JPH0149286B2 - - Google Patents
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Classifications
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Description
本発明は新規な触媒を用いて、高活性にオレフ
インを立体規則性よく重合または共重合する方法
に関する。 オレフインの高立体規則性重合触媒として、従
来よりチタンハロゲン化物と有機アルミニウム化
合物からなる触媒が知られている。しかし、この
触媒系を用いた重合では高立体規則性の重合体は
得られるものの触媒活性が低いため生成重合体中
の触媒残渣を除去する必要がある。 近年、触媒の活性を改善するための多くの提案
がなされてきている。これらの提案によれば
MgCl2などの無機固体担体に四塩化チタンを担持
させた触媒成分を用いた場合に高活性触媒となる
ことが示されている。 しかしながら、ポリオレフインの製造上、触媒
活性はできるだけ大きいことが好ましく、なお一
層高活性な触媒が望まれていた。また、重合体中
のアタクチツク部分の生成量ができるだけ少ない
ことも重要である。 本発明者らは、これらの点について鋭意研究し
た結果、ここに新規な触媒を見いだしたものであ
る。すなわち、本発明は新規な触媒を用いて、き
わめて高活性に高立体規則性のポリオレフインを
製造する方法に関するものであり、本発明の触媒
を用いることにより、重合時のモノマー分圧は低
く、かつ短時間の重合で生成重合体中の触媒残渣
量はきわめて少量となり、したがつてポリオレフ
イン製造プロセスにおいて触媒除去工程が省略で
き、かつ生成重合体中のアタクチツク部分の生成
量もきわめて少ないなどの多くの効果が得られ
る。 以下に本発明を詳述する。 本発明は〔〕(1)ジハロゲン化マグネシウム
(以下ハロゲン化マグネシウムと略記する)、(2)一
般式RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24の
不飽和炭化水素残基を示す。nは1≦n≦3であ
る。)で表わされる化合物および(3)芳香族ケトン
化合物を接触させて得られる固体物質に(4)一般式
Ti(OR)nX4-n(ここでRは炭素数1〜20のアルキ
ル基、アリール基またはアラルキル基を示し、X
はハロゲン原子を示す。mは0≦m≦4ある。)
で表わされるチタン化合物(以下チタン化合物と
略記する)を担持せしめて得られる固体触媒成
分、〔〕有機アルミニウム化合物(以下有機金
属化合物と略記する)および〔〕(5)一般式
RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24の炭化
水素残基を示す。nは1≦n≦3である。)で表
わされる化合物を組み合わせてなる触媒を用い
て、α−オレフインの重合あるいは共重合をおこ
ない、著しく高活性に高立体規則性のポリオレフ
インを製造する方法に関する。 本発明において、(1)ハロゲン化マグネシウム、
(2)一般式RnSi(OR)4-oで表わされる化合物およ
び(3)芳香族ケトン化合物を接触させて本発明の固
体物質を得る方法としては特に制限はなく、不活
性溶媒の存在下あるいは不存在下に温度20℃〜
400℃、好ましくは50℃〜300℃の加熱下に、通
常、5分〜20時間接触させることにより反応させ
る方法、共粉砕処理により反応させる方法、ある
いはこれらの方法を適宜組み合わせることにより
反応させてもよい。 また、成分(1)〜(3)の反応順序についても特に制
限はなく、3成分を同時に反応させてもよく、2
成分を反応させた後、次いで残りの1成分を反応
させてもよい。 不活性溶媒は特に制限させるものではなく、通
常チグラー型触媒を不活性化しない炭化水素化合
物および/またはそれらの誘導体を使用すること
ができる。これらの具体例としては、プロパン、
ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキ
サン等の各種脂肪族飽和炭化水素、芳香族炭化水
素、脂環族炭化水素、およびエタノール、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
安臭香酸エチル等のアルコール類、エーテル類、
エステル類などをあげることができる。 共粉砕処理による場合は、通常ボールミル、振
動ミル、ロツドミル、衝撃ミルなどの装置を用
い、通常0℃〜200℃、好ましくは20℃〜100℃の
温度で、0.5時間〜30時間行うのが望ましい。 本発明においては、成分(1)〜(3)を共粉砕処理す
ることにより固体担体を得る方法が特に好ましく
採用される。 本発明において、成分(1)ハロゲン化マグネシウ
ムと成分(2)一般式RnSi(OR)4-oで表わされる化
合物との使用割合は、モル比で成分(1):成分(2)が
1:0.001〜10、好ましくは1:0.01〜1である。
成分(3)芳香族ケトン化合物の使用割合は、モル比
で成分(1):成分(3)が1:0.001〜10、好ましくは
1:0.01〜1である。 かくして得られる固体担体に、チタン化合物を
担持させることにより、固体触媒成分を得る。 担体にチタン化合物を担持させる方法としては
公知の方法を用いることができる。たとえば、固
体担体を溶媒の存在下または不存在下に、過剰の
チタン化合物と加熱下に接触させることにより行
なうことができ、好ましくは、1,2−ジクロロ
エタン等の溶媒の存在下に両者を、50℃〜300℃、
好ましくは80℃〜150℃に加熱することにより行
なうのが便利である。反応時間はとくに限定はさ
れないが通常は5分以上であり、必要ではないが
長時間接触させることは差支えない。たとえば5
分ないし10時間の処理時間をあげることができ
る。もちろん、この処理は酸素、および水分を絶
つて不活性ガス雰囲気下で行なわれるべきであ
る。反応終了後未反応のチタン化合物を取り除く
手段はとくに限定されるものではなく、チグラー
触媒に不活性な溶媒で数回洗浄し洗液を減圧条件
下で蒸発させ固体粉末を得ることができる。他の
方法としては、固体担体と必要量のチタン化合物
を共粉砕する方法をあげることができる。 本発明において共粉砕は通常0℃〜200℃好ま
しくは20℃〜100℃の温度で0.5時間〜30時間共粉
砕することにより本発明の触媒成分を製造するこ
とができる。もちろん共粉砕操作は不活性ガス雰
囲気中で行なうべきであり、また湿気はできる限
り避けるべきである。 本発明に使用されるハロゲン化マグネシウムと
しては実質的に無水のものが用いられ、フツ化マ
グネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウムおよびこれらの混合物が
あげられるがとくに塩化マグネシウムが好まし
い。 本発明において使用される成分(5)の一般式
RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24、好ま
しくは1〜12の炭化水素残基を示す。nは1≦n
≦3である。)で表わされる化合物としては、モ
ノメチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシラン、モノメチルトリn−ブトキシシラ
ン、モノメチルトリsec−ブトキシシラン、モノ
メチルトリイソプロポキシシラン、モノメチルト
リペントキシシラン、モノメチルトリオクトキシ
シラン、モノメチルトリステアロキシシラン、モ
ノメチルトリフエノキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルジイソプロポキシシラン、ジメチルジフエノキ
シシラン、トリメチルモノメトキシシラン、トリ
メチルモノエトキシシラン、トリメチルモノイソ
プロポキシシラン、トリメチルモノフエノキシシ
ラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノエチ
ルトリエトキシシラン、モノエチルトリイソプロ
ポキシシラン、モノエチルトリフエノキシシラ
ン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、ジエチルジフエノキシシラン、トリ
エチルモノフエノキシシラン、モノイソプロピル
トリメトキシシラン、モノn−ブチルトリメトキ
シシラン、モノn−ブチルトリエトキシシラン、
モノsec−ブチルトリエトキシシラン、モノフエ
ニルトリエトキシシラン、ジフエニルジエトキシ
シラン、モノビニルトリメトキシシラン、モノビ
ニルトリエトキシシラン、モノビニルトリイソプ
ロポキシシラン、モノビニルモノエトキシジフエ
ノキシシラン、モノアリルトリメトキシシラン、
モノアリルトリエトキシシラン、モノアリルモノ
エトキシジフエノキシシラン等をあげることがで
きる。またこれらの混合物として用いることもで
きる。成分(2)の化合物はこれらの化合物のうち炭
化水素基が不飽和炭化水素残基である化合物であ
る。これら成分(2)及び(5)の化合物のうち、モノビ
ニルトリメトキシシラン、モノビニルトリエトキ
シシラン、モノアリルトリメトキシシラン、モノ
アリルトリエトキシシラン等の化合物が成分(2)と
して特に好ましく、またモノフエニルトリエトキ
シシラン、ジフエニルジエトキシシラン等の化合
物が成分(5)として特に好ましい。 本発明に使用される芳香族ケトンとは通常二つ
の炭化水素基の少なくとも一方は炭素数6〜24、
好ましくは6〜14の芳香族炭化水素基であり、か
つカルボニル基が芳香族炭化水素基の核炭素に直
接結合しているものである。具体的にはアセトフ
エノン、プロピオフエノン、メチルアセトフエノ
ン、フエニルプロペニルケトン、ベンゾイルアセ
トン、エチルアセトフエノン、イソプロピルフエ
ニルケトン、イソバレロフエノン、バレロフエノ
ン、1−アセトナフトン、2−アセトナフトン、
シワロペンチルフエニルケトン、n−ブチルアセ
トフエノン、n−ヘキサノフエノン、n−ヘプタ
ノフエノン、ベンジルフエニルケトン、n−オク
タノフエノン、カルコン、ベンジル、4,4′−ジ
メチルベンゾフエノン、n−デカノフエノン、β
−ナフチルフエニルケトン、ラウロフエノン、n
−テトラデカノフエノン、ジベンゾイルメタン、
等をあげることができる。またこれらの混合物と
して用いることもできる。 本発明に使用されるチタン化合物としては、一
般式Ti(OR)oX4-o(ここでRは炭素数1〜20のア
ルキル基、アリール基またはアラルキル基を示
し、Xはハロゲン原子を示す。nは0≦n≦4で
ある。)で示されるものが用いられ、四塩化チタ
ン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、モノメトキ
シトリクロロチタン、ジメトキシジクロロチタ
ン、トリメトキシモノクロロチタン、テトラメト
キシチタン、モノエトキシトリクロロチタン、ジ
エトキシジクロロチタン、トリエトキシモノクロ
ロチタン、テトラエトキシチタン、モノイソプロ
ポキシトリクロロチタン、ジイソプロポキシジク
ロロチタン、トリイソプロポキシモノクロロチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、モノブトキシ
トリクロロチタン、ジブトキシジクロロチタン、
モノペントキシトリクロロチタン、モノフエノキ
シトリクロロチタン、ジフエノキシジクロロチタ
ン、トリフエノキシモノクロロチタン、テトラフ
エノキシチタン等をあげることができる。 本発明において、チタン化合物の使用量は特に
制限されないが、通常固体生成物中に含まれるチ
タン化合物の量が0.5〜20重量%、好ましくは1
〜10重量%となるよう調節するのが好ましい。 本発明に用いる有機金属化合物としては、チグ
ラー触媒の一成分として知られている有機アルミ
ニウム化合物が用いられる。具体的な例としては
一般式R3Al,R2AlX,RAlX2,R2AlOR,RAl
(OR)XおよびR3Al2X3の有機アルミニウム化合
物(ただしRは炭素数1〜20のアルキル基または
アリール基、Xはハロゲン原子を示し、Rは同一
でもまた異なつてもいてもよい)が好ましく、ト
リエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミ
ニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec
−ブチルアルミニウム、トリtert−ブチルアルミ
ニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチ
ルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウ
ムエトキシド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、およびこれらの混合物等があげられる。 本発明において、有機金属化合物と成分(5)一般
式RnSi(OR)4-oで表わされる化合物との使用割
合は有機金属化合物:成分(5)一般式RoSi(OR)4-o
(モル比)が1:0.001〜5、好ましくは1:0.01
〜2であり、成分(5)一般式RoSi(OR)4-oで表わさ
れる化合物は固体触媒成分〔〕中のチタン化合
物に対してSi:Ti比が0.1〜100:1、好ましくは
0.3〜20:1となるように使用する。 また本発明においては、有機金属化合物成分と
して前記有機金属化合物と成分(5)一般式RoSi
(OR)4-oで表わされる化合物との反応物を使用す
ることもでき、この時の反応割合は有機金属化合
物:成分(5)一般式RoSi(OR)4-o(モル比)が1:
0.001〜5、好ましくは1:0.01〜2の範囲であ
り、有機金属化合物と成分(5)一般式RoSi(OR)4-o
で表わされる化合物とを反応させて得られる生成
物の使用量は固体触媒成分〔〕中のチタン化合
物に対してSi:Ti比が0.1〜100:1、好ましくは
0.3〜20:1の範囲である。有機金属化合物と成
分(5)一般式RoSi(OR)4-oで表わされる化合物との
反応物を得る方法としては特に制限はなく、不活
性溶媒の存在下あるいは不存在下に−50℃〜400
℃、好ましくは50℃〜200℃の温度で5分〜20時
間接触させることにより反応させる方法もある。 本発明において有機金属化合物の使用量につい
ては特に制限されないが、通常チタン化合物に対
して0.1〜1000モル倍使用することができる。 本発明の触媒を使用してのオレフインの重合反
応は通常のチグラー型触媒によるオレフインの重
合反応と同様にして行われる。すなわち反応はす
べて実質的に酸素、水などを絶つた状態で、気
相、または不活性溶媒の存在下で、またはモノマ
ー自体を溶媒として行われる。オレフインの重合
条件は温度20℃ないし300℃、好ましくは40℃な
いし180℃であり、圧力は常圧ないし70Kg/cm2・
G、好ましくは2Kg/cm2・Gないし60Kg/cm2・G
である。分子量の調節は重合温度、触媒のモル比
などの重合条件を変えることによつてもある程度
調節できるが、重合系中に水素を添加することに
より効果的に行われる。そちろん、本発明の触媒
を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件の異
なつた2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応
も何ら支障なく実施できる。 本発明の方法はチグラー触媒で重合できるすべ
てのα−オレフインの重合に適用可能であり、た
とえばプロピレン、ブテン−1、4−メチルペン
テン−1などのα−オレフイン類の単独重合およ
びα−オレフインどうしまたはα−オレフインと
他のオレフイン類とのランダムおよびブロツク共
重合などに好適に使用される。また、ポリオレフ
インの改質を目的とする場合のα−オレフインと
ジエンとの共重合も好ましく行われる。 本発明においては、特に炭素数3〜8のα−オ
レフイン類を立体規則性よく重合または共重合さ
せるのに有効に用いることができる。 以下に実施例をのべるが、これらは本発明を実
施するための説明用のものであつて本発明はこれ
らに制限されるものではない。 実施例 1 (a) 触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム10g(105ミリモル)、モ
ノビニルトリエトキシシラン1.6ml(8ミリモル)
およびジベンゾイルメタン3.6g(16ミリモル)
を1/2インチ直径を有するステンレススチール製
ボールが25個入つた内容積400mlのステンレスス
チール製ポツトに入れ、窒素雰囲気下室温で16時
間ボールミリングを行つた。得られた共粉砕物を
窒素雰囲気下で300ml丸底フラスコにとり、四塩
化チタン50mlおよび1,2−ジクロロエタン50ml
を加え、80℃で2時間撹拌して反応させた。つい
でヘキサンで洗浄して未反応の四塩化チタンを除
去した後、減圧乾燥して触媒成分を得た。得られ
た触媒成分1gには24mgのチタンが含まれてい
た。 (b) 重合 誘導撹拌機付きの3ステンレススチール製オ
ートクレーブを窒素置換し、ヘキサン1500mlを入
れ、トリエチルアルミニウム2.5ミリモル、モノ
フエニルトリエトキシシラン1.4モリモルおよび
上記の触媒成分20mgを加え、更に水素を気相分圧
で0.05Kg/cm2になるよう装入した後撹拌しながら
50℃に昇温した。ヘキサンの蒸気圧で系は0.5
Kg/cm2・Gになるがついでプロピレンを全圧7
Kg/cm2・Gになるまで張り込んで重合を開始し
た。全圧が7Kg/cm2・Gになるようにプロピレン
を連続的に導入し2時間重合を行なつた。 重合終了後、余剰のプロピレンを排出し、冷
却、内容物を取り出し乾燥して白色のポリプロピ
レン182gを得た。このものは非晶質も含め全量
である。 触媒活性は700gポリプロピレン/g固体・
hr・C3H6圧、29Kgポリプロピレン/gTi・hr・
C3H6圧であつた。また溶媒可溶性重合体も含め、
沸とうn−ヘプタンによる全抽出残率は94.5%で
あり、ASTMD1238−73条件Lに従つて測定し
たメルトフロ−インデツクス(MFI)は8.5であ
つた。 比較例 1 ジベンゾイルメタンを使用しないことを除いて
は、実施例1と同様の方法で触媒成分を合成し、
実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果を表
2に示した。 比較例 2 モノビニルトリエトキシシランを使用しないこ
とを除いては実施例1と同様の方法で触媒成分を
合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つた。
結果を表2に示した。 比較例 3 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代
りにテトラエトキシシランを使用したことを除い
ては、実施例1と同様の方法で触媒成分を合成
し、実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果
を表2に示した。 実施例 2,3 実施例1のジベンゾイルメタンの代りに表1に
記した芳香族ケトン化合物(成分(3))を使用した
ことを除いては、実施例1と同様の方法で触媒成
分を合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つ
た。結果を表1に示した。ただし、実施例2にお
いて重合時の触媒成分使用量を10mgとした。 実施例 4 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代
りにモノアリルトリエトキシシランを使用したこ
とを除いては、実施例1と同様の方法で触媒成分
を合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つ
た。結果を表1に示した。 実施例 5 (a) 触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム10g(105ミリモル)、モ
ノビニルトリエトキシシラン1.6ml(8ミリモル)
およびジベンゾイルメタン3.6g(16ミリモル)
を1/2インチ直径を有するステンレススチール製
ボールが25個入つた内容積400mlのステンレスス
チール製ポツトに入れ、窒素雰囲気下室温で16時
間ボールミリングを行つた後、更に四塩化チタン
1mlを添加し、窒素雰囲気下室温で16時間ボール
ミリングを行つた。得られた触媒成分1gには26
mgのチタンが含まれていた。 (b) 重合 実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果を
表1に示した。 実施例 6 誘導撹拌機付きの3ステンレススチール製オ
ートクレーブを窒素置換し、ヘキサン1500mlを入
れ、トリエチルアルミニウム2.5ミリモルおよび
モノフエニルトリエトキシシラン1.4ミリモルを
加え、撹拌しながら80℃に昇温して1時間反応さ
せた。その後室温に冷却し、実施例1の触媒20mg
を加え、更に水素を気相分圧で0.05Kg/cm2となる
よう装入した後、撹拌しながら50℃に昇温した。
ヘキサンの蒸気圧で系は0.5Kg/cm2・Gになるが、
ついでプロピレンを全圧が7Kg/cm2・Gになるま
で張り込んで重合を開始した。以下は実施例1と
同様に行つた。結果を表1に示した。 実施例 7 実施例1の重合においてモノフエニルトリエト
キシシラン1.4ミリモルの代りにトリエチルアル
ミニウムとモノフエニルトリエトキシシランの反
応物(トリエチルアルミニウム/モノフエニルト
リエトキシシラン=1/0.33(モル比))0.4gを
使用したことを除いては実施例1と同様の方法で
重合を行つた。結果を表1に示した。
インを立体規則性よく重合または共重合する方法
に関する。 オレフインの高立体規則性重合触媒として、従
来よりチタンハロゲン化物と有機アルミニウム化
合物からなる触媒が知られている。しかし、この
触媒系を用いた重合では高立体規則性の重合体は
得られるものの触媒活性が低いため生成重合体中
の触媒残渣を除去する必要がある。 近年、触媒の活性を改善するための多くの提案
がなされてきている。これらの提案によれば
MgCl2などの無機固体担体に四塩化チタンを担持
させた触媒成分を用いた場合に高活性触媒となる
ことが示されている。 しかしながら、ポリオレフインの製造上、触媒
活性はできるだけ大きいことが好ましく、なお一
層高活性な触媒が望まれていた。また、重合体中
のアタクチツク部分の生成量ができるだけ少ない
ことも重要である。 本発明者らは、これらの点について鋭意研究し
た結果、ここに新規な触媒を見いだしたものであ
る。すなわち、本発明は新規な触媒を用いて、き
わめて高活性に高立体規則性のポリオレフインを
製造する方法に関するものであり、本発明の触媒
を用いることにより、重合時のモノマー分圧は低
く、かつ短時間の重合で生成重合体中の触媒残渣
量はきわめて少量となり、したがつてポリオレフ
イン製造プロセスにおいて触媒除去工程が省略で
き、かつ生成重合体中のアタクチツク部分の生成
量もきわめて少ないなどの多くの効果が得られ
る。 以下に本発明を詳述する。 本発明は〔〕(1)ジハロゲン化マグネシウム
(以下ハロゲン化マグネシウムと略記する)、(2)一
般式RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24の
不飽和炭化水素残基を示す。nは1≦n≦3であ
る。)で表わされる化合物および(3)芳香族ケトン
化合物を接触させて得られる固体物質に(4)一般式
Ti(OR)nX4-n(ここでRは炭素数1〜20のアルキ
ル基、アリール基またはアラルキル基を示し、X
はハロゲン原子を示す。mは0≦m≦4ある。)
で表わされるチタン化合物(以下チタン化合物と
略記する)を担持せしめて得られる固体触媒成
分、〔〕有機アルミニウム化合物(以下有機金
属化合物と略記する)および〔〕(5)一般式
RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24の炭化
水素残基を示す。nは1≦n≦3である。)で表
わされる化合物を組み合わせてなる触媒を用い
て、α−オレフインの重合あるいは共重合をおこ
ない、著しく高活性に高立体規則性のポリオレフ
インを製造する方法に関する。 本発明において、(1)ハロゲン化マグネシウム、
(2)一般式RnSi(OR)4-oで表わされる化合物およ
び(3)芳香族ケトン化合物を接触させて本発明の固
体物質を得る方法としては特に制限はなく、不活
性溶媒の存在下あるいは不存在下に温度20℃〜
400℃、好ましくは50℃〜300℃の加熱下に、通
常、5分〜20時間接触させることにより反応させ
る方法、共粉砕処理により反応させる方法、ある
いはこれらの方法を適宜組み合わせることにより
反応させてもよい。 また、成分(1)〜(3)の反応順序についても特に制
限はなく、3成分を同時に反応させてもよく、2
成分を反応させた後、次いで残りの1成分を反応
させてもよい。 不活性溶媒は特に制限させるものではなく、通
常チグラー型触媒を不活性化しない炭化水素化合
物および/またはそれらの誘導体を使用すること
ができる。これらの具体例としては、プロパン、
ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキ
サン等の各種脂肪族飽和炭化水素、芳香族炭化水
素、脂環族炭化水素、およびエタノール、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
安臭香酸エチル等のアルコール類、エーテル類、
エステル類などをあげることができる。 共粉砕処理による場合は、通常ボールミル、振
動ミル、ロツドミル、衝撃ミルなどの装置を用
い、通常0℃〜200℃、好ましくは20℃〜100℃の
温度で、0.5時間〜30時間行うのが望ましい。 本発明においては、成分(1)〜(3)を共粉砕処理す
ることにより固体担体を得る方法が特に好ましく
採用される。 本発明において、成分(1)ハロゲン化マグネシウ
ムと成分(2)一般式RnSi(OR)4-oで表わされる化
合物との使用割合は、モル比で成分(1):成分(2)が
1:0.001〜10、好ましくは1:0.01〜1である。
成分(3)芳香族ケトン化合物の使用割合は、モル比
で成分(1):成分(3)が1:0.001〜10、好ましくは
1:0.01〜1である。 かくして得られる固体担体に、チタン化合物を
担持させることにより、固体触媒成分を得る。 担体にチタン化合物を担持させる方法としては
公知の方法を用いることができる。たとえば、固
体担体を溶媒の存在下または不存在下に、過剰の
チタン化合物と加熱下に接触させることにより行
なうことができ、好ましくは、1,2−ジクロロ
エタン等の溶媒の存在下に両者を、50℃〜300℃、
好ましくは80℃〜150℃に加熱することにより行
なうのが便利である。反応時間はとくに限定はさ
れないが通常は5分以上であり、必要ではないが
長時間接触させることは差支えない。たとえば5
分ないし10時間の処理時間をあげることができ
る。もちろん、この処理は酸素、および水分を絶
つて不活性ガス雰囲気下で行なわれるべきであ
る。反応終了後未反応のチタン化合物を取り除く
手段はとくに限定されるものではなく、チグラー
触媒に不活性な溶媒で数回洗浄し洗液を減圧条件
下で蒸発させ固体粉末を得ることができる。他の
方法としては、固体担体と必要量のチタン化合物
を共粉砕する方法をあげることができる。 本発明において共粉砕は通常0℃〜200℃好ま
しくは20℃〜100℃の温度で0.5時間〜30時間共粉
砕することにより本発明の触媒成分を製造するこ
とができる。もちろん共粉砕操作は不活性ガス雰
囲気中で行なうべきであり、また湿気はできる限
り避けるべきである。 本発明に使用されるハロゲン化マグネシウムと
しては実質的に無水のものが用いられ、フツ化マ
グネシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウムおよびこれらの混合物が
あげられるがとくに塩化マグネシウムが好まし
い。 本発明において使用される成分(5)の一般式
RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数1〜24、好ま
しくは1〜12の炭化水素残基を示す。nは1≦n
≦3である。)で表わされる化合物としては、モ
ノメチルトリメトキシシラン、モノメチルトリエ
トキシシラン、モノメチルトリn−ブトキシシラ
ン、モノメチルトリsec−ブトキシシラン、モノ
メチルトリイソプロポキシシラン、モノメチルト
リペントキシシラン、モノメチルトリオクトキシ
シラン、モノメチルトリステアロキシシラン、モ
ノメチルトリフエノキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルジイソプロポキシシラン、ジメチルジフエノキ
シシラン、トリメチルモノメトキシシラン、トリ
メチルモノエトキシシラン、トリメチルモノイソ
プロポキシシラン、トリメチルモノフエノキシシ
ラン、モノエチルトリメトキシシラン、モノエチ
ルトリエトキシシラン、モノエチルトリイソプロ
ポキシシラン、モノエチルトリフエノキシシラ
ン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、ジエチルジフエノキシシラン、トリ
エチルモノフエノキシシラン、モノイソプロピル
トリメトキシシラン、モノn−ブチルトリメトキ
シシラン、モノn−ブチルトリエトキシシラン、
モノsec−ブチルトリエトキシシラン、モノフエ
ニルトリエトキシシラン、ジフエニルジエトキシ
シラン、モノビニルトリメトキシシラン、モノビ
ニルトリエトキシシラン、モノビニルトリイソプ
ロポキシシラン、モノビニルモノエトキシジフエ
ノキシシラン、モノアリルトリメトキシシラン、
モノアリルトリエトキシシラン、モノアリルモノ
エトキシジフエノキシシラン等をあげることがで
きる。またこれらの混合物として用いることもで
きる。成分(2)の化合物はこれらの化合物のうち炭
化水素基が不飽和炭化水素残基である化合物であ
る。これら成分(2)及び(5)の化合物のうち、モノビ
ニルトリメトキシシラン、モノビニルトリエトキ
シシラン、モノアリルトリメトキシシラン、モノ
アリルトリエトキシシラン等の化合物が成分(2)と
して特に好ましく、またモノフエニルトリエトキ
シシラン、ジフエニルジエトキシシラン等の化合
物が成分(5)として特に好ましい。 本発明に使用される芳香族ケトンとは通常二つ
の炭化水素基の少なくとも一方は炭素数6〜24、
好ましくは6〜14の芳香族炭化水素基であり、か
つカルボニル基が芳香族炭化水素基の核炭素に直
接結合しているものである。具体的にはアセトフ
エノン、プロピオフエノン、メチルアセトフエノ
ン、フエニルプロペニルケトン、ベンゾイルアセ
トン、エチルアセトフエノン、イソプロピルフエ
ニルケトン、イソバレロフエノン、バレロフエノ
ン、1−アセトナフトン、2−アセトナフトン、
シワロペンチルフエニルケトン、n−ブチルアセ
トフエノン、n−ヘキサノフエノン、n−ヘプタ
ノフエノン、ベンジルフエニルケトン、n−オク
タノフエノン、カルコン、ベンジル、4,4′−ジ
メチルベンゾフエノン、n−デカノフエノン、β
−ナフチルフエニルケトン、ラウロフエノン、n
−テトラデカノフエノン、ジベンゾイルメタン、
等をあげることができる。またこれらの混合物と
して用いることもできる。 本発明に使用されるチタン化合物としては、一
般式Ti(OR)oX4-o(ここでRは炭素数1〜20のア
ルキル基、アリール基またはアラルキル基を示
し、Xはハロゲン原子を示す。nは0≦n≦4で
ある。)で示されるものが用いられ、四塩化チタ
ン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、モノメトキ
シトリクロロチタン、ジメトキシジクロロチタ
ン、トリメトキシモノクロロチタン、テトラメト
キシチタン、モノエトキシトリクロロチタン、ジ
エトキシジクロロチタン、トリエトキシモノクロ
ロチタン、テトラエトキシチタン、モノイソプロ
ポキシトリクロロチタン、ジイソプロポキシジク
ロロチタン、トリイソプロポキシモノクロロチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、モノブトキシ
トリクロロチタン、ジブトキシジクロロチタン、
モノペントキシトリクロロチタン、モノフエノキ
シトリクロロチタン、ジフエノキシジクロロチタ
ン、トリフエノキシモノクロロチタン、テトラフ
エノキシチタン等をあげることができる。 本発明において、チタン化合物の使用量は特に
制限されないが、通常固体生成物中に含まれるチ
タン化合物の量が0.5〜20重量%、好ましくは1
〜10重量%となるよう調節するのが好ましい。 本発明に用いる有機金属化合物としては、チグ
ラー触媒の一成分として知られている有機アルミ
ニウム化合物が用いられる。具体的な例としては
一般式R3Al,R2AlX,RAlX2,R2AlOR,RAl
(OR)XおよびR3Al2X3の有機アルミニウム化合
物(ただしRは炭素数1〜20のアルキル基または
アリール基、Xはハロゲン原子を示し、Rは同一
でもまた異なつてもいてもよい)が好ましく、ト
リエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミ
ニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec
−ブチルアルミニウム、トリtert−ブチルアルミ
ニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチ
ルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、エチ
ルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウ
ムエトキシド、エチルアルミニウムセスキクロリ
ド、およびこれらの混合物等があげられる。 本発明において、有機金属化合物と成分(5)一般
式RnSi(OR)4-oで表わされる化合物との使用割
合は有機金属化合物:成分(5)一般式RoSi(OR)4-o
(モル比)が1:0.001〜5、好ましくは1:0.01
〜2であり、成分(5)一般式RoSi(OR)4-oで表わさ
れる化合物は固体触媒成分〔〕中のチタン化合
物に対してSi:Ti比が0.1〜100:1、好ましくは
0.3〜20:1となるように使用する。 また本発明においては、有機金属化合物成分と
して前記有機金属化合物と成分(5)一般式RoSi
(OR)4-oで表わされる化合物との反応物を使用す
ることもでき、この時の反応割合は有機金属化合
物:成分(5)一般式RoSi(OR)4-o(モル比)が1:
0.001〜5、好ましくは1:0.01〜2の範囲であ
り、有機金属化合物と成分(5)一般式RoSi(OR)4-o
で表わされる化合物とを反応させて得られる生成
物の使用量は固体触媒成分〔〕中のチタン化合
物に対してSi:Ti比が0.1〜100:1、好ましくは
0.3〜20:1の範囲である。有機金属化合物と成
分(5)一般式RoSi(OR)4-oで表わされる化合物との
反応物を得る方法としては特に制限はなく、不活
性溶媒の存在下あるいは不存在下に−50℃〜400
℃、好ましくは50℃〜200℃の温度で5分〜20時
間接触させることにより反応させる方法もある。 本発明において有機金属化合物の使用量につい
ては特に制限されないが、通常チタン化合物に対
して0.1〜1000モル倍使用することができる。 本発明の触媒を使用してのオレフインの重合反
応は通常のチグラー型触媒によるオレフインの重
合反応と同様にして行われる。すなわち反応はす
べて実質的に酸素、水などを絶つた状態で、気
相、または不活性溶媒の存在下で、またはモノマ
ー自体を溶媒として行われる。オレフインの重合
条件は温度20℃ないし300℃、好ましくは40℃な
いし180℃であり、圧力は常圧ないし70Kg/cm2・
G、好ましくは2Kg/cm2・Gないし60Kg/cm2・G
である。分子量の調節は重合温度、触媒のモル比
などの重合条件を変えることによつてもある程度
調節できるが、重合系中に水素を添加することに
より効果的に行われる。そちろん、本発明の触媒
を用いて、水素濃度、重合温度など重合条件の異
なつた2段階ないしそれ以上の多段階の重合反応
も何ら支障なく実施できる。 本発明の方法はチグラー触媒で重合できるすべ
てのα−オレフインの重合に適用可能であり、た
とえばプロピレン、ブテン−1、4−メチルペン
テン−1などのα−オレフイン類の単独重合およ
びα−オレフインどうしまたはα−オレフインと
他のオレフイン類とのランダムおよびブロツク共
重合などに好適に使用される。また、ポリオレフ
インの改質を目的とする場合のα−オレフインと
ジエンとの共重合も好ましく行われる。 本発明においては、特に炭素数3〜8のα−オ
レフイン類を立体規則性よく重合または共重合さ
せるのに有効に用いることができる。 以下に実施例をのべるが、これらは本発明を実
施するための説明用のものであつて本発明はこれ
らに制限されるものではない。 実施例 1 (a) 触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム10g(105ミリモル)、モ
ノビニルトリエトキシシラン1.6ml(8ミリモル)
およびジベンゾイルメタン3.6g(16ミリモル)
を1/2インチ直径を有するステンレススチール製
ボールが25個入つた内容積400mlのステンレスス
チール製ポツトに入れ、窒素雰囲気下室温で16時
間ボールミリングを行つた。得られた共粉砕物を
窒素雰囲気下で300ml丸底フラスコにとり、四塩
化チタン50mlおよび1,2−ジクロロエタン50ml
を加え、80℃で2時間撹拌して反応させた。つい
でヘキサンで洗浄して未反応の四塩化チタンを除
去した後、減圧乾燥して触媒成分を得た。得られ
た触媒成分1gには24mgのチタンが含まれてい
た。 (b) 重合 誘導撹拌機付きの3ステンレススチール製オ
ートクレーブを窒素置換し、ヘキサン1500mlを入
れ、トリエチルアルミニウム2.5ミリモル、モノ
フエニルトリエトキシシラン1.4モリモルおよび
上記の触媒成分20mgを加え、更に水素を気相分圧
で0.05Kg/cm2になるよう装入した後撹拌しながら
50℃に昇温した。ヘキサンの蒸気圧で系は0.5
Kg/cm2・Gになるがついでプロピレンを全圧7
Kg/cm2・Gになるまで張り込んで重合を開始し
た。全圧が7Kg/cm2・Gになるようにプロピレン
を連続的に導入し2時間重合を行なつた。 重合終了後、余剰のプロピレンを排出し、冷
却、内容物を取り出し乾燥して白色のポリプロピ
レン182gを得た。このものは非晶質も含め全量
である。 触媒活性は700gポリプロピレン/g固体・
hr・C3H6圧、29Kgポリプロピレン/gTi・hr・
C3H6圧であつた。また溶媒可溶性重合体も含め、
沸とうn−ヘプタンによる全抽出残率は94.5%で
あり、ASTMD1238−73条件Lに従つて測定し
たメルトフロ−インデツクス(MFI)は8.5であ
つた。 比較例 1 ジベンゾイルメタンを使用しないことを除いて
は、実施例1と同様の方法で触媒成分を合成し、
実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果を表
2に示した。 比較例 2 モノビニルトリエトキシシランを使用しないこ
とを除いては実施例1と同様の方法で触媒成分を
合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つた。
結果を表2に示した。 比較例 3 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代
りにテトラエトキシシランを使用したことを除い
ては、実施例1と同様の方法で触媒成分を合成
し、実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果
を表2に示した。 実施例 2,3 実施例1のジベンゾイルメタンの代りに表1に
記した芳香族ケトン化合物(成分(3))を使用した
ことを除いては、実施例1と同様の方法で触媒成
分を合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つ
た。結果を表1に示した。ただし、実施例2にお
いて重合時の触媒成分使用量を10mgとした。 実施例 4 実施例1のモノビニルトリエトキシシランの代
りにモノアリルトリエトキシシランを使用したこ
とを除いては、実施例1と同様の方法で触媒成分
を合成し、実施例1と同様の方法で重合を行つ
た。結果を表1に示した。 実施例 5 (a) 触媒成分の合成 無水塩化マグネシウム10g(105ミリモル)、モ
ノビニルトリエトキシシラン1.6ml(8ミリモル)
およびジベンゾイルメタン3.6g(16ミリモル)
を1/2インチ直径を有するステンレススチール製
ボールが25個入つた内容積400mlのステンレスス
チール製ポツトに入れ、窒素雰囲気下室温で16時
間ボールミリングを行つた後、更に四塩化チタン
1mlを添加し、窒素雰囲気下室温で16時間ボール
ミリングを行つた。得られた触媒成分1gには26
mgのチタンが含まれていた。 (b) 重合 実施例1と同様の方法で重合を行つた。結果を
表1に示した。 実施例 6 誘導撹拌機付きの3ステンレススチール製オ
ートクレーブを窒素置換し、ヘキサン1500mlを入
れ、トリエチルアルミニウム2.5ミリモルおよび
モノフエニルトリエトキシシラン1.4ミリモルを
加え、撹拌しながら80℃に昇温して1時間反応さ
せた。その後室温に冷却し、実施例1の触媒20mg
を加え、更に水素を気相分圧で0.05Kg/cm2となる
よう装入した後、撹拌しながら50℃に昇温した。
ヘキサンの蒸気圧で系は0.5Kg/cm2・Gになるが、
ついでプロピレンを全圧が7Kg/cm2・Gになるま
で張り込んで重合を開始した。以下は実施例1と
同様に行つた。結果を表1に示した。 実施例 7 実施例1の重合においてモノフエニルトリエト
キシシラン1.4ミリモルの代りにトリエチルアル
ミニウムとモノフエニルトリエトキシシランの反
応物(トリエチルアルミニウム/モノフエニルト
リエトキシシラン=1/0.33(モル比))0.4gを
使用したことを除いては実施例1と同様の方法で
重合を行つた。結果を表1に示した。
【表】
第1図は本発明の方法で用いる触媒の調製工程
を示すフローチヤート図である。
を示すフローチヤート図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 [] (1) ジハロゲン化マグネシウム、 (2) 一般式RnSi(OR)4-o(ここでRは炭素数
1〜24の不飽和炭化水素残基を示す。nは1
≦n≦3である。)で表わされる化合物、お
よび (3) 芳香族ケトン化合物 を接触させて得られる個体物質に (4) 一般式Ti(OR)nX4-n(ここでRは炭素数1
〜20のアルキル基、アリール基またはアラル
キル基を示し、Xはハロゲン原子を示す。m
は0≦m≦4である)で表わされるチタン化
合物 を担持せしめて得られる固体触媒成分、 [] 有機アルミニウム化合物、および [] (5) 一般式RnSi(OR)4-o(ここでRは
炭素数1〜24の炭化水素残基を示す。nは1
≦n≦3である。)で表わされる化合物、 を組み合わせてなる触媒を用いてα−オレフイ
ンの重合あるいは共重合をおこなうことを特徴
とするポリオレフインの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2164283A JPS59147005A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | ポリオレフインの製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2164283A JPS59147005A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | ポリオレフインの製造方法 |
Publications (2)
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Family Applications (1)
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Also Published As
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