CH618289A5

CH618289A5 - Cathode arrangement for an atomising device

Info

Publication number: CH618289A5
Application number: CH820677A
Authority: CH
Inventors: Jan Visser; Cornelis Willem Berghout
Original assignee: Philips Nv
Priority date: 1976-07-07
Filing date: 1977-07-04
Publication date: 1980-07-15
Also published as: NL7607473A; FR2358020A1; AT352493B; IT1076083B; ES460405A1; CA1081656A; ATA482777A; JPS6028689Y2; DE2729286C2; JPS5947654U; ZA773538B; DE2729286A1; BR7704375A; FR2358020B1; GB1587566A; SE7707729L; AU506847B2; JPS536282A; AU2668877A

Description

Die Erfindung betrifft eine Kathodenanordnung für eine Zerstäubungsvorrichtung, mit einer Kathode, die an ihrer Oberfläche das zu zerstäubende Material enthält, und mit einer Magnetvorrichtung zur Erzeugung eines oder mehrerer Magnetfelder, durch welche mindestens eine Elektronenfalle für die Oberfläche der Kathode bestimmt wird. The invention relates to a cathode arrangement for a sputtering device, with a cathode which contains the material to be sputtered on its surface, and with a magnetic device for generating one or more magnetic fields, by means of which at least one electron trap is determined for the surface of the cathode.

Eine Elektronenfalle wird durch sich von der Kathodenoberfläche her erstreckende magnetische Feldlinien gebildet, die über dieser Oberfläche einen Bogen beschreiben und wieder zu dieser Oberfläche zurückkehren. Diese Feldlinien bilden so einen magnetischen Spiegel für die von der Kathodenoberfläche herrührenden Elektronen. Auf diese Weise werden die Elektronen in der Nähe der Kathode festgehalten. An electron trap is formed by magnetic field lines extending from the cathode surface, which describe an arc over this surface and return to this surface. These field lines thus form a magnetic mirror for the electrons originating from the cathode surface. In this way, the electrons are held close to the cathode.

Eine derartige Anordnung ist aus der niederländischen Offenlegungsschrift 7 211911 bekannt. Sie wird zum Aufbringen dünner Filme auf ebene und gekrümmte Substrate, zum Aufbringen von Schichten für die Herstellung integrierter Schaltungen, von Schichten mit magnetischen Eigenschaften, von optischen Schichten, zum Aufbringen von Überzügen auf der Innenseite von Hohlräumen bei der Herstellung von Widerständen und bei allen Zerstäubungsvorgängen verwendet, bei denen eine niedrige Substrattemperatur verlangt wird. Such an arrangement is known from the Dutch patent application 7 211911. It is used for the application of thin films on flat and curved substrates, for the application of layers for the production of integrated circuits, of layers with magnetic properties, of optical layers, for the application of coatings on the inside of cavities in the production of resistors and in all sputtering processes used where a low substrate temperature is required.

Es ist aus der deutschen Offenlegungsschrift 2417 288 bekannt, dass mittels einer Magnetvorrichtung eine Elektronenfalle gebildet werden kann, die die von der Kathode herrührenden Elektronen solange festhält, bis sie ihre Energie in ionisierenden Zusammenstössen verbraucht haben, wodurch zusätzliches Plasma gebildet wird. Dies hat eine höhere Zerstäubungsgeschwindigkeit zur Folge. Es ist aber auch aus «Phy-sical Vapour Déposition», S. 114 und 115, Airco Inc., USA 1976 bekannt dass diese Zerstäubung sehr ungleichmässig stattfindet und eine rinnenförmige Aushöhlung der Kathode herbeiführt. Dies hat eine Anzahl von Nachteilen. Die Kathode muss schon nach Zerstäubung nur eines kleinen Teiles der Kathode ersetzt werden. Ausserdem übt die rinnenförmige Aushöhlung der Kathode einen ungünstigen Einfluss auf die Richtung, in der sich die Materialteilchen von der Kathode weg bewegen, und auf die Reproduzierbarkeit des Zerstäubungsvorgangs aus. It is known from German Offenlegungsschrift 2417 288 that a magnetic device can be used to form an electron trap which holds the electrons originating from the cathode until they have used up their energy in ionizing collisions, as a result of which additional plasma is formed. This results in a higher atomization speed. However, it is also known from "Physical Vapor Deposition", pp. 114 and 115, Airco Inc., USA in 1976 that this atomization takes place very unevenly and causes a channel-shaped hollow in the cathode. This has a number of disadvantages. Only a small part of the cathode has to be replaced after atomization. In addition, the channel-shaped cavity of the cathode has an unfavorable influence on the direction in which the material particles move away from the cathode and on the reproducibility of the atomization process.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Kathodenanordnung der eingangs genannten Art anzugeben, die diese Nachteile nicht aufweist und bei deren Verwendung in einer Zerstäubungsvorrichtung ein sehr gleichmässiger und wirksamer Verbrauch des Kathodenmaterials stattfinden kann. The invention has for its object to provide a cathode arrangement of the type mentioned, which does not have these disadvantages and when used in a sputtering device, a very uniform and effective consumption of the cathode material can take place.

Weiter hat die Erfindung die Aufgabe, eine solche Kathodenanordnung anzugeben, mit der auf einfache Weise verschiedene Materialarten zerstäubt werden können. The invention also has the task of specifying such a cathode arrangement, with which various types of material can be atomized in a simple manner.

Nach der Erfindung ist die Kathodenanordnung der eingangs genannten Art dadurch gekennzeichnet, dass die Elektronenfalle längs der Oberfläche der Kathode verschiebbar ist. Dadurch wird es möglich, periodisch oder kontinuierlich stets einen anderen Oberflächenteil der Kathode der Entladung auszusetzen, wodurch eine sehr gleichmässige Zerstäubung erzielbar ist. According to the invention, the cathode arrangement of the type mentioned at the outset is characterized in that the electron trap can be displaced along the surface of the cathode. This makes it possible to periodically or continuously always expose another part of the surface of the cathode to the discharge, whereby very uniform atomization can be achieved.

Die Kathode einer derartigen Anordnung kann eben ausgeführt sein, wobei die Magnetvorrichtung nahezu parallel zur Kathodenoberfläche und vorzugsweise in einer einzigen Richtung verschoben werden kann. Vorzugsweise ist die Kathode aber rohrförmig gestaltet, und es sind in oder um diese rohrförmige Kathode in axialer Richtung eine Anzahl in einiger Entfernung voneinander liegender Magnete, deren Nord- oder Südpole einander zugewandt sind und die die Magnetvorrichtung bilden, axial bewegbar angebracht Eine derartige rohrförmige Kathode kann einen quadratischen oder runden Querschnitt aufweisen oder eine andere beliebige Form haben, durch die die Richtung, in der sich die zerstäubten Teilchen bewegen, beeinflusst werden kann. Selbstverständlich ist es auch möglich, die rohrförmige Umhüllung in bezug auf die Magnetvorrichtung zu bewegen. The cathode of such an arrangement can be flat, the magnet device being displaceable almost parallel to the cathode surface and preferably in a single direction. Preferably, however, the cathode is tubular, and in or around this tubular cathode there are a number of magnets located at some distance from one another in the axial direction, the north or south poles of which face one another and which form the magnet device, and can be moved axially. Such a tubular cathode can have a square or round cross-section or any other shape that can influence the direction in which the atomized particles move. Of course, it is also possible to move the tubular casing with respect to the magnetic device.

Dadurch, dass die Kathode an der Oberfläche aus einer Anzahl verschiedener zu zerstäubender Materialien hergestellt wird, kann durch die Verschiebung der Elektronenfalle bzw. -fallen auf einfache Weise jede gewünschte Zusammensetzung von Materialien erhalten werden. Because the surface of the cathode is made from a number of different materials to be atomized, any desired composition of materials can be obtained in a simple manner by shifting the electron trap or traps.

Die Kathodenanordnung ist für Hochfrequenz- und Gleichstromanwendungen geeignet. Eine Kathodenanordnung mit einer Kathode aus Titan kann auch in Titansublimationspumpen verwendet werden. The cathode arrangement is suitable for high frequency and direct current applications. A cathode assembly with a titanium cathode can also be used in titanium sublimation pumps.

Eine Zerstäubungsvorrichtung, bei der in einer rohrförmi-gen Kathode in axialer Richtung eine Anzahl in einiger Entfernung voneinander liegender Magnete, deren Nord- oder Südpole einander zugewandt sind und die die Magnetvorrichtung bilden, axial bewegbar angebracht sind, ist besonders gut zum Aufbringen eines sehr gleichmässigen Überzugs in einem Hohlraum, z. B. eines Metallspiegels in einer Lampe oder Röhre, geeignet A sputtering device, in which in a tubular cathode in the axial direction a number of magnets located some distance apart, the north or south poles of which face one another and which form the magnet device, are attached so as to be axially movable, is particularly good for applying a very uniform one Coating in a cavity, e.g. B. a metal mirror in a lamp or tube, suitable

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend an Hand der Zeichnung näher erläutert Es zeigen: Exemplary embodiments of the invention are explained in more detail below with reference to the drawing.

Fig. 1 schematisch eine Kathodenanordnung mit einer ebenen Kathode und mit einer verschiebbaren Elektronenfalle, Fig. 2 und 3 im Schnitt Teile rohrförmiger Kathoden mit mehreren bewegbaren Elektronenfallen, 1 schematically shows a cathode arrangement with a flat cathode and with a displaceable electron trap, FIGS. 2 and 3 in section parts of tubular cathodes with several movable electron traps,

Fig. 4 einen Längsschnitt durch eine rohrförmige Kathode, Fig. 5 und 6 Schnitte in Querrichtüng durch zwei Ausführungsformen solcher Kathoden, 4 shows a longitudinal section through a tubular cathode, FIGS. 5 and 6 cross sections through two embodiments of such cathodes,

Fig. 7 schematisch eine Zerstäubungsvorrichtung mit einer Kathodenanordnung nach der Erfindung, und Fig. 7 shows schematically a sputtering device with a cathode arrangement according to the invention, and

Fig. 8 noch einen Schnitt durch eine Zerstäubungsvorrich-tung mit einer eine rohrförmige Kathode aufweisenden Kathodenanordnung. 8 shows a section through an atomizing device with a cathode arrangement having a tubular cathode.

2 2nd

5 5

10 10th

15 15

20 20th

25 25th

30 30th

35 35

40 40

45 45

50 50

55 55

60 60

65 65

3 618289 3 618289

Fig. 1 zeigt schematisch eine ebene Kathode 1 für eine Zer- Die Fig. 5 und 6 zeigen mögliche Schnitte durch eine der-stäubungsvorrichtung. Die Richtung der von der Magnetvor- artige Kathodenanordnung. Zwischen einem Magneten 14 und richtung erzeugten Feldlinien 2 ist angegeben. Diese Feldlinien der Innenwand des Rohres 13 liegt der Raum 16 zum Durchlasbilden eine Elektronenfalle, weil ein magnetischer Spiegel für sen des Kühlwassers. Die Magnete 14 sind rings um das Kühl-die Kathodenoberfläche 3 erzeugt wird. In dem ellipsenförmi- s wasserzufuhrrohr 15 angeordnet. Die von der Elektronenfalle gen Gebiet 4 unter den Feldlinien wird durch das Zerstäuben eingefangenen Elektronen werden eine zykloidale Bahn 32 des Kathodenmaterials eine rinnenförmige Aushöhlung gebil- zurücklegen, wie in Fig. 6 dargestellt ist. Fig. 1 shows schematically a flat cathode 1 for a sputtering. Figs. 5 and 6 show possible sections through a sputtering device. The direction of the magnet-like cathode arrangement. Field lines 2 generated between a magnet 14 and direction is indicated. These field lines of the inner wall of the tube 13 is the space 16 to pass through forming an electron trap, because a magnetic mirror for sen of the cooling water. The magnets 14 are created around the cooling surface 3 of the cathode. Arranged in the elliptical water supply pipe 15. The electrons trapped by the electron trap towards region 4 below the field lines will be cycled through the cathode material to form a trough-shaped cavity, as shown in FIG. 6.

det werden. Durch Verschiebung der Elektronenfalle Vorzugs- Es ist auch möglich, das Rohr 13 doppelwandig auszufüh- be det. By moving the electron trap, it is also possible to make the tube 13 double-walled.

weise in Richtung des Pfeiles 33 kann diese Erosion über die ren, so dass das Innenrohr kontinuierlich als Halter für die ganze Oberfläche 3 verteilt werden. Wenn die Kathodenober- "> Magnetvorrichtung dient und das Aussenrohr gegebenenfalls fläche aus verschiedenen Materialarten zusammengesetzt ist, um das Innenrohr bewegbar ist und als leicht ersetzbare Katho-kann durch die Verschiebung der Elektronenfalle jede denoberfläche wirkt. wise in the direction of arrow 33, this erosion over the ren, so that the inner tube is continuously distributed as a holder for the entire surface 3. If the cathode upper "> magnetic device is used and the outer tube is optionally composed of different types of material, the inner tube is movable and can be replaced as an easily replaceable cathode-can by the displacement of the electron trap any surface.

gewünschte Zusammensetzung von Materialien erzielt werden. In Fig. 7 ist eine Zerstäubungsvorrichtung schematisch dar-Die Kathode 1 weist während der Zerstäubung ein negatives gestellt. In einem Gehäuse 23 ist mit Hilfe einer Glasplatte 22 Potential in bezug auf die Anode 5 von etwa 800 V auf. In der 15 die Kathodenanordnung 24 befestigt, die mit einer Hochfre-Praxis werden Spannungen von einigen 100 V bis zu einigen kV quenz- oder Gleichstromquelle 25 zum Anlegen des gewünschangewendet. Im Zerstäubungsraum herrscht meistens ein ten Potentials zwischen der Kathode der Kathodenanordnung Druck von IQ"3 bis 10~2 Torr vor. Als Zerstäubungsgas können 24 und der hier ringförmigen Anode 26 verbunden ist. Nach-z. B. Argon, Neon oder reaktive Gase, wie O2, N2 oder Gemi- dem das Gehäuse 23 über die Gasausströmungsöffnung 27 leer-sche derselben verwendet werden. 20 gepumpt worden ist, wird das Gehäuse 23 bis zu einem Druck desired composition of materials can be achieved. 7 schematically shows an atomization device. The cathode 1 has a negative position during the atomization. In a housing 23 there is a potential of about 800 V with respect to the anode 5 by means of a glass plate 22. In Fig. 15, the cathode assembly 24 is attached, using a high frequency practice, voltages from a few 100 V to a few kV source or DC source 25 are used to apply the desired one. In the sputtering space there is usually a potential between the cathode of the cathode arrangement and a pressure of IQ "3 to 10 ~ 2 Torr. The sputtering gas 24 and the ring-shaped anode 26 can be connected. After-eg argon, neon or reactive gases, like O2, N2 or mixture, the housing 23 is used empty over the gas outflow opening 27. The housing 23 is pumped up to a pressure 20

In Fig. 2 ist ein Teil einer Kathodenanordnung mit einer von 10"3 Torr mit Argon über die Gaseinlassöffnung 28 gefüllt, rohrförmigen Kathode 6 für eine Zerstäubungsvorrichtung Die Kathode wird über die Anschlüsse 29 und 30 durch Kühldargestellt. In dieser rohrförmigen Kathode befinden sich eine wasser gekühlt, wie beschrieben ist. Das von der Kathode zerAnzahl von Magneten 7, die in einiger Entfernung voneinander stäubte Material wird auf dem Substrat 31 als Schicht oder dün-liegen und deren entsprechende Pole einander zugewandt sind. 25 ner Film niedergeschlagen. Die Magnetvorrichtung wird mit Diese Magnete 7 sind in diesem Falle Dauermagnete. Sie kön- Hilfe einer Antriebsvorrichtung 34 kontinuierlich oder perio-nen aber auch Elektromagnete sein. Zwischen den Magneten disch hin und her bewegt. Die Zerstäubungsgeschwindigkeit ist sind in diesem Falle Weicheisenzwischenscheiben 8 angeord- für eine Vorrichtung nach der Erfindung, wie sich erwarten net, die die Richtung des Ein- und Austretens der Feldlinien liess, nahezu gleich gross wie für die bekannten Vorrichtungen, beeinflussen. Diese Zwischenscheiben können aber auch fehlen 30 So wurde für Kupfer eine Zerstäubungsgeschwindigkeit von 1 oder aus einem von Weicheisen verschiedenèn Material herge- |im/min bei einer Gleichstromentladung mit einer zugeführten stellt sein. Durch das Vorhandensein der Magnete werden rings Leistung von 2 kW und bei einem Abstand zwischen der um die Kathode liegende Elektronenfallen 9 gebildet. Die Kathode und dem Substrat von 5 cm gemessen. In Fig. 2, part of a cathode assembly is filled with a 10 "3 torr with argon through gas inlet port 28, tubular cathode 6 for a sputtering device. The cathode is shown via connectors 29 and 30 by cooling. In this tubular cathode there is a water The number of magnets 7 that are sputtered from the cathode, the material that is dusted at some distance from one another, is deposited as a layer or thin on the substrate 31 and the corresponding poles of which are facing each other In this case, these magnets 7 are permanent magnets, but they can also be electromagnets continuously or periodically with the aid of a drive device 34. In this case, the speed of atomization is according to a soft iron intermediate disk 8 for a device the invention, as expected, net the direction of entry and exit etens of the field lines had almost the same size as for the known devices. These intermediate disks may also be missing. 30 For copper, an atomization rate of 1 or a material different from soft iron was im / min with a direct current discharge with a supplied one. The presence of the magnets produces a power of 2 kW and at a distance between the electron traps 9 located around the cathode. The cathode and substrate measured 5 cm.

Magnete sind in bezug auf die Kathodenoberfläche verschieb- Bei einer Hochfrequenzentladung war die Zerstäubungsge- Magnets are displaced with respect to the cathode surface.

bar angeordnet, so dass die Bildung rinnenförmiger Nuten 35 schwindigkeit etwa 0,5 um/min bei derselben Leistung und der-rings um die Kathode durch periodische oder kontinuierliche selben Elektroden-Substratanordnung. Die Kathode konnte Verschiebung der Magnetvorrichtung in Richtung: des Pfeiles aber, wie gefunden wurde, drei- bis viermal länger gebraucht 33 vermieden werden kann. Selbstverständlich ist ès auch mög- werden, als wenn die Magnetvorrichtung nicht bewegt wurde, lieh, die Kathodenoberfläche in bezug auf die Magnetvorrich- Dies bedeutet also, dass mit der erfindungsgemässen Katho-tung zu verschieben. Die Anode 10 weist die Form eines Ringes 40 denanordnung der Zerstäubungsvorgang weniger häufig unter-auf. brachen zu werden braucht und das zu zerstäubende Katho- arranged so that the formation of trough-shaped grooves 35 speed about 0.5 .mu.m / min at the same power and all around the cathode by periodic or continuous same electrode-substrate arrangement. The cathode could shift the magnetic device in the direction of the arrow but, as was found, could be avoided three to four times longer 33. Of course, it is also possible, as if the magnet device was not moved, to lend the cathode surface with respect to the magnet device. This means that this can be done with the cathode according to the invention. The anode 10 is in the form of a ring 40 less often than the arrangement of the sputtering process. needs to be broken and the cathode to be atomized

In Fig. 3 ist ebenfalls eine Kathodenanordnung mit rohrför- denmaterial besser ausgenutzt wird. In Fig. 3, a cathode arrangement with pipe material is also better used.

miger Kathode 6 dargestellt. Dabei bestehen die Magnete aus In Fig. 8 ist ein Schnitt durch eine Kathodenanordnung mit dauermagnetischen Ringen 11 und es befinden sich die Elektro- rohrförmiger Kathode dargestellt, wobei die Kathodenober-nenfallen 9 auf der Innenseite der rohrförmigen Kathode. Die 45 fläche aus zwei Teilen 35 und 36 besteht, die in diesem Fall aus Anode 12 weist in diesem Falle die Form eines Stabes auf. Chrom und Kupfer bestehen. Durch die Verschiebung der miger cathode 6 shown. The magnets consist of: FIG. 8 shows a section through a cathode arrangement with permanently magnetic rings 11 and the electro-tubular cathode is shown, the upper cathode traps 9 being on the inside of the tubular cathode. The 45 surface consists of two parts 35 and 36, which in this case consists of anode 12 in this case has the shape of a rod. Chrome and copper exist. By shifting the

In Fig. 4 ist ein Längsschnitt durch eine Kathodenanord- Magnetvorrichtung 20 kann so aus Chrom und Kupfer oder nung 24 mit rohrförmiger Kathode für eine Zerstäubungsvor- einem Gemisch derselben gewählt werden. In der dargestellten richtung gezeigt. Die Kathodenoberfläche wird durch ein auf Lage der Magnetvorrichtung wird aus dem Teil 36 Kupfer zer-einer Seite verschlossenes Rohr 13 mit einem Innendurchmes- 50 stäubt, das sich auf der Innenseite des Glasrohrs 37 nieder-ser von 28 mm und einem Aussendurchmesser von 32 mm schlägt und einen dünnen Überzug bildet. In FIG. 4, a longitudinal section through a cathode arrangement magnet device 20 can be selected from chrome and copper or tungsten 24 with a tubular cathode for an atomization mixture of the same. Shown in the direction shown. The cathode surface is dusted by a tube 13 which is closed on one side from the part 36 of copper and has an inside diameter 50 which strikes on the inside of the glass tube 37 lower of 28 mm and an outside diameter of 32 mm and forms a thin coating.

bestimmt. In diesem 300 mm langen Rohr 13 befinden sich eine Selbstverständlich ist es auch möglich, die Magnetvorrich-Anzahl 6 mm dicker ringförmiger Magnete 14, die um ein Was- tung nicht aus einer einzigen Gruppe von Magneten, wie in serzufuhrrohr 15 für Kühlwasser liegen. Das Kühlwasser fliesst Fig. 8 dargestellt, sondern aus mehreren Gruppen zusammen-entlang der Wand des Rohres 13 über die Räume 16 zu dem 55 zustellen. Auch ist es möglich, die Kathodenoberfläche aus Wasserauslass 17. Das Wasser wird über eine Einströmungsöff- mehr als zwei verschiedenen Materialien zusammenzusetzen, nung 18 eingelassen. Mit Hilfe einer durch einen 0-Ring gebildeten Dichtung 19 ist die Magnetvorrichtung 20 bewegbar in dem Kathodenanordnungen dieser Art eignen sich besonders Halter 21 angeordnet. Dieser Halter 21 ist mit Hilfe einer Glas- gut dazu, die Innenseite von Rohren aus Metall oder Glas oder platte 22 gegen das Gehäuse 23 der Vorrichtung isoliert 60 Umhüllungen von z. B. Lampen zu überziehen. Die ganze angeordnet. Bei Anwendung einer Vielzahl von Magneten wird Kathodenanordnung kann mit der zugehörigen, hier ringförmi-eine Vielzahl von Elektronenfallen erhalten. In den bekannten gen Anode 38 während der Zerstäubung durch ein Rohr zylindrischen Zerstäubungssystemen sind sehr starke und geschoben werden, wodurch dieses Rohr auf der Innenseite grosse Magnete erforderlich, weil das Magnetfeld über die überzogen wird. Mit einer Kathodenanordnung nach Fig. 3 ganze Länge der zylindrischen Kathode konstant und parallel 65 können Stäbe oder Rohre auf der Aussenseite überzogen wer-zu der Oberfläche der Kathode sein muss. den. certainly. In this 300 mm long tube 13 there are of course also the number of magnetic devices 6 mm thick ring-shaped magnets 14, which are not from a single group of magnets, as in water supply tube 15 for cooling water. The cooling water flows as shown in FIG. 8, but is to be put together from several groups along the wall of the tube 13 via the spaces 16 to the 55. It is also possible to assemble the cathode surface from the water outlet 17. The water is introduced via an inflow opening into more than two different materials. With the help of a seal 19 formed by an O-ring, the magnetic device 20 is movable, in the cathode arrangements of this type holders 21 are particularly suitable. This holder 21 is with the help of a glass well, the inside of pipes made of metal or glass or plate 22 isolated from the housing 23 of the device 60 envelopes of z. B. to cover lamps. The whole arranged. When using a multiplicity of magnets, a cathode arrangement can be obtained with the associated, here ring-shaped, multiplicity of electron traps. In the known gene anode 38 during the sputtering through a tube, cylindrical sputtering systems are very powerful and are pushed, which means that this tube requires large magnets on the inside because the magnetic field is coated over it. With a cathode arrangement according to FIG. 3, the entire length of the cylindrical cathode is constant and parallel 65, rods or tubes can be covered on the outside who must be to the surface of the cathode. the.

G G

2 Blatt Zeichnungen 2 sheets of drawings

Claims

618289 PATENT CLAIMS

1. Cathode arrangement for a sputtering device, with a cathode that contains the material to be sputtered on its surface, and with a magnetic device for generating one or more magnetic fields, by which at least one electron trap is determined for the surface of the cathode, characterized in that the Electron trap is slidable along the surface of the cathode

2. Cathode arrangement according to claim 1, characterized in that the cathode is at least approximately flat, and that the magnetic device is at least approximately displaceable to the surface of the cathode.

3. Cathode arrangement according to claim 1, characterized in that the cathode is tubular, and that in the tubular cathode or around the tubular cathode in the axial direction and at a mutual distance from each other a plurality of magnets forming the magnetic device are arranged, the north or south poles of which face each other , wherein the magnets are displaceable in the axial direction.

4. Cathode arrangement according to one of claims 1 to 3, characterized in that the surface of the cathode contains a plurality of materials to be atomized.

5. Use of the cathode arrangement according to claim 1 in a sputtering device which has an anode and an envelope surrounding the anode and the cathode arrangement, the inside of which forms or contains the surface to be dusted.

6. Use of the cathode arrangement according to claim 1 in a sputtering device, in which the cathode arrangement has an interior containing an anode, for dusting the outside of a rod or tube.