JPS59106956A - 鏡状の金属被覆製品の製造方法 - Google Patents

鏡状の金属被覆製品の製造方法

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JPS59106956A
JPS59106956A JP58224587A JP22458783A JPS59106956A JP S59106956 A JPS59106956 A JP S59106956A JP 58224587 A JP58224587 A JP 58224587A JP 22458783 A JP22458783 A JP 22458783A JP S59106956 A JPS59106956 A JP S59106956A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般的にいえば、基板に特殊の金属化を施し
た製品を製造する加工法に関するものである。基板は、
その形状は膜状あるいはシート状でよく、材料は紙、ボ
ール紙、木、プラスチック、その他いろいろのものでよ
い。基板には、特別の処理や研磨を必要とすることなく
、高度に光沢のある、滑らかな、且つ磨かｎた鏡状の金
属外観が与えら扛る。
この技術分野においては、膜状およびシート状の基板の
表面を金属化するためのものとして、西条の加工法が知
ら扛ている。そのうちの１つの加工法は、溶剤を基にし
た接着剤或いは重合（４） による接着剤を用いることによって基体の上に金属箔を
積層することを含んでいる。この加工法はふつうたわみ
易い材料を金属化するのに用いらｎ、使用さする金属の
最もふつうのものはアルミニウム箔である。この加工法
は金属箔が１ミクロン以上の厚さであることが要求さｎ
る。
こｔＪ：、！ｌｌｌ薄い箔を用いることは、量産ベース
では不可能であシ、ただ少量バッチ生産のときＫのみ可
能である。鏡状の仕上げを得るためには、金属箔は磨き
上げておかなけｔばならない。最終製品の光沢と仕上げ
は、基体に依存するのではなく、むしろその箔に与えら
扛た光沢と仕上げに依存する。
従来知らｎているもう１つの加工法は、非常に微細な金
属粉末を結合剤中に分散させることとその粉末を含む結
合剤を金属化すべき表面に展延することから成シ立って
いる。更に他の金属化加工法は化学的な沈澱および電解
手段によって実行さｎる。こｎらの加工法においては、
金属化さｎた表面の光沢および仕上げは基体の（５） 光沢と仕上げに依存する。
高度の光沢と鏡のような仕上げは基体材料が光沢がある
とき、たとえばプラスチック皮膜或いは磨か扛だ表面で
あるときに得らｎる。基体が滑らかでないときは滑らか
な仕上げは得ら扛ない。したがって、とｎらの加工法に
おいては、光沢と仕上げは使用さｎる金属の光沢や仕上
げではなくむしろ基体の光沢や仕上げに依存する。
更に別のよく用いらｎる加工法は、蒸気化した金属を金
属化すべき基体上に凝縮させる真空金属化法である。こ
の加工法は基体を容器に容３−４ Ａ１．Ｏから１０　トル程度の高真空に保つ必要がある
。この加工法はガスを出さない材料或いは湿気、可塑剤
、レジンなどのような蒸発し易い物質を含まない材料に
限定さ扛ることは明らかであんこの加工法の不利な点は
、蒸気化さｎた金属が凝縮しようとする表面の粗さを平
滑化しないので、出来上った面がふつうやや粗いという
ことである。紙のような基体の仕上げを良くしようとす
るには、その紙基体を予め磨く（６） か予めワニスを塗って置くことが必要である。
ある例では、鏡のような面を作るのには基体を予め処理
して置くことだけでは不充分で、その基体表面を高湿で
つや出しするもう１つの工程を必要とする場合すらある
。この余分の工程は仕上げらｎた製品のコストを極めて
高くする。
更に又、この加工法が紙やボール紙のような実質的にガ
スを出す材料に用いら２″Ｌるときは、この紙やボール
紙に含まｔている空気や水分によって起さｎる箱の中の
真空度の損失に打克つためには、高真空度の得らｎる真
空金属化装置が必要となる。成る例では、金属化に先立
って材料のガス出しが必要となる。
さらに、本願のように転写材上に金属粒子を蒸着しそ扛
を基体上に転写する方法が知ら扛ている。しかしながら
従来の方法は金属粒子の蒸着性を高めるために転写材表
面をあらかじめ荒したりまた剥離層その他の層を形成す
る等の処理１ｒ＆うため工程が複雑になり、また金属粒
子の蒸着量が多いため、本願のように極薄の金（７） 属層の形成が困難で６Ｄ、従って金属材料の節約が出来
ない。
本発明の加工法およびこの方法によって得ら扛る製品は
、基体あるいは金属の平滑さとは無関係な滑らかな鏡の
ような表面を、基体を予備処理することなく又基体を真
空にさらすこともなく得らｎることに向けらｎている〇 一般的にいえば、本発明によ扛ば、基体を金属化する加
工法が提供される。本発明を実行するに当っては、金属
粒子の極めて薄い被膜が微細に仕上げらｎた未処理の転
写材の上に堆積さする。ワニスの薄い被膜が基体か転写
材のどちらかに施さ扛る。転写材と基体はワニスが硬化
する前に一緒に積層さ扛る。金属粒子はその厚さが極め
て薄いためワニスの被膜の中に容易に吸収さｎるか埋め
込まｎｌこｎによって基体に鏡のような金属仕上げの外
観を与える。ワニスが硬化した後、転写材と基体は分離
さｎる。転写材は次の加工に再使用することもできる。
（８） したがって本発明の目的は、金属箔の積層よシ実質的に
薄く且つはるかに軽量の金属被膜をを持った基体を提供
し、と扛によ多金属から被覆さｎた基体を非常に多量に
生産し且つ材料のコストを非常に低下させることにある
。
本発明の他の目的は、金属箔と同じく鏡のような光沢を
有し且つ箔の積層よりは実質的に経済的な、金属被覆の
基体を生産するための力旺法を提供するにある。
本発明のさらにもう１つの目的は、時の経過と共に外観
が黄ばんだシ変色したシすることがない金属箔に近い化
学抵抗を有していて、摩耗に耐え、たわみ性があシ、且
つ硬くて、多種の生産工程や印刷工程に耐え、且つ表面
に印刷可能な金属被覆基体を提供するにある。
本発明の更に他のもう１つの目的は、赤外線を反射し可
視線や紫外線を遮って食物の包装に適しておシ、箔のよ
うに比較的不透性であシ、更に印刷機械でラインに載せ
て製造可能であるような金属被覆基体を提供するにある
。
（９） 本発明の別の目的は、屈曲してもひび割わがない、ワニ
スおよび金属で被覆した基体を提供するにある。
本発明の他のいくつかの目的は、次の詳細な説明を一読
す扛ば明らかになるであろう。
次に図面を参照して説明する。
第１図は本発明による金属で被覆した基体を製造するだ
めの加工法のフローダイヤグラムを示した図である。光
沢のある磨きの掛った表面を持っている未処理の転写材
２０が金属化さｎるのである。転写材は、製品に最終的
な表面を与えるので、微細に仕上げて置かなけｎばなら
ない。又転写材は金属粒子に対して、使用さｎるべきワ
ニスよりも弱い粘着力を持っている必要がある。本発明
の方法においては、前記のような転写材で表面が未処理
のものを使用することが極めて重要である。転写材の表
面が未処理であるため金属粒子の付き過ぎが抑制さｎ、
極めて薄い金属層が得ら転ワ＝兆移転、埋没、固定が容
易であり、また金属材料が大巾に節約（１０） できる。転写材２０として適切な材料としては未処理の
ポリプロピレン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ塩
化ビニール、ポリアミド、以上の材料の組合せ、および
再生セルロース゛など技術のような公知の加工法による
金属粒子の堆積によって金属化さｎる。堆積に適した金
属としてはアルミニウム、銅、銀、ニッケル、錫、白金
、金、とわら金属の合金、および他の蒸気化し易い金属
が挙げらｎ、る。堆積さ扛る金属の量は堆積さ扛た金属
粒子が極めて薄い層を作るよう監視される。堆積さｔた
粒子は光の波長よシ実質的に短い厚さ、例えば１０００
オングストローム以下、好ましくは５００オングストロ
ーム以下を有し、又可視光線の波長より実質的に短い空
間（層の厚さによってこのような空間或いは金属被膜の
孔が起る場合に）を有している。したがって、光線は金
属状表面から殆んど完全に反射さｎ、金属上表面は連続
的に見え、完全に鏡のような金属状表面を呈する。
転写材２０が２２で金属堆積の工程を施さ扛ている間に
、基体２４が用意される（こわらの工程は同時に行う必
要はない）。基体は、最終的には金属粒子で被覆さｎる
ものであるが、膜またはソートの形をしていてよく又表
面は粗でも滑らかでもよい。基体として適当なものとし
て紙、ボール紙、木材、革、プラスティック、および実
際にワニスで被覆することのできるすべてのシート材料
が挙げらｎる。基体２４は２６で薄いワニスの被膜で被
覆される。この工程に用いら扛るワニスとしてはポリウ
レタンワニスが適当である。ワニスは、滑らかな鏡のよ
うな表面を転写材と共同して作るための運搬体として役
に立つと共に、工程２２において堆積さｎた金属粒子を
転写材２０から基体２４に移しその粒子をワニスの中に
吸収する粘着材として役立つものである。ワニスは又基
体２４の表面を平にならし滑らかにするのに役立ってい
る。
ワニスは基体に粘着するが転写材２０には粘着しないこ
とが本発明の特徴である。
もう１つのやシ方として、ワニスの被覆を転写材２０の
上に堆積さ扛た金属粒子の上に施してもよい。この別法
が好ましいか他の方法が好ましいかは経験的にみてワニ
スと基体の如何によってきまるものであるが、この別法
は基体にワニスを塗る場合に作ら扛るものと実質的に同
じ完成品を作り出す。この別法は第１図において工程２
２から工程２６に至るフロー線として示さｎている。
金属粒子を転写材２０の上に堆積する工程２２゜および
基体２４もしくは転写材２０の被覆工程２６のあと、積
層工程２８が行なわｎる。工程２８はワニスが硬化する
機会を持つ前に行なわ扛る。積層工程２８においては、
基体２４は転写材２０の金属を被覆した表面と接触させ
らｎる。この工程は基体２４と転写材２０を単一のロー
ルで少し圧力を掛けてロールすることによって実施する
ことが好ましい。この工程は従来の積層法と同じである
。ワニスは金属粒子を転（１３） 写材２０から基体２４に移す。ワニスは金属粒子を吸収
し、そして−たび引き離さｎると転写材２０の滑らかな
表面特性を引き受ける。
積層さ扛た基体２４と転写材２０は、工程３０で空気乾
燥又はふつうの硬化処理によシ硬化さｆる。ワニスが一
旦固まるか、乾燥さ１．るか、或いは重合すると、ワニ
スは転写材には結合せず基体２４に強く結合する。硬化
工程３０は自然のままにまかせてもよく、熱するか放射
線にさらすかして促進してもよい。３０で硬化した後、
分離工程３２が行わｎる。転写材２０と基体２４は２つ
の分離したローラの上に分Ａ（たわみ易い膜の場合）、
そしてこの点において、ワニスとそｎが吸収した或・い
は抱えこんだ金属粒子が基体２４に粘着させらする。３
２で分離したあと、転写材２０は非常に多数回再使用さ
ｔ、こｎによって極めて経済的な利益をもたらすもので
ある。
仕上り製品３４は、滑らかな、鏡のような、金属状を呈
する被膜を有する基体から成立って（１４） いるが、この被膜は、金属粒子間のいかなる隙間あるい
は９間も光を少ししか透過させないので（すなわち３０
％以下、好捷しくけ２０％以下）連続的で且つ滑らかな
外観を呈している。フェノは基体２４の全表面に拡げる
必要はなく、むしろいろいろなパターンでほんのある部
分だけに分配でき扛ばよい。このように基体２４のある
部分だけが金属状の光沢を持つようになる。
仕上り製品３４はいろいろの他の工程、たとえば切断、
打出し、染料スタンプ、切開、および、オフセット、ロ
ートグラビヤ、フレクツグラフィック、絹紗スクリン捺
染法などの印刷システムによる金属化表面へのプリント
などのようないろいろの工程に付せらｎる。
上述したように、本発明の方法は、真空蒸着等において
、転写材の未処理表面に対しては十分な厚さの金属被膜
の形成が困難であるという従来技術の問題点を逆に利用
して、この点と一層のフェノによる分散、接着、固定お
よび平滑表面を有する転写材からの転写による平滑光沢
表面の形成という三つの要素を組合せることにより、前
述した従来技術の種々の問題点を解決したものである。
この目的のために、転写材として未処理の材料を使用し
、真空蒸着等によシ転写材上に１０００オングストロー
ム以下の出来る限り薄い金属被膜を形成することにより
、転写材からの 剥離および転写の容易化、金属材料の節約ならびに製品
の軽量化をはかるとともに、転写材上に形成さ扛たその
金属被膜を、一層のワニス塗膜と接触させて金属粒子を
ワニス中に埋没、分散させた上任意の基体上に圧着転写
、固定することによシ、基体の種類、性状、表面の処理
、未処理の別および平担度に関係なく、完全に平担かつ
平滑で充分な強度を有する鏡状の金属光沢表面を形成す
ることを可能にする。また一層のワニス塗膜のみで金属
薄膜の接着、固定、表面の形成、補強および転写材から
の剥離等の作用をなすので、工程および塗布材料を著し
く節約することができる。さらに、転写材からの剥離が
完全に行わｎるので、転写材を何度もくり返して使用す
ることができ、コストがさらに低減できる。
上記に、金属を被覆した基体の製造のための加工法の種
々の工程および工程の相互間関係について述べたが、各
工程の装置や加工法につきこｎから更に詳しく説明する
。
第２図は金属粒子を転写材２０の上に堆積する工程２２
を実行するための好ましい実施例の概略を示したもので
ある。金属被覆表面を作り出す最も効果的な形態は、転
写材２０がローラ装置から供給さ扛る長い膜状材料の形
をしているときである。転写材２０はふつうの真空室３
６内に供給される。真空室３６内には基体２０の上に堆
積すべき金属（たとえばアルミニウム）の貯蔵器３８が
多数段けらｎている。貯蔵器は一様な被覆を与えるのに
充分な数だけ（たとえば７Ｓｆ１ｍ幅の膜材に対し、幅
ＩＣＩｎ長さ７．５６Ｉｎの貯蔵器１０個）用意さｎて
いる。各貯蔵器３８は液化温度まで（たとえばアルミニ
ウムに対しく１７） １５００℃）に加熱さｆ、膜材は水冷ローラ４０により
室温に保たｎ１貯蔵器３８上を約１．５ｃｍ通過する。
転写材２０が真空室３６を通過すると、液状金属により
発せらｎた今晩蒸気３９は、温度差によって転写材の方
に移シ、３９′のととるで凝縮する。転写材２０の膜の
速度は、貯蔵器の温度も同様であるが、この膜材に凝縮
によシ堆積さｎる金属が好ましくは基体２０上の約５０
０オングストロームよシは薄い厚さを持つように連続的
に調整さｎる。この極端に小さい膜厚（深さ）は金属材
料の使用を最小限にすることを可能とするが、加工の最
後において、ワニス仕上げのために完全に金属化さｔた
連続的な金属面の外観を与える。真空堆積処理の制御は
、適当な電子的又は機械的手段によって、堆積速度が常
に監視さｎそｎが種々の加熱電極および膜状転写材２０
の供給速度の制御用に帰還されるような形で行わｎる。
第３Ａ図および第５図はワニス被覆工程２６を示したも
ので、第３Ａ図は基体の表面を平ら（１８） にするためにワニスを用いるところを、第３Ｂ図は使用
さ扛るべきワニスの量を決定する方法をそ扛ぞ７１．あ
られしたものである。
第３Ａ図を参照して、先に示したように、基体２４は材
料さえ適当なら表面は粗くても平滑であってもよい。ワ
ニス被覆は、すべての型の表面に均一の鏡のように滑ら
かな被覆を与え、又基体２４の表面上に存在する如何な
る間隙をも充満するので、予備調整を必要としない。こ
のことは第３Ａ図に示さ扛ていて、基体２４はワニス４
２で被覆さｒしておシ、このワニスは基体２４の不規則
な表面を完全に滑らかにしている。
次に第３Ｂ図を参照すると、一般的にいえば、基体２４
の表面が粗であわばある程、或いは吸収性であ扛ばある
ほど、よシ多量のワニスが必要となる。この必要量は経
験的に次のようにして行わ扛る。すなわち基体２４の試
験試料を用意し、こｎを傾けておき、そｒしから傾いた
基体２４の上に一滴のワニス４２を垂らし、流ｎ落ちた
距離Ａを測定する。そして基体２４の代りにガラス片４
４で同じような試験を行う。そｎから流を落ちた距離Ｂ
が測定さｎる。ガラス４４を適当に被覆するのに必要な
ワニス４２の既知量から、基体２４を被覆するワニス４
２のｌが決定さｎる。ワニス４２は基体２４或いは転写
材２０上に既知の手段によって被覆さ扛るが、浴槽に侵
す方法は好ましいことが見出さ扛ている。ワニスの被覆
は谷部を満たし丘陵部の頂きに達するに足る量さえ６３
ばよい。
第４Ａ図および第４Ｂ図は、金属を堆積した転写材２０
と基体２４との積層、およびそのときのローラの圧力と
直径の関係をそ、ｆＬぞｆ示している。基体２４と金属
の堆積した転写材２０の各膜材は、一対のローラ４６と
４８の間で面と面が相対して−しよに運ば７Ｌる。ロー
ラ４６はたとえばショア硬度約７５のゴムローラであシ
、ローラ４８は適当に硬いローラ、たとえばクロームを
被覆した或いはステンレススチール製のローラであって
よい。口・−ラ４６と４８のに圧力が掛けらｎて、基体
２４を金属の堆積した転写材２０に積層する。積層工程
は被覆工程２６および堆静工程２２のあとに連続する工
程で、ワニス４２が硬化するか凝固、するまでに実行さ
ｆＬる。ローラ４６と４８の間に加えらｎる圧力は、第
４Ｂ図に示すように、ローラの直径に反比例する。圧力
−直径の絹合せの１例としては、５ｋｇから６　ｋｇの
圧力と、ローラ４６の約１１０ｔｙｎの直径との組合せ
がある。基体２４と転写材２０は、ローラ４６と４８を
出ると、巻取シローラ５０のまわシに巻かｎ１巻きとら
扛てしまりと硬化のために列さｎる。
硬化工程３０は巻かｎている状態で約２４時間行わｆＬ
るか、或いは他のワニスを用いるか、或は加熱するか放
射純にさらすかして硬化を促進してもよい。上に示した
ように、ワニス４２が固まると、転写材２０上に堆積さ
ｒしる金属粒子（詳細は第４Ａ図を見よ）は基体２４上
のワニス４２によって完全に捕えらｎる。重要なこ（２
１） とであるが、ワニス４２は転写材２０の滑らかな表面を
引受け、こｒＬが本加工法によって得ら扛る鏡のような
仕上りに対する最も重要な点である。しかしながら、ワ
ニス４２と転写材２０の間には如何なる種類の結合も行
わｎず、転写材は４０回以上の再使用ができ、こ、ｆ′
Ｌによって本加工法は極めて経済的になる。
第５図は以上のようにして出来た金属化した基体を転写
材から分離する工程を示した図である。ローラ５１は相
接して並列するローラ５２と５４に接触するように置か
わる。接ローラ５２は転写材２０をはがすが、この転写
材は金属被覆を基体２４上のワニス層にすでに移してし
まって今はもう全く有していない。したがって、接ロー
ラ５４は基体２４．３９′、および４２をはがすが、こ
の基体のワニスには金属粒子が埋め込ま扛ていて、滑ら
かな鏡のような金属的な仕上シを有している。転写材２
０は、ローラ５２から離さｎだあと何回も再使用でき、
（２２） 仕上った製品はローラ２４から離さｎ更に次の工程、た
とえば先に示したような印刷或いは切断のような工程に
送らγしる。基体２４と転写材２０を分離するとき、こ
ｎらの間にはほんの僅かの粘着力しか働かない。この粘
着力は１平方鑞あだ、９５−１０グラム程度であり、こ
ｎが使用ワニスの引く力より小さけｎば加工法の機能的
な要求は達成さｎる。
次のいくつかの実例はこの加工法およびこの加工法によ
シ形成さ扛た製品をあられしたものであるが、こｎらの
例は如何なる形でも本発明を限定するものではないこと
をあらかじめ述べておく。
例１：厚さ２０ミクロンの未処理のポリプロピレンのフ
ィルムが転写材として用いらｎ、予備被覆を行うことな
しに真空金属化を行う。１平方メートル当り０．０３グ
ラム程度の極端に薄いアルミニウムの層がフィルムの上
に堆積さ扛る。この層はポリプロピレンフィルム転写材
の表面に１０５オングストローム程度の極めて薄いアル
ミニウム被膜を堆積することになる。厚さの範囲として
は５０〜２５０オングストロームが好ましい。この加工
法はリール上で連続的に行うのに効果的である。
この例においては、ワニスの被膜は基体自体に行うので
はなく、フィルム状転写材上の今頃状被膜に施さ扛る。
この場合に用いらｎるワニスはポリウレタン型のもので
、被覆さｎたあと、フィルムは揮発分を除去さ扛（たと
えば排気扉を用いた大気中でローラーのリールの上を通
過させる）、そして金属化すべき基体に積層される。こ
の場合、基体は重量が一平方メートルあたり約８０グラ
ムの紙である。積層処理はロータグシビア或いはフレク
ングラフィック印刷機（図示してない）においてライン
に載せて連続的に効果的に行わｎる。積層は常温におい
て行わ扛る。
積層が済むと、転写材と基体は結合さｎた状態で、ワニ
スが固まって転写材から容易に離すことができるに足る
充分な時間だけリール上に貯蔵しておく。こｎも又経験
的に決めるのが最もよいが、ワニスと、その厚さと、基
体に依存する。転写材と基体は図に示すようにほどき機
械においてお互いからけがさｎる。転写材は次に再使用
さｎる。
例２：この例においては、転写材は前の例と同じように
金属化さｎ、る。このあと、転写材の金属化さ扛た面は
溶媒のないポリウレタン型のワニスで被覆される。前の
例と異って、この場合溶媒の蒸発は必要がない。ワニス
が施さｔてから転写材は１平方メートル当シ８０グラム
の基体に積層さｎる。次は前例と同Ｅように、この積層
材料はワニスが固まるのに充分な時間（たとえば２４時
間）放置さｎ、そｎから転送材と基体が分離さてしる。
例３：前と同様に、転写材は真空処理によって金属化さ
扛る。そのあと、転写材の金属化さく２５） 扛だ表面は、紫外線で交叉結合する光重合レジンを用い
て、基体の表面に結合さγＬる。溶媒は蒸発によって除
去さｎ、転写材は基体に積層さｎる。この例では、結果
が同じであるところから、ワニスは転写材と基体のうち
のどちらに施してもよい。積層さｎたあと、重合材は転
写材を通して紫ｌＡ線で照射される。こｎによってレジ
ンは直ちに固まり、基体は同じ機械で連続的な処理で転
写材からはがさｎる。出来上った基体は高度に光沢のあ
る鏡のような金属化さγ１−だ表面を持ち而も耐熱性が
ある。
本発明は特定の好ましい実施例について説明したが、こ
の業界における専門家ならすぐ理解さｎるように、本発
明の精神と範囲から逸脱することなくいくつかの修飾や
変形を行うことが可能である。このような修飾や変形は
本発明の特許請求の範囲の中に含まｎるものと考えらｎ
る。
【図面の簡単な説明】
（２６） 第１図は本発明における基体を金属化する加工法のフロ
ーｉ°イヤグラムを示した図、第２図は本発明の、金属
粒子を転写材上に堆積する工程を実行するのに用いる装
置の概略を示した図、第３Ａ図は基体の表面にワニスを
塗布する工程を示した図、第３Ｂ図はワニスの必要量を
決定する方法を示した図、第４Ａ図は基体２４と金属を
堆積した転写材２０の積層を示［７た図、第４Ｂ図は前
ｇｅの積層におけるローラの圧力と直経の関係を示した
図、第５図は金属化した基体を転写材から分離するとこ
ろを示した図である。 記号の説明＝２０は転写材、２２は金属粒子堆積工程、
２４は基体、２６はワニスの被覆工程、２８は積層工程
、３０は硬化工程、３２は分離工程、３４は仕上シ製品
、３６は真空室、３８は金属貯蔵器、４０は水冷ローラ
、４２はワニス、４４はガラスをそ扛ぞ扛表わしている
。 特許出願代理人 弁護士高取伸一部 （２７）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、再使用可能な未処理の転写材を用いて処理済または
    未処理の基体を金属化して金属被覆製を得る方法であっ
    て、前記未処理の転写材上に厚さが１０００オングスト
    ロームよシ実質的に小さい大きさの金属粒子の薄膜を堆
    積する工程と、前記処理済または未処理の基体と前記金
    属化した転写材のうちの少くとも一方の全部または一部
    分をワニスのみで被覆する工程と、前記ワニスが硬化す
    る前に前記基体と前記転写材を積層し前記金属粒子が前
    記ワニスに埋めこ！ｎるようにする工程と、前記ワニス
    を硬化する工程と、前記転写材を前記基体から分離し、
    このとき前記基体が鏡状の金属仕上シを与えらｎるよう
    にした工程と、前記転写材を金属化工程において再使用
    する工程を含むようにした、鏡状の金属被覆製品を製造
    する方法。 （１） ２、特許請求の範囲第１項に記載した製造方法であって
    、前記金属粒子が前記転写材に堆積するときに、前記固
    化したワニスのひきはなす力よシも小さい付着力によっ
    て最小限度に付着するようにした、鏡状の金属被覆製品
    を製造する方法。 ３、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であって
    、前記堆積さした金属の厚さが５００オングストローム
    よシ示さくなるようにした、鏡状の金属被覆製品を製造
    する方法。 ４、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であって
    、前記金属がアルミニウムであり、その厚さが５０から
    ２５０オングストロームの中間であるような、鏡状の金
    属被覆製品を製造する方法。 ５、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であって
    、前記転写材と前記基体のうちの少なくとも１つがたわ
    み性を有しているような、鏡状の金属被覆製品を製造す
    る方法。 ６、　特許請求の範囲第２項に記載した製造力（２） 法であって、前記基体と前記転写材のうちの少くとも１
    つが長い膜であるような、鏡状の金属被覆製品を製造す
    る方法。 ７、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であって
    、前記フェノがポリエレンフエスであるような、鏡状の
    金属被覆製品を製造する方法。 ８、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であって
    、前記フェノが紫外線照射で交叉結合するレジンである
    ような、鏡状の金属被覆製品を製造する方法。 ９、　特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であっ
    て、前記転写材がポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ
    エステル、ポリ塩化ビニール、ポリアミド、および再生
    繊維素から成る群から選ばｎたレジンであるような、鏡
    状の金属被覆製品を製造する方法。 １０、特許請求の範囲第２項に記載した製造方法であっ
    て、前記フェノが前記基体の全表面を覆っていない特定
    のデザインで被覆さｎている（３） ような、鏡状の金属被覆製品を製造する方法。 １１、特許請求の範囲第１項に記載し７た製造方法であ
    って、前記金属粒子がアルミニウム。銀、金、銅、ニッ
    ケル、錫、白金、およびこｎ、ら金属の合金からなる群
    から選ばｎた金属でできているような、鏡状の金属被覆
    製品を製造する方法。
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