JPH01252624A - 多価フェノールのグリシジルエーテルの製造方法 - Google Patents
多価フェノールのグリシジルエーテルの製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
封止用、積層板材料に好適に用いられるエポキシ樹脂の
製造方法に関する。
性が要求され、現状ではO−タレゾールノボラックのグ
リシジルエーテルが主流であるが、さらに高い性能を要
求されている。
テルは、耐熱性のエポキシ樹脂として、塗料、接着剤、
繊維強化樹脂等に広ぐ応用されている。
及び電子産業用にも応用が期待されている。
、特に加水分解性塩素含有量の少ない樹脂が求められて
いる。
ジルエーテル化する際に、分子間反応により高分子量化
あるいはゲル化を起こしやすい。
高くなり、硬化成形物とした時の架橋密度が低下し、耐
熱性が悪くなり好ましくない。
に、従来より種々の工夫が行われている。
ケミストリー(Industrial and Eng
−ineering Chemistry) VOL
45,2715(1953) には、フェノール性水酸
基に対し、5倍モルのエピクロルヒドリン中に、トリス
(ヒドロキシフェニル)メタンのナトリウム塩を添加す
る方法が記載されている。
性水酸基1モル当り、少なくとも10倍モルのエビハロ
ヒドリンを用いて、第一工程では、カップリング触媒の
存在で反応させ、第二工程では、塩基を添加し、グリシ
ジルエーテル化させる方法が記載されている。
ペアルキルモノ置換フェノール、ハロゲン置換フェノー
ル等のフェノール類と芳香族アルデヒドとを縮合してな
る多価フェノールを周知汎用の方法でグリシジルエーテ
ル化することが開示されている。
ケミストリーの方法によれば、生成物のエポキシ価は、
0.32と低く (つまりエポキシ当量は313と高い
)、また収率も54%と低く、満足のいく方法とは言え
ない。
シ当量は158であり、理論値に近いものが得られてい
る。
電子産業用に用いるには、満足なものではない。
つまり生産性が低く、工業的に有利な方法とは言えない
。
シジルエーテルは、純度が低く、特に加水分解性塩素の
含有量が多く、さらに改良が必要である。
、炭素数1から10のアルキル基、あるいはフェニル基
である。
、・または炭素数1から4までのアルキル基、アルコキ
シ基である。
数で。
多価フェノール類とエピクロルヒドリンとを、アルカリ
金属水酸化物の存在下反応させて該多価フェノールのグ
リシジルエーテルを製造する方法において、該、該多価
フェノールとエピクロルヒドリンとの反応を、非ブロト
ン性極性溶媒の存在下に行い、続いて得られた粗該多価
フェノールのグリシジルエーテルを有機溶媒中でアルカ
リ性物質で処理することを特徴とする高純度の該多価フ
ェノールのグリシジルエーテルの製造方法を提供するも
のである。
゜R6を具体的に例示すると、水素、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、フ
ェニル基等である。
具体的に例示すると水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基等である
が、好ましくは水素原子または、メチル基である。 n
は、平均の繰り返し単位数で0から5である。
より好ましいが、5をあまり越えて大きくなりすぎると
、溶融粘度が高くなり、操作性、成形性等が低下する。
一般式(1)のR11J12に相当し、R’ 、R”
は、一般式(I)のR7、Rg、R9、RIOII:相
当し、Y12、一般式(1)(7)X、 、Xdに相当
する。) で示される芳香族カルボニル化合物と、フェノール類と
の縮合によって得られる。
ロキシベンズアルデヒド、メチルヒドロキシベンズアル
デヒド、メトキシヒドロキシベンズアルデヒド、ジメチ
ルヒドロキシベンズアルデヒド、クロルヒドロキシベン
ズアルデヒド、ブロモベンズアルデヒド、ヒドロキシア
セトフェノン、ヒドロキシフェニルエチルケトン、ヒド
ロキシフェニルブチルケトン等である。
化合物を少量用いることもできる。
ンアルデヒド、アクロレイン、グリオキザール、ベンズ
アルデヒド等である。
ル、エチルフェノーノペプロビルフェノール、ブチルフ
ェノール、アミルフ長ノール、ヘキシルフェノール、メ
トキシフェノーノペフェニルフェノール、メチルブロビ
ルフェノーノベメチルブチルフェノール、メチルヘキシ
ルフェノール、メチルフェニルフェノール、クロルフェ
ノール、ブロモフェノール、クロルクレゾール、ブロモ
クレゾール等である。
香族カルボニル化合物1モルに対しフェノール類0.5
〜10モル程度の割合で、30℃〜180℃の温度で、
周知のノボラック合成用の酸性触媒、例えば塩酸、硫酸
、リン酸等の鉱酸;シニウ酸、トルエンスルフォン酸等
の有機酸;酢酸亜鉛等の塩の存在下に行う。
媒を用いてもよい。
ェノール類の比率を少くし、温度は高目とし、触媒は多
くすれば良い。
は臭素により、公知の方法でハロゲン化することもでき
る。
使用されるエピクロルヒドリンの使用量は、フェノール
型水酸基1モルに対し2.5モル〜8モルが好ましい。
よる高分子量物の生成により、該多価フェノミルのグリ
シジルエーテルの溶融粘度上昇等の品質低下が起り、さ
らにゲル生成量が増加するなど工業的に不利益となるた
め好ましくなく、またエピクロルヒドリンの量を必要以
上に多くしても反応混合物の容積が増加するだけであり
、生産性が低下する等の工業的な不利益が生じるため好
ましくない。
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等である。
1モルに対し当モル程度が好ましい。
ェノール性水酸基が残り好ましくない。
するので製造上不利益となる。
系では水分除去を行うので、高濃度の方が望ましい。
はジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジメチル
アセトアミド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホ
ルアミド等である。
ヒドリン100重量部に対し、20重゛量部以上100
重量部以下の範囲が望ましい。
顕著ではない。
エポキシ当量(エボ、キシ基1モル当りの分子量)が大
きくなり、エポキシ樹脂としての品質が低下すると共に
生産性も低くなるので好ましくない。
テル化反応は、例えば次のようにして行うことができる
。
ロトン性極性溶媒を前述の割合で混合し、均一な溶液と
する。
応を行う。
反応の選択性が増し、加水分解性塩素含有量は少なくな
る。
温度が低すぎる場合には、反応速度が遅くなり、生産性
が低下し、望ましくない。
縮せしめて、凝縮液は、油相と水相を分離し、油相だけ
反応系に戻す方法で脱水を行う。
、望ましくは、0.5〜3. Q w t%であるよう
な、温度/圧力条件に設定する。
たエポキシ当量が高くなる等の悪影響を及ぼし、さらに
はエピクロルヒドリンが分解し損失が多くなるので好ま
しくない。
的に定まる。
、2〜7時間かけて少量づつ分割添加または連続添加さ
せる。
、所定の水分濃度を維持できなくなるので好ましくない
。
慣用の方法で行う。
及び残留水分を除去し、次にメチルイソブチルケトン等
のケトン類またはトルエンの様な芳香族炭化水素溶媒で
溶解し、不溶のアルカリ金属の塩を濾別するごとき方法
である。
ルを得ることができる。
、アルカリ性物質で処理する。
類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩などであり、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等が用いられる。
に対し、0.01モル〜0.10モルの範囲で用いられ
る。
また使用量が多すぎると、高分子量化を起こしやすく、
好ましくない。
フェノールのグリシジルエーテルを機溶媒液と混合し、
40℃〜100℃で反応させる。
く、100℃以上では、高分子量化反応が起こりやすく
好ましくない。
和し、中和塩を濾別、または水洗により除去し、蒸留に
より有機溶媒を除去して、高純度の該多価フェノールの
グリシジルエーテルを得る。
性極性溶媒存在下にエポキシ化を行い、さらに有機溶媒
中でアルカリで精製することにより、加水分解性塩素が
低く、エポキシ当量も小さい高純度のグリシジルエーテ
ルが、工業的に生産性良く得られる。
のより高耐熱性であり、かつ高純度で電子または電気産
業用として、特に高集積度の半導体封止用または積層板
用に好適なエポキシ樹脂材料となる。
シ樹脂の分子量で定義される。
溶解し、水酸化カリウムのアルコール溶液を加え、還流
状態で30分間加熱したときに脱離する塩素イオンを硝
酸銀溶液で滴定で定量し、該化合物中の塩素原子の重量
百分率で表わしたものである。
測定した。
ーミェーションクロマトグラフ(日本分光工業@製、T
RIROTARSR−n )を用いて求めた。
ェノール376gと、p−ヒドロキシベンズアルデヒド
48.8 g及びp−1−ルエンスルホン酸く一水塩)
0.38gを95〜105℃で攪拌下、還流しつつ6時
間反応させた。
トルエン1βに溶解し、2回水洗した後、トルエン及び
未反応モノマーを蒸留により除去し、縮合体の多価フェ
ノールを得た。
った。
外は、参考例1と同様にして縮合体の多価フェノールを
得た。
であった。
を使用した以外は参考例1と同様にして、縮合体の多価
フェノールを得た。
であった。
チルフェノール657gを使用した以外は、参考例1と
同様にして、縮合体の多価フェノールを得た。 平均
分子量は489、平均繰り返し単位数nは、0.2であ
った。
チルフェノール131.2gを使用した以外は、参考例
1と同様にして、縮合体の多価フェノールを得た。
であった。
チルフェノール98.4 gとm−クレゾール21.6
gを使用した以外は、参考例1と同様にして、縮合体
の多価フェノールを得た。
であった。
チルフェノール98.4 gとO−クレゾール21.6
gを、p−ヒドロキシベンズアルデヒド48.8 gに
変えてp−ヒドロキシベンズアルデヒド39gと36%
ホルムアルデヒド6゜67gを使用した以外は、参考例
1と同様にして、縮合体の多価フェノールを得た。
であった。
ェノール376gと、p−ヒドロキシアセトフェノン5
4.4 gを仕込み40℃に保ちなからHCIガスを4
時間バブリングした。
溶液で中和した後、参考例1と同様に後処理を行い、縮
合体の多価フェノールを得た。
であった。
ための滴下ロート、攪拌翼及び反応系中から蒸発する水
分、エピクロルヒドリンを冷却液化し、有機層と水層を
その比重差で分離して有機層は反応系内にもどし水層は
除去する冷却管付分離管を有する容量11のバッフル付
セパラブルフラスコを用い、第1表に示す種類、量の多
価フェノール類とエピクロルヒドリンを反応させた。
4時間で連続的に添加しながら、非プロトン性極性溶媒
としてジメチルスルホキシドを第1表に示す量の存在下
で行った。
により除去し、このとき得られた副生塩と非プロトン性
極性溶媒を含む多価フェノール類のグリシジルエーテル
をメチルイソブチルケトン250gに溶解し、副生塩と
非プロトン性極性溶媒を水洗により除去した。
ちながら、第1表に示す量の10%水酸化ナトリウム水
溶液を約10分間で添加した。2時間経過させた後、炭
酸ガスを吹き込み中和し、生成した副生塩を賀別した。
リシジルエーテルを得た。
ブチルケトン溶液での10%水酸化ナトリウム水溶液と
の反応を省略し、そのまま溶媒を蒸留により除去して、
グリシジルエーテルを得た。
1と同様に行った。
。
を用い、特公昭57−13571号公報、実施例3と同
様な方法でグリシジルエーテル化を行った。
パラブルフラスコに、トリス(ヒドロキシフェニル)メ
タン97.3g、エピクロルヒドリン925gを仕込み
溶解後、還流するまで昇温した。
60%水溶液9.7gを添加し、1時間保温した。
00gを添加し、50℃で1時間反応させた。
IJウム水溶液50gを添加し、50℃で1時間反応し
た。
00+nj!で水洗後、さらに純水300rn1で4回
洗浄を行った。
し、グリシジルエーテルを得た。
mであった。
Claims (1)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2、R^3、R^4、R^5、R^
6は水素原子、炭素数1から10のアルキル基、または
フェニル基である。 R^7、R^8、R^9、R^1^0、R^1^1、R
^1^2は水素原子、または炭素数1から4までのアル
キル基、アルコキシ基である。 Xは塩素原子または臭素原子である。 a、b、c、d、e、は0、または1の数であり、nは
、平均0から5の数である。) で表わされる多価フェノール類とエピクロルヒドリンと
を、アルカリ金属水酸化物の存在下反応させて該多価フ
ェノールのグリシジルエーテルを製造する方法において
、該、該多価フェノールとエピクロルヒドリンとの反応
を、非プロトン性極性溶媒の存在下に行い、続いて得ら
れた粗該多価フェノールのグリシジルエーテルを有機溶
媒中でアルカリ性物質で処理することを特徴とする高純
度の該多価フェノールのグリシジルエーテルの製造方法
。
Priority Applications (1)
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