JPS59147005A - ポリオレフインの製造方法 - Google Patents

ポリオレフインの製造方法

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JPS59147005A
JPS59147005A JP2164283A JP2164283A JPS59147005A JP S59147005 A JPS59147005 A JP S59147005A JP 2164283 A JP2164283 A JP 2164283A JP 2164283 A JP2164283 A JP 2164283A JP S59147005 A JPS59147005 A JP S59147005A
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吉雄 田島
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光治 三好
Masashi Sugita
杉田 昌司
Kiyoshi Kawabe
川辺 清
Kazuo Matsuura
一雄 松浦
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F10/00Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な触媒を用いて、高活性にオレフィンを立
体規則性よく重合または共重合する方法に関する。
オレフィンの高立体規則性重合触媒として、従来よりチ
タンハロゲン化物と有機アルミニウム化合物からなる触
媒が知られている。しかし、この触媒系を用いた重合で
は高立体規則性の重合体は得られるものの触媒活性が低
いため生成重合体中の触媒残渣を除去する必要がある。
近年、触媒の活性を改善するだめの多くの提集がなされ
てきている。これらの提案によればMgC12などの無
機固体担体に四塩化チタンを担持させた触媒成分を用い
た場合に高活性触媒となることが示されている。
しかしながら、ポリオレフィンの製造上、触媒活性はで
きるだけ大きいことが好ましく、なお一層高活性な触媒
が望まれていた。また、重合体中のアククチツク部分の
生成量ができるだけ少ないことも重要である。
本発明者らは、これらの点について鋭意研究した結果、
ここに新規な触媒を見いだしたものである。すなわち、
本発明は新規な触媒を用いて、きわめて高活性に高立体
規則性のポリオレフィンを製造する方法に関するもので
あり、本発明の触媒を用いることにより、U金時のモノ
マー分圧は低く、かつ短時間の重合で生成重合体中の触
媒残渣量はきわめて少量となり、したがってポリオレフ
ィン製造プロセスにおいて触媒除去工程が省略でき、か
つ生成重合体中のアタクチック部分の生成量もきわめて
少ないなどの多くの効果が得られる。
以下に本発明を詳述する。
本発明は[1) (1)ハロゲン化マグネシウム、(2
)一般式Rn S i(OR) 4−n  (ここでR
は炭素数1〜24の炭化水素残基を示す。nは1≦n≦
6である。)で表わされる化合物および(3)芳香族ケ
トン化合物を接触させて得られる固体物質に(4)チタ
ン化合物を担持せしめて得られる固体触媒成分、〔■〕
有機金属化合物およびDID (5)一般式Rn5x(
OR>4−n (ここでRは炭素数1〜24の炭化水素
残基を示す。nは1≦n≦3である。)で表わされる化
合物を組み合わせてなる触媒を用いて、オレフィンの重
合あるいは共重合をおこない、著しく高活性に高立体規
則性のポリオレフィンを製造する方法に関する。
本発明において、(1)ハロゲン化マグネシウム、(2
)一般式RnS i (OR) 4−nで表わされる化
合物および(3)芳香族ケトン化合物を接触させて本発
明の固体物質を得る方法としては特に制限はなく、不活
性溶媒の存在下あるいは不存在下に温度20℃〜−40
0℃、好ましくは50℃〜300℃の加熱下に、通常、
5分〜20時間接触させることにより反応させる方法、
共粉砕処理により反応させる方法、あるいはこれらの方
法を適宜組み合わせることにより反応させてもよい。
また、成分(1)〜(3)の反応順序についても特に制
限はなく、3成分を同時に反応させてもよく、2成分を
反応させた後、次いで残りの1成分を反応させても゛よ
い。
不活性溶媒は特に制限されるものではなく、通常チグラ
ー型触媒を不活性化しない炭化水素化合物および/また
はそれらの誘導体を使用することができる。これらの具
体例としては、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン
、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
、シクロヘキサン等の各種脂肪族飽和炭化水素、芳香族
炭化水素、脂環族炭化水素、およびエタノール、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、安息香
酸エチル等のアルコール類、エーテル類、エステル類な
どをあげることができる。
共粉砕処理による場合は、通常ボールミル、振動ミル、
ロッドミノへ衝撃ミルなどの装置を用い、通常0℃〜2
00℃、好ましくは20℃〜100℃の温度で、0.5
時間〜30時間行うのが望ましい。
本発明においては、成分(1)〜(3)を共粉砕処理す
ることにより固体担体を得る方法が特に好ましく採用さ
れる。
本発明において、成分(1)ハロゲン化マグネシウムと
成分(2)一般式Rn S 1(OR) 4− nで表
わされる化合物との使用割合は、モル比で成分(1):
成分(2)が1:o、oo1〜10、好ましくは1:o
、o1〜1である。成分(6)芳香族ケトン化合物の使
用割合は、モル比で成分(1):成分(3)が1:o、
oo1〜10、好ましくは1:α01〜1である。
かくして得られる固体担体に、チタン化合物を担持させ
ることにより、固体触媒成分を得不。
担体にチタン化合物を担持させる方法としては公知の方
法を用いることができる。たとえば、固体担体を溶媒の
存在下または不存在下に、過剰のチタン化合物と加熱下
に接触させることにより行なうことができ、好ましくは
、1.2−ジクロロエタン等の溶媒の存在下に両者を、
50℃〜300℃、好ましくは80℃〜150℃に加熱
することにより行なうのが便利である。反応時間はとく
に限定はされないが通常は5分以上でめり、必要ではな
いが長時間接触させることは差支えない。たとえば5分
ないし10時間の処理時間をあけることができる。もち
ろん、この処理は酸素、および水分を絶った不活性ガス
雰囲気下で行なわれるべきである。反応終了後未反応の
チタン化合物を取り除く手段はとくに限定されるもので
はなく、チグラー触繊に不活性な溶媒で数回洗浄し洗液
を減圧条件下で蒸発させ固体粉末を得ることができる。
他の方法としては、固体担体と必要量のチタン化合物を
共粉砕する方法をあげることができる。
本発明において共粉砕は通常0℃〜200℃好ましくは
20℃〜100℃の温度で0.5時間〜50時間共粉砕
することにより本発明の触媒成分を製造することができ
る。もちろん共粉砕操作は不活性ガス雰囲気中で行なう
べきであり、また湿気はできる限り避けるべきでおる。
本発明に使用されるハロゲン化マグネシウムとしては実
質的に無水Qものが用いられ、フッ化マグネシウム、塩
化マグネシウム、臭化マグネシウム、ヨウ化マグネシウ
ムおよびこれらの混合物があげられるがとくに塩化マグ
ネシウムが好ましい。
本発明において使用される一般式RnS 1 (OR)
4−n(ここでRは炭素数1〜24、好ましくは1〜1
2の炭化水素残基を示す。nは1≦n≦3である。)で
表わされる化合物としては、モノメチルトリメトキシシ
ラン、モノメチルトリエトキシシラン、モノメチルトリ
n−ブトキシシラン、モノメチルトリ5ec−ブトキシ
シラン、モノメチルトリインプロポキシシラン、モノメ
チルトリペントキシシラン、モノメチルトリオクトキシ
シラン、モノメチルトリステアロキシシラン、モノメチ
ルトリフエノキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジェトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシ
シラ/、ジメチルジフェノキシシラン、トリメチルモノ
メトキシシラン、トリメチルモノエトキシシラン、トリ
メチルモノイソプロポキシシラン、トリメチルモノフェ
ノキシシラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノエ
チルトリエトキシシラン、モノエチルトリイソプロポキ
シシラン、モノエチルトリフエノキシシラン、ジエチル
ジメトキシシラン、ジエチルジェトキシシラン、ジエチ
ルジフェノキシシラン、トリエチルモノフェノキシシラ
ン、モノインプロピルトリメトキシシラン、モノn−ブ
チルトリメトキシシラン、モノn−ブチルトリエトキシ
シラン、モノ5ec−ブチルトリエトキシシラン、モノ
フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジェトキシシ
ラン、モノビニルトリメトキシシラン、モノビニルトリ
エトキシシラン、モノビニルトリイソプロポキシシラン
、モノビニルモノエトキシジフェノキシシラン、モノア
リルトリメトキシシラン、モノアリルトリエトキシシラ
ン、モノアリルモノエトキシジフェノキシシラン等をあ
げることができる。またこれらの混合物として用いるこ
ともできる。これらの化合物のうち、モノビニルトリメ
トキシシラン、モノビニルトリエトキシシラン、七ノア
リルトリメトキシシラン、モノアリルトリエトキシシラ
ン等の化合物が成分(2)として特に好ましく、またモ
ノフェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジェトキシ
7ラン等の化合物が成分(5)として特に好ましい。
本発明に使用される芳香族ケトンとは通常二つの炭化水
素基の少なくとも一方は炭素数6〜24、好ましくは6
〜14の芳香族炭化水素基であり、かつカルボニル基が
芳香族炭化水素基の核炭素に直接結合しているものであ
る。具体的にはアセトフェノン、プロピオフェノン、メ
チルア七トフエノン、フェニルプロペニルケトン、ペン
ソイルアセトン、エチルアセトフェノン、イソプロピル
フェニルケトン、インバレロフエノン、バレロフエノン
、1−アセトナフトン、2−アセトナフトン、シワロペ
ンチルフェニルケトン、n−ブチルアセトフェノン、n
−ヘキサノフェノン、n−ヘプタノフェノン、ベンジル
フェニルケトン、n−オククノフエノン、カルコン、ベ
ンジル、4.4’−ジメ≠ルベンゾフエノン、n−デカ
ノフエノン、β−ナフチルフェニルケトン、ラウロフェ
ノン、n−テトラゾカッフェノン、ジベンゾイルメタン
、等をあげることができる。またこれらの混合物として
用いることもできる。
本発明に使用されるチタン化合物としては、4価のチタ
ン化合物と3価のチタン化合物が好適である。4価のチ
タン化合物としては具体的には一般式Ti(OR)nx
4−n(ここでRは炭素数1〜20のアルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を示し、Xはハロゲン原子を
示す。nは0≦n≦4である。)で示されるものが好ま
しく、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、
モノメトキシトリクロロチタン、ジメトキシジクロロチ
タン、トリメトキシモノクロロチタン、テトラメトキシ
チタン、モノエトキシトリクロロチタン、ジェトキシジ
クロロチタン、トリエトキシモノクロロチタン、テトラ
エトキシチタン、モノイソプロポキシトリクロロチタン
、ジイソプロポキシジクロロチタン、トリインプロポキ
シモノクロロチタン、テトライソプロポキシチタン、モ
ノブトキシトリクロロチタン、ジブトキシジクロロチタ
ン、モノペントキシトリクロロチタン、モノフェノキジ
トリクロロチタン、ジフェノキシジクロロチタン、トリ
フエノキシモノクロロチタン、テトラフェノキシチタン
等をあげることができる。3価のチタン化合物としては
、四塩化チタン、四臭化チタン等の四ノ・ロゲン化チタ
ンを水素、アルミニウム、チタンあるいは周期律表第■
〜■族金属の有機金属化合物により還元して得られる三
ハロゲン化チタンがあげられる。また一般式T i(O
R) mX < −rn (ここでRは炭素数1〜20
のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、
Xは)・ロゲン原子を示す。mはo (m < 4であ
る。)で示される4価のハロゲン化アルコキシチタンを
周期律表第1〜mW金属の有機金属化合物によ妙還元し
て得られる3価のチタン化合物があげられる。
本発明において、チタン化合物の使用量は特に制限され
ないが、通常固体生成物中に含まれるチタン化合物の量
が0.5〜20重量%、好ましくは1〜10重量係とな
るよう調節するのが好ましい。
本発明に用いる有機金属化合物としては、チグラー触媒
の一成分として知られている周期律表第1〜■族の有機
金属化合物を使用できるがとくに有機アルミニウム化合
物および有機亜鉛化合物が好ましい。具体的な例として
は一般式R3A1. R2AIX、 RへlX2、R2
A1OR,RAI(OR)XおよびR3A 12X3 
 の有機アルミニウム化合物(ただしRは炭素数1〜2
0のアルキル基またはアリール基、Xはハロゲン原子を
示し、Rは同一でもまた異なってもいてもよい)、また
は一般式R2Zn (ただしRは炭素数1〜2oのアル
キル基でありRは同一でもまた異なっていてもよい)の
有機亜鉛化合物で示されるもので、トリエチルアルミニ
ウム、トリイソグロビルアルミニウヘトリイソプチルア
ルミニウム、トリ5ec−ブチルアルミニウム、トリt
ert−ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、エチ
ルアツベニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムエト
キシド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチル
亜鉛およびこれらの混合物等があげられる。
本発明において、有機金属化合物と成分(5)一般式R
n5i(OR)、−nで表わされる化合物との使用割合
は有機金属化合物:成分(5)一般式RnS 1 (O
R) 4− n(モル比)が1:o、oo1〜5、好ま
しくは・1:αo1〜2であり、成分(5)一般式Rn
Si(OR)4.−nで表わされる化合物は筒体触媒成
分(I)中のチタン化合物に対してSJ:Ti比がα1
〜1oo:1、好ましくは0.5〜2o:1となるよう
に使用する。
また本発明においては、有機金属化合物成分として前記
有機金属化合物と成分(5)一般式RnS i (OR
)4−nで表わされる化合物との反応物を使用すること
もでき、この時の反応割合は有機金属化合物:成分(5
)一般式Re5t (OR)4゜(モル比)が1:o、
oo1〜5、好ましくは1:o、o1〜2の範囲であり
、有機金属化合物と成分(5)一般式RnS i(OR
) 4− nで表わされる化合物とを反応させて得られ
る生成物の使用量は固体触媒成分(1)中のチタン化合
物に対してSt:Ti比が0.1〜1oo:1、好まし
くは0.3〜20:1の範囲である。有機金属化合物と
成分(5)一般式Rn5i(OR)4−nで表わされる
化合物との反応物を得る方、法としては特に制限はなく
、不活性溶媒の存在下あるいは不存在下に一50℃〜4
00℃、好ましくは50℃〜200℃の温度で5分〜2
0時間接触させることにより反応させる方法もある。
本発明において有機金属化合物の使用量については特に
制限されないが、通常チタン化合物に対して0.1〜1
000モル倍使用することができる。
本発明の触媒を使用してのオレフィンの重合反応は通常
のチグラー型触媒によるオレフィンの重合反応と同様に
して行われる。すなわち反応はすべて実質的に酸素、水
などを絶った状態で、気相、または不活性溶媒の存在下
で、またはモノマー自体を溶媒として行われる。オレフ
ィンの重合条件は温度20℃ない、し500℃、好まし
くは40℃ないし180℃であり、圧力は常圧ないし7
0Kfメゾ・G、好ましくは2 K17cm2・Gない
し60 K17cm2・Gである。分子量の調節は重合
温度、触媒のモル比などの重合条件を変えることによっ
てもある程度調節できるが、重合系中に水素を添加する
ことにより効果的に行われる。もちろん、本発明の触媒
を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件の異なった
2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応も何ら支障な
〈実施できる。
本発明の方法はチグラー触媒で重合できるすべてのオレ
フィンの重合に適用可能で1、たとえばエチレン、プロ
ピレン、フテンー1.4−メチルペンテン−1などのα
−オレフィン類の単独重合およびエチレンとプロピレン
、エチレンとブテン−1、プロピレンとブテン−1のラ
ンダムおよびブロック共重合などに好適に使用される。
また、ポリオレフィンの改質を目的とする場合のジエン
との共重合、例えばエチレンとブタジェン、エチレンと
1,4−ヘキサジエンなどの共重合も好ましく行われる
本発明においては、特に炭素数6〜8のα−オレフィン
類を立体規則性よく重合または共重合させるのに有効に
用いることができる。
以下に実施例をのべるが、これらは本発明を実施するだ
めの説明用のものであって本発明はこれらに制限される
ものではない。
実施例1 (a)  触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム10F(105、ミリモル)、モ
ノビニルトリエトキシシラン1.6 ml (8ミリモ
ル)およびジベンゾイルメタン!i、6f(16ミリモ
ル)を%インチ直径を有するステンレススチール製ボー
ルが25個入った内容積400m1のステンレススチー
ル製ポットに入れ、窒素雰囲気下室源で16時間ボール
ミリングを行った。得られた共粉砕物を窒素雰囲気下で
300m1丸底フラスコにとり、四塩化チタン50ゴお
よび1,2−ジクロロエタ:150m1f加え、80℃
で2時間攪拌して反応させた。ついでヘキサンで洗浄し
て未反応の四塩化チタンを除去した後、減圧乾燥して触
媒成分を得た。得られた触媒成分17には24mqのチ
タンが含まれていた。
(b)重合 誘導攪拌機付きの3tステンレススチール製オートクレ
ーブを窒素置換し、ヘキサン15007を入れ、トリエ
チルアルミニウム2.5ミリモル、モノフェニルトリエ
トキシシラン1.4ミリモルおよび上記の触媒成分20
■を加え、更に水素を気相分圧で0.05 K17cm
2になるよう装入した後攪拌しながら50℃に昇温した
。ヘキサンの蒸気圧で系は0.5縁々−・Gになるがつ
いでプロピレンを全圧7〜に2・Gになるまで張り込ん
で重合を開始した。全圧が7に2/cm2・Gになるよ
うにプロピレンを連続的に導入し2時間重合を行なった
重合終了後、余剰のプロピレンを排出し、冷却、内容物
を取り出し乾燥して白色のポリプロピレン182ノを得
た。
このものは非晶質も含め全量である。
触媒活性は700タポリプロピレン/f固体・hr−C
3H6圧、29Kgポリプロピレフ / t T i 
−h r −C3H6圧であった。
また溶媒可溶性重合体も含め、沸とうn−へブタンによ
る全抽出残率は94.5%であり、ASTM D 12
38−73条件りに従って測定したメルトフローインデ
ックス(MFI)はa5であった。
比較例1 ジベンゾイルメタンを使用しないことを除いては、実施
例1と同様の方法で触媒成分を合成し、実施例1と同様
の方法で重合を行った。結果を表2に示した。
比較例2 モノビニルトリエトキシシランを使用しないことを除い
ては実施例1と同様の方法で触媒成分を合成し、実施例
1と同様の方法で重合を行った。結果を表2に示した。
比較例3 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代りにテト
ラエトキシシランを使用したことを除いては、実施例1
と同様の方法で触媒成分を合成し、実施例1と同様の方
法で重合を行った。結果を表2に示した。
実施例2.3 実施例1のジベンゾイルメタンの代りに表1に記した芳
香族ケトン化合物(成分(3))を使用したことを除い
ては、実施例1と同様の方法で触媒成分を合成し、実施
例1と同様の方法で重合を行った。結果を表1に示した
。ただし、実施例2において重合時の触媒成分使用量を
’+omgとした。
実施例4 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代りにモノ
アリルトリエトキシシランを使用したことを除いては、
実施例1と同様の方法で触媒成分を合成し、実施例1と
同様の方法で重合を行った。結果を表1に示した。
実施例5 (a)  触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム1ot(1o5ミリモル)、モノ
ビニルトリエトキシシラン1.6 ml (8ミリモル
)およびジベンゾイルメタン3.65’(16ミリモル
)を%インチ直径を有するステンレススチール製ボール
が25個入った内容積400m1のステンレススチール
製ポットに入れ、窒素雰囲気下室源で16時間ボールミ
リングを行った後、更に四塩化チタン1m7!を添加し
、窒素雰囲気下室源で16時間ボールミリングを行った
。得られた触媒成分11には26■のチタンが含まれて
いた。
(b)  重合 実施例1と同様の方法で重合を行った。結果を表1に示
した。
実施例6 誘導攪拌機付きの3tステンレススチール製オートクレ
ーブを窒素置換し、ヘキサン1500−を入れ、トリエ
チルアルミニウム2.5ミリモルおよびモノフェニルト
リエトキシシラン1.4ミリモルを加え、攪拌しながら
80℃に昇温して1時間反応させた。その後室温に冷却
し、実施例1の触媒20■を加え、更に水素を気相分圧
で0.05 Ky/’cm”となるよう装入した後、攪
拌しながら50℃に昇温した。
ヘキサンの蒸気圧で系は0.5 K97cm2・Gにな
るが、ついでプロピレンを全圧が7 Ky/cm”・G
になるまで張9込んで重合を開始した。以下は実施例1
と同様に行った。結果を表1に示した。
実施例7 実施例1の重合においてモノフェニルトリエトキシシラ
ン1.4ミリモルの代りにトリエチルアルミニウムとモ
ノフェニルトリエトキシ7ランの反応物(トリエチルア
ルミニウム/モノフェニルトリエトキシンフン−70,
55(モル比))0.4rを使用したことを除いては実
施例1と同様の方法で重合を行った。結果を表1に示し
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔I〕(1)ハロゲン化マグネシウム、(2)三股式R
    n S s (OR) 4−n (ここでRは炭素数1
    〜24の炭化水素残基金示す。nは1≦n≦3である。 )で表わされる化合物 および (5)芳香族ケトン化合物 を接触させて得られる固体物質に (4)チタン化合物 を担持せしめて得られる固体触媒成分、〔旧 有機金属
    化合物 および 011) (5)一般式RnS 1(OR)4−n(こ
    こでRは炭素数1〜24の炭化水素残基を示す。nは1
    ≦n≦6である。)で表わされる化合物 を組み合わせてなる触媒を用いて、オレフィンの重合あ
    るいは共重合をおこなうことを特徴とするポリオレフィ
    ンの製造方法。
JP2164283A 1983-02-14 1983-02-14 ポリオレフインの製造方法 Granted JPS59147005A (ja)

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