DE19623359A1 - Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats - Google Patents
Vorrichtung zum Beschichten eines SubstratsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten
eines Substrats durch Zerstäuben der Oberfläche eines
drehbaren, rohrförmigen Targets mittels elektrischer
Energie, bei der das Target mit Magneten versehen ist, um
eine sich in Längsrichtung des Targets erstreckende Zer
stäubungszone zu erzeugen, und bei der zumindest ein Ma
gnet mit innerhalb des Targets angeordneten Polschuhen
aus magnetisch leitfähigem Material in Verbindung steht,
um das magnetische Feld von dem Magneten zur Zer
stäubungszone des Targets zu leiten.
Solche Vorrichtungen sind in der Fachwelt bekannt und
beispielsweise in der DE-C-0 070 899 beschrieben. Das zy
lindrische Target ist meist drehbar angeordnet, damit
neues Targetmaterial in die Zerstäubungszone bewegt wer
den kann, um größere Mengen Targetmaterial zerstäuben zu
können oder auch um einen raschen Wechsel von einem zu
einem anderen Targetmaterial zu ermöglichen.
Bei den bisher bekanntgewordenen Vorrichtungen sind die
Magnete als Permanentmagnete ausgebildet und ausschließ
lich im Inneren des Targets angeordnet. Da das Target je
doch von einer Kühlflüssigkeit durchströmt sein muß, um
die beim Zerstäuben entstehende Wärme abzuführen, ist es
erforderlich zu verhindern, daß das wenig korrosionsfeste
Material der Magnete mit der Kühlflüssigkeit, bei der es
sich meist um Wasser handelt, in Berührung kommt. Bei der
Vorrichtung nach der genannten DE-C-0 070 899 wird das
dadurch erreicht, daß man die Magnete und Polschuhe in
einem koaxial in dem Target angeordneten Hohlzylinder
anordnet, der einen geringeren Durchmesser hat als es dem
Innendurchmesser des Targets entspricht. Dadurch entsteht
ein ringförmiger Zwischenraum, durch welchen die
Kühlflüssigkeit geführt wird. Auf diese Weise erreicht
man einen vollkommenen Korrosionsschutz der Magnete vor
einem Angriff durch die Kühlflüssigkeit. Weiterhin wird
durch den Hohlzylinder verhindert, daß die Magnete bei
einem Auswechseln des Targets von diesem beschädigt oder
sogar zerstört werden können und daß übermäßig viel Wärme
vom Target in die Magnete gelangt und ihre Wirkung irre
versibel aufheben kann. Nachteilig dabei ist jedoch, daß
der Abstand der Polschuhe von der Wand des targettragen
den Hohlkörpers durch den ringförmigen Zwischenraum ver
größert wird, so daß die auf der Targetoberfläche wir
kende magnetische Feldstärke stark abnimmt.
Um diesen Nachteil der zu geringen Feldstärke zu vermei
den, ordnet man meist die Magnete mit den Polschuhen un
mittelbar vor der Innenmantelfläche des Targets an und
läßt den gesamten Hohlkörper von Kühlflüssigkeit durch
strömen. Die Magnete schützt man dann vor Korrosion, in
dem man ihre Oberfläche vernickelt. Das hat jedoch den
Nachteil, daß ein Auswechseln des Targets äußerst vor
sichtig erfolgen muß. Wird beim Auswechseln des Targets
die vernickelte Oberfläche des Magneten durch Anstoßen
mit dem Target örtlich beschädigt, kommt es dort beim
Betrieb der Vorrichtung durch die Kühlflüssigkeit zu ei
nem sehr raschen Unterrosten des Magnetmaterials und da
mit zu einer Zerstörung der Magnete. Das kann sogar auch
ohne mechanische Beschädigung der Magnete mittels des
Targets eintreten, wenn die Nickelschicht von Anfang an
Fehlstellen aufweist.
Bekannt ist weiterhin eine Kathodenzerstäubungsvorrich
tung (DE 24 17 288) mit hoher Zerstäubungsrate mit einer
Kathode, die auf einer ihrer Oberflächen das zu zerstäu
bende und auf einem Substrat abzulagernde Material auf
weist, mit einer derart angeordneten Magneteinrichtung,
daß von der Zerstäubungsfläche ausgehende und zu ihr zu
rückkehrende Magnetfeldlinien einen Entladungsbereich
bilden, der die Form einer in sich geschlossenen Schleife
hat, und mit einer außerhalb der Bahnen des zerstäubten
und sich von der Zerstäubungsfläche zum Substrat bewegen
den Materials angeordnete Anode, wobei die zu zerstäu
bende und dem zu besprühenden Substrat zugewandte Katho
denoberfläche eben ist und sich das Substrat nahe dem
Entladungsbereich parallel zu der ebenen Zerstäubungsflä
che über diese hinwegbewegen läßt, und bei der die das
Magnetfeld erzeugende Magneteinrichtung auf der der ebe
nen Zerstäubungsfläche abgewandten Seite der Kathode an
geordnet ist.
Bekannt ist auch eine Kathodenanordnung für eine Zerstäu
bungsvorrichtung (DE 27 29 286) mit einer rohrförmigen
Kathode, die an ihrer Oberfläche das zu zerstäubende Ma
terial in Form eines Targets enthält, und mit einer Ma
gnetvorrichtung zur Erzeugung eines oder mehrerer Magnet
felder, durch welche mindestens eine Elektronenfalle für
die Oberfläche der Kathode bestimmt wird, wobei die Elek
tronenfalle durch Verschieben der Magnetvorrichtung längs
der Oberfläche der Kathode verschiebbar ist.
Bei dieser Kathodenanordnung ist es auch möglich, die
rohrförmige Umhüllung in Bezug auf die Magnetvorrichtung
zu bewegen, so daß ein sehr gleichmäßiger effektiver Ver
brauch des Kathodenmaterials stattfinden kann, wobei auch
verschiedene Materialarten zerstäubt werden können. Das
Substrat ist dazu in einer Ebene angeordnet, die sich
parallel der Längsachse der rohrförmigen Umhüllung er
streckt.
Man hat darüber hinaus eine Einrichtung zur Durchführung
vakuumtechnologischer Prozesse im magnetfeldverstärkten
elektrischen Entladungen vorgeschlagen (DD 1 23 952), be
stehend aus einer magnetfelderzeugenden Einrichtung und
einem Target mit negativem Potential und einer Anode,
zwischen denen die elektrische Entladung brennt, wobei
die magnetfelderzeugende Einrichtung mit ihren Polschuhen
ringförmig und konzentrisch zur Kathode ausgebildet ist,
und entsprechend dem durchzuführenden vakuumtechnologi
schen Prozeß im Inneren des rohrförmigen Targets oder au
ßen herum angeordnet ist und in Achsrichtung begrenzte
inhomogene torusförmige Magnetfelder erzeugt, deren
Hauptfeldrichtung im Bereich des Targets parallel zu des
sen Achsenrichtung gerichtet ist, wobei die Anode bei An
ordnung der magnetfelderzeugenden Einrichtung im Target
dieses rohrförmig umgibt und bei Anordnung um das Target
in diesem als Rohr oder Vollmaterial angeordnet ist, und
wobei die magnetfelderzeugende Einrichtung, das rohrför
mige Target und die Anode relativ zueinander bewegbar
sind.
Ferner ist eine Einrichtung zum Hochratezerstäuben nach
dem Plasmatronprinzip bekannt (DD 2 17 964), bestehend aus
einer magnetfelderzeugenden Einrichtung mit Ringspalt,
einem gekühlten rohrförmigen Target und einer Anode, wo
bei die magnetfelderzeugende Einrichtung einen in sich
geschlossenen, langgestreckten Ringspalt besitzt und in
dem Target so angeordnet ist, daß ihre große Achse paral
lel zur Targetachse verläuft, und eine Anode das Target
so umgibt, daß der Ringspaltbereich frei ist und mittels
einer Verstelleinrichtung der Abstand zwischen der Anode
und der Targetoberfläche auf einen festen Wert einstell
bar ist, wobei zum Erzeugen einer Relativbewegung um die
große Achse zwischen dem Target und der magnetfelderzeu
genden Einrichtung ein Antrieb angeordnet ist, und an der
magnetfelderzeugenden Einrichtung eine Vorrichtung zur
Veränderung des Abstands zwischen dieser und dem Target
angeordnet ist.
Zum Stand der Technik gehört auch eine Kathode zur Vaku
umzerstäubung (EP 0 461 035), umfassend einen Hohlkörper
in Form eines Rotationskörpers, welcher um seine Achse
rotieren kann, mit einer Seitenwand, die sich entlang der
Achse erstreckt, und zwei Stirnseiten im wesentlichen
senkrecht zur Achse, wobei der Hohlkörper mindestens am
äußeren seiner Seitenwand aus zu zerstäubendem Material
gebildet ist, mit einem Magnetkreis zum magnetischen Ein
schluß, der nahe einem Target vorgesehen ist, und Pole,
Teile aus magnetisch-permablem Metall und Magnetisiermit
tel, die zur Erzeugung eines magnetischen Flusses in dem
Magnetkreis geeignet sind, und mit einer Einrichtung zur
Verbindung mit einem Kühlkreis für die Zirkulierung einer
Kühlflüssigkeit in dem Hohlkörper, mit einer Einrichtung
zur Verbindung mit einem elektrischen Versorgungskreis,
und mit einer Triebeinrichtung zur Drehung des Hohlkör
pers um seine Achse, wobei der Magnetkreis sich peripher
in Bezug auf den Hohlkörper erstreckt, das Magnetisier
mittel außerhalb diesem vorgesehen ist, die Pole des Ma
gnetkreises entlang zweier Erzeugenden dieses Hohlkörpers
vorgesehen sind und mit einem Bogen der Seitenwand des
Hohlkörpers, der sich zwischen diesen beiden Erzeugenden
befindet, der das Target der Kathode bildet.
Schließlich ist eine Kathodenzerstäubungsvorrichtung be
kannt (D-OS 27 07 144) mit einer eine zu zerstäubende
Fläche aufweisenden Kathode, einer Magneteinrichtung nahe
der Kathode und an der der zu zerstäubenden Fläche gegen
überliegenden Seite zur Erzeugung magnetischer Kraftli
nien, von denen wenigstens einige in die zu zerstäubende
Fläche eintreten und aus ihr wieder heraustreten, und
zwar in Schnittpunkten, die voneinander im Abstand lie
gen, zwischen denen die Kraftlinien kontinuierlich bogen
förmige Segmente im Abstand von der zu zerstäubenden Flä
che bilden, wobei letztere zusammen mit den Kraftlinien
eine Begrenzung für einen geschlossenen Bereich bildet,
wodurch ein tunnelförmiger Bereich gebildet wird, der
über einem dadurch definierten Pfad auf der zu zerstäu
benden Fläche liegt, wobei geladene Teilchen die Neigung
zeigen, im tunnelförmigen Bereich zurückgehalten zu wer
den und sich entlang diesem zu bewegen, sowie mit einer
Anode in Nachbarschaft zur Kathode und mit einem Anschluß
der Kathode und der Anode an eine Quelle elektrischen Po
tentials, wobei wenigstens die zu zerstäubende Fläche
innerhalb eines evakuierbaren Behälters liegt, wobei eine
Bewegungsrichtung zur Herstellung einer Relativbewegung
zwischen dem magnetischen Feld und der zu zerstäubenden
Oberfläche unter Beibehaltung ihrer räumlichen Nachbar
schaft vorgesehen ist und der erwähnte Pfad die zu zer
stäubende Fläche überstreicht, und zwar in einem Flächen
bereich, der größer ist als der vom ruhenden Pfad einge
nommene Flächenbereich.
Bei dieser zylindrischen Kathodenzerstäubungsvorrichtung
kann die an einem zylindrischen Träger befestigte Ma
gneteinrichtung sowohl gedreht als auch auf und ab bewegt
werden, so daß sie auf der gesamten Oberfläche die Zer
stäubung hervorrufen kann, wobei es aber auch möglich
ist, bestimmte Bereiche auszuwählen.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, eine Vorrich
tung der eingangs genannten Art so zu gestalten, daß eine
Korrosion des Magneten oder der Magnete durch das Kühlme
dium nicht zu befürchten ist, zugleich jedoch der Magnet
oder die Magnete vor einer Überhitzung durch die Wärme
des Targets ausreichend geschützt ist.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
der Magnet außerhalb des Targets angeordnet ist und die
Übertragung des magnetischen Feldes auf die innerhalb des
Targets angeordneten Polschuhe durch das Target hindurch
über enge Spalten erfolgt.
Durch diese erfindungsgemäße externe Anordnung des Magne
ten oder auch eines Magnetsystems wird erreicht, daß es
bei einem Auswechseln des Targets nicht zu einer mechani
schen Beschädigung des Magneten oder Magnetsystems kommen
kann. Weiterhin kann man auf einen aufwendigen Schutz des
Magneten vor Korrosion verzichten, weil der Magnet nicht
mehr mit dem in dem Target und dem Kühlmedium in Berüh
rung kommen kann. Zwischen dem Target und den Polschuhen
einerseits und dem Magnet andererseits kann man sehr enge
Spalten vorsehen, so daß die magnetischen Flußverluste
gering sind. Diese lassen sich im übrigen dadurch aus
gleichen, daß man einen oder mehrere größere Magnete als
bei einer internen Anordnung vorsieht. Das ist im Gegen
satz zum Stand der Technik ohne Probleme möglich, weil
außerhalb des Targets genügend Platz zur Verfügung steht.
Dank der Erfindung ergibt sich eine hohe Targetausnut
zung, die sich durch eine geringe Randbelegung im Reak
tivprozeß auszeichnet. Die erfindungsgemäße Vorrichtung
hat eine hohe Betriebssicherheit und erlaubt einen beson
ders stabilen, arcingfreien Beschichtungsprozeß.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung liegt
darin- daß fluchtend zu den Polschuhen in dem Target an
einer Seite des Targets ein Magnetfluß-Leitkörper ange
ordnet ist, welcher mit dem Magnet in Verbindung steht.
Durch diese Gestaltung kann der Magnet oder können die
Magnete relativ weit entfernt von dem Target angeordnet
werden, so daß sie kaum der Prozeßwärme ausgesetzt sind.
Das ermöglicht es, mit höheren Targettemperaturen zu
fahren, was für manche zu sputternden Werkstoffe vorteil
haft ist und zusätzlich dazu dienen kann, das Substrat
durch die Wärme des Targets aufzuwärmen, sofern das für
den Beschichtungsvorgang notwendig oder förderlich ist.
Auf dem Target entsteht eine in etwa ein Rechteck bil
dende Zerstäubungszone, wenn der Magnetfluß-Leitkörper
drei zur Mantelfläche des Targets hin gerichtete, paral
lele Polschuhe hat und zu beiden Seiten des mittleren
Polschuhes jeweils ein Magnet angeordnet ist, der jeweils
mit einem gleichen Pol gegen den mittleren Polschuh und
mit seinem gegenüberliegenden Pol gegen den äußeren Pol
schuh anliegt. Hierdurch tritt der magnetische Fluß im
abzutragenden Bereich des Targets dachförmig aus und es
entsteht ein geschlossener Plasmaring.
Alternativ ist es jedoch auch möglich, bei einem Magnet
fluß-Leitkörper, welcher drei zur Mantelfläche des Hohl
körpers hin gerichtete, parallele Polschuhe hat und bei
dem der mittlere Polschuh gegen einen Pol eines Magneten
anliegt oder durch den Magneten selbst gebildet ist, vor
zusehen, daß der Magnet mit seinem anderen Pol mit einem
die beiden äußeren Polschuh miteinander verbindende
Schenkel aus magnetisch leitfähigem Material verbunden
ist.
Der Magnet kann oder die Magnete können, wie bei ver
gleichbaren Vorrichtungen üblich, Permanentmagnete sein.
Durch die erfindungsgemäße externe Magnetanordnung ist es
jedoch auch ohne Schwierigkeiten möglich, daß der Magnet
oder die Magnete Elektromagnete sind, weil auch dann
keine elektrischen Leitungen in das Target führen müssen,
was besonders bei einem drehbar angeordneten, Target ho
hen baulichen Aufwand erfordern würde.
Die Polschuhe innerhalb des Targets können zu einem ein
Bauteil bildenden Block vereint werden, wenn gemäß einer
anderen Ausführungsform der Erfindung die Polschuhe in
nerhalb des Targets durch zwei Abstandskörper aus magne
tisch nicht leitfähigem, jedoch wärmeleitendem Material
miteinander zu einer Zylindersäule verbunden sind.
Die Kühlung des Targets gestaltet sich besonders einfach,
wenn in den Polschuhen und/oder den Abstandskörpern Kühl
kanäle für eine Wärme des Targets abführende Kühlflüssig
keit vorgesehen sind.
In Kathodenzerstäubungsanlagen werden oftmals zwei Katho
den nebeneinander eingesetzt, um eine größere Zerstäu
bungsleistung zu erzielen. Das ist bei der erfindungsge
mäßen Vorrichtung mit nur einem einzigen Magnetsystem
möglich, wenn der Magnetfluß-Leitkörper drei parallele
Polschuhe hat, welche durch einen mittleren Schenkel und
zumindest einen Magneten miteinander verbunden sind, und
wenn an den zueinander gegenüberliegenden Seiten der Pol
schuhe jeweils ein Target mit zu den Polschuhen des Ma
gnetfluß-Leitkörpers fluchtenden Polschuhen angeordnet
ist.
Besonders hohe Sputterraten ergeben sich bei einer sol
chen Vorrichtung, wenn die beiden Targets abwechselnd mit
entgegengesetzt gepolter Spannung verbindbar sind.
Anzumerken ist, daß bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung
das Target wie bei vergleichbaren Vorrichtungen entweder
an negativem Potential einer Gleichspannungsquelle, aber
auch an eine gepulste Spannung oder Hochfrequenz ange
schlossen werden kann.
Die Erfindung läßt verschiedene Ausführungsformen zu. Zur
weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzips sind drei da
von schematisch in der Zeichnung dargestellt und werden
nachfolgend beschrieben. In ihr zeigen die
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines für die
Erfindung wesentlichen Bereichs der Vor
richtung,
Fig. 2 einen Querschnitt durch eine Vorrichtung
nach der Erfindung,
Fig. 3 einen horizontalen Schnitt durch einen End
bereich eines targettragenden Hohlkörpers der
Vorrichtung,
Fig. 4 einen Querschnitt durch eine zweite Ausfüh
rungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 5 einen Querschnitt durch eine dritte Ausfüh
rungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
Die Fig. 1 zeigt ein von einem Ritzel 1 angetriebenes,
als Hohlkörper ausgebildetes Target 2, welches um eine
Targetachse R zu rotieren vermag. Im Inneren des Targets
2 sind drei Polschuhe 3, 4, 5 aus einem magnetisch leit
fähigen Material derart angeordnet, daß zwischen ihnen
und der Innenmantelfläche ein beispielsweise für den Pol
schuh 5 positionierter Spalt 6 verbleibt.
Außerhalb des Hohlkörpers 1 ist ein Magnetfluß-Leitkörper
7 angeordnet, welcher drei zu dem Hohlkörper 1 hin ge
richtete, parallele Polschuhen 8, 9, 10 hat, die eben
falls unter Bildung eines beispielsweise für den Polschuh
10 positionierten Spalts 11 bis unmittelbar vor das
Target 2 führen. Zwischen den Polschuhen 8, 9 und 10 ist
jeweils ein Magnet 12, 13 angeordnet. Die Magnete 12, 13
bilden zusammen mit einem quer zur Kathodenlängsachse R
verlaufenden, gegen jeweils eine der Stirnflächen der Ma
gnete 12, 13 anliegenden Magnet 32 und einem weiteren,
ebenfalls quer verlaufenden, die gegenüberliegenden
Stirnflächen der Magnete 12, 13 verbindenden, strichpunk
tiert dargestellten Magneten 33 einen Magnetrahmen 34,
der von den Polschuhen 8, 10 und zwei entsprechend der
Magnete 32, 33 quer verlaufenden Polschuhen 35, 36 einge
rahmt wird.
Dem Target 2 gegenüber ist ein flaches, zu beschichtendes
Substrat 37 dargestellt, zu dem hin ein geschlossenes,
langgestrecktes Oval bildender Magnettunnel 38 gerichtet
ist.
Dadurch, daß oberhalb des rotierenden rohrförmigen Tar
gets vier Magnete 12, 13, 32, 33 bzw. Reihen von Magneten
angeordnet sind, die zusammen den schmalen, rechteckigen
Magnetrahmen 34 bilden und vollständig von den Polschuhen
8, 10, 35, 36 umschlossen bzw. eingerahmt sind, und da
durch, daß sich eine entsprechende rahmenförmige Konfigu
ration von Polschuhen 3, 4, 5 auch im Inneren des Targets
2 befindet, bildet sich der Magnettunnel 38 zwischen dem
Substrat 37 und dem Target 2 aus, der jedoch keinen ent
sprechenden Sputtergraben auf der Targetoberfläche ab
trägt, da das Target 2 während des Abstäubungsprozesses
rotiert.
Es ist klar, daß alle in Längsrichtung angeordneten Pol
schuhe 8, 9, 10; 3, 4, 5 durch sich quer zur Targetrota
tionsachse R erstreckende Polschuhe 35, 36 verbunden sein
müssen, damit der geschlossene, ein langgestrecktes Oval
bildende Magnettunnel 38 entsteht. Weiterhin ist klar,
daß die Halterung und Lagerung des rotierenden, motorisch
angetriebenen Targets 2 ein aufwendiges Lager an der
Beschichtungskammerwand verlangt.
Die Schnittdarstellung gemäß Fig. 2 zeigt wiederum den
Magnetfluß-Leitkörper 7 mit den Polschuhen 8, 9 und 10.
Die Magnete 12, 13 liegen mit einem gleichen Pol 14, 15 - bei
spielsweise S - gegen den Polschuh 9 und mit ihrem
entgegengesetzten Pol 16, 17 - also bei diesem Beispiel
N - gegen die Polschuhe 8, 10 an. Dadurch kommt es zu einem
magnetischen Fluß durch die Polschuhe 8, 9, 10 zu den
Polschuhen 3, 4, 5. An der den Magneten 12, 13 gegenüber
liegenden Seite des Targets 2 sind Feldlinien 18, 19
dargestellt, durch welche zwei miteinander in Verbindung
stehende Bereiche einer Zerstäuberzone 20 festgelegt sind
und die den in Fig. 1 gezeigten Magnettunnel 38 bilden.
Zwischen den Polschuhen 3, 4 und 4, 5 ist jeweils ein Ab
standskörper 21, 22 aus elektrisch nicht leitendem Mate
rial angeordnet. Dadurch wird aus den Polschuhen 3, 4, 5
und den Abstandskörpern 21, 22 insgesamt ein zylindri
scher Block gebildet, der von dem zylindrischen Target 2
mit geringem Spiel umschlossen wird. Sowohl in den Ab
standskörpern 21, 22 als auch in den Polschuhen 3, 4, 5
oder auch in nur einem dieser Bauteile können Kühlkanäle
23, 24 angeordnet sein, durch welche ein Kühlmedium, üb
licherweise Wasser, fließt, um die Prozeßwärme abzufüh
ren.
Der Horizontalschnitt gemäß Fig. 3 durch einen Endbe
reich des Targets 2 zeigt, daß die Polschuhe 3, 4, 5
stirnseitig durch ein Joch 25 miteinander verbunden sind.
Dadurch hat die Zerstäuberzone 20, welche den Erosions
graben bildet, auf dem Target 2 die Form eines Recht
eckes, von dem in Fig. 2 ein u-förmiger Bereich zu sehen
ist.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 4 sind die Polschuhe
8, 9 durch einen Schenkel 26 zu einem u-förmigen, eintei
ligen Bauteil miteinander verbunden. Statt wie gemäß
Fig. 1 eines mittleren Polschuhes 9 ist ein Magnet 27 vor
gesehen, welcher auf dem Schenkel 26 aufsitzt und bis un
mittelbar vor das Target 2 reicht. Dieser Magnet 27 hat
zum Target 2 hin seinen einen Pol 28 und zum Schenkel 26
hin seinen anderen Pol 29. Bei dem Magneten 27 kann es
sich genau wie bei den Magneten 12, 13 der vorangegange
nen Ausführungsform um einen Permanentmagnet oder einen
Elektromagnet handeln. Zur Verdeutlichung wurde in Fig.
4 eine Spule 31 dargestellt.
Die in Fig. 5 gezeigte Vorrichtung hat zwei jeweils ein
Target 2, 2a bildende identische Hohlkörper. Der Magnet
fluß-Leitkörper 7 ist spiegelsymmetrisch zu einer Linie
30 ausgebildet, so daß mit geringem Abstand zu den Enden
der Polschuhe 8, 9, 10 sich die Targets 2, 2a befinden
können. Im Bereich der Linie 30 sind die Polschuhe 8, 9,
10 wie bei der Ausführungsform nach den Fig. 1 und 2
durch die Magnete 12, 13 miteinander verbunden. Auch die
Magnetisierung entspricht der nach den Fig. 1 und 2.
Bezugszeichenliste
1 Ritzel
2 Target
3 Polschuh
4 Polschuh
5 Polschuh
6 Spalt
7 Magnetfluß-Leitkörper
8 Polschuh
9 Polschuh
10 Polschuh
11 Spalt
12 Magnet
13 Magnet
14 Pol
15 Pol
16 Pol
17 Pol
18 Feldlinie
19 Feldlinie
20 Zerstäuberzone
21 Abstandskörper
22 Abstandskörper
23 Kühlkanal
24 Kühlkanal
25 Joch
26 Schenkel
27 Magnet
28 Pol
29 Pol
30 Linie
31 Spule
32 Magnet
33 Magnet
34 Magnetrahmen
35 Polschuh
36 Polschuh
37 Substrat
38 Magnettunnel
2 Target
3 Polschuh
4 Polschuh
5 Polschuh
6 Spalt
7 Magnetfluß-Leitkörper
8 Polschuh
9 Polschuh
10 Polschuh
11 Spalt
12 Magnet
13 Magnet
14 Pol
15 Pol
16 Pol
17 Pol
18 Feldlinie
19 Feldlinie
20 Zerstäuberzone
21 Abstandskörper
22 Abstandskörper
23 Kühlkanal
24 Kühlkanal
25 Joch
26 Schenkel
27 Magnet
28 Pol
29 Pol
30 Linie
31 Spule
32 Magnet
33 Magnet
34 Magnetrahmen
35 Polschuh
36 Polschuh
37 Substrat
38 Magnettunnel
Claims (14)
1. Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats (37) durch
Zerstäuben der Oberfläche eines um eine Längsachse (R)
drehbaren, rohrförmigen Targets (2) mittels elektrischer
Energie, bei der das Target (2) mit Magneten (12, 13, 32,
33) versehen ist, um eine sich in Längsrichtung des Tar
gets (2) erstreckende Zerstäuberzone (20) zu erzeugen,
und bei der zumindest ein Magnet (12, 13) mit innerhalb
des Targets (2) angeordneten Polschuhen (3, 4, 5) aus ma
gnetisch leitfähigem Material in Verbindung steht, um das
magnetische Feld von dem Magneten (12, 13) zur Zer
stäubungszone (20) des Targets (2) zu leiten, dadurch
gekennzeichnet, daß der Magnet (12, 13) außerhalb des
Targets (2) angeordnet ist und die Übertragung des ma
gnetischen Feldes auf die innerhalb des Targets (2) an
geordneten Polschuhe (3, 4, 5) durch das Target (2) hin
durch über enge Spalten (6, 11) erfolgt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß fluchtend zu den Polschuhen (3, 4, 5) in dem Target
(2) an einer Seite des Targets (2) ein Magnetfluß-Leit
körper (7) angeordnet ist, welcher mit dem Magnet (12,
13) in Verbindung steht.
3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Magnetfluß-Leitkörper (7) drei zur
Mantelfläche des Targets (2) hin gerichtete, parallele
Polschuhe (8, 9, 10) hat und zu beiden Seiten des mitt
leren Polschuhes (9) jeweils ein Magnet (12, 13) angeord
net ist, der jeweils mit einem gleichen Pol (14, 15) ge
gen den mittleren Polschuh (9) und mit seinem gegenüber
liegenden Pol (16, 17) gegen den jeweils äußeren Polschuh
(8, 10) anliegt.
4. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnetfluß-Leit
körper (7) drei zur Mantelfläche des Targets (2) hin ge
richtete, parallele Polschuhe (8, 9, 10) hat und der
mittlere Polschuh (9) gegen einen Pol (28) eines Magneten
(27) anliegt oder durch den Magnet (27) selbst gebildet
ist, der mit seinem anderen Pol (29) mit einem die beiden
äußeren Polschuhe (8, 9) miteinander verbindende Schenkel
(26) aus magnetisch leitfähigem Material verbunden ist.
5. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (27) oder
die Magnete (12, 13) Permanentmagnete sind.
6. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (27) oder
die Magnete (12, 13) Elektromagnete sind.
7. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Polschuhe (3, 4,
5) innerhalb des Targets (2) durch zwei Abstandskörper
(21, 22) aus magnetisch nicht leitfähigem, jedoch wärme
leitendem Material miteinander zu einer Zylindersäule
verbunden sind.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß in den Polschuhen (3, 4, 5) und/oder den Abstandskör
pern (21, 22) Kühlkanäle (23, 24) für eine Wärme des Tar
gets (2) abführende Kühlflüssigkeit vorgesehen sind.
9. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnetfluß-Leit
körper (7) drei parallele Polschuhe (8, 9, 10) hat, wel
che durch einen mittleren Schenkel (26) und zumindest ei
nen Magnet (12, 13) miteinander verbunden sind und daß an
den zueinander gegenüberliegenden Seiten der
Polschuhe (8, 9, 10) jeweils ein als Hohlkörper ausgebildetes Tar
get (2, 2a) mit zu den Polschuhen (8, 9, 10) des Magnet
fluß-Leitkörpers (7) fluchtenden Polschuhen (3, 4, 5)
angeordnet ist.
10. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Targets
(2, 2a) abwechselnd mit entgegengesetzt gepolter Spannung
verbindbar sind.
11. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnete (12,
13) mit an ihren Stirnflächen angeordneten, quer zur Tar
getlängsachse (R) sich erstreckenden Magneten (32, 33)
zusammen einen Magnetrahmen (34) bilden, welcher von den
Polschuhen (8, 10) und diese an ihren Stirnflächen mit
einander verbindenden Polschuhen (35, 36) eingerahmt ist.
12. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jede dem Target
(2) zugekehrte Fläche der Polschuhe (8, 9, 10) der Form
des als Hohlzylinder ausgebildeten Targets (2) angegli
chen ist.
13. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die der zylindri
schen Innenwand des Targets (2) zugekehrten Seitenflächen
der inneren Polschuhe (3, 4, 5) als Zylindermantelflächen
ausgebildet sind.
14. Vorrichtung nach zumindest einem der vorangehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils zumindest
eine Stirnfläche jedes sich quer zur Targetlängsachse (R)
erstreckenden Polschuhes (35, 36) mit der Wand der Be
schichtungskammer fest verbunden, vorzugsweise ver
schraubt ist, wobei die sich jeweils parallel zur Targe
trotationsachse (R) erstreckenden Polschuhe (8, 9, 10)
jeweils mit einem sich quer erstreckenden Polschuh (35,
36) fest verbunden, beispielsweise verschraubt sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19623359A DE19623359A1 (de) | 1995-08-17 | 1996-06-12 | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19530259 | 1995-08-17 | ||
DE19608073 | 1996-03-02 | ||
DE19623359A DE19623359A1 (de) | 1995-08-17 | 1996-06-12 | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19623359A1 true DE19623359A1 (de) | 1997-02-20 |
Family
ID=26017786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19623359A Withdrawn DE19623359A1 (de) | 1995-08-17 | 1996-06-12 | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5688388A (de) |
JP (1) | JPH09104977A (de) |
BE (1) | BE1013025A3 (de) |
DE (1) | DE19623359A1 (de) |
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- 1996-06-12 DE DE19623359A patent/DE19623359A1/de not_active Withdrawn
- 1996-07-29 US US08/681,871 patent/US5688388A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-06 JP JP8207349A patent/JPH09104977A/ja active Pending
- 1996-08-14 BE BE9600697A patent/BE1013025A3/fr active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH, 63450 HANAU, DE |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: APPLIED FILMS GMBH & CO. KG, 63755 ALZENAU, DE |
|
8141 | Disposal/no request for examination | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8170 | Reinstatement of the former position | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: APPLIED MATERIALS GMBH & CO. KG, 63755 ALZENAU, DE |
|
8130 | Withdrawal |