschaltkammer
DE102010017895A1 (de) Vorrichtung zum Beschichten von Substraten nach dem EB/PVD-Verfahren
EP0953657A2 (de) Vakuumbeschichtungsanlage
CH686445A5 (de) Kammer und Kammerkombination fuer eine Vakuumanlage und Verfahren zum Durchreichen mindestens eines Werkstueckes.
EP2565292B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren
WO2006131128A1 (de) Sputter-magnetron
DE3231225C2 (de)
DE102020117347A1 (de) Magnetronanordnung

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH, 63450 HANAU, DE

8141 Disposal/no request for examination