JPS58189223A - エポキシ樹脂の製造方法 - Google Patents
エポキシ樹脂の製造方法Info
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- JPS58189223A JPS58189223A JP7183882A JP7183882A JPS58189223A JP S58189223 A JPS58189223 A JP S58189223A JP 7183882 A JP7183882 A JP 7183882A JP 7183882 A JP7183882 A JP 7183882A JP S58189223 A JPS58189223 A JP S58189223A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、主に電気および電子産業用に使用されるエポ
キシ樹脂、いわゆるフェノール類のグリシジルエーテル
の製造方法に関する。
キシ樹脂、いわゆるフェノール類のグリシジルエーテル
の製造方法に関する。
電気および電子材料として使用されるフェノール類のグ
リシジルエーテルでは、加水分解性塩素の含有量の少な
いことが不可決であり、このことは業界で広く認知され
ている。すなわち、加水分解性塩素は、電気絶縁性低下
、リード線の腐蝕等の悪影響を及ぼす。特に、半導体を
使用する集積回路の封入用原料としてのフェノール類の
グシジルエーテルでは、加水分解性塩素の含有量の少な
いことが必須である。例えば、集積度６４キロビット以
上の集積回路では、加水分解性塩素の含有量が６００
、ｐｐｍ以下であることが要求される。
リシジルエーテルでは、加水分解性塩素の含有量の少な
いことが不可決であり、このことは業界で広く認知され
ている。すなわち、加水分解性塩素は、電気絶縁性低下
、リード線の腐蝕等の悪影響を及ぼす。特に、半導体を
使用する集積回路の封入用原料としてのフェノール類の
グシジルエーテルでは、加水分解性塩素の含有量の少な
いことが必須である。例えば、集積度６４キロビット以
上の集積回路では、加水分解性塩素の含有量が６００
、ｐｐｍ以下であることが要求される。
加水分解性塩素を低減するために、さまざまな製造方法
が検討されてきた１例えば、特公昭５Ｂ−８６０００号
には、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとを溶解
した溶液に水酸化ナトリウム水溶液を徐々に供給しビス
フェノールＡのグリシジルエーテルを製造する方法にお
いて、減圧・低温の条件で水をエピクロルヒドリンと共
肺させて除去し、留出するエピクロルヒドリンを反応系
中に循環する方法が記載されている。該特許の実施例で
は加水分解性塩素は１２００〜４５００ ｐｐｍであり
充分な改良効果は得られていない。特開昭５４−９０４
００％、特開昭５４−１８５９６号および米国特許１１
． ｔ２１．７２７号には、多価フェノールのグリシジ
ルエーテルを製造する方法において、多価フェノールと
エビハロヒドリンとの溶液にアルコールを添加する方法
が記載されている。該特許等の実施例では、特開昭５４
−９０４００号の場合、ビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンとから得られるビスフェノールＡのグリシジル
エーテルの加水分解性塩素は約１０００ ｐｐｍであり
全塩素含有！ｌ：ｉ、ｔ ｌ ５００〜３５００ ＰＩ
）Ｉｎであり、特開１１５５４−１８５９６の場合、フ
ェノールノボラックとエピクロルヒドリンとから得られ
るフェノールノボラックのグリシジルエーテルの加水分
解性塩素はｌ ５００ ＰＰｍであるなど充分な改良効
果は得られていＩｆい。また該特許等では反応系内から
の水分除去はしなくてもよいとｉヒ載されているが、エ
ピクロルヒドリンは水と共σするｔごけでも分解するこ
とは公知であり、工業ト不利益である。
が検討されてきた１例えば、特公昭５Ｂ−８６０００号
には、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとを溶解
した溶液に水酸化ナトリウム水溶液を徐々に供給しビス
フェノールＡのグリシジルエーテルを製造する方法にお
いて、減圧・低温の条件で水をエピクロルヒドリンと共
肺させて除去し、留出するエピクロルヒドリンを反応系
中に循環する方法が記載されている。該特許の実施例で
は加水分解性塩素は１２００〜４５００ ｐｐｍであり
充分な改良効果は得られていない。特開昭５４−９０４
００％、特開昭５４−１８５９６号および米国特許１１
． ｔ２１．７２７号には、多価フェノールのグリシジ
ルエーテルを製造する方法において、多価フェノールと
エビハロヒドリンとの溶液にアルコールを添加する方法
が記載されている。該特許等の実施例では、特開昭５４
−９０４００号の場合、ビスフェノールＡとエピクロル
ヒドリンとから得られるビスフェノールＡのグリシジル
エーテルの加水分解性塩素は約１０００ ｐｐｍであり
全塩素含有！ｌ：ｉ、ｔ ｌ ５００〜３５００ ＰＩ
）Ｉｎであり、特開１１５５４−１８５９６の場合、フ
ェノールノボラックとエピクロルヒドリンとから得られ
るフェノールノボラックのグリシジルエーテルの加水分
解性塩素はｌ ５００ ＰＰｍであるなど充分な改良効
果は得られていＩｆい。また該特許等では反応系内から
の水分除去はしなくてもよいとｉヒ載されているが、エ
ピクロルヒドリンは水と共σするｔごけでも分解するこ
とは公知であり、工業ト不利益である。
本発明者等は加水分解性Ｊｍ累の含有量の少ないフェノ
ール類のグリシジルエーテル得るべく鋭意研究しｔコ結
果、本発明に至った。
ール類のグリシジルエーテル得るべく鋭意研究しｔコ結
果、本発明に至った。
すなわち、本発明は、−価又は多価のフェノールとエピ
クロルヒドリンとをアルカリ金属水酸化物の存在下で反
応させ、−価又は多価のグリシジルエーテルを製造する
方法において、環状または直鎖状エーテル化合物の共存
下で反応させることを特徴とする製造方法である。本発
明により、加水分解性塩素の含有量の少ない一価又は多
価のフェノールのグリシジルエーテルの製造が可能とな
った。
クロルヒドリンとをアルカリ金属水酸化物の存在下で反
応させ、−価又は多価のグリシジルエーテルを製造する
方法において、環状または直鎖状エーテル化合物の共存
下で反応させることを特徴とする製造方法である。本発
明により、加水分解性塩素の含有量の少ない一価又は多
価のフェノールのグリシジルエーテルの製造が可能とな
った。
本発明に使用される一価又は多価フェノールは、ハロゲ
ン、アルキル基、アリル基、アルケニル基、アリール基
或いはアラルキル基で置換された或いは無置換のフェノ
ール単位より成る一価又は多価フェノールであり、具体
的にはフェノール、オルト、クレゾール、メタクレゾー
ル、パラクレゾール、ジフェノールメタン（ビ１１Ｌ
間 スフエノールＦ）、ジフェノールエタン、ジフェノール
プロパン（ビスフェノールＡ）、四臭化ビスフェノール
Ａ、１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、ｌ、】−ヒス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１，１−ジメチルメタン、フェノールノボラッ
ク、臭素化フェノールノボラック、クレゾールノボラ・
ツク、臭素化クレゾールノボラック、レゾルシンノボラ
ック、臭素化レゾルシンノボラック、レソルシン、Ｉニ
トロキノン、メチルレゾルシンＶＡ塩化ヒスフＬノール
Ａなどが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
ン、アルキル基、アリル基、アルケニル基、アリール基
或いはアラルキル基で置換された或いは無置換のフェノ
ール単位より成る一価又は多価フェノールであり、具体
的にはフェノール、オルト、クレゾール、メタクレゾー
ル、パラクレゾール、ジフェノールメタン（ビ１１Ｌ
間 スフエノールＦ）、ジフェノールエタン、ジフェノール
プロパン（ビスフェノールＡ）、四臭化ビスフェノール
Ａ、１．１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、ｌ、】−ヒス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１，１−ジメチルメタン、フェノールノボラッ
ク、臭素化フェノールノボラック、クレゾールノボラ・
ツク、臭素化クレゾールノボラック、レゾルシンノボラ
ック、臭素化レゾルシンノボラック、レソルシン、Ｉニ
トロキノン、メチルレゾルシンＶＡ塩化ヒスフＬノール
Ａなどが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
本発明に使用されるアルカリ金属水酸化物は、具体的に
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどであるか、こ
れらに限定されるものではない。アルカリ金属水酸化物
の使用量は、フェノール型水酸基１モルに対し当モル程
度が好ましい。アルカリ金属水酸化物の使用量が少ない
と。
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどであるか、こ
れらに限定されるものではない。アルカリ金属水酸化物
の使用量は、フェノール型水酸基１モルに対し当モル程
度が好ましい。アルカリ金属水酸化物の使用量が少ない
と。
副生ずるゲル縦が少なく製造上有利であるが、加水分解
性塩素が残存する。アルカリ金属水酸化物の使用量が多
いとゲル量が増加するので製造上不利益となる。
性塩素が残存する。アルカリ金属水酸化物の使用量が多
いとゲル量が増加するので製造上不利益となる。
本発明に使用されるエーテル化合物類は、環状丈たは直
鎖状のエーテル化合物であり、具体的にはジオキサン、
ジェトキシエタン、などであるが、これらに限定される
ものではない。これらのエーテル化合物類の使用量は、
エピクロルヒドリン１００重量部当り１０〜１００重量
部が好ましい。使用量が１０重量部以下では、本発明の
効果があまり顕著ではない。使用量が多いと分子間反応
が進行しエポキシ当量（エポキシ基１モル当りの重量）
か増加し、フェノール類のグリシジルエーテルの品質が
低下する。
鎖状のエーテル化合物であり、具体的にはジオキサン、
ジェトキシエタン、などであるが、これらに限定される
ものではない。これらのエーテル化合物類の使用量は、
エピクロルヒドリン１００重量部当り１０〜１００重量
部が好ましい。使用量が１０重量部以下では、本発明の
効果があまり顕著ではない。使用量が多いと分子間反応
が進行しエポキシ当量（エポキシ基１モル当りの重量）
か増加し、フェノール類のグリシジルエーテルの品質が
低下する。
このことを考えると１００重量部以下が好ましい。
本発明で使用されるエピクロルヒドリンの使用量はフェ
ノール型水酸基１モルに対し２．５モル〜２０モルが好
ましく，より好ましくは、４モル〜ｌＯモルである。こ
のことは、エピクロルヒドリンの使用量か少ないと、分
子間反応により高分子量物の生成によりフェノール類の
グリシジルエーテルの溶融粘度上昇等の品質低下が起り
、さらにゲル生成量が増加するなど工業的に不利益とな
るためであり、才だエピクロルヒドリンの使用量が多い
と反応混合物の容積が増加するので、生産性か低下する
等の工業的な不利益が生じるためである。
ノール型水酸基１モルに対し２．５モル〜２０モルが好
ましく，より好ましくは、４モル〜ｌＯモルである。こ
のことは、エピクロルヒドリンの使用量か少ないと、分
子間反応により高分子量物の生成によりフェノール類の
グリシジルエーテルの溶融粘度上昇等の品質低下が起り
、さらにゲル生成量が増加するなど工業的に不利益とな
るためであり、才だエピクロルヒドリンの使用量が多い
と反応混合物の容積が増加するので、生産性か低下する
等の工業的な不利益が生じるためである。
本発明で云うエポキシ肖ｉとは、グリシジルエーテル基
１モル当りの分子量で定義される。
１モル当りの分子量で定義される。
また加水分解性塩素とは、−価又は多価フェノールのグ
リシジルエーテル化合物をジオキサンに溶解（）、水酸
化カリウムのアルコール溶液を加え還流状態で８０分間
加熱したときに脱離する塩累イ副ンを硝酸銀溶液で逆滴
定で定量し、該化合物中の塩素原子の１′１皺杓分率で
表わしたものである。以下に、本発明を実施例をもって
詳細に説明するか、これらに限定されるものではない。
リシジルエーテル化合物をジオキサンに溶解（）、水酸
化カリウムのアルコール溶液を加え還流状態で８０分間
加熱したときに脱離する塩累イ副ンを硝酸銀溶液で逆滴
定で定量し、該化合物中の塩素原子の１′１皺杓分率で
表わしたものである。以下に、本発明を実施例をもって
詳細に説明するか、これらに限定されるものではない。
実施例１〜７、Ｊ５よび比較例１．２
温度訃、アルカリ金属水溶液を連続添加するための滴下
ロート、攪拌翼、および反応系中から蒸発する水分、エ
ピクロルヒドリン、エーテル化合物類を冷却液化し有機
層と水層をその比重差で分離して有機層は反応系内にも
どし水層は除去する冷却管付分離管を有する容素１ｚの
バッフル付セパラブルフラスコを用い、第１表に示す種
類、量のフェノール類とエピクロルヒドリンを反応させ
、フェノール類のグリシジルエーテルを合成した。該反
応は、第１表に示す量の水酸化すｌ−’Ｊウム水溶液を
５時間で連続的に添加しなから、第１表に示す種類、量
のエーテル化合物の存在下で行った。
ロート、攪拌翼、および反応系中から蒸発する水分、エ
ピクロルヒドリン、エーテル化合物類を冷却液化し有機
層と水層をその比重差で分離して有機層は反応系内にも
どし水層は除去する冷却管付分離管を有する容素１ｚの
バッフル付セパラブルフラスコを用い、第１表に示す種
類、量のフェノール類とエピクロルヒドリンを反応させ
、フェノール類のグリシジルエーテルを合成した。該反
応は、第１表に示す量の水酸化すｌ−’Ｊウム水溶液を
５時間で連続的に添加しなから、第１表に示す種類、量
のエーテル化合物の存在下で行った。
反応終了後は未反応のエピクロルヒドリン、エーテル化
合物類、微量存在する水分を減圧蒸留により除去した。
合物類、微量存在する水分を減圧蒸留により除去した。
このとき得られた副生塩を含ムフェノール類のグリシジ
ルエーテルをメチルイソブチルケトンに溶解し、副生塩
を戸別した。フェノール類のグリシジルエーテルを含む
メチルイソブチルケトンに含まれる少量の水分を蒸留に
より除き、微量残存する塩を戸別してから減圧蒸留によ
り、メチルイソブチルケトンを除去してフェノール類の
グリシジルエーテルを得た。
ルエーテルをメチルイソブチルケトンに溶解し、副生塩
を戸別した。フェノール類のグリシジルエーテルを含む
メチルイソブチルケトンに含まれる少量の水分を蒸留に
より除き、微量残存する塩を戸別してから減圧蒸留によ
り、メチルイソブチルケトンを除去してフェノール類の
グリシジルエーテルを得た。
このようにして得られたフェノール類のグリシジルエー
テルの加水分解性塩素量およびエポキシ当量を第１表に
示す。
テルの加水分解性塩素量およびエポキシ当量を第１表に
示す。
実施例１と比較例１とは、フェノール、エピクロルヒド
リン、水酸化ナトリウノ・の絶対使用量において異って
いるものの、これらの相対使用量（モル比）では一致す
る。また反応温度においても若干異っているものの、こ
れはエーテル化合物の存在の有無に帰因するものである
。したがって、実施例１と比較例１とは、エーテル化合
物の使用の有無において異なる以外は、実質的に同一の
反応条件である。エーテル化合物を使用した実施例１に
おける加水分解性塩素量は８９０ ｐｐｒｎであるのに
対し、エーテル化合物を使用しない比較例１における６
７０ ｐｐｍとなっており、エーテル化合物使用によ
る加水分層性塩素低減効果は顕著である。また実施例１
よりもさらに多くのエーテル化合物を使った実施例６で
は加水分解性塩素−は８５０ｐｐｍとさらに低下した。
リン、水酸化ナトリウノ・の絶対使用量において異って
いるものの、これらの相対使用量（モル比）では一致す
る。また反応温度においても若干異っているものの、こ
れはエーテル化合物の存在の有無に帰因するものである
。したがって、実施例１と比較例１とは、エーテル化合
物の使用の有無において異なる以外は、実質的に同一の
反応条件である。エーテル化合物を使用した実施例１に
おける加水分解性塩素量は８９０ ｐｐｒｎであるのに
対し、エーテル化合物を使用しない比較例１における６
７０ ｐｐｍとなっており、エーテル化合物使用によ
る加水分層性塩素低減効果は顕著である。また実施例１
よりもさらに多くのエーテル化合物を使った実施例６で
は加水分解性塩素−は８５０ｐｐｍとさらに低下した。
手続補正書（自発）
昭和５８年 ５月２６日
１、事１牛の表示
昭和５７年特許願第 ７１８３８号
２、発明の名称
エボキン樹脂の製造方法
；３．袖１１．なする者
事（’ｌとの関係 特許出願人
大阪市東区北浜５丁目１５番地
（２０９） 住友化学工業株式会社
代表者 上 方 武
／ｌ 、代理人
連絡先 置 （０６）２２０−３４０４５、補正のス
・ｉ象 明）Ｊｌ＋害の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細邂第１自Ｆ、Ｌす；目ｉ「不可決」を「不可欠」と
補ｉＥする。
・ｉ象 明）Ｊｌ＋害の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 明細邂第１自Ｆ、Ｌす；目ｉ「不可決」を「不可欠」と
補ｉＥする。
以 上
２几
−１８：
Claims (1)
- 一価又は多価のフェノールとエピクロルヒドリンとをア
ルカリ金属水酸化物の存在下で反応させ、−価又は多価
のフェノールのグリシジルエーテルを製造する方法にお
いて、環状または直鎖状エーテル化合物の共存下で反応
させることを特徴とする製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183882A JPS58189223A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | エポキシ樹脂の製造方法 |
| KR1019830001782A KR910001133B1 (ko) | 1982-04-28 | 1983-04-27 | 1가 또는 다가 페놀의 글리시딜 에테르의 제조방법 |
| GB08311480A GB2120659B (en) | 1982-04-28 | 1983-04-27 | Process for producing glycidyl ethers of monohydric polyhydric phenols |
| DE19833315365 DE3315365A1 (de) | 1982-04-28 | 1983-04-28 | Verfahren zur herstellung von glycidylaethern einwertiger oder mehrwertiger phenole |
| US07/056,319 US4876371A (en) | 1982-04-28 | 1987-05-29 | Process of producing glycidyl ethers of monohydric or polyhydric phenols |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7183882A JPS58189223A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | エポキシ樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58189223A true JPS58189223A (ja) | 1983-11-04 |
| JPS6234330B2 JPS6234330B2 (ja) | 1987-07-27 |
Family
ID=13472076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7183882A Granted JPS58189223A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | エポキシ樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58189223A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62148477A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-07-02 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | グリシジル化合物の製造方法 |
| JPS62212414A (ja) * | 1986-03-13 | 1987-09-18 | Asahi Chiba Kk | エポキシ樹脂の製造方法 |
| US6001873A (en) * | 1996-12-31 | 1999-12-14 | Chang Chun Plastics Co., Ltd. | Process for preparing a high purity epoxy resin |
| WO2014017524A1 (ja) | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 電気化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP7183882A patent/JPS58189223A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62148477A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-07-02 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | グリシジル化合物の製造方法 |
| JPS62212414A (ja) * | 1986-03-13 | 1987-09-18 | Asahi Chiba Kk | エポキシ樹脂の製造方法 |
| US6001873A (en) * | 1996-12-31 | 1999-12-14 | Chang Chun Plastics Co., Ltd. | Process for preparing a high purity epoxy resin |
| WO2014017524A1 (ja) | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 電気化学工業株式会社 | 樹脂組成物 |
| US10273389B2 (en) | 2012-07-26 | 2019-04-30 | Denka Company Limited | Resin composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6234330B2 (ja) | 1987-07-27 |
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